JP2572362Y2

JP2572362Y2 - 筆記性表面及び反射防止性を有するシート

Info

Publication number: JP2572362Y2
Application number: JP1992023029U
Authority: JP
Inventors: 政宏山本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1992-03-17
Filing date: 1992-03-17
Publication date: 1998-05-20
Anticipated expiration: 2007-03-17
Also published as: JPH0574896U

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、水性マーカーペンなど
で筆記し、また消去することができ、かつ反射防止性の
ある筆記性表面を有するシートに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、白墨を筆記具として用いる黒板に
代えて、水性マーカーペンなどで筆記し、かつ布などで
拭き消し可能な、いわゆるホワイトボードが広く利用さ
れている。これらのホワイトボードは、基材の一方の面
に筆記層としてマーカーペンなどのインキが染み込まな
い樹脂を塗布したものであり、このような樹脂としては
硬化性樹脂が使用されている。硬化性樹脂を使用するこ
とにより、筆記層に更に耐擦傷性、耐汚染性を付与する
ことができる。更に必要に応じては上記筆記層の表面又
は内部に表面より目視可能に、絵柄などの印刷層を有し
たものもあり、これら絵柄の例としては、例えばスケジ
ュール表などの罫線、ワンポイントの絵柄などが挙げら
れる。

【０００３】しかし、上記したホワイトボードは筆記層
の反射により、使用者が筆記しづらい、筆記事項を見る
者が筆記事項を確認するのが困難であるなどの問題があ
る。

【０００４】そこで上記筆記層の反射を防止するため
に、筆記層に表面凹凸などによる艶消し処理が施されて
いる筆記用シート材料が提供されている。

【０００５】しかし上記のシートにおいては艶消し処理
による表面凹凸のため、筆記層にマーカーペンなどで筆
記する際にペン先がひっかかり、使用しにくいという問
題がある。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】本考案の目的は、表面
の硬化膜層が平滑でありながら反射防止性を有し、かつ
耐擦傷性、耐汚染性にすぐれた筆記性表面を有するシー
トを提供するものである。

【０００７】

【課題が解決しようとする手段】本第１の考案の筆記性
表面及び反射防止性を有するシートは、隠蔽性のある基
材の少なくとも一方の面に筆記性表面及び反射防止性を
有する硬化膜層を設けてなり、前記硬化膜層の皮膜形成
材が無機バインダー又は硬化性樹脂に、屈折率が１．３
〜１．５の超微粒子を分散させてなることを特徴とする
ものである。

【０００８】本第２の考案の筆記性表面及び反射防止性
を有するシートは、透明なプラスチックフィルムの少な
くとも一方の面に筆記性表面及び反射防止性を有する硬
化膜層を設けてなり、前記硬化膜層の皮膜形成材が無機
バインダー又は硬化性樹脂に、屈折率が１．３〜１．５
の超微粒子を分散させてなることを特徴とするものであ
る。

【０００９】本第３の考案の筆記性表面及び反射防止性
を有するシートは、本第２の考案の筆記性表面及び反射
防止性を有するシートにおいて、硬化膜層が表面となる
ように接着剤を介して隠蔽性のある基材と貼合されてな
ることを特徴とするものである。

【００１０】

【００１１】

【実施例】以下、図面を引用して本考案を説明する。図
１は本考案のシートの断面図の１例であり、隠蔽性基材
１の一方の表面に硬化膜層２が形成されていることを特
徴としており、必要に応じては絵柄印刷層３を形成する
ことができる。

【００１２】隠蔽性基材１としては、プラスチックフィ
ルム、紙、布、パーティクルボード、木板、鋼板など、
あるいは必要に応じて前記基材の硬化膜層形成面に隠蔽
ベタ印刷を施したもの、あるいは顔料を練り込んだプラ
スチックフィルムが挙げられる。隠蔽ベタ印刷に使用す
るインキに添加されている顔料またはプラスチックフィ
ルムに練り込む顔料としては、例えば黒色顔料としては
アニリンブラックなどの有機顔料、カーボンブラックな
どの無機顔料、白色顔料としては二酸化チタン、三酸化
二アンチモンなどの無機顔料など、用途に応じて選択す
ることができる。基材に固いものを使うと、そのまま例
えばホワイトボードとして使用することができる。基材
に柔らかいもの、例えばポリエステルフィルム、ポリエ
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどのポリオ
レフィンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムなど通常の
プラクチックフィルムを使うと、そのままでも使用する
ことができるが、基材の裏面に磁石を積層すれば、本考
案のシートを鉄製のボードに貼り付けて使用することが
できる。また、接着剤層を介し、硬質の基板に本考案の
シートを硬化膜層を表面として貼り付けてホワイトボー
ドとして使用してもよい。また隠蔽性基材１がプラスチ
ックフィルムの場合、それらの表面の接着性を改良する
目的で、片面あるいは両面にプライマー処理やコロナ放
電処理を施したものを使用することができる。

【００１３】絵柄印刷層３は、図１のように硬化膜層２
と隠蔽性基材１との間に施してもよいし、硬化膜層２の
表面に設けてもよい。また硬化膜層２の両面に設けるこ
とも可能である。絵柄印刷層３の絵柄の例としては、ス
ケジュール表などの罫線、動物、花などのワンポイント
の絵柄、音楽の音符を書き込むための五線など種々のも
のが考えられる。

【００１４】又、硬化膜層２を隠蔽性基材１の両面に形
成すると、両面を筆記面として使用することができるシ
ートを得ることができる。

【００１５】図２は本考案のシートにおける他の態様を
示すものであり、透明プラスチックフィルム４の両面に
硬化膜層２を設けてなるものである。

【００１６】透明プラスチックフィルム４としてはポリ
エステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルムなどのポリオレフィンフィルム、ポリ塩化
ビニルフィルムなど通常のプラスチックフィルムが使用
でき、透明性を有していれば部分的または全面に着色し
てもよい。またこれらの表面の接着性を改良する目的
で、片面あるいは両面にプライマー処理やコロナ放電処
理を施したものを使用することができる。

【００１７】また硬化膜層２は、筆記面として使用する
面のみに設けてもよいが、図２のようにフィルム４の両
面に形成するのが好ましく、一方の面のみに形成したも
のより優れた反射防止効果が得られる。さらに特に図示
はしないが、透明プラスチックフィルム４と硬化膜層２
との間あるいは硬化膜層表面のうち少なくとも一層以上
の絵柄印刷層３を設けてもよい。

【００１８】硬化膜層２は、屈折率が１．３〜１．５の
超微粒子のＬｉＦ、ＭｇＦ₂、３Ｎ₂Ｆ・ＡｌＦ₃、Ａ
ｌＦ₃などのフッ化物を適当なバインダー樹脂に分散さ
せてなる塗料を塗工及び乾燥硬化させて形成することが
できる。バインダーとして適当な材料としてはシロキサ
ン系、コロイダルシリカ系などの無機バインダー又は高
架橋密度の皮膜形成が可能な熱硬化性樹脂、電離放射線
硬化性樹脂が挙げられる。

【００１９】上記超微粒子のＬｉＦ、ＭｇＦ₂、３Ｎ₂
Ｆ・ＡｌＦ₃、ＡｌＦ₃などのフッ化物を無機バインダ
ーに分散させてなる反射防止塗料は、ＡＲＧ−４０１、
ＡＲＧ−８０１、ＫＳなどの名称で住友セメント（株）
から入手して使用することができる。これらの無機反射
防止塗料を使用する場合には、比較的固形分濃度を低く
して塗工及び乾燥させ、必要に応じて基材が変形しない
程度の温度で硬化処理することによって反射防止性のあ
る硬化膜層を形成することができる。

【００２０】熱硬化性樹脂としては、オルガノシラン系
樹脂であり、アミノシランエポキシシランの加水分解
物、シランカップリング剤、アルキルアルコキシシラ
ン、テトラアルコキシシランの部分加水分解物、コロイ
ダルシリカ、アルキルトリアルコキシシランの加水分解
物、熱硬化性シリコーン樹脂などが挙げられ、これらは
必要に応じて希釈して塗工し自然に放置するか、もしく
は加熱して硬化させる。

【００２１】一方、電離放射線硬化性樹脂としては、電
子線硬化性樹脂と紫外線硬化性樹脂とがあり、前者と後
者とは、後者が光重合開始剤や増感剤を含有することを
除いて成分的に同様なものであり、一般的には皮膜形成
性成分としてその構造中にラジカル重合性の二重結合又
はエポキシ基を有するポリマー、オリゴマー、モノマー
などを主成分とし、その他必要に応じて非反応性のポリ
マー、有機溶剤、ワックス、その他の添加剤を含有する
ものである。本考案の目的に特に好ましいものは、皮膜
形成性成分がアクリレート系の官能基を有するもの、例
えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエ
ン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコールな
どの多官能化合物の（メタ）アクリレートなどのオリゴ
マーまたはプレポリマーなどが挙げられる。これらの電
離放射線硬化性樹脂には硬化速度、架橋密度を向上させ
る目的で反応希釈剤としてエチル（メタ）アクリレー
ト、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、
メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単官能モ
ノマー、並びに多官能性モノマー、例えば、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオ
ール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、１，６ーヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレ
ートなどを比較的多量に混合して用いることができる。
このような多官能（メタ）アクリレート系の電離放射線
硬化性樹脂を使用することによって、表面硬度、透明
性、耐擦傷性、耐汚染性などにすぐれた筆記層を形成す
ることができる。電離放射線硬化性樹脂には、硬化を紫
外線で行う場合、光重合開始剤、増感剤を加える。光重
合開始剤としては、アセトフェノン系、ブンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタ
ール、ベンゾイルペンゾエート、α−アミロキシムエス
テル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキ
サンソンなどがあり、増感剤としては、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンな
どがある。以上のような電子線または紫外線硬化性樹脂
などの電離放射線硬化性樹脂は種々のグレードのものが
知られ、いずれも市場から容易に入手でき、本考案にお
いて使用することができる。上記電離放射線硬化性樹脂
からなる層の硬化方法も従来技術がそのまま使用でき、
例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン
型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、
直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線
加速機から放出される５０〜１０００kev 、好ましくは
１００〜３００kev のエネルギーを有する電子線などが
使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水
銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、
メタルハライドランプなどの光源から発する紫外線など
が利用される。

【００２２】上記の無機バインダーまたは硬化性樹脂よ
り形成される硬化膜層２の厚みは０．１μｍ前後が好ま
しく、これより薄すぎると均一な塗布が困難であり、一
方厚すぎると光透過性等が低下する。例えば屈折率１．
４１の超微粒子を使用して塗工量を０．１μｍ（乾燥
時）とすると、人間の目に最も眩しい波長の光が効率的
にカットされる。

【００２３】また硬化膜層２は、例えばブレードコーテ
ィング方法、フローコーティング方法、グラビアコーテ
ィング方法、ロッドコーティング方法、ナイフコーティ
ング方法、リバースロールコーティング方法、スプレー
コーティング方法、オフセットグラビアコーティング方
法、キスコーティング方法など、任意の塗布方法により
隠蔽性基材１又は透明プラスチックフィルム４上に塗布
されるが、特に塗布厚の精度、塗布表面の平滑性などに
すぐれたグラビアコーティング方法、フローコーティン
グ方法、リバースロールコーティング方法、オフセット
グラビアコーティング方法などが好ましい。

【００２４】また硬化膜層２は透明性を有していれば全
面着色透明、全面未着色透明、部分着色透明のいずれで
もよい。

【００２５】以上のように形成された硬化膜層２は、バ
インダーが無機バインダーである場合には、表面硬度が
５〜７Ｈ程度の硬く耐擦傷性、耐汚染性などの耐久性及
び密着性にすぐれている。一方、バインダーが硬化性樹
脂からなる場合には密着性、可撓性、透明性などにすぐ
れ、かつ表面硬度が３〜５Ｈで耐擦傷性にすぐれてい
る。

【００２６】図３は図２におけるシートを少なくとも硬
化膜層２が表面となるように接着剤５を介して隠蔽性基
材１と貼合してなるものである。隠蔽性基材１としては
図１に示すシートと同様のものが使用でき、各種用途に
応じて選択する。また図４に示すようにこの隠蔽性基材
１の内側に絵柄印刷層３を施してもよい。このような構
成とすることにより、図２に示すシートに隠蔽性を付与
することができ、ホワイトボードなどに使用することが
できる。

【００２６】接着剤５は通常使用されるウレタン樹脂系
接着剤など公知のものでよい。

【００２７】次に実施例により本考案をさらに具体的に
説明する。実施例１厚さ５０μの白色ポリエチレンテレフタレートフィルム
（東レ（株）製、Ｅ−２０）の両面に反射防止性塗料
（住友セメント（株）製、ＫＳ）を乾燥基準で０．１μ
になるようにグラビアコートで塗工し、１３０℃で１５
分間乾燥して硬化膜層を形成し、本考案の筆記性表面及
び反射防止性を有するシートを得た。又、得られた硬化
膜層の表面硬度は７Ｈ、ヘイズは０．１％以下、屈折率
は１．３９〜１．４１であった。得られたシートは優れ
た反射防止性を有し、かつ筆記面の表面硬度に優れたも
のであった。

【００２８】実施例２厚さ５０μの透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
（東レ（株）製、Ｔタイプ）の両面に反射防止性塗料
（住友セメント（株）製、ＫＳ）を乾燥基準で０．１μ
になるようにグラビアコートで塗工し、１３０℃で１５
分間乾燥して硬化膜層を形成した。得られた硬化膜層の
表面硬度は７Ｈ、ヘイズは０．１％以下、屈折率は１．
３９〜１．４１であった。一方厚さ７５μの白色ポリエ
チレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、Ｅタイ
プ）の片面にグラビア印刷にてスケジュール表の罫線を
印刷したものを用意する。次に前記透明ポリエチレンテ
レフタレートフィルムの硬化膜層形成面の一方の面に二
液硬化型ウレタン樹脂系接着剤（大日精化工業（株）
製、セイカボンド）を厚さ５μとなるように塗工し、前
記白色ポリエチレンテレフタレートフィルムの印刷面と
前記接着剤面が接するようにラミネートし、本考案の筆
記性表面及び反射防止性を有するシートを得た。得られ
たシートは優れた反射防止性を有し、かつ筆記面の表面
硬度に優れたものであった。

【００２９】実施例３実施例２の反射防止塗料に代えて、フッ化マグネシウム
超微粒子１０重量部、電子線硬化型樹脂（諸星インキ
製、ＨＣ−Ｃ）５０重量部及び溶剤（メチルエチルケト
ン／トルエン＝１／１）２００重量部からなる塗料を使
用して厚さ５０μの透明ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（東レ（株）製、Ｔタイプ）の両面に実施例２と
同様に塗工後、１００℃で１分間乾燥した。この塗工フ
ィルムをスキャニング方式の電子線照射機を用い、加速
電圧１７５ＫＶ、ビーム電流３６ｍＡ、照射線量１０Ｍ
ｒａｄで電子線を照射して硬化膜層を硬化させた。得ら
れた硬化膜層の表面硬度は５Ｈ、ヘイズは０．１％以
下、屈折率は１．３９〜１．４１であった。以下、実施
例２と同様に印刷した白色ポリエチレンテレフタレート
フィルムとラミネートし、本考案の筆記性表面及び反射
防止性を有するシートを得た。得られたシートは優れた
反射防止性を有し、かつ筆記面の表面硬度に優れたもの
であった。

【００３０】

【考案の効果】以上説明したとおり、本考案によれば基
材の表面の筆記面となる硬化膜に反射防止性を付与する
ことにより、表面の反射により、使用者が筆記しづら
い、筆記事項を見る者が筆記事項を確認するのが困難で
あるなどの問題を解消した筆記性表面を有するシートを
提供することができる。また、上記硬化膜層の皮膜形成
材として無機バインダー又は硬化性樹脂に、屈折率が
１．３〜１．５の超微粒子を分散させてなるものを使用
することにより、透明性、密着性、表面硬度、耐擦傷
性、耐汚染性にすぐれた筆記性表面を有するシートを提
供することができ、また、表面に艶消し処理をすること
なく反射防止機能を付与することができるため、硬化膜
層表面が平滑で、マーカーペンなどで硬化膜層表面に筆
記してもペン先がひっかかることのないシートが得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の反射防止性及び筆記性表面を有するシ
ートの断面図の一例を示すものである。

【図２】本考案の反射防止性及び筆記性表面を有するシ
ートの断面図の他の一例を示すものである。

【図３】本考案の反射防止性及び筆記性表面を有するシ
ートの断面図の他の一例を示すものである。

【図４】本考案の反射防止性及び筆記性表面を有するシ
ートの断面図の他の一例を示すものである。

【符号の説明】

１隠蔽性基材２硬化膜層３絵柄印刷層４透明プラスチックフィルム５接着剤

Claims

(57)【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】隠蔽性のある基材の少なくとも一方の面
に筆記性表面及び反射防止性を有する硬化膜層を設けて
なり、前記硬化膜層の皮膜形成材が無機バインダー又は
硬化性樹脂に、屈折率が１．３〜１．５の超微粒子を分
散させてなることを特徴とする、筆記性表面及び反射防
止性を有するシート。
【請求項２】透明なプラスチックフィルムの少なくと
も一方の面に筆記性表面及び反射防止性を有する硬化膜
層を設けてなり、前記硬化膜層の皮膜形成材が無機バイ
ンダー又は硬化性樹脂に、屈折率が１．３〜１．５の超
微粒子を分散させてなることを特徴とする、筆記性表面
及び反射防止性を有するシート。
【請求項３】請求項２記載の筆記性表面及び反射防止
性を有するシートにおいて、硬化膜層が表面となるよう
に接着剤を介して隠蔽性のある基材と貼合されてなるこ
とを特徴とする、筆記性表面及び反射防止性を有するシ
ート。