JP2551982B2 - 芳香族ポリエステルとその製造法 - Google Patents
芳香族ポリエステルとその製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種光学機器用素材として有用な新規な芳
香族ポリエステルとその製造法に関するものである。
香族ポリエステルとその製造法に関するものである。
プラスチック光学素子は、ガラス製のものに較べて軽
い、耐衝撃性に優れる、研磨が不用である、大量生産が
容易である、非球面レンズが量産できるなどの利点を有
することから、近年その需要が増大している。ポリエス
テル樹脂は、耐熱性、透明性に優れ、また、屈折率も高
む強靭な樹脂であるが、耐透湿性が低いうえ、流動性が
低く、成形時の歪みにより光学異方性が発生しやすく、
光学材料としては不適な樹脂であった。
い、耐衝撃性に優れる、研磨が不用である、大量生産が
容易である、非球面レンズが量産できるなどの利点を有
することから、近年その需要が増大している。ポリエス
テル樹脂は、耐熱性、透明性に優れ、また、屈折率も高
む強靭な樹脂であるが、耐透湿性が低いうえ、流動性が
低く、成形時の歪みにより光学異方性が発生しやすく、
光学材料としては不適な樹脂であった。
本発明は、従来のポリエステル樹脂のもつこのような
難点を解消し、耐透湿性にすぐれ、流動性もよく、光弾
性係数も低く、成形時の残留応力による歪みの小さく、
光学的に均質な成形品を提供しうる新規な芳香族ポリエ
ステルを提供しようとするものである。
難点を解消し、耐透湿性にすぐれ、流動性もよく、光弾
性係数も低く、成形時の残留応力による歪みの小さく、
光学的に均質な成形品を提供しうる新規な芳香族ポリエ
ステルを提供しようとするものである。
また、本発明は、このような新規な芳香族ポリエステ
ルを製造する方法をも提供しようとするものである。
ルを製造する方法をも提供しようとするものである。
本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究を重
ねた結果、芳香族の密度の高い特定構造を有する芳香族
ポリエステルにおいて前記目的が達成されることを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに到った。
ねた結果、芳香族の密度の高い特定構造を有する芳香族
ポリエステルにおいて前記目的が達成されることを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに到った。
すなわち、本発明は、一般式 （式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−（−CH2）ｍ−、 であり、 ただしR1およびR2はそれぞれ水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基、またはフェニル基であり、ｍは２〜10の整
数であり、ｎは４〜８の整数である。） で表される繰り返し単位を有し、かつ塩化メチレンを溶
媒とする0.5g/dl濃度の溶液の20℃における還元粘度が
0.2dl/g以上であることを特徴とする新規な芳香族ポリ
エステルを提供するものである。
アルキル基、またはフェニル基であり、ｍは２〜10の整
数であり、ｎは４〜８の整数である。） で表される繰り返し単位を有し、かつ塩化メチレンを溶
媒とする0.5g/dl濃度の溶液の20℃における還元粘度が
0.2dl/g以上であることを特徴とする新規な芳香族ポリ
エステルを提供するものである。
還元粘度が0.2dl/g未満では、成形品の機械的強度が
充分でない。また、本発明の芳香族ポリエステルの還元
粘度の好ましい範囲は、0.2〜4.0dl/gである。還元粘度
が4.0dl/gを超えると、流動性が低下することがある。
充分でない。また、本発明の芳香族ポリエステルの還元
粘度の好ましい範囲は、0.2〜4.0dl/gである。還元粘度
が4.0dl/gを超えると、流動性が低下することがある。
本発明の芳香族ポリエステルにおいて好ましいポリエ
ステルは、一般式 で表される繰り返し単位と、一般式 で表される繰り返し単位とを有するものである。
ステルは、一般式 で表される繰り返し単位と、一般式 で表される繰り返し単位とを有するものである。
一般式（Ｉ）と一般式（II）で表される繰り返し単位
の割合は任意の割合とすることができ、（Ｉ）が100モ
ル％であっても（II）が100モル％であってもよい。
の割合は任意の割合とすることができ、（Ｉ）が100モ
ル％であっても（II）が100モル％であってもよい。
本発明の新規な芳香族ポリエステルは、例えば、本発
明の製造法に従い、一般式 （式中、Ｘは上記と同じ意味を有する。） で表される二価フェノールと、テレフタル酸および／ま
たはイソフタル酸、あるいはテレフタル酸の反応性誘導
体および／またはイソフタル酸の反応性誘導体とを反応
させることにより製造することができる。
明の製造法に従い、一般式 （式中、Ｘは上記と同じ意味を有する。） で表される二価フェノールと、テレフタル酸および／ま
たはイソフタル酸、あるいはテレフタル酸の反応性誘導
体および／またはイソフタル酸の反応性誘導体とを反応
させることにより製造することができる。
本発明の製造法において用いられる一般式（III）の
二価フェノールとしては、例えば、ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、1,2−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、1,3−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、1,4−ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、1,6−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、1,8−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）オクタン、1,10−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）デカン、
1,1−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
エタン、1,1−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、１−フェニル−1,1−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、2,2−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
2,2−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
ブタン、3,3−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）ペンタン、１−フェニル−1,1−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、1,1−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン、1,1−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロペンタン、2,2−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）オクタン、ジフェニル−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタンなど
を挙げることができる。
二価フェノールとしては、例えば、ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、1,2−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、1,3−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、1,4−ビス（３−フェニル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、1,6−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、1,8−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）オクタン、1,10−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）デカン、
1,1−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
エタン、1,1−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、１−フェニル−1,1−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、2,2−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
2,2−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
ブタン、3,3−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）ペンタン、１−フェニル−1,1−ビス（３−フ
ェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、1,1−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン、1,1−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロペンタン、2,2−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）オクタン、ジフェニル−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）メタンなど
を挙げることができる。
これらの中でも、2,2−ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、１−フェニル−1,1−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタンが
好適である。
ドロキシフェニル）プロパン、１−フェニル−1,1−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタンが
好適である。
本発明において、イソフタル酸の反応性誘導体とはイ
ソフタル酸エステル、例えばイソフタル酸ジフェニルエ
ステル、およびイソフタル酸ハライド、例えばイソフタ
ル酸ジクロリドを意味する。
ソフタル酸エステル、例えばイソフタル酸ジフェニルエ
ステル、およびイソフタル酸ハライド、例えばイソフタ
ル酸ジクロリドを意味する。
本発明において、テレフタル酸の反応性誘導体とはテ
レフタル酸エステル、例えばテレフタル酸ジフェニルエ
ステル、およびテレフタル酸ハライド、例えばテレフタ
ル酸ジクロリドを意味する。
レフタル酸エステル、例えばテレフタル酸ジフェニルエ
ステル、およびテレフタル酸ハライド、例えばテレフタ
ル酸ジクロリドを意味する。
本発明の製造法を実施するにあたっては、溶融重合
法、溶液重合法、および界面重合法のいずれをも採用す
ることができる。
法、溶液重合法、および界面重合法のいずれをも採用す
ることができる。
溶融重合法の場合、一般式（III）の二価フェノール
の酢酸エステルとイソフタル酸および／またはテレフタ
ル酸、あるいは二価フェノールとイソフタル酸ジフェニ
ルエステルおよび／またはテレフタル酸ジフェニルエス
テルとを、溶融させ、通常120〜300℃の温度で、減圧下
に１〜10時間反応させ、本発明の新規芳香族ポリエステ
ルを得る。
の酢酸エステルとイソフタル酸および／またはテレフタ
ル酸、あるいは二価フェノールとイソフタル酸ジフェニ
ルエステルおよび／またはテレフタル酸ジフェニルエス
テルとを、溶融させ、通常120〜300℃の温度で、減圧下
に１〜10時間反応させ、本発明の新規芳香族ポリエステ
ルを得る。
溶液重合法の場合、一般式（III）の二価フェノール
とイソフタル酸ハライドおよび／またはテレフタル酸ハ
ライドとを、有機溶媒中、脱ハロゲン酸剤の存在下、５
〜100℃の温度で、１〜10時間反応させ、本発明の新規
ポリエステル樹脂を得る。使用しうる有機溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン等が挙げられる。また、使用
しうる脱ハロゲン酸剤としては、トリエチルアミン等の
アミン類が挙げられる。この方法においては、触媒は必
須ではないが、通常、第４級アンモニウム塩、スルホニ
ウム塩などが触媒として用いられる。
とイソフタル酸ハライドおよび／またはテレフタル酸ハ
ライドとを、有機溶媒中、脱ハロゲン酸剤の存在下、５
〜100℃の温度で、１〜10時間反応させ、本発明の新規
ポリエステル樹脂を得る。使用しうる有機溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン等が挙げられる。また、使用
しうる脱ハロゲン酸剤としては、トリエチルアミン等の
アミン類が挙げられる。この方法においては、触媒は必
須ではないが、通常、第４級アンモニウム塩、スルホニ
ウム塩などが触媒として用いられる。
界面重合法の場合、一般式（III）の二価フェノール
をアルカリ水溶液に溶解し、イソフタル酸ハライドおよ
び／またはテレフタル酸ハライドを水と混ざらない溶媒
に溶解し、得られた両溶液を撹拌混合して反応させ、本
発明の新規芳香族ポリエステルを得る。反応温度は通
常、２℃から使用する有機溶媒の沸点以下、好ましくは
５〜50℃であり、反応時間は通常１分から24時間、好ま
しくは0.1〜２時間である。アルカリ水溶液としては、
例えば水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶
液、水酸化リチウム水溶液を用いることができ、使用す
るビスフェノール類を完全に溶解する濃度とする。上記
の水と混ざらない溶媒としては、塩化メチレン、四塩化
炭素、クロロホルム等を用いることができる。さらに、
重縮合反応を促進するために、トリエチルアミンなどの
第３級アミン類、トリメチルベンジルアンモニウムクロ
リドなどのアンモニウム塩等の触媒を添加して反応を行
うことが望ましい。触媒の添加量はポリマー１モルに対
し0.1〜100ミリモルとすることが好ましい。イソフタル
酸ハライドおよび／またはテレフタル酸ハライドは通常
有機溶剤に１〜40W/V％、好ましくは５〜30W/V％、ビス
フェノール類はアルカリ水溶液に通常１〜30W/V％、好
ましくは５〜20W/V％の濃度になるようにして反応させ
る。また、重合度を調整するために、フェノール、ｏ−
フェニルフェノール等のフェニルフェノール、ハロゲン
化フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ノニルフェ
ノール、オクチルフェノール、ヒドロキシ安息香酸エス
テル類、ヒドロキシフェニルカルボン酸エステル類など
の分子量調節剤を添加することが望ましい。
をアルカリ水溶液に溶解し、イソフタル酸ハライドおよ
び／またはテレフタル酸ハライドを水と混ざらない溶媒
に溶解し、得られた両溶液を撹拌混合して反応させ、本
発明の新規芳香族ポリエステルを得る。反応温度は通
常、２℃から使用する有機溶媒の沸点以下、好ましくは
５〜50℃であり、反応時間は通常１分から24時間、好ま
しくは0.1〜２時間である。アルカリ水溶液としては、
例えば水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶
液、水酸化リチウム水溶液を用いることができ、使用す
るビスフェノール類を完全に溶解する濃度とする。上記
の水と混ざらない溶媒としては、塩化メチレン、四塩化
炭素、クロロホルム等を用いることができる。さらに、
重縮合反応を促進するために、トリエチルアミンなどの
第３級アミン類、トリメチルベンジルアンモニウムクロ
リドなどのアンモニウム塩等の触媒を添加して反応を行
うことが望ましい。触媒の添加量はポリマー１モルに対
し0.1〜100ミリモルとすることが好ましい。イソフタル
酸ハライドおよび／またはテレフタル酸ハライドは通常
有機溶剤に１〜40W/V％、好ましくは５〜30W/V％、ビス
フェノール類はアルカリ水溶液に通常１〜30W/V％、好
ましくは５〜20W/V％の濃度になるようにして反応させ
る。また、重合度を調整するために、フェノール、ｏ−
フェニルフェノール等のフェニルフェノール、ハロゲン
化フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ノニルフェ
ノール、オクチルフェノール、ヒドロキシ安息香酸エス
テル類、ヒドロキシフェニルカルボン酸エステル類など
の分子量調節剤を添加することが望ましい。
このようにして得られた本発明の芳香族ポリエステル
は、耐透湿性にすぐれ、流動性もよく、光弾性係数も低
く、従って成形時に発生する歪みが小さく、光学的に均
質な成形品を提供しうるものである。
は、耐透湿性にすぐれ、流動性もよく、光弾性係数も低
く、従って成形時に発生する歪みが小さく、光学的に均
質な成形品を提供しうるものである。
本発明の新規な芳香族ポリエステルは、通常ポリエス
テル樹脂の成形に用いられている方法、例えば射出成
形、押出成形、ブロー成形等により成形することがで
き、通常使用されている成形装置を適用することができ
る。
テル樹脂の成形に用いられている方法、例えば射出成
形、押出成形、ブロー成形等により成形することがで
き、通常使用されている成形装置を適用することができ
る。
前記成形法においては、本発明の芳香族ポリエステル
をそのまま成形してもよいが、必要に応じ、酸化防止
剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、着色剤
等、通常ポリエステル樹脂に添加される添加剤を配合す
ることができる。
をそのまま成形してもよいが、必要に応じ、酸化防止
剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、着色剤
等、通常ポリエステル樹脂に添加される添加剤を配合す
ることができる。
使用される酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニ
ソール、2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノー
ル、ステアリル−β−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、2,2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、2,
2′−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、4,4′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、4,4′−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス〔メチ
レン−３−（３′,5′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕メタン、1,1,3−トリス
（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニ
ル）ブタン等のフェノール系化合物、フェニル−β−ナ
フチルアミン、N,N′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジ
アミン等のアミン系化合物、トリス（ノニルフェニル）
ホスファイト、トリフェニルフォスファイト、トリオク
タデシルフォスファイト、ジフェニルイソデシルフォス
ファイト等のリン系化合物、ジラウリルチオジプロピオ
ネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステア
リルチオジプロピオネート等の硫黄化合物などが挙げら
れる。
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニ
ソール、2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノー
ル、ステアリル−β−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート、2,2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、2,
2′−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、4,4′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、4,4′−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス〔メチ
レン−３−（３′,5′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート〕メタン、1,1,3−トリス
（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニ
ル）ブタン等のフェノール系化合物、フェニル−β−ナ
フチルアミン、N,N′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジ
アミン等のアミン系化合物、トリス（ノニルフェニル）
ホスファイト、トリフェニルフォスファイト、トリオク
タデシルフォスファイト、ジフェニルイソデシルフォス
ファイト等のリン系化合物、ジラウリルチオジプロピオ
ネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステア
リルチオジプロピオネート等の硫黄化合物などが挙げら
れる。
使用される難燃剤としては、例えば、ポリブロモスチ
レン、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビ
スフェノールＡ等のハロゲン系難燃剤、リン酸アンモニ
ウム、トリクレジルホスフェート、トリエチルホスフェ
ート、酸性リン酸エステル等のリン系難燃剤、酸化ス
ズ、三酸化アンチモン等の無機系難燃剤が挙げられる。
レン、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビ
スフェノールＡ等のハロゲン系難燃剤、リン酸アンモニ
ウム、トリクレジルホスフェート、トリエチルホスフェ
ート、酸性リン酸エステル等のリン系難燃剤、酸化ス
ズ、三酸化アンチモン等の無機系難燃剤が挙げられる。
使用される紫外線吸収剤としては、例えば、フェニル
サリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート等
のサリシル酸系紫外線吸収剤、2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、２−（２′−
ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤等が挙げられる。
サリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート等
のサリシル酸系紫外線吸収剤、2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、２−（２′−
ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤等が挙げられる。
使用される帯電防止剤としては、例えば、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキル
アミド等の非イオ系帯電防止剤、アルキルスルホネー
ト、アルキルベンゼンスルホネート等のアニオン系帯電
防止剤、第４級アンモニウムクロライド、第４級アンモ
ニウムサルフェート等のカチオン系帯電防止剤、アルキ
ルベタイン型、アルキルイミダゾリン型等の両性帯電防
止剤等が挙げられる。
エチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキル
アミド等の非イオ系帯電防止剤、アルキルスルホネー
ト、アルキルベンゼンスルホネート等のアニオン系帯電
防止剤、第４級アンモニウムクロライド、第４級アンモ
ニウムサルフェート等のカチオン系帯電防止剤、アルキ
ルベタイン型、アルキルイミダゾリン型等の両性帯電防
止剤等が挙げられる。
使用される滑剤としては、脂肪族系炭化水素、高級脂
肪族系アルコール、脂肪酸アマイド系、金属石鹸系、脂
肪酸エステル系などの滑剤が挙げられる。
肪族系アルコール、脂肪酸アマイド系、金属石鹸系、脂
肪酸エステル系などの滑剤が挙げられる。
使用される着色剤としては、プラスチックの着色に使
用される通常の着色剤を使用することができる。
用される通常の着色剤を使用することができる。
さらに、本発明の芳香族ポリエステルには、成形に際
し、さらに他の成分、例えば着色や透明性の劣化を防止
するための亜リン酸エステル類、メルトインデックス値
を増大させるための可塑剤等を添加することができる。
し、さらに他の成分、例えば着色や透明性の劣化を防止
するための亜リン酸エステル類、メルトインデックス値
を増大させるための可塑剤等を添加することができる。
この際使用される亜リン酸エステル類としては、例え
ばトリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシ
ル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリスス
テアリルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リクレジルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホ
スファイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイ
ト、デシルジフェニルホスファイト、フェニル−ジ−２
−エチルヘキシルホスファイト、フェニルジデシルホス
ファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ジフェニルペ
ンタエリスリチルジホスファイトなどが挙げられる。
ばトリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシ
ル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリスス
テアリルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ト
リクレジルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホ
スファイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイ
ト、デシルジフェニルホスファイト、フェニル−ジ−２
−エチルヘキシルホスファイト、フェニルジデシルホス
ファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ジフェニルペ
ンタエリスリチルジホスファイトなどが挙げられる。
また、可塑剤としては、例えば２−エチルヘキシルフ
タレート、ｎ−ブチルフタレート、イソデシルフタレー
ト、トリデシルフタレート、ヘプチルフタレート、ノニ
ルフタレート等のアルキルフタレート類、２−エチルヘ
キシルアジペート、２−エチルヘキシルセバケート等の
二塩基酸のアルキルエステル類、リン酸トリブチル、リ
ン酸トリオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリフ
ェニル等のリン酸アルキルエステル類、エポキシ化オレ
イン酸オクチル、エポキシ化オレイン酸ブチル等のエポ
キシ化脂肪酸エステル類、あるいはポリエステル形可塑
剤、塩素化脂肪酸エステル類などが挙げられる。
タレート、ｎ−ブチルフタレート、イソデシルフタレー
ト、トリデシルフタレート、ヘプチルフタレート、ノニ
ルフタレート等のアルキルフタレート類、２−エチルヘ
キシルアジペート、２−エチルヘキシルセバケート等の
二塩基酸のアルキルエステル類、リン酸トリブチル、リ
ン酸トリオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリフ
ェニル等のリン酸アルキルエステル類、エポキシ化オレ
イン酸オクチル、エポキシ化オレイン酸ブチル等のエポ
キシ化脂肪酸エステル類、あるいはポリエステル形可塑
剤、塩素化脂肪酸エステル類などが挙げられる。
また、本発明の芳香族ポリエステルの特性を損なわな
い範囲で、他の樹脂を配合して成形してもよい。
い範囲で、他の樹脂を配合して成形してもよい。
本発明の芳香族ポリエステルは新規なものであって、
成形性および光学的性質に優れており、スチールカメ
ラ、ビデオカメラ、望遠鏡、眼鏡、コンタクトレンズ、
プリズム類、オプティカルファイバー、ビデオディス
ク、オーディオディスク、光メモリーディスクなどの光
学機器用素材や透明電極、導電性フィルムなど各種産業
用資材の素材として好適に使用できる。
成形性および光学的性質に優れており、スチールカメ
ラ、ビデオカメラ、望遠鏡、眼鏡、コンタクトレンズ、
プリズム類、オプティカルファイバー、ビデオディス
ク、オーディオディスク、光メモリーディスクなどの光
学機器用素材や透明電極、導電性フィルムなど各種産業
用資材の素材として好適に使用できる。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
実施例１ 反応器中で38.0gの2,2−ビス（３−フェニル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパンおよび50mgのｐ−ｔ−ブチ
ルフェノールを1M−KOH400mlに溶解させた。液温を20℃
に調節し、触媒としてトリエチルアミン0.7mlを加え、
激しく撹拌した。
ドロキシフェニル）プロパンおよび50mgのｐ−ｔ−ブチ
ルフェノールを1M−KOH400mlに溶解させた。液温を20℃
に調節し、触媒としてトリエチルアミン0.7mlを加え、
激しく撹拌した。
一方、イソフタル酸クロライド20.3gを塩化メチレン1
50mlに溶解させ、先に調製したアルカリ水溶液中に速や
かに添加した。添加後も撹拌を続け、30分間反応させ
た。反応終了後、撹拌を停止し、塩化メチレン400mlを
加えて静置分離した。有機相を希塩酸にて中和洗浄し、
さらに水洗を４回繰り返した。得られた重合体の塩化メ
チレン溶液を約５のメタノールに注入してポリマーを
沈澱、単離した。得られたポリマーの還元粘度（ηsp/
c:塩化メチレンを溶媒として0.5g/dl濃度溶液の20℃で
の還元粘度、以下同様）は0.75dl/g、ガラス転移温度は
155℃であった。
50mlに溶解させ、先に調製したアルカリ水溶液中に速や
かに添加した。添加後も撹拌を続け、30分間反応させ
た。反応終了後、撹拌を停止し、塩化メチレン400mlを
加えて静置分離した。有機相を希塩酸にて中和洗浄し、
さらに水洗を４回繰り返した。得られた重合体の塩化メ
チレン溶液を約５のメタノールに注入してポリマーを
沈澱、単離した。得られたポリマーの還元粘度（ηsp/
c:塩化メチレンを溶媒として0.5g/dl濃度溶液の20℃で
の還元粘度、以下同様）は0.75dl/g、ガラス転移温度は
155℃であった。
また、得られたポリマーの赤外線吸収スペクトル分析
の結果、1780cm-1の位置にカルボニル基による吸収、12
50cm-1の位置にエーテル結合による吸収が確認され、こ
れらのことから、下記の繰り返し単位を有するものと認
められた。
の結果、1780cm-1の位置にカルボニル基による吸収、12
50cm-1の位置にエーテル結合による吸収が確認され、こ
れらのことから、下記の繰り返し単位を有するものと認
められた。
このポリエステル樹脂の光弾性係数および透湿度は、
第１表に示すとおりであった。
第１表に示すとおりであった。
実施例２ イソフタル酸クロライド20.3gの代わりに、テレフタ
ル酸クロライド20.3gを用いた以外は実施例１と同様の
操作を行った。
ル酸クロライド20.3gを用いた以外は実施例１と同様の
操作を行った。
ηsp/cは0.65dl/g、ガラス転移温度は162℃であっ
た。
た。
得られたポリマーの赤外線吸収スペクトル分析の結果
は、実施例１と同様であり、下記の繰り返し単位を有す
るものと認められた。
は、実施例１と同様であり、下記の繰り返し単位を有す
るものと認められた。
このポリエステル樹脂の光弾性係数および透湿度は、
第１表に示すとおりであった。
第１表に示すとおりであった。
実施例３ 反応器中で、500mlの水に水酸化カリウム14.8gを溶解
し、続いてこの水溶液中に2,2−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン38.0g、トリメチル
ベンジルアンモニウムクロリド0.17g、およびＯ−フェ
ニルフェノール0.2gを溶解し、液温を10℃に調整した。
一方、テレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロリド各
10.1gを塩化メチレン308gに溶解し、得られた溶液を10
℃に調節した。この酸クロリドの塩化メチレン溶液を激
しく撹拌しつつ、先に調整した2,2−ビス（３−フェニ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンのアルカリ水溶
液に速やかに添加した。添加後も撹拌を続け、50分間反
応させた。反応終了後、撹拌を止め、静置分離して有機
相を希塩酸で中和洗浄した後、水洗を５回繰り返した。
得られた全芳香族ポリエステル共重合体の塩化メチレン
溶液を３のメタノールに注入してポリマーを沈澱さ
せ、単離した。得られたポリマーのフレークを80℃で24
時間乾燥した。得られたポリマーの還元粘度は0.50dl/g
であり、ガラス転移温度は178℃であった。また、得ら
れたポリマーの赤外線吸収スペクトル分析の結果は、実
施例１と同様であり、下記の繰り返し単位からなるもの
と認められた。
し、続いてこの水溶液中に2,2−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン38.0g、トリメチル
ベンジルアンモニウムクロリド0.17g、およびＯ−フェ
ニルフェノール0.2gを溶解し、液温を10℃に調整した。
一方、テレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロリド各
10.1gを塩化メチレン308gに溶解し、得られた溶液を10
℃に調節した。この酸クロリドの塩化メチレン溶液を激
しく撹拌しつつ、先に調整した2,2−ビス（３−フェニ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンのアルカリ水溶
液に速やかに添加した。添加後も撹拌を続け、50分間反
応させた。反応終了後、撹拌を止め、静置分離して有機
相を希塩酸で中和洗浄した後、水洗を５回繰り返した。
得られた全芳香族ポリエステル共重合体の塩化メチレン
溶液を３のメタノールに注入してポリマーを沈澱さ
せ、単離した。得られたポリマーのフレークを80℃で24
時間乾燥した。得られたポリマーの還元粘度は0.50dl/g
であり、ガラス転移温度は178℃であった。また、得ら
れたポリマーの赤外線吸収スペクトル分析の結果は、実
施例１と同様であり、下記の繰り返し単位からなるもの
と認められた。
また、このポリエステル樹脂の光弾性係数および透湿
度は、第１表に示すとおりであった。
度は、第１表に示すとおりであった。
実施例４ 2,2−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンの代わりに、１−フェニル−1,1−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタンを用
いた以外は実施例３と同様の操作を行った。
ル）プロパンの代わりに、１−フェニル−1,1−ビス
（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタンを用
いた以外は実施例３と同様の操作を行った。
得られたポリマーの還元粘度は、0.55dl/gであり、ガ
ラス転移温度は185℃であった。また、赤外線吸収スペ
クトル分析の結果は、実施例１と同様であり、下記の繰
り返し単位からなるものと認められた。
ラス転移温度は185℃であった。また、赤外線吸収スペ
クトル分析の結果は、実施例１と同様であり、下記の繰
り返し単位からなるものと認められた。
このポリエステル樹脂の光弾性係数および透湿度は、
第１表に示すとおりであった。
第１表に示すとおりであった。
比較例１ 2,2−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンの代わりに、2,2−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンを用いた以外は実施例３と同様の操
作を行った。
ル）プロパンの代わりに、2,2−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンを用いた以外は実施例３と同様の操
作を行った。
また、得られたポリエステル樹脂の還元粘度〔ηsp/
c〕は0.57dl/gであり、ガラス転移温度は188℃であっ
た。
c〕は0.57dl/gであり、ガラス転移温度は188℃であっ
た。
このポリエステルは、下記の繰り返し単位からなるも
のであることが認められた。
のであることが認められた。
また、このポリエステルの光弾性係数および透湿度
は、第１表に示すとおりであった。
は、第１表に示すとおりであった。
〔発明の効果〕 本発明によれば、良好な耐熱静、透明性、および機械
的強度ならびに高い屈折率を有するのみならず、耐透湿
性にすぐれ、流動性もよく、光弾性係数も低い新規な芳
香族ポリエステルを得ることができる。本発明の芳香族
ポリエステルは成形時の残留応力による歪みが小さく、
光学的に均質な成形品を提供しうるものであり、その工
業的価値は大である。
的強度ならびに高い屈折率を有するのみならず、耐透湿
性にすぐれ、流動性もよく、光弾性係数も低い新規な芳
香族ポリエステルを得ることができる。本発明の芳香族
ポリエステルは成形時の残留応力による歪みが小さく、
光学的に均質な成形品を提供しうるものであり、その工
業的価値は大である。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 （式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−（−CH2）ｍ−、 であり、 ただしR1およびR2はそれぞれ水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基、またはフェニル基であり、ｍは２〜10の整
数であり、ｎは４〜８の整数である。） で表される繰り返し単位を有し、かつ塩化メチレンを溶
媒とする0.5g/dl濃度の溶液の20℃における還元粘度が
0.2dl/g以上であることを特徴とする芳香族ポリエステ
ル。 - 【請求項２】一般式 （式中、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−（−CH2）ｍ−、 であり、 ただしR1およびR2はそれぞれ水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基、またはフェニル基であり、ｍは２〜10の整
数であり、ｎは４〜８の整数である。） で表される二価フェノールと、テレフタル酸および／ま
たはイソフタル酸、あるいはテレフタル酸の反応性誘導
体および／またはイソフタル酸の反応性誘導体とを反応
させることを特徴とする一般式 （式中、Ｘは上記と同じ意味を有する。） で表される繰り返し単位を有し、かつ塩化メチレンを溶
媒とする0.5g/dl濃度の溶液の20℃における還元粘度が
0.2dl/g以上である芳香族ポリエステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63232719A JP2551982B2 (ja) | 1987-10-16 | 1988-09-19 | 芳香族ポリエステルとその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25966287 | 1987-10-16 | ||
| JP62-259662 | 1987-10-16 | ||
| JP63232719A JP2551982B2 (ja) | 1987-10-16 | 1988-09-19 | 芳香族ポリエステルとその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02634A JPH02634A (ja) | 1990-01-05 |
| JP2551982B2 true JP2551982B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=26530622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63232719A Expired - Lifetime JP2551982B2 (ja) | 1987-10-16 | 1988-09-19 | 芳香族ポリエステルとその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2551982B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2385859T3 (es) | 2009-08-17 | 2012-08-01 | Tetra Laval Holdings & Finance Sa | Material de envasado de lámina de múltiples capas para producir envases de productos de alimentación vertibles |
-
1988
- 1988-09-19 JP JP63232719A patent/JP2551982B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02634A (ja) | 1990-01-05 |
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