JPH0565053U - コリメーションマグネット付きイオン源 - Google Patents

コリメーションマグネット付きイオン源

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JPH0565053U
JPH0565053U JP010519U JP1051992U JPH0565053U JP H0565053 U JPH0565053 U JP H0565053U JP 010519 U JP010519 U JP 010519U JP 1051992 U JP1051992 U JP 1051992U JP H0565053 U JPH0565053 U JP H0565053U
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permanent magnets
electron beam
ion source
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02—Details
    • H01J49/10—Ion sources; Ion guns
    • H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
    • H01J49/147—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers with electrons, e.g. electron impact ionisation, electron attachment

Abstract

(57)【要約】 【目的】 メンテナンス作業の作業性を高める。 【構成】 イオン化室２を挾んでフィラメント４とトラ
ップ６が配置され、さらにその外側にコリメーション用
永久磁石１０ａと１０ｂが配置されている。永久磁石１
０ａと１０ｂはマグネットヨーク１２で連結され、電子
線８と平行な軸を回転中心とする非磁性材料の回転部材
１４ａと１４ｂによって回転可能に支持されている。メ
ンテナンス作業を行なうときは回転部材１４ａ，１４ｂ
により永久磁石１０ａ，１０ｂをイオン化室２から外れ
た位置へ移動させる。

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本考案は質量分析計などで用いられるイオン源に関し、特に、イオン化室を挾 んで電子発生フィラメントとトラップが配置され、そのフィラメントとトラップ の外側にはフィラメントからの電子線軸に沿った磁場を発生する一対のコリメー ション用永久磁石が配置されているイオン源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
質量分析計で使用されているイオン源には、フィラメントからイオン化室に導 入されたイオン化用電子線をイオン化室内で発散しないようにコリメートさせる ためにイオン化室の外側にコリメーション用永久磁石を配置し、その永久磁石に より電子線軸に沿った磁場を発生するようにしたものがある。図２はコリメーシ ョン用永久磁石を備えた従来のイオン源を表わしたものである。２はイオン化室 、４は電子発生フィラメント、６はトラップであり、フィラメント４から発生し た電子はイオン化室２を電子線８となって横切り、トラップ６に至る。電子線８ の発散を防ぐために、フィラメント４とトラップ６の外側に一対の永久磁石１０ ａと１０ｂが配置されている。これらの永久磁石１０ａと１０ｂはイオン源の構 成要素の１つとして直接に又はマグネットヨーク１２によってこのイオン化室が 配置されているハウジングなどに固定され、イオン化室２と永久磁石１０ａ，１ ０ｂの相対的な位置関係が固定されている。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】
イオン源ではフィラメントが切断すればフィラメントを交換しなければならな いし、またイオン化室の洗浄作業も必要である。このようなメンテナンス作業の 際、従来のようにコリメーション用永久磁石がイオン化室に対し固定されている 場合は、その永久磁石を一旦取り外す作業が必要となり、その永久磁石のために メンテナンスの作業性が悪くなる欠点がある。 そこで、本考案はコリメーション用永久磁石をイオン化室に対して移動可能に 取りつけることにより、フィラメント交換などのメンテナンス作業の作業性を高 めることを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本考案では、コリメーション用の永久磁石を回転部材によって回転可能に支持 し、電子線軸に沿った磁場を形成する位置とその位置から外れた位置との間で移 動可能にする。質量分析動作などでイオン化室でイオンを発生させるときはその 永久磁石を電子線軸に沿った磁場を形成する位置に位置決めし、フィラメント交 換などのメンテナンス作業を行なうときはその永久磁石を他の位置に移動させる 。
【０００５】
【実施例】
図１は一実施例を表わす。（Ａ）は正面図、（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である 。図２と同一の部分には同一の符号を用いる。 イオン化室２を挾んで一方に電子発生フィラメント４、他方にトラップ６が配 置され、フィラメント４とトラップ６の外側にコリメーション用永久磁石１０ａ と１０ｂが配置され、永久磁石１０ａと１０ｂは磁性体からなるマグネットヨー ク１２によって連結されている。マグネットヨーク１２は電子線８と平行な軸を 回転中心とする非磁性材料の回転部材１４ａと１４ｂによって回転可能に支持さ れている。これにより、永久磁石１０ａと１０ｂは磁場が電子線８に沿って形成 される位置（図１では実線の位置）と、その位置から外れた他の位置（例えば図 １（Ｂ）で鎖線で示される位置）との間で回転して移動することができる。
【０００６】 １８はイオン化室２で生成したイオンを取り出し、コリメートし、加速して分 析部へ導くレンズ系であり、２０はレンズ系１８から送り出されたイオンを分析 する分析部が収納されているカバーである。分析部で分析されたイオンを検出す るために、分析部の後方に図示されていない検出器が配置されている。 形成される磁場が電子線８に沿った位置にくるように永久磁石１０ａと１０ｂ を位置決めするために、分析部のカバー２０には先端に磁性体２４が設けられた 位置決め部材２２が取りつけられている。永久磁石１０ａがその磁性体２４に吸 着した状態で永久磁石１０ａと１０ｂによる磁場がちょうど電子線８に沿って形 成されるように、位置決め部材２２が調整されている。
【０００７】 次に、本実施例の動作について説明する。 質量分析などでイオン化室２でイオンを発生するときは永久磁石１０ａを位置 決め部材２２の磁性体２４に吸着させて位置決めし、永久磁石１０ａと１０ｂに よる磁場が電子線８に沿って形成されるようにしておく。 イオン源のメンテナンス作業を行なうときは、永久磁石１０ａを磁性体２４か ら引き離し、回転部材１４ａと１４ｂにより永久磁石１０ａ，１０ｂをマグネッ トヨーク１２とともに回転させて、（Ｂ）で鎖線で示される位置へ移動させる。 その後、フィラメント４の交換やイオン化室の洗浄などのメンテナンス作業を行 なう。メンテナンス作業終了後は、再び永久磁石１０ａが位置決め部材２２の磁 性体２４に吸着される位置まで戻しておく。
【０００８】 実施例のように位置決め部材２２，２４を設け、永久磁石１０ａと１０ｂが電 子線８に沿って磁場を形成する位置に位置決めできるようにすれば、メンテナン ス作業を終えて永久磁石１０と１０ｂを元の使用状態の位置に戻したときのイオ ン源動作の再現性がよくなる。 永久磁石１０ａと１０ｂをマグネットヨーク１２で連結することにより、電子 線８に沿って形成される磁場強度はマグネットヨークがない場合に比べて強くな る。
【０００９】
【考案の効果】
本考案ではコリメーション用永久磁石を磁場が電子線に沿って形成される位置 と他の位置との間で回転部材により移動可能に支持したので、イオン源のメンテ ナンス時にはその永久磁石をイオン化室から容易に移動させることができ、メン テナンス作業の作業性がよくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例を表わす図であり、（Ａ）は正面図、
（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。
【図２】従来のイオン源を示す正面図である。
【符号の説明】
２ イオン化室 ４ フィラメント ６ トラップ ８ 電子線 １０ａ，１０ｂ 永久磁石 １２ マグネットヨーク １４ａ，１４ｂ 回転部材 １６ ハウジング ２２ 位置決め部材

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 イオン化室を挾んで電子発生フィラメン
    トとトラップが配置され、前記フィラメントとトラップ
    の外側には前記フィラメントからの電子線軸に沿った磁
    場を発生する一対の永久磁石が配置され、かつその一対
    の永久磁石は回転部材によって回転可能に支持され、前
    記電子線軸に沿った磁場を形成する位置とその位置から
    外れた位置との間で移動可能になっていることを特徴と
    するイオン源。
JP1992010519U 1992-01-31 1992-01-31 コリメーションマグネット付きイオン源 Expired - Lifetime JP2575933Y2 (ja)

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JPH0565053U true JPH0565053U (ja) 1993-08-27
JP2575933Y2 JP2575933Y2 (ja) 1998-07-02

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014075346A (ja) * 2002-06-26 2014-04-24 Semequip Inc 水素化ホウ素クラスターイオンの注入によるイオン注入装置及び半導体製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014075346A (ja) * 2002-06-26 2014-04-24 Semequip Inc 水素化ホウ素クラスターイオンの注入によるイオン注入装置及び半導体製造方法

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JP2575933Y2 (ja) 1998-07-02

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