JP2567210B2 - マイクロ波接地構造 - Google Patents

マイクロ波接地構造

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JP2567210B2 JP6318941A JP31894194A JP2567210B2 JP 2567210 B2 JP2567210 B2 JP 2567210B2 JP 6318941 A JP6318941 A JP 6318941A JP 31894194 A JP31894194 A JP 31894194A JP 2567210 B2 JP2567210 B2 JP 2567210B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波機器の接地
端子が接続される誘電体基板の上部接地電極をスル−ホ
−ルを利用して接地するマイクロ波接地構造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のマイクロ波接地構造について、図
3を参照して説明する。図3の(a)は上面図で、
(b)と(c)はそれぞれ、(a)図のA−A、B−B
で断面した断面図である。
【0003】31は誘電体基板で、誘電体基板31の上
面には上部接地電極32が、また、誘電体基板31の下
面には接地面となる下部電極33が形成されている。ま
た、誘電体基板31にはスル−ホ−ル34が形成されて
いる。そして、上部接地電極32と下部電極33は、ス
ル−ホ−ル34に形成された導電部によって電気的に接
続されている。
【0004】また、パッケ−ジ入りの素子35、例えば
マイクロ波半導体素子やマイクロ波受動素子(以下素子
と称する。)が誘電体基板31上に配置されている。素
子35の接地端子36は、半田又は導電性接着剤を用い
て上部接地電極32に接続されている。また、素子35
の入出力端子37は誘電体基板31の上部電極38と半
田又は導電性接着剤で接続されている。
【0005】ところで、素子35の入出力端子37の延
長方向には、整合回路(図示せず)などが設けられる。
したがって、誘電体基板31に形成されるスル−ホ−ル
34は、通常、素子35の接地端子36の延長方向に設
けられる。このとき、素子35直下に位置する部分の上
部接地電極32は削除され、素子35の入出力端子37
と上部接地電極32が電気的に短絡しないようになって
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のマイクロ波接地
構造では、スル−ホ−ル34は、少なくとも接地端子3
6の長さ分だけ素子35から離した位置に形成される。
このとき、次の1)〜3)のような問題がある。
【0007】1)素子35からスル−ホ−ル34までの
距離が長くなるため、素子35とスル−ホ−ル34間の
等価的なインダクタンスが大きくなる。このため、素子
35から見た接地インピ−ダンスが高くなる。なお、接
地インピ−ダンスは周波数が高くなるほど高くなる。例
えば、誘電体基板31の厚みが0.508mm、そし
て、誘電体基板31の比誘電率が2.2、誘電体基板3
1の上部接地電極32の幅が2.0mm、素子35から
スル−ホ−ル34までの距離が1.5mm、スル−ホ−
ル34の直径が1mmとすると、図4の曲線aのように
周波数(横軸)が20GHzにおける接地インピ−ダン
ス(縦軸)はj60Ωとなる。この場合、パッケ−ジ入
りの素子を使用して増幅器を構成すると、利得が低下
し、また帯域外の安定指数が悪化する。
【0008】2)スル−ホ−ル34の位置が素子35か
ら離れているため、回路の小形化が難しい。
【0009】3)素子35からスル−ホ−ル34までの
距離を短くするために、素子35の接地端子36の直下
にスル−ホ−ル34を形成することが考えられる。しか
し、この場合、スル−ホ−ル34の直径を素子35の接
地端子32の幅より小さくする必要がある。このため、
スル−ホ−ル34のインダクタンスが大きくなり、素子
35から見た接地インピ−ダンスを小さくできない。
【0010】本発明は、上記した欠点を解決するもの
で、高周波での接地インピ−ダンスを小さくし、かつ回
路を小形にできるマイクロ波接地構造を提供することを
目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上面に上部接
地電極が、また下面に下部電極が形成され、前記上部接
地電極および前記下部電極がスル−ホ−ルで接続された
誘電体基板と、入出力端子および前記上部接地電極に接
続される接地端子を有し、前記誘電体基板の上面に配置
されるパッケ−ジ入りの素子とを具備したマイクロ波接
地構造において、前記パッケ−ジ入り素子の下方に前記
スル−ホ−ルが形成され、前記スル−ホ−ルの導電部あ
るいは前記上部接地電極の少なくとも一方で、前記素子
の入出力端子に近い部分の一部が削除されている。
【0012】また、上面に上部接地電極が、また下面に
下部電極が形成され、前記上部接地電極および前記下部
電極がスル−ホ−ルで接続された誘電体基板と、入出力
端子および前記上部接地電極に接続される接地端子を有
し、前記誘電体基板の上面に配置されるパッケ−ジ入り
の素子とを具備したマイクロ波接地構造において、前記
パッケ−ジ入り素子の下方に前記スル−ホ−ルが形成さ
れ、前記スル−ホ−ルの導電部あるいは前記上部接地電
極の少なくとも一方で、少なくともその一部表面に絶縁
体膜が形成されている。
【0013】
【作用】上記した構造によれば、パッケ−ジ入り素子の
下方にスル−ホ−ルが形成されている。したがって、素
子からスル−ホ−ルまでの距離が短くなり、等価的なイ
ンダクタンスが小さくなり、素子から見た接地インピ−
ダンスが低減する。また、スル−ホ−ルが素子の直下に
あるため、回路を小形にできる。なお、スル−ホ−ルが
素子の直下に位置する場合、素子の入出力端子がスル−
ホ−ルの導電部や上部接地電極と接触する恐れがある。
しかし、このような問題は、スル−ホ−ルの導電部ある
いは上部接地電極の少なくとも一方で、素子の入出力端
子に近い部分の一部を削除して防止している。また、ス
ル−ホ−ルの導電部あるいは上部接地電極の少なくとも
一方で、少なくともその一部表面に絶縁体膜を形成して
防止している。
【0014】
【実施例】本発明の一実施例について図1を参照して説
明する。図1の(a)は上面図で、(b)と(c)はそ
れぞれ、図(a)のA−A、B−Bでの断面図である。
【0015】11は誘電体基板で、誘電体基板11の上
面には、(a)図の上下方向に上部接地電極12が形成
されている。また、(a)図の左右方向に上部電極13
が形成されている。そして、誘電体基板11の下面には
接地面となる下部電極14が形成されている。なお下部
電極14は、誘電体基板11の上面にマイクロストリッ
プ線路が形成される場合、その接地面にもなっている。
【0016】そして、上部電極13間に素子15が配置
されている。また、素子15直下の誘電体基板11には
スル−ホ−ル16が形成され、スル−ホ−ル16表面の
導電部によって上部接地電極12と下部電極14を接続
している。なお、上部電極13の素子15側の端部は、
スル−ホ−ル16上端の縁の部分に接するように形成さ
れている。また、素子15の接地端子17は上部接地電
極12に、また入出力端子18は上部電極13にそれぞ
れ、半田又は導電性接着剤で接続されている。なお、上
部接地電極12の素子15側の端部は、入出力端子18
と接触しないように両側が削除され幅が狭くなってい
る。
【0017】なお、(c)図に示されるように、素子1
5の入出力端子18の直下に位置する部分や上部電極1
3の端部が接する部分で、スル−ホ−ル16上端部分の
導電部の一部が削除されている。このようにスル−ホ−
ル16上端部分の導電部の一部を削除することで、素子
15の入出力端子18や上部電極13とスル−ホ−ル1
6とが電気的に短絡しないようにされる。なお、(b)
図に示されるように、上部接地電極12はスル−ホ−ル
16の導電部と電気的に接続されている。
【0018】上記した構成によれば、素子15の直下に
スル−ホ−ル16が形成されている。このため、素子1
5からスル−ホ−ル16までの距離が短くなり、素子1
5とスル−ホ−ル16間の等価的なインダクタンスが小
さくなる。これにより、素子15から見た接地インピ−
ダンスが低下する。
【0019】例えば、誘電体基板11の厚みが0.50
8mm、誘電体基板11の比誘電率が2.2、スル−ホ
−ル16の直径が1.0mmとすると、図4の曲線bの
ように周波数20GHzでの接地インピ−ダンスはj9
Ωと小さくなる。
【0020】したがって、パッケ−ジ入りの素子を使用
して増幅器を構成した場合でも利得の低下がなく、ま
た、帯域外の安定指数も良好となる。またスル−ホ−ル
が素子の直下に位置するため、回路が小形になる。
【0021】なお、上記した実施例では、素子15の入
出力端子18の直下に位置する部分や上部電極13が接
する部分で、スル−ホ−ル16の導電部が削除されてい
る。しかし、上部電極13がスル−ホ−ル16の縁と接
しておらず、上部電極13とスル−ホ−ル16の導電部
が接触しない場合は、入出力端子18の直下部分だけを
削除する構成にしてもよい。
【0022】次に、本発明の他の実施例について、図2
を参照して説明する。
【0023】21は誘電体基板で、誘電体基板21の上
面には上部接地電極22や上部電極23が形成されてい
る。また、誘電体基板21の下面には、接地面となる下
部電極24が形成されている。なお、下部電極24は、
マイクロストリップ線路が誘電体基板21の上面に形成
される場合は、その接地面にもなっている。また、2つ
の上部電極23間に素子25が配置される。そして、素
子25の直下にスル−ホ−ル26が形成され、(b)図
に示されるように、上部接地電極22と下部電極24は
スル−ホ−ル26によって接続されている。また、素子
25の接地端子27は上部接地電極22に半田又は導電
性接着剤で接続されている。
【0024】また、(c)図に示されるように、素子2
5の入出力端子28は上部電極23に半田又は導電性接
着剤で接続されている。このとき、誘電体基板21上面
のスル−ホ−ル26周辺の導電部と入出力端子28が電
気的に接触しないように、例えば両者間に隙間が設けら
れている。
【0025】そして、スル−ホ−ル26周辺の導電部を
覆い、また中央部分がスル−ホ−ル26の表面に沿って
折れ曲がるようにして絶縁体膜29が形成されている。
この場合、素子25直下に位置するスル−ホ−ル26と
素子25との間に絶縁体膜29が位置する構造になるの
で、素子25の入出力端子28とスル−ホ−ル26との
電気的な短絡が防止される。
【0026】上記した構成によれば、素子25とスル−
ホ−ル26との距離が短くなる。したがって、素子25
とスル−ホ−ル26間の等価的なインダクタンスが小さ
くなり、素子25から見た接地インピ−ダンスが減少す
る。また、スル−ホ−ル26が素子25の直下に位置す
るため、回路も小形になる。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、素子から見た接地イン
ピ−ダンスが小さく、また回路が小形なマイクロ波接地
構造を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す概略の上面図、そして
断面図である。
【図2】本発明の他の実施例を示す概略の上面図、そし
て断面図である。
【図3】従来例を示す概略の上面図、そして断面図であ
る。
【図4】従来例や本発明の特性を説明する図である。
【符号の説明】
11…誘電体基板 12…上部接地電極 13…上部電極 14…下部電極 15…素子 16…スル−ホ−ル 17…接地端子 18…入出力端子

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上面に上部接地電極が、また下面に下部
    電極が形成され、前記上部接地電極および前記下部電極
    がスル−ホ−ルで接続された誘電体基板と、入出力端子
    および前記上部接地電極に接続される接地端子を有し、
    前記誘電体基板の上面に配置されるパッケ−ジ入りの素
    子とを具備したマイクロ波接地構造において、前記パッ
    ケ−ジ入り素子の下方に前記スル−ホ−ルが形成され、
    前記スル−ホ−ルの導電部あるいは前記上部接地電極の
    少なくとも一方で、前記素子の入出力端子に近い部分の
    一部が削除されたことを特徴とするマイクロ波接地構
    造。
  2. 【請求項2】 上面に上部接地電極が、また下面に下部
    電極が形成され、前記上部接地電極および前記下部電極
    がスル−ホ−ルで接続された誘電体基板と、入出力端子
    および前記上部接地電極に接続される接地端子を有し、
    前記誘電体基板の上面に配置されるパッケ−ジ入りの素
    子とを具備したマイクロ波接地構造において、前記パッ
    ケ−ジ入り素子の下方に前記スル−ホ−ルが形成され、
    前記スル−ホ−ルの導電部あるいは前記上部接地電極の
    少なくとも一方で、少なくともその一部表面に絶縁体膜
    を形成したことを特徴とするマイクロ波接地構造。
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