JP2542290B2 - 排ガスの浄化方法 - Google Patents

排ガスの浄化方法

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JP2542290B2 JP3045730A JP4573091A JP2542290B2 JP 2542290 B2 JP2542290 B2 JP 2542290B2 JP 3045730 A JP3045730 A JP 3045730A JP 4573091 A JP4573091 A JP 4573091A JP 2542290 B2 JP2542290 B2 JP 2542290B2
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晴人 坪井
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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、焼却炉等から排出さ
れた排ガス中に含有されている、窒素酸化物、および、
ポリ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ塩化ジベンゾフラ
ン等の有機塩素化合物を除去して、排ガスを浄化するた
めの方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】産業廃棄物や都市ごみを処理するための
焼却炉等から発生する排ガス中には、窒素酸化物(NOx)
と共に、微量ではあるが極めて毒性の強いポリ塩化ジベ
ンゾダイオキシン(PCDDs) 、ポリ塩化ジベンゾフラン(P
CDFs) 等の有機塩素化合物が含有されている。このよう
な有害な窒素酸化物および有機塩素化合物の、排ガス中
からの除去は、公害防止上、極めて重要である。
【0003】排ガス中からの窒素酸化物の除去方法とし
て、例えば、特公昭54-29419号公報には、排ガス中に還
元剤としてのアンモニアを添加し、このようにアンモニ
アが添加された排ガスを、窒素酸化物還元用触媒に接触
させることにより、排ガス中の窒素酸化物を還元して除
去する方法が開示されている。
【0004】排ガス中からの有機塩素化合物の除去方法
として、例えば、特開昭63-290314 号公報には、排ガス
を、セラミック担体に担持させた白金等の有機塩素化合
物酸化用触媒と、300 〜900 ℃の温度で接触させること
により、排ガス中の有機塩素化合物を酸化させて除去す
る方法が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した特公昭54-294
19号公報に開示された方法によれば、排ガス中から窒素
酸化物のみを除去することができ、また、特開昭63-290
314 号公報に開示された方法によれば、排ガス中から有
機塩素化合物のみを除去することはできる。しかしなが
ら、上記何れの方法も、窒素酸化物および有機塩素化合
物の両者を共に排ガス中から除去することはできない。
この結果、排ガス中から、窒素酸化物および有機塩素化
合物を除去するためには、従来、窒素酸化物還元用触媒
を有する脱硝用反応器、および、有機塩素化合物酸化用
触媒を有する有機塩素化合物除去用反応器を、それぞれ
別個に設け、排ガスを、脱硝用反応器と有機塩素化合物
除去用反応器とに順次通し、先ず、脱硝用反応器の触媒
によって窒素酸化物を除去した後、有機塩素化合物除去
用反応器の触媒によって有機塩素化合物を除去しなけれ
ばならず、このために、設備が大型化し、且つ、触媒の
コストが上昇する問題があった。
【0006】従って、この発明の目的は、焼却炉等から
排出された排ガス中に含有されている、有害な、窒素酸
化物および有機塩素化合物を、従来のような、窒素酸化
物除去用および有機塩素化合物除去用のそれぞれ別個の
触媒を必要とせず、1種類の触媒によって共に効率的に
除去し、従来よりも小型の設備によって、経済的に排ガ
スを浄化するための方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】 本発明者等は、上述し
た問題を解決すベく鋭意研究を重ねた。その結果、3A
・2SiO を含有する酸化物の表面上にTi
が被覆された酸化物からなる基体、または、TiO
−SiO 、TiO −ZrO 、TiO −SiO
−Al およびTiO −SiO −ZrO
うちの何れか1つの複合酸化物からなる基体の表面上
に、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,CrおよびFeか
らなる群から選択された少なくとも1種の金属またはそ
の酸化物を担持させた触媒に、還元剤としてのアンモニ
アが添加された排ガスを、特定の温度範囲で接触させれ
ば、排ガス中に含有されている窒素酸化物および有機塩
素化合物を、1種類の触媒によって共に効率的に除去
し、従来よりも小型の設備によって、経済的に排ガスを
浄化し得ることを知見した。
【0008】 この発明は、上記知見に基づいてなされ
たものであって、この発明の方法は、焼却炉等から排出
された、窒素酸化物、および、ポリ塩化ジベンゾタイオ
キシン、ポリ塩化ジベンゾフラン等の有機塩素化合物を
含有する排ガス中に、還元剤としてのアンモニアを連続
的または間欠的に添加し、このようにアンモニアが添加
された排ガスを、3Al ・2SiO を含有する
酸化物の表面上にTiO が被覆された酸化物からなる
基体、または、TiO −SiO 、TiO −ZrO
、TiO −SiO −Al およびTiO
SiO −ZrO のうちの何れか1つの複合酸化物か
らなる基体の表面上に、Pt,Pd,Ru,Mn,C
u,CrおよびFeからなる群から選択された少なくと
も1種の金属またはその酸化物を担持させた触媒に、1
50〜340℃の温度で接触させることにより、前記排
ガス中に含有されている前記窒素酸化物を還元して除去
し、同時に、前記排ガス中に含有されている前記有機塩
素化合物を酸化して除去することに特徴を有するもので
ある。
【0009】
【作用】この発明においては、排ガス中に還元剤として
のアンモニアを添加し、このようなアンモニアが添加さ
れた排ガスを、150 〜340 ℃の温度で、以下に述べる触
媒に接触させる。この結果、排ガス中の窒素酸化物は還
元除去され、同時に、排ガス中の有機塩素化合物酸化用
触媒は酸化除去される。
【0010】 触媒として、3Al ・2SiO
を含有する酸化物の表面上にTiO が被覆された酸化
物、TiO −SiO またはTiO −ZrO の2
元系複合酸化物、または、TiO −SiO −Al
、TiO −SiO −ZrO の3元系複合酸化
物を基体とし、この基体の表面上に、Pt,Pd,R
u,Mn,Cu,CrおよびFeからなる群から選択さ
れた少なくとも1種の金属またはその酸化物を担持させ
た触媒を使用する。
【0011】 このような触媒によれば、NOx,SO
x,HCl,COおよびハロゲンガス等の存在する環境
下において、ガス中に添加されたアンモニアによる、窒
素酸化物の還元除去と、そして、ポリ塩化ジベンゾタイ
オキシン、ポリ塩化ジベンゾフラン等の有機塩素化合物
の酸化除去とを、同時に長期にわたって効率よく行うこ
とができる。
【0012】特に、基体を、3Al2O3・2SiO2 即ちムライ
トを含有する酸化物の表面上にTiO2が被覆された構造と
すれば、ムライトの表面上に被覆されたTiO2により、基
体の表面に微細な凹凸が形成されるので、Pt等の触媒成
分を担持させて高活性を得るのに必要な表面積を十分に
確保することができ、且つ、ムライトの表面上を被覆す
るTiO2によって、優れた耐酸性が付与される。
【0013】触媒の形状は、円柱状、円筒状、板状、リ
ボン状、ハニカム状、ペレット状等、一体成形された任
意の形状のものを選ぶことができる。特に、第2図に断
面図で示すような、断面が格子状のハニカム構造体から
なる触媒A、または、第3図に断面図で示すような、断
面がコルゲート状のハニカム構造体からなる触媒Bが好
ましい。触媒をこのようなハニカム構造体によって構成
すれば、排ガス中に存在するダストが触媒に付着するこ
とはなく、従って、ダストの付着による圧力損失の増大
や性能の低下等が生ぜずに、安定した操業を行うことが
できる。
【0014】上述した触媒に接触させる排ガスの温度
は、150 〜340 ℃の範囲内に限定すべきである。排ガス
の温度が150 ℃未満では、有機塩素化合物の酸化反応が
不十分になってその除去効率が低下し、更に、排ガス中
のSOx,HCl 等により、触媒が劣化する問題が生ずる。一
方、排ガスの温度が340 ℃を超えると、触媒によって、
逆に、排ガス中に添加されたアンモニアからの窒素酸化
物の発生が顕著になる問題が生ずる。
【0015】150 〜340 ℃の範囲内の温度の排ガス中
に、NH3/NOx(モル比) が1以上となるように、アンモニ
アを添加すれば、窒素酸化物の除去効率を高めることが
できる。このような割合で、排ガス中にアンモニアを添
加しても、排ガス中の未反応の余剰なアンモニアは、そ
の量が過多(約200ppm以上)でない限り、上述した触媒
によって窒素および水に分解して除去されるので、問題
が生ずることはない。
【0016】排ガス中へのアンモニアの添加は、連続的
に行っても、または、間欠的に行ってもよい。排ガス中
へのアンモニアの添加を間欠的に行っても、上述した触
媒に吸着されたアンモニアによって、排ガス中に含有さ
れている窒素酸化物の還元を行うことができる。
【0017】第1図は、この発明方法の1実施態様を示
す概略工程図である。第1図に示すように、この発明の
方法においては、先ず、混合室1において、排ガス中
に、アンモニア(NH3)を、連続的または間欠的に添加し
そして混合する。そして、このようにアンモニアが添加
された排ガスを、前述した触媒が設けられた、窒素酸化
物および有機塩素化合物同時除去用反応器2に、150 〜
340 ℃の温度で導く。この結果、排ガス中の窒素酸化物
および有機塩素化合物は、反応器2内の前述した触媒に
よって、同時に除去される。
【0018】
【実施例】次に、この発明を、実施例により比較例と対
比しながら更に詳細に説明する。ムライトを含む酸化物
の表面にTiO2が被覆された、TiO2の含有量が60wt.%であ
る、第3図に示すコルゲート状のハニカム構造体からな
る基体Bを調製した。基体Bの各部の寸法は、次の通り
である。 幅方向ピッチ(a) : 3.7mm 長さ方向ピッチ(b) : 7.5mm 波状壁の厚さ(c) : 0.4mm 側壁の厚さ(d) : 0.5mm 開口率 : 77% 上述した基体BにPt(2.5g/触媒1リットル)を担持させ
た。かくして、その表面がTiO2によって被覆されたムラ
イトからなる基体の表面上に、Ptが担持された、コルゲ
ート状の触媒を調製した。
【0019】上述した触媒を使用し、第1図に示した工
程図に従って、この発明の方法により、窒素酸化物(NO
x)およびポリ塩化ジベンゾダイオキシン(PCDDs) を下記
のように含有する排ガス中から、窒素酸化物(NOx) およ
びポリ塩化ジベンゾダイオキシン(PCDDs) を除去した。 NOx 含有量 : 130 〜 180ppm PCDDs 含有量 : 2000 〜4000ng/Nm3
【0020】第1表に、排ガス温度、還元剤としてのア
ンモニアの添加量〔NH3/NOx(モル比)]、NOx 除去率、NO
x 増加率およびPCDDs 除去率を示す。
【0021】
【0022】第1表において、No. 1〜5は本発明の実
施例であり、No. 6は、触媒に接触させる排ガスの温度
が本発明の範囲を超えて高い比較例である。第1表から
明らかように、触媒に接触させる排ガスの温度が本発明
の範囲を超えて高い比較例No. 6の場合は、排ガス中の
NOx が逆に増加した。これに対して、本発明実施例のN
o. 1〜5の場合は、何れも、NOx およびPCDDs を、排
ガス中から共に効率的に除去することができた。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、焼却炉等から排出された排ガス中に含有されてい
る、有害な窒素酸化物および有機塩素化合物は、1種類
の触媒によって共に効率的に除去され、従って、従来よ
りも小型の設備によって、経済的に排ガスを浄化するこ
とができる工業上有用な効果がもたらされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明方法の1実施態様を示す概略工程図で
ある。
【図2】この発明方法に使用される触媒の形状の一例を
示す断面図である。
【図3】この発明方法に使用される触媒の形状の他の例
を示す断面図である。
【符号の説明】
1 混合室 2 窒素酸化物および有機塩素化合物同時除去用反応器 A 触媒 B 触媒
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 23/72 B01J 32/00 23/745 35/04 301Z 32/00 B01D 53/36 102B 35/04 301 B01J 23/74 301A (72)発明者 能登 隆 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 坪井 晴人 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 横山 隆 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 鈴木 康夫 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 井元 義訓 愛知県名古屋市千種区西崎町2丁目57番 地 (72)発明者 石川 理 愛知県半田市新宮町1丁目106番地 日 本碍子株式会社新宮社宅107号 (72)発明者 徳倉 勝浩 愛知県半田市青山町7丁目83番地 日本 碍子株式会社青山寮 (56)参考文献 特開 平2−280816(JP,A) 特表 平4−503772(JP,A)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 焼却炉等から排出された、窒素酸化物、
    および、ポリ塩化ジベンゾタイオキシン、ポリ塩化ジベ
    ンゾフラン等の有機塩素化合物を含有する排ガス中に、
    還元剤としてのアンモニアを連続的または間欠的に添加
    し、このようにアンモニアが添加された排ガスを、3A
    ・2SiO を含有する酸化物の表面上にTi
    が被覆された酸化物からなる基体の表面上に、P
    t,Pd,Ru,Mn,Cu,CrおよびFeからなる
    群から選択された少なくとも1種の金属またはその酸化
    物を担持させた触媒に、150〜340℃の温度で接触
    させることにより、前記排ガス中に含有されている前記
    窒素酸化物を還元して除去し、同時に、前記排ガス中に
    含有されている前記有機塩素化合物を酸化して除去する
    ことを特徴とする排ガスの浄化方法。
  2. 【請求項2】 焼却炉等から排出された、窒素酸化物、
    および、ポリ塩化ジベンゾタイオキシン、ポリ塩化ジベ
    ンゾフラン等の有機塩素化合物を含有する排ガス中に、
    還元剤としてのアンモニアを連続的または間欠的に添加
    し、このようにアンモニアが添加された排ガスを、Ti
    −SiO 、TiO2−ZrO 、TiO −Si
    −Al およびTiO −SiO −ZrO
    のうちの何れか1つの複合酸化物からなる基体の表面上
    に、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,CrおよびFeか
    らなる群から選択された少なくとも種の金属またはそ
    の酸化物を担持させた触媒に、150〜340℃の温度
    で接触させることにより、前記排ガス中に含有されてい
    る前記窒素酸化物を還元して除去し、同時に、前記排ガ
    ス中に含有されている前記有機塩素化合物を酸化して除
    去することを特徴とする排ガスの浄化方法。
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