JP2558708B2 - スチ−ムアイロン - Google Patents

スチ−ムアイロン

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JP2558708B2
JP2558708B2 JP62159054A JP15905487A JP2558708B2 JP 2558708 B2 JP2558708 B2 JP 2558708B2 JP 62159054 A JP62159054 A JP 62159054A JP 15905487 A JP15905487 A JP 15905487A JP 2558708 B2 JP2558708 B2 JP 2558708B2
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JP
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temperature
base
steam
valve mechanism
setting
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公世 斉藤
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Toshiba Home Technology Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、適宜ベースの下面からスチームを噴出さ
せることが可能なスチームアイロンに関する。
〔従来の技術〕
この種のスチームアイロンは、アイロン掛け用のベー
スの上にハンドルおよび水タンクを設けてなる。ベース
の上面には気化室が形成され、また水タンクの底部に弁
機構が設けられ、この弁機構を介して水タンクが前記気
化室に接続されている。さらに、水タンクに前記弁機構
を開閉するスチーム選択用の操作体が、ハンドルにベー
スの温度を設定する温度設定用の操作体がそれぞれ設け
られている。
しかして温度設定用の操作体の操作によりベースの温
度を高温に設定し、この状態でスチーム選択用の操作体
を介して弁機構を開放操作すると、水タンク内の水がベ
ースの気化室に順次滴下し、この水がベースの熱で気化
してスチームとなり、このスチームがベースの下面から
その下方に向って順次噴出し、このスチームを布地に当
てながらベースでその布地をプレスするものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、ベースの下面からスチームを噴出させてア
イロンを使用する場合には、常にベースを高温に設定し
ておく必要があり、中温や低温の設定状態のもとで水タ
ンクから気化室に水を滴下してしまうと、その水を充分
に気化させることが困難で、この結果、気化室に水が滞
留し、この水がベースの下面から漏出してしまうとい不
都合を招く。このため従来においては、ベースの温度が
中温や低温に設定されている状態から、スチームを噴出
させようとする場合には、温度設定用の操作体を操作し
てベースの温度を高温に設定し、こののちスチーム選択
用の操作体を操作しなければならず、つまり二段階の操
作を必要とし、このため作業が面倒で煩わしい難点があ
り、また往々にして温度設定の操作体の操作を忘れ、ベ
ースが中温や低温のまま気化室に水を滴下して上述のよ
うな不都合を招いてしまうという問題があった。この発
明はこのような問題点の解決を目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明はこのような問題点を解決するために、ヒー
タを備えたベースと、このベースの温度を設定する温度
設定用の操作体と、前記ベースに形成された気化室と、
この気化室に弁機構を介して接続された水タンクと、前
記弁機構を開閉するスチーム選択用の操作体とを具備
し、前記スチーム選択用の操作体を介して前記弁機構を
開放し、この開放により水タンク内の水をベースの気化
室に滴下し、この水をベースの熱で気化させてスチーム
にし、このスチームをベースの下面から噴出させるもの
において、前記弁機構の開放を検知する検知機構、およ
びその検知に応じて前記ヒータの通電を制御してベース
の温度を前記温度設定用の操作体の設定状態に拘らずス
チーム発生適温に保持する通電制御回路を設けるように
したものである。
〔作用〕
弁機構が開放されると、それが検知機構により検知さ
れる。そしてこの検知により通電制御回路によりベース
の温度が温度設定用の操作体の操作状態に拘らずスチー
ム発生適温に保持され、したがって弁機構の開放に伴っ
て水タンクから気化室内に滴下した水が常に適正に気化
する。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例について図面を参照して説
明する。
図中1はベースで、このベース1にヒータ2が埋設さ
れ、またこのベース1の上面に気化室3が形成され、こ
の気化室3が導通路4を通してベース1の下面の噴出孔
5に連通している。ベース1の上にはハンドル6および
水7が設けられ、水タンク7の底部に前記気化室3と対
向して弁機構8が設けられ、この弁機構8を介して水タ
ンク7が気化室3に接続されている。この弁機構8は水
タンク7に形成された注水孔9と、この注水孔9に装着
されたニードル弁10とで構成されている。そして水タン
ク7の上端部に、前記ニードル弁10と連結した操作体11
が設けられ、この操作体11の上下操作により弁機構8が
開閉されるようになっている。操作体11には検知機構と
して検知スイッチ12が付設され、この検知スイッチ12に
より操作体11が下方に押圧操作された際、つまり弁機構
8が開放された際にそれが検知されるようになってい
る。
ハンドル6の中段部には温度設定用の例えばダイヤル
回動式の操作体14が設けられ、この操作体14を回動操作
して所定の位置に合せることにより、ベース1の温度を
その回動位置に応じた所定の温度、例えば高温、中温、
低温に設定することができるものである。そしてこの操
作体14の近傍には、その回動位置つまりベース1に対す
る温度設定状態を検知する位置検知素子15が設けられて
いる。またベース1には該ベース1の温度を検知するサ
ーミスタなどの温度検知素子16が取付けられ、さらにハ
ンドル6の後端内部に通電制御回路17が組込まれてい
る。
通電制御回路17は、第2図に示すように、マイクロコ
ンピュータ18を備え、このマイクロコンピュータ18に前
記検知スイッチ12、位置検知素子15、温度検知素子16お
よびヒータ2が接続されている。なお、19は温度信号入
力回路、20は電力制御回路である。
しかして、弁機構8が閉止している状態のもとでは、
位置検知素子15による温度設定用の操作体14の設定状態
の情報、および温度検知素子16によるベース1の実際の
温度の情報がマイクロコンピュータ18に入力し、この両
者の情報に基づく判断により該マイクロコンピュータ18
を通してヒータ2に対する通電が制御され、この制御に
よりベース1の温度が前記温度設定用の操作体14の設定
に応じる温度に保持される。
このような状態からスチーム選択用の操作体11を下方
に押圧操作すると、それが検知スイッチ12により検知さ
れる。そしてこの検知により、操作体11が操作された情
報がマイクロコンピュータ18に入力し、この入力により
前記温度設定用の操作体14の設定状態に拘りなく該マイ
クロコンピュータ18が、温度検知素子16からの情報を考
慮しながらヒータ2の通電を制御してベース1をスチー
ム発生適温に保持する。
一方、スチーム選択用の操作体11の操作に応じて弁機
構8が開放し、この開放に伴ってタンク7内の水が弁機
構8を通してベース1の気化室3内に順次滴下する。こ
のとき、上述のようにベース1の温度は操作体14の設定
に拘らずスチーム発生適温に保持されているから、気化
室3内に滴下した水は速やかに気化してスチームとな
り、このスチームが導通路4を通して噴出孔5から噴出
する。そしてこのように温度設定用の操作体14を特に高
温の設定位置に操作することなくスチームを噴出させる
ことができるから、つまりスチーム選択用の操作体11の
みの一段の操作でスチームを噴射させることができるか
ら、便利に使用することができる。
なお、前記実施例においては、温度設定用の操作体と
してダイヤル回動式のものを例に挙げたが、これは押し
ボタン式のものであってもよく、そしてその配設位置を
ハンドルの上端面に定め、ハンドルを握ったままその操
作を行なえるように構成することも可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば、気化室に水を
滴下させた際には、温度設定用の操作体の設定状態に拘
りなく、ベースの温度がスチーム発生適温に保持され、
したがってその水が常に適正に気化して気化室内に水が
滞留するようなことがなく、このためベースの下面に対
する水の漏出を確実に防止することができるという効果
を奏する。
そして、ベースの温度を設定する温度設定用の操作体
によりベースの温度をスチーム発生適温よりも低い温度
に設定してアイロンを使用しているときに、スチーム選
択用の操作体を操作し、この操作で弁機構を開放させて
スチームの設定を行った場合においては、そのスチーム
選択用の操作体の操作に応じる弁機構の開放動作が検知
機構により検知され、この検知に基づいて通電制御回路
を介してヒータが制御され、このヒータの制御によりベ
ースの温度がスチーム発生適温にまで上昇するように制
御されてスチームが噴出する。すなわち、ベースの温度
をスチーム発生適温よりも低い温度に設定して使用して
いるときにおいて、スチーム選択用の操作体を操作する
と、この操作だけで特に温度設定用の操作体を操作する
ことなく、ベースの温度がスチーム発生適温にまで自動
的に上昇してスチームが噴出する。したがって、スチー
ム選択用の操作体と併せて温度設定用の操作体を操作す
るような面倒で煩わしい作業が不要で、使い勝手が向上
し、能率的なアイロン掛けを達成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図、第2図は同
じく回路構成のブロック図である。 1……ベース、2……ヒータ、3……気化室、7……水
タンク、8……弁機構、11……スチーム選択用の操作
体、12……検知スイッチ(検知機構)、14……温度設定
用の操作体、17……停電制御回路。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ヒータを備えたベースと、このベースの温
    度を設定する温度設定用の操作体と、前記ベースに形成
    された気化室と、この気化室に弁機構を介して接続され
    た水タンクと、前記弁機構を開閉するスチーム選択用の
    操作体とを具備し、前記スチーム選択用の操作体を介し
    て前記弁機構を開放し、この開放により水タンク内の水
    をベースの気化室に滴下し、この水をベースの熱で気化
    させてスチームにし、このスチームをベースの下面から
    噴出させるものにおいて、前記弁機構の開放を検知する
    検知機構、およびその検知に応じて前記ヒータの通電を
    制御してベースの温度を前記温度設定用の操作体の設定
    状態に拘らずスチーム発生適温に保持する通電制御回路
    を設けたことを特徴とするスチームアイロン。
JP62159054A 1987-06-26 1987-06-26 スチ−ムアイロン Expired - Lifetime JP2558708B2 (ja)

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JPS642700A JPS642700A (en) 1989-01-06
JPH012700A JPH012700A (ja) 1989-01-06
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59111800A (ja) * 1982-12-16 1984-06-28 松下電器産業株式会社 スチ−ムアイロン
JPS61168398A (ja) * 1985-01-19 1986-07-30 三洋電機株式会社 スチ−ムアイロン

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JPS642700A (en) 1989-01-06

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