JP2575933Y2 - コリメーションマグネット付きイオン源 - Google Patents
コリメーションマグネット付きイオン源Info
- Publication number
- JP2575933Y2 JP2575933Y2 JP1992010519U JP1051992U JP2575933Y2 JP 2575933 Y2 JP2575933 Y2 JP 2575933Y2 JP 1992010519 U JP1992010519 U JP 1992010519U JP 1051992 U JP1051992 U JP 1051992U JP 2575933 Y2 JP2575933 Y2 JP 2575933Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filament
- ion source
- electron beam
- ionization chamber
- magnetic field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/147—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers with electrons, e.g. electron impact ionisation, electron attachment
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は質量分析計などで用いら
れるイオン源に関し、特に、イオン化室を挾んで電子発
生フィラメントとトラップが配置され、そのフィラメン
トとトラップの外側にはフィラメントからの電子線軸に
沿った磁場を発生する一対のコリメーション用永久磁石
が配置されているイオン源に関するものである。
れるイオン源に関し、特に、イオン化室を挾んで電子発
生フィラメントとトラップが配置され、そのフィラメン
トとトラップの外側にはフィラメントからの電子線軸に
沿った磁場を発生する一対のコリメーション用永久磁石
が配置されているイオン源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】質量分析計で使用されているイオン源に
は、フィラメントからイオン化室に導入されたイオン化
用電子線をイオン化室内で発散しないようにコリメート
させるためにイオン化室の外側にコリメーション用永久
磁石を配置し、その永久磁石により電子線軸に沿った磁
場を発生するようにしたものがある。図２はコリメーシ
ョン用永久磁石を備えた従来のイオン源を表わしたもの
である。２はイオン化室、４は電子発生フィラメント、
６はトラップであり、フィラメント４から発生した電子
はイオン化室２を電子線８となって横切り、トラップ６
に至る。電子線８の発散を防ぐために、フィラメント４
とトラップ６の外側に一対の永久磁石１０ａと１０ｂが
配置されている。これらの永久磁石１０ａと１０ｂはイ
オン源の構成要素の１つとして直接に又はマグネットヨ
ーク１２によってこのイオン化室が配置されているハウ
ジングなどに固定され、イオン化室２と永久磁石１０
ａ，１０ｂの相対的な位置関係が固定されている。
は、フィラメントからイオン化室に導入されたイオン化
用電子線をイオン化室内で発散しないようにコリメート
させるためにイオン化室の外側にコリメーション用永久
磁石を配置し、その永久磁石により電子線軸に沿った磁
場を発生するようにしたものがある。図２はコリメーシ
ョン用永久磁石を備えた従来のイオン源を表わしたもの
である。２はイオン化室、４は電子発生フィラメント、
６はトラップであり、フィラメント４から発生した電子
はイオン化室２を電子線８となって横切り、トラップ６
に至る。電子線８の発散を防ぐために、フィラメント４
とトラップ６の外側に一対の永久磁石１０ａと１０ｂが
配置されている。これらの永久磁石１０ａと１０ｂはイ
オン源の構成要素の１つとして直接に又はマグネットヨ
ーク１２によってこのイオン化室が配置されているハウ
ジングなどに固定され、イオン化室２と永久磁石１０
ａ，１０ｂの相対的な位置関係が固定されている。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】イオン源ではフィラメ
ントが切断すればフィラメントを交換しなければならな
いし、またイオン化室の洗浄作業も必要である。このよ
うなメンテナンス作業の際、従来のようにコリメーショ
ン用永久磁石がイオン化室に対し固定されている場合
は、その永久磁石を一旦取り外す作業が必要となり、そ
の永久磁石のためにメンテナンスの作業性が悪くなる欠
点がある。そこで、本考案はコリメーション用永久磁石
をイオン化室に対して移動可能に取りつけることによ
り、フィラメント交換などのメンテナンス作業の作業性
を高めることを目的とするものである。
ントが切断すればフィラメントを交換しなければならな
いし、またイオン化室の洗浄作業も必要である。このよ
うなメンテナンス作業の際、従来のようにコリメーショ
ン用永久磁石がイオン化室に対し固定されている場合
は、その永久磁石を一旦取り外す作業が必要となり、そ
の永久磁石のためにメンテナンスの作業性が悪くなる欠
点がある。そこで、本考案はコリメーション用永久磁石
をイオン化室に対して移動可能に取りつけることによ
り、フィラメント交換などのメンテナンス作業の作業性
を高めることを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本考案では、コリメーシ
ョン用の永久磁石を回転部材によって回転可能に支持
し、電子線軸に沿った磁場を形成する位置とその位置か
ら外れた位置との間で移動可能にする。質量分析動作な
どでイオン化室でイオンを発生させるときはその永久磁
石を電子線軸に沿った磁場を形成する位置に位置決め
し、フィラメント交換などのメンテナンス作業を行なう
ときはその永久磁石を他の位置に移動させる。
ョン用の永久磁石を回転部材によって回転可能に支持
し、電子線軸に沿った磁場を形成する位置とその位置か
ら外れた位置との間で移動可能にする。質量分析動作な
どでイオン化室でイオンを発生させるときはその永久磁
石を電子線軸に沿った磁場を形成する位置に位置決め
し、フィラメント交換などのメンテナンス作業を行なう
ときはその永久磁石を他の位置に移動させる。
【０００５】
【実施例】図１は一実施例を表わす。（Ａ）は正面図、
（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。図２と同一の部分に
は同一の符号を用いる。イオン化室２を挾んで一方に電
子発生フィラメント４、他方にトラップ６が配置され、
フィラメント４とトラップ６の外側にコリメーション用
永久磁石１０ａと１０ｂが配置され、永久磁石１０ａと
１０ｂは磁性体からなるマグネットヨーク１２によって
連結されている。マグネットヨーク１２は電子線８と平
行な軸を回転中心とする非磁性材料の回転部材１４ａと
１４ｂによって回転可能に支持されている。これによ
り、永久磁石１０ａと１０ｂは磁場が電子線８に沿って
形成される位置（図１では実線の位置）と、その位置か
ら外れた他の位置（例えば図１（Ｂ）で鎖線で示される
位置）との間で回転して移動することができる。
（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。図２と同一の部分に
は同一の符号を用いる。イオン化室２を挾んで一方に電
子発生フィラメント４、他方にトラップ６が配置され、
フィラメント４とトラップ６の外側にコリメーション用
永久磁石１０ａと１０ｂが配置され、永久磁石１０ａと
１０ｂは磁性体からなるマグネットヨーク１２によって
連結されている。マグネットヨーク１２は電子線８と平
行な軸を回転中心とする非磁性材料の回転部材１４ａと
１４ｂによって回転可能に支持されている。これによ
り、永久磁石１０ａと１０ｂは磁場が電子線８に沿って
形成される位置（図１では実線の位置）と、その位置か
ら外れた他の位置（例えば図１（Ｂ）で鎖線で示される
位置）との間で回転して移動することができる。
【０００６】１８はイオン化室２で生成したイオンを取
り出し、コリメートし、加速して分析部へ導くレンズ系
であり、２０はレンズ系１８から送り出されたイオンを
分析する分析部が収納されているカバーである。分析部
で分析されたイオンを検出するために、分析部の後方に
図示されていない検出器が配置されている。形成される
磁場が電子線８に沿った位置にくるように永久磁石１０
ａと１０ｂを位置決めするために、分析部のカバー２０
には先端に磁性体２４が設けられた位置決め部材２２が
取りつけられている。永久磁石１０ａがその磁性体２４
に吸着した状態で永久磁石１０ａと１０ｂによる磁場が
ちょうど電子線８に沿って形成されるように、位置決め
部材２２が調整されている。
り出し、コリメートし、加速して分析部へ導くレンズ系
であり、２０はレンズ系１８から送り出されたイオンを
分析する分析部が収納されているカバーである。分析部
で分析されたイオンを検出するために、分析部の後方に
図示されていない検出器が配置されている。形成される
磁場が電子線８に沿った位置にくるように永久磁石１０
ａと１０ｂを位置決めするために、分析部のカバー２０
には先端に磁性体２４が設けられた位置決め部材２２が
取りつけられている。永久磁石１０ａがその磁性体２４
に吸着した状態で永久磁石１０ａと１０ｂによる磁場が
ちょうど電子線８に沿って形成されるように、位置決め
部材２２が調整されている。
【０００７】次に、本実施例の動作について説明する。
質量分析などでイオン化室２でイオンを発生するときは
永久磁石１０ａを位置決め部材２２の磁性体２４に吸着
させて位置決めし、永久磁石１０ａと１０ｂによる磁場
が電子線８に沿って形成されるようにしておく。イオン
源のメンテナンス作業を行なうときは、永久磁石１０ａ
を磁性体２４から引き離し、回転部材１４ａと１４ｂに
より永久磁石１０ａ，１０ｂをマグネットヨーク１２と
ともに回転させて、（Ｂ）で鎖線で示される位置へ移動
させる。その後、フィラメント４の交換やイオン化室の
洗浄などのメンテナンス作業を行なう。メンテナンス作
業終了後は、再び永久磁石１０ａが位置決め部材２２の
磁性体２４に吸着される位置まで戻しておく。
質量分析などでイオン化室２でイオンを発生するときは
永久磁石１０ａを位置決め部材２２の磁性体２４に吸着
させて位置決めし、永久磁石１０ａと１０ｂによる磁場
が電子線８に沿って形成されるようにしておく。イオン
源のメンテナンス作業を行なうときは、永久磁石１０ａ
を磁性体２４から引き離し、回転部材１４ａと１４ｂに
より永久磁石１０ａ，１０ｂをマグネットヨーク１２と
ともに回転させて、（Ｂ）で鎖線で示される位置へ移動
させる。その後、フィラメント４の交換やイオン化室の
洗浄などのメンテナンス作業を行なう。メンテナンス作
業終了後は、再び永久磁石１０ａが位置決め部材２２の
磁性体２４に吸着される位置まで戻しておく。
【０００８】実施例のように位置決め部材２２，２４を
設け、永久磁石１０ａと１０ｂが電子線８に沿って磁場
を形成する位置に位置決めできるようにすれば、メンテ
ナンス作業を終えて永久磁石１０と１０ｂを元の使用状
態の位置に戻したときのイオン源動作の再現性がよくな
る。永久磁石１０ａと１０ｂをマグネットヨーク１２で
連結することにより、電子線８に沿って形成される磁場
強度はマグネットヨークがない場合に比べて強くなる。
設け、永久磁石１０ａと１０ｂが電子線８に沿って磁場
を形成する位置に位置決めできるようにすれば、メンテ
ナンス作業を終えて永久磁石１０と１０ｂを元の使用状
態の位置に戻したときのイオン源動作の再現性がよくな
る。永久磁石１０ａと１０ｂをマグネットヨーク１２で
連結することにより、電子線８に沿って形成される磁場
強度はマグネットヨークがない場合に比べて強くなる。
【０００９】
【考案の効果】本考案ではコリメーション用永久磁石を
磁場が電子線に沿って形成される位置と他の位置との間
で回転部材により移動可能に支持したので、イオン源の
メンテナンス時にはその永久磁石をイオン化室から容易
に移動させることができ、メンテナンス作業の作業性が
よくなる。
磁場が電子線に沿って形成される位置と他の位置との間
で回転部材により移動可能に支持したので、イオン源の
メンテナンス時にはその永久磁石をイオン化室から容易
に移動させることができ、メンテナンス作業の作業性が
よくなる。
【図１】一実施例を表わす図であり、（Ａ）は正面図、
（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。
（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。
【図２】従来のイオン源を示す正面図である。
２ イオン化室 ４ フィラメント ６ トラップ ８ 電子線 １０ａ，１０ｂ 永久磁石 １２ マグネットヨーク １４ａ，１４ｂ 回転部材 １６ ハウジング ２２ 位置決め部材
Claims (1)
- 【請求項１】 イオン化室を挾んで電子発生フィラメン
トとトラップが配置され、前記フィラメントとトラップ
の外側には前記フィラメントからの電子線軸に沿った磁
場を発生する一対の永久磁石が配置され、かつその一対
の永久磁石は回転部材によって回転可能に支持され、前
記電子線軸に沿った磁場を形成する位置とその位置から
外れた位置との間で移動可能になっていることを特徴と
するイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992010519U JP2575933Y2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | コリメーションマグネット付きイオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992010519U JP2575933Y2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | コリメーションマグネット付きイオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0565053U JPH0565053U (ja) | 1993-08-27 |
| JP2575933Y2 true JP2575933Y2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=11752485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992010519U Expired - Lifetime JP2575933Y2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | コリメーションマグネット付きイオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2575933Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7960709B2 (en) * | 2002-06-26 | 2011-06-14 | Semequip, Inc. | Ion implantation device and a method of semiconductor manufacturing by the implantation of boron hydride cluster ions |
-
1992
- 1992-01-31 JP JP1992010519U patent/JP2575933Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0565053U (ja) | 1993-08-27 |
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