JP2542971B2 - 浮上型磁気ヘッド - Google Patents
浮上型磁気ヘッドInfo
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- JP2542971B2 JP2542971B2 JP2412583A JP41258390A JP2542971B2 JP 2542971 B2 JP2542971 B2 JP 2542971B2 JP 2412583 A JP2412583 A JP 2412583A JP 41258390 A JP41258390 A JP 41258390A JP 2542971 B2 JP2542971 B2 JP 2542971B2
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置に使
用される浮上型磁気ヘッドの技術に関するものであり、
特に、ヘッドコア（ヘッドチップ）として薄膜積層コア
を使用したコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドに関
するものである。
用される浮上型磁気ヘッドの技術に関するものであり、
特に、ヘッドコア（ヘッドチップ）として薄膜積層コア
を使用したコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６及び図７には、一般に磁気ディスク
装置に使用されるコンポジット型と称される浮上型磁気
ヘッドが図示される。斯る浮上型磁気ヘッドは、スライ
ダ２とヘッドコア（ヘッドチップ）１とを備え、板バネ
支持機構３を介して装置本体のアクチュエ−タに接続さ
れている。又、ヘッドコア１はフェライトコアチップと
されるか、又は、フェライトのギャップ部にＦｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金（センダスト）或はアモルファス磁性体から
なる磁性薄膜を形成したＭＩＧ型コアチップとされ、ス
ライダ２の空気軸受け面（Air Bearing Surface 、以後
単に「ＡＢＳ面」という。）４部分に形成された溝状凹
所５内にガラスモールド（ガラス溶着）にて取付けられ
ている。
装置に使用されるコンポジット型と称される浮上型磁気
ヘッドが図示される。斯る浮上型磁気ヘッドは、スライ
ダ２とヘッドコア（ヘッドチップ）１とを備え、板バネ
支持機構３を介して装置本体のアクチュエ−タに接続さ
れている。又、ヘッドコア１はフェライトコアチップと
されるか、又は、フェライトのギャップ部にＦｅ−Ｓｉ
−Ａｌ合金（センダスト）或はアモルファス磁性体から
なる磁性薄膜を形成したＭＩＧ型コアチップとされ、ス
ライダ２の空気軸受け面（Air Bearing Surface 、以後
単に「ＡＢＳ面」という。）４部分に形成された溝状凹
所５内にガラスモールド（ガラス溶着）にて取付けられ
ている。
【０００３】通常、スライダ２は非磁性のセラミックス
で形成されており、従って、ヘッドコア１をスライダ２
に溶着しているガラスモールド部分、即ちモールドガラ
スＭ（図８）は、ヘッドコア１及びスライダ２よりも軟
らかく、ＡＢＳ面４の最終仕上においても他の部分に比
べて凹みを生じ易く、その段差を１００Å以下にするこ
とは極めて困難であることが知られている。
で形成されており、従って、ヘッドコア１をスライダ２
に溶着しているガラスモールド部分、即ちモールドガラ
スＭ（図８）は、ヘッドコア１及びスライダ２よりも軟
らかく、ＡＢＳ面４の最終仕上においても他の部分に比
べて凹みを生じ易く、その段差を１００Å以下にするこ
とは極めて困難であることが知られている。
【０００４】このような段差には、ＣＳＳ（コンタクト
・スタート・ストップ）によりディスク媒体からの付着
物が溜り易く、そのことによりディスク媒体との摩擦力
が上昇して耐久性に問題を生じる。摩擦力は面積に比例
するので、ＡＢＳ面４に露出するモールドガラスＭの面
積を低減することはＣＳＳ特性を改善するのに極めて有
効な手段である。
・スタート・ストップ）によりディスク媒体からの付着
物が溜り易く、そのことによりディスク媒体との摩擦力
が上昇して耐久性に問題を生じる。摩擦力は面積に比例
するので、ＡＢＳ面４に露出するモールドガラスＭの面
積を低減することはＣＳＳ特性を改善するのに極めて有
効な手段である。
【０００５】しかしながら、フェライト及びＭＩＧ型コ
アチップの場合には、トラック幅がコアのＡＢＳ露出部
の幅Ｗ（図７）となるために、機械加工によりヘッドコ
ア先端部のみを例えば１０μｍにすることが必要であ
り、一方、ヘッドコア厚さＴはハンドリングの強度上１
００μｍ以上が必要であり、従って、図８に図示される
ように、ヘッドコア厚さＴとヘッドコア先端部の幅Ｗと
の差ｗである９０μｍ以上がモールドガラスＭの露出部
とせざるを得ないという極めて重大な欠点がある。
アチップの場合には、トラック幅がコアのＡＢＳ露出部
の幅Ｗ（図７）となるために、機械加工によりヘッドコ
ア先端部のみを例えば１０μｍにすることが必要であ
り、一方、ヘッドコア厚さＴはハンドリングの強度上１
００μｍ以上が必要であり、従って、図８に図示される
ように、ヘッドコア厚さＴとヘッドコア先端部の幅Ｗと
の差ｗである９０μｍ以上がモールドガラスＭの露出部
とせざるを得ないという極めて重大な欠点がある。
【０００６】更に、従来のフェライトをヘッドコア全体
又は主要部分とするコンポジット型の浮上型磁気ヘッド
においては、ヘッドコアの全体が磁気コアとして働くた
めに、より高周波に対応しようとすればその全厚Ｔをハ
ンドリングの強度上必要な最小の厚みである１００μｍ
程度に薄くして巻数当たりのインダクタンスを小さくす
る以外に方法がなく、従って、ヘッドコアの厚みを増し
てＡＢＳ面にモールドガラスが露出しない構造とするこ
とも困難であるという制約もある。
又は主要部分とするコンポジット型の浮上型磁気ヘッド
においては、ヘッドコアの全体が磁気コアとして働くた
めに、より高周波に対応しようとすればその全厚Ｔをハ
ンドリングの強度上必要な最小の厚みである１００μｍ
程度に薄くして巻数当たりのインダクタンスを小さくす
る以外に方法がなく、従って、ヘッドコアの厚みを増し
てＡＢＳ面にモールドガラスが露出しない構造とするこ
とも困難であるという制約もある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記問
題を解決するべく、近年、ＶＴＲに用いられ、高密度記
録が達成でき、且つ狭トラック化が可能な薄膜積層コ
ア、即ち、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダスト）、アモ
ルファス磁性体、窒化鉄などからなる磁性薄膜を基板上
に積層することによって作製された薄膜積層コアをヘッ
ドコアとして用いた薄膜積層型コンポジットタイプの浮
上型磁気ヘッドに注目した。薄膜積層型コンポジットタ
イプの浮上型磁気ヘッドは、本出願人の出願に係る特願
平２−７６３６５号及び特願平２−２０４２０２号に記
載され、又本願添付の図９及び図１０に図示するよう
に、例えば単体のセラミックスを切削及び研削すること
により形成されたセラミックスライダ２の所定溝状凹所
５にヘッドコア１を組込み、ガラスモールドにより固着
して作製されている。
題を解決するべく、近年、ＶＴＲに用いられ、高密度記
録が達成でき、且つ狭トラック化が可能な薄膜積層コ
ア、即ち、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金（センダスト）、アモ
ルファス磁性体、窒化鉄などからなる磁性薄膜を基板上
に積層することによって作製された薄膜積層コアをヘッ
ドコアとして用いた薄膜積層型コンポジットタイプの浮
上型磁気ヘッドに注目した。薄膜積層型コンポジットタ
イプの浮上型磁気ヘッドは、本出願人の出願に係る特願
平２−７６３６５号及び特願平２−２０４２０２号に記
載され、又本願添付の図９及び図１０に図示するよう
に、例えば単体のセラミックスを切削及び研削すること
により形成されたセラミックスライダ２の所定溝状凹所
５にヘッドコア１を組込み、ガラスモールドにより固着
して作製されている。
【０００８】又、このような薄膜積層型コンポジットタ
イプの浮上型磁気ヘッドによれば、図９に図示されるよ
うに、トラック幅を磁性合金膜１４の厚みで規定し、そ
の両側をセラミックス１１、１６で補強することによ
り、スライダ２にヘッドコア１を接合する際のモールド
ガラスＭａ、Ｍｂ、Ｍｃの層厚みを大幅に減少させるこ
とができ、２０μｍ以下、更には１０μｍ以下にするこ
とにより、ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積を大
巾に低減し、ＣＳＳ特性を著しく改善することができ、
全体として信頼性のあるコンポジットヘッドを実現でき
ることが分かる。
イプの浮上型磁気ヘッドによれば、図９に図示されるよ
うに、トラック幅を磁性合金膜１４の厚みで規定し、そ
の両側をセラミックス１１、１６で補強することによ
り、スライダ２にヘッドコア１を接合する際のモールド
ガラスＭａ、Ｍｂ、Ｍｃの層厚みを大幅に減少させるこ
とができ、２０μｍ以下、更には１０μｍ以下にするこ
とにより、ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積を大
巾に低減し、ＣＳＳ特性を著しく改善することができ、
全体として信頼性のあるコンポジットヘッドを実現でき
ることが分かる。
【０００９】しかしながら、このような薄膜積層型コン
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドにおいても、更に、
ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積の低減、即ち、
ＣＳＳ特性の向上が望まれている。
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドにおいても、更に、
ＡＢＳ面へのモールドガラスの露出面積の低減、即ち、
ＣＳＳ特性の向上が望まれている。
【００１０】従って、本発明の目的は、スライダのＡＢ
Ｓ面におけるモールドガラスの露出面積を減少させ、Ｃ
ＳＳ特性の向上を図ることのできる、ヘッドコアとして
薄膜積層コアを使用したコンポジットタイプの浮上型磁
気ヘッドを提供することである。
Ｓ面におけるモールドガラスの露出面積を減少させ、Ｃ
ＳＳ特性の向上を図ることのできる、ヘッドコアとして
薄膜積層コアを使用したコンポジットタイプの浮上型磁
気ヘッドを提供することである。
【００１１】本発明の他の目的は、磁気ヘッドの特性に
重要な影響を及ぼすギャップ深さを直接観察することが
できる、ヘッドコアとして薄膜積層コアを使用したコン
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドを提供することであ
る。
重要な影響を及ぼすギャップ深さを直接観察することが
できる、ヘッドコアとして薄膜積層コアを使用したコン
ポジットタイプの浮上型磁気ヘッドを提供することであ
る。
【００１２】本発明の更に他の目的は、トラック位置に
合わせて適当に磁性薄膜を位置せしめることが可能であ
り、又、特に記録特性上有利なディスク外周側を利用で
きるようにＡＢＳ面の外側エッジ溝部の極く近傍にトラ
ック位置を設定することのできる、ヘッドコアとして薄
膜積層コアを使用したコンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドを提供することである。
合わせて適当に磁性薄膜を位置せしめることが可能であ
り、又、特に記録特性上有利なディスク外周側を利用で
きるようにＡＢＳ面の外側エッジ溝部の極く近傍にトラ
ック位置を設定することのできる、ヘッドコアとして薄
膜積層コアを使用したコンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドを提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記諸目的は本発明に係
る浮上型磁気ヘッドにて達成される。要約すれば、本発
明は、基板上に磁性薄膜を積層して形成された一対のコ
ア半体ブロックにて構成されたヘッドコアを、スライダ
の一つの端面に形成された凹所にガラス層を介して一体
に接合して構成される浮上型磁気ヘッドにおいて、前記
ヘッドコアの各側面と前記スライダの凹所とを接合する
ガラス層は、前記スライダのＡＢＳ面の両側部に形成さ
れたエッジ溝部及び中央溝部にそれぞれ位置し、そして
前記ヘッドコアの磁性薄膜は前記スライダのＡＢＳ面に
一致して位置するようにしたことを特徴とする浮上型磁
気ヘッドである。
る浮上型磁気ヘッドにて達成される。要約すれば、本発
明は、基板上に磁性薄膜を積層して形成された一対のコ
ア半体ブロックにて構成されたヘッドコアを、スライダ
の一つの端面に形成された凹所にガラス層を介して一体
に接合して構成される浮上型磁気ヘッドにおいて、前記
ヘッドコアの各側面と前記スライダの凹所とを接合する
ガラス層は、前記スライダのＡＢＳ面の両側部に形成さ
れたエッジ溝部及び中央溝部にそれぞれ位置し、そして
前記ヘッドコアの磁性薄膜は前記スライダのＡＢＳ面に
一致して位置するようにしたことを特徴とする浮上型磁
気ヘッドである。
【００１４】
【実施例】次に、本発明に係る浮上型磁気ヘッドを図面
に則して更に詳しく説明する。
に則して更に詳しく説明する。
【００１５】図１〜図３を参照すると、本発明に従って
構成されるコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの一
実施例が図示される。図１には、スライダ２と、該スラ
イダ２に一体に接合されたヘッドコア（ヘッドチップ）
１とが図示されるが、本実施例の浮上型磁気ヘッドも
又、従来と同様に、このようなヘッドコア付きスライダ
２は板バネ支持機構を介して磁気ディスク装置本体のア
クチュエ−タに接続される。
構成されるコンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドの一
実施例が図示される。図１には、スライダ２と、該スラ
イダ２に一体に接合されたヘッドコア（ヘッドチップ）
１とが図示されるが、本実施例の浮上型磁気ヘッドも
又、従来と同様に、このようなヘッドコア付きスライダ
２は板バネ支持機構を介して磁気ディスク装置本体のア
クチュエ−タに接続される。
【００１６】更に説明すると、浮上型磁気ヘッドは、例
えば非磁性の基板上に磁性薄膜を積層して形成された一
対のコア半体ブロック１８、１９にて構成されたヘッド
コア１を、スライダ２の一つの端面に形成された凹所５
にガラス層Ｍ（Ｍａ、Ｍｂ、Ｍｃ）を介して一体に接合
され、ここで、ヘッドコア１の各側面１ａ、１ｂとスラ
イダ２の凹所とを接合するガラス層Ｍａ、Ｍｂは、スラ
イダ２のＡＢＳ面４の両側部に形成されたエッジ溝部１
００及び中央溝部１０１に位置しており、従って、ヘッ
ドコア１の後端面１ｃとスライダ２の凹所とを接合する
ガラス層Ｍｃのみがスライダ２のＡＢＳ面４に位置して
いる。又、ヘッドコア１の磁性薄膜１４はスライダ２の
エッジ溝部１００に近接してスライダ２のＡＢＳ面４に
一致して位置するように構成される。
えば非磁性の基板上に磁性薄膜を積層して形成された一
対のコア半体ブロック１８、１９にて構成されたヘッド
コア１を、スライダ２の一つの端面に形成された凹所５
にガラス層Ｍ（Ｍａ、Ｍｂ、Ｍｃ）を介して一体に接合
され、ここで、ヘッドコア１の各側面１ａ、１ｂとスラ
イダ２の凹所とを接合するガラス層Ｍａ、Ｍｂは、スラ
イダ２のＡＢＳ面４の両側部に形成されたエッジ溝部１
００及び中央溝部１０１に位置しており、従って、ヘッ
ドコア１の後端面１ｃとスライダ２の凹所とを接合する
ガラス層Ｍｃのみがスライダ２のＡＢＳ面４に位置して
いる。又、ヘッドコア１の磁性薄膜１４はスライダ２の
エッジ溝部１００に近接してスライダ２のＡＢＳ面４に
一致して位置するように構成される。
【００１７】次に、図５を参照して、ヘッドコア１とし
て使用される、基板上に磁性薄膜を積層して構成される
薄膜積層ヘッドコア１の製造方法の一実施例を説明す
る。磁性薄膜１４としてはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性
体、アモルファス磁性体、窒化鉄などが使用されるが、
本実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体が使用される
ものとする。
て使用される、基板上に磁性薄膜を積層して構成される
薄膜積層ヘッドコア１の製造方法の一実施例を説明す
る。磁性薄膜１４としてはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性
体、アモルファス磁性体、窒化鉄などが使用されるが、
本実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体が使用される
ものとする。
【００１８】先ず、本実施例では、セラミックスの如き
非磁性基板１１が準備され（図５（Ａ））、該基板１１
上に、スパッタリング法によりＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜
１２が膜厚１〜２０μｍにて成膜される。次いで、該Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２上に非磁性絶縁膜１３が膜厚
０．０３〜０．５μｍにてスパッタリング法にて形成さ
れる（図５（Ｂ））。非磁性絶縁膜１３としてはＳｉＯ
2 、Ａｌ2 Ｏ3 等が用いられる。
非磁性基板１１が準備され（図５（Ａ））、該基板１１
上に、スパッタリング法によりＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜
１２が膜厚１〜２０μｍにて成膜される。次いで、該Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金膜１２上に非磁性絶縁膜１３が膜厚
０．０３〜０．５μｍにてスパッタリング法にて形成さ
れる（図５（Ｂ））。非磁性絶縁膜１３としてはＳｉＯ
2 、Ａｌ2 Ｏ3 等が用いられる。
【００１９】上記工程を繰返して、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合
金膜１２と非磁性絶縁膜１３が必要回数積層され、図５
（Ｃ）に図示するように、合金磁性薄膜１４が基板１１
上に成膜される。
金膜１２と非磁性絶縁膜１３が必要回数積層され、図５
（Ｃ）に図示するように、合金磁性薄膜１４が基板１１
上に成膜される。
【００２０】次いで、合金磁性薄膜１４上に積層ガラス
１５が膜厚０．０５〜１．０μｍにてスパッタリング法
などで形成され（図５（Ｄ））、更に該積層ガラス１５
上に、先の基板１１と同じ材料にて作製された他方の非
磁性基板１６が接合されて磁気コアブロック１７が作製
される（図５（Ｅ））。積層ガラス１５としてはＳｉＯ
2 −Ａｌ2 Ｏ3 −Ｎａ2 Ｏ系のガラス或はＳｉＯ2 −Ｂ
2 Ｏ3 −Ｎａ2 Ｏ系のガラスが好適である。
１５が膜厚０．０５〜１．０μｍにてスパッタリング法
などで形成され（図５（Ｄ））、更に該積層ガラス１５
上に、先の基板１１と同じ材料にて作製された他方の非
磁性基板１６が接合されて磁気コアブロック１７が作製
される（図５（Ｅ））。積層ガラス１５としてはＳｉＯ
2 −Ａｌ2 Ｏ3 −Ｎａ2 Ｏ系のガラス或はＳｉＯ2 −Ｂ
2 Ｏ3 −Ｎａ2 Ｏ系のガラスが好適である。
【００２１】このようにして作製された磁気コアブロッ
ク１７は、図５（Ｆ）に図示されるように、積層した厚
さ方向に切断し、一対のコア半体ブロツク１８、１９が
形成される。
ク１７は、図５（Ｆ）に図示されるように、積層した厚
さ方向に切断し、一対のコア半体ブロツク１８、１９が
形成される。
【００２２】次いで、図３に最も良く図示されるよう
に、従来法に従って、少なくとも片方のコア半体ブロッ
ク、本実施例ではコア半体ブロック１８に巻線溝２０を
形成した後、両コア半体ブロツク１８、１９の突合せ面
１８ａ、１９ａを研摩し、該面にＳｉＯ2 等の非磁性の
ギャップスペーサー２１及び接合ガラスｍをスパッタリ
ング法などの手段にて形成し（図５（Ｆ））、その後、
両コア半体ブロツク１８、１９は前記接合面１８ａ、１
９ａ部において接合ガラスｍにて接着され、薄膜積層コ
アからなるヘッドコア（ヘッドチップ）１が得られる。
更に、両コア半体ブロック１８、１９のアペックス部に
後の機械加工における欠けを防止する目的でアペックス
ガラスｍa が充填される。
に、従来法に従って、少なくとも片方のコア半体ブロッ
ク、本実施例ではコア半体ブロック１８に巻線溝２０を
形成した後、両コア半体ブロツク１８、１９の突合せ面
１８ａ、１９ａを研摩し、該面にＳｉＯ2 等の非磁性の
ギャップスペーサー２１及び接合ガラスｍをスパッタリ
ング法などの手段にて形成し（図５（Ｆ））、その後、
両コア半体ブロツク１８、１９は前記接合面１８ａ、１
９ａ部において接合ガラスｍにて接着され、薄膜積層コ
アからなるヘッドコア（ヘッドチップ）１が得られる。
更に、両コア半体ブロック１８、１９のアペックス部に
後の機械加工における欠けを防止する目的でアペックス
ガラスｍa が充填される。
【００２３】一方、例えばセラミックスのような非磁性
材料にて形成される、断面が概略矩形状とされるスライ
ダ２は、通常の方法に従って、図３に図示されるよう
に、両端縁部のエッジ溝部１００及び中央部の溝部１０
１の加工を行ない、ＡＢＳ面４が形成される。通常、両
端縁部のエッジ溝部１００は、幅が１００μｍ、ＡＢＳ
面４からの深さが１５０μｍ以上とされ、又、ＡＢＳ面
４の幅４W は３００〜７００μｍとされる。又、ＡＢＳ
面４の前後は斜めに切除され傾斜面１０２、１０３の流
入端部、流出端部とされる。
材料にて形成される、断面が概略矩形状とされるスライ
ダ２は、通常の方法に従って、図３に図示されるよう
に、両端縁部のエッジ溝部１００及び中央部の溝部１０
１の加工を行ない、ＡＢＳ面４が形成される。通常、両
端縁部のエッジ溝部１００は、幅が１００μｍ、ＡＢＳ
面４からの深さが１５０μｍ以上とされ、又、ＡＢＳ面
４の幅４W は３００〜７００μｍとされる。又、ＡＢＳ
面４の前後は斜めに切除され傾斜面１０２、１０３の流
入端部、流出端部とされる。
【００２４】本発明に従えば、スライダ２には更に、ヘ
ッドコア１が接合される側のスライダ端面に、横方向に
貫通して横溝１０５が形成され、又、一方のＡＢＳ面４
及びこのＡＢＳ面４の両側面に位置したエッジ溝部１０
０及び中央溝部１０１にわたって、ヘッドコア１を挿入
するための溝状凹所５が形成される。すなわち、本実施
例にて、凹所５の横幅５W は、ＡＢＳ面４の幅４W より
大きくされる。今、ＡＢＳ面４の幅４W が５００μｍで
あるとすると、凹所５の横幅５W は６５０μｍとされ、
このとき、ヘッドコア１の厚さ１W は６００μｍとされ
るであろう。前記横溝１０５は、図１を参照すると理解
されるように、ヘッドコア１に巻線を施すのを容易とす
るためのものである。従って、もし必要であれば、図１
に一点鎖線にて示すように、ヘッドコア１にも巻線のた
めの溝１ｄを基板１６に形成し、巻線部のヘッドコア厚
さを減らし、ヘッド効率を向上させることができる。勿
論、ヘッドコア１の溝１ｄは、図示されるようなコの字
形状に限定されるものではなく、任意形状に加工するこ
とができる。
ッドコア１が接合される側のスライダ端面に、横方向に
貫通して横溝１０５が形成され、又、一方のＡＢＳ面４
及びこのＡＢＳ面４の両側面に位置したエッジ溝部１０
０及び中央溝部１０１にわたって、ヘッドコア１を挿入
するための溝状凹所５が形成される。すなわち、本実施
例にて、凹所５の横幅５W は、ＡＢＳ面４の幅４W より
大きくされる。今、ＡＢＳ面４の幅４W が５００μｍで
あるとすると、凹所５の横幅５W は６５０μｍとされ、
このとき、ヘッドコア１の厚さ１W は６００μｍとされ
るであろう。前記横溝１０５は、図１を参照すると理解
されるように、ヘッドコア１に巻線を施すのを容易とす
るためのものである。従って、もし必要であれば、図１
に一点鎖線にて示すように、ヘッドコア１にも巻線のた
めの溝１ｄを基板１６に形成し、巻線部のヘッドコア厚
さを減らし、ヘッド効率を向上させることができる。勿
論、ヘッドコア１の溝１ｄは、図示されるようなコの字
形状に限定されるものではなく、任意形状に加工するこ
とができる。
【００２５】次いで、スライダ２の凹所５にヘッドコア
１が装入され、モールドガラスＭにて接合される。図２
に、ヘッドコア１とスライダ２との接合態様が拡大して
図示される。図２に図示されるように、本発明によれ
ば、ヘッドコア１の両側面１ａ、１ｂ及び後端面１ｃ
が、凹所５の壁面と適合し、それぞれモールドガラスＭ
ａ、Ｍｂ及びＭｃにて接合される。このとき、本発明に
よれば、ヘッドコア１の両側面１ａ、１ｂとスライダ２
の凹所５とを接合するガラス層Ｍａ、Ｍｂは、スライダ
２のＡＢＳ面４の外側に形成された中央溝部１０１及び
エッジ溝部１００にそれぞれ位置し、ヘッドコア１の後
端面１ｃとスライダ２の凹所５とを接合するガラス層Ｍ
ｃのみがスライダ２のＡＢＳ面４に位置するようにされ
る。又、ヘッドコア１の磁性薄膜１４はスライダ２のエ
ッジ溝部１００に近接してスライダ２のＡＢＳ面４に一
致して位置するように構成される。従って、本発明で
は、磁性薄膜１４を、つまり、トラック位置を、記録特
性上有利なディスク外周側を利用できるようにＡＢＳ面
４の外側エッジ溝部１００の極く近傍に設定することが
できるという利点がある。
１が装入され、モールドガラスＭにて接合される。図２
に、ヘッドコア１とスライダ２との接合態様が拡大して
図示される。図２に図示されるように、本発明によれ
ば、ヘッドコア１の両側面１ａ、１ｂ及び後端面１ｃ
が、凹所５の壁面と適合し、それぞれモールドガラスＭ
ａ、Ｍｂ及びＭｃにて接合される。このとき、本発明に
よれば、ヘッドコア１の両側面１ａ、１ｂとスライダ２
の凹所５とを接合するガラス層Ｍａ、Ｍｂは、スライダ
２のＡＢＳ面４の外側に形成された中央溝部１０１及び
エッジ溝部１００にそれぞれ位置し、ヘッドコア１の後
端面１ｃとスライダ２の凹所５とを接合するガラス層Ｍ
ｃのみがスライダ２のＡＢＳ面４に位置するようにされ
る。又、ヘッドコア１の磁性薄膜１４はスライダ２のエ
ッジ溝部１００に近接してスライダ２のＡＢＳ面４に一
致して位置するように構成される。従って、本発明で
は、磁性薄膜１４を、つまり、トラック位置を、記録特
性上有利なディスク外周側を利用できるようにＡＢＳ面
４の外側エッジ溝部１００の極く近傍に設定することが
できるという利点がある。
【００２６】以上の如き構成とされる本発明に係る浮上
型磁気ヘッドにおいては、図２にて理解されるように、
そのＡＢＳ面４に露出するモールドガラス層Ｍｃの面積
は、その層厚さを１０μｍ以下、例えば１〜５μｍとす
ることができるので、０．００５ｍｍ2 以下とすること
ができる。この値は、従来の、図７に示すフェライト型
及びＭＩＧ型コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドに
て可能とされる最小面積０．０９ｍｍ2 の１／１８以下
にまで低減することができ、又、図９及び図１０に示す
薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドにて
可能な最小面積０．０２ｍｍ2 の１／４以下にまで低減
することができる。
型磁気ヘッドにおいては、図２にて理解されるように、
そのＡＢＳ面４に露出するモールドガラス層Ｍｃの面積
は、その層厚さを１０μｍ以下、例えば１〜５μｍとす
ることができるので、０．００５ｍｍ2 以下とすること
ができる。この値は、従来の、図７に示すフェライト型
及びＭＩＧ型コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドに
て可能とされる最小面積０．０９ｍｍ2 の１／１８以下
にまで低減することができ、又、図９及び図１０に示す
薄膜積層型コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドにて
可能な最小面積０．０２ｍｍ2 の１／４以下にまで低減
することができる。
【００２７】又、本発明は、図４に図示されるように、
スライダ２の端縁エッジ溝部１００部分から、アペック
スガラスｍa のアペックス部分ｍa ’が観察可能とな
り、磁気ヘッドの性能に極めて重要な、ギャップ深さ２
１ａを直接観察し得るという利点をも有している。
スライダ２の端縁エッジ溝部１００部分から、アペック
スガラスｍa のアペックス部分ｍa ’が観察可能とな
り、磁気ヘッドの性能に極めて重要な、ギャップ深さ２
１ａを直接観察し得るという利点をも有している。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る浮上
型磁気ヘッドは、ヘッドコアの両側面とスライダの凹所
とを接合するガラス層が、スライダのＡＢＳ面の外側に
形成されたエッジ溝部及び中央溝部に位置する構成とさ
れるために、スライダのＡＢＳ面におけるモールドガラ
スの露出面積を著しく減少させ、ＣＳＳ特性の向上を図
ることができ、又、磁気ヘッドの特性に重要な影響を及
ぼすギャップ深さを直接観察することができるという特
長を有する。更に、本発明の浮上型磁気ヘッドは、トラ
ック位置に合わせて適当に磁性薄膜を位置せしめること
が可能であり、又、特に記録特性上有利なディスク外周
側を利用できるようにＡＢＳ面の外側エッジの極く近傍
にトラック位置を設定することができ、極めて有効であ
る。
型磁気ヘッドは、ヘッドコアの両側面とスライダの凹所
とを接合するガラス層が、スライダのＡＢＳ面の外側に
形成されたエッジ溝部及び中央溝部に位置する構成とさ
れるために、スライダのＡＢＳ面におけるモールドガラ
スの露出面積を著しく減少させ、ＣＳＳ特性の向上を図
ることができ、又、磁気ヘッドの特性に重要な影響を及
ぼすギャップ深さを直接観察することができるという特
長を有する。更に、本発明の浮上型磁気ヘッドは、トラ
ック位置に合わせて適当に磁性薄膜を位置せしめること
が可能であり、又、特に記録特性上有利なディスク外周
側を利用できるようにＡＢＳ面の外側エッジの極く近傍
にトラック位置を設定することができ、極めて有効であ
る。
【図１】本発明に係るコンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドの斜視図である。
ヘッドの斜視図である。
【図２】スライダとヘッドコアの接合状態を示す平面図
である。
である。
【図３】本発明に係るコンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドの分解斜視図である。
ヘッドの分解斜視図である。
【図４】本発明に係るコンポジットタイプの浮上型磁気
ヘッドの一部拡大側面図である。
ヘッドの一部拡大側面図である。
【図５】積層薄膜型ヘッドコアの製造方法を示す工程図
である。
である。
【図６】従来のフェライト型コンポジットタイプの浮上
型磁気ヘッドの斜視図である。
型磁気ヘッドの斜視図である。
【図７】従来のフェライト型コンポジットタイプの浮上
型磁気ヘッドの分解斜視図である。
型磁気ヘッドの分解斜視図である。
【図８】従来のフェライト型コンポジットタイプの浮上
型磁気ヘッドのガラスモールドの状態を説明する平面図
である。
型磁気ヘッドのガラスモールドの状態を説明する平面図
である。
【図９】従来提案されている薄膜積層型コンポジットタ
イプの浮上型磁気ヘッドの一部拡大斜視図である。
イプの浮上型磁気ヘッドの一部拡大斜視図である。
【図１０】従来提案されている薄膜積層型コンポジット
タイプの浮上型磁気ヘッドの分解斜視図である。
タイプの浮上型磁気ヘッドの分解斜視図である。
１ ヘッドコア ２ スライダ ４ ＡＢＳ面 ５ 溝状凹所 １４ 積層磁性薄膜 １８、１９ コア半体ブロック ２１ ギャップ １００ エッジ溝部 １０１ 中央溝部 １０５ 横溝
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に磁性薄膜を積層して形成された
一対のコア半体ブロックにて構成されたヘッドコアを、
スライダの一つの端面に形成された凹所にガラス層を介
して一体に接合して構成される浮上型磁気ヘッドにおい
て、前記ヘッドコアの各側面と前記スライダの凹所とを
接合するガラス層は、前記スライダのＡＢＳ面の両側部
に形成されたエッジ溝部及び中央溝部にそれぞれ位置
し、そして前記ヘッドコアの磁性薄膜は前記スライダの
ＡＢＳ面に一致して位置するようにしたことを特徴とす
る浮上型磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2412583A JP2542971B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 浮上型磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2412583A JP2542971B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 浮上型磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04221416A JPH04221416A (ja) | 1992-08-11 |
| JP2542971B2 true JP2542971B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=18521406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2412583A Expired - Lifetime JP2542971B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 浮上型磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2542971B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004349A1 (fr) * | 1993-07-30 | 1995-02-09 | Japan Energy Corporation | Tete magnetique flottante et son procede de fabrication |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP2412583A patent/JP2542971B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04221416A (ja) | 1992-08-11 |
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