JP2542290B2 - 排ガスの浄化方法 - Google Patents
排ガスの浄化方法Info
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Description
れた排ガス中に含有されている、窒素酸化物、および、
ポリ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ塩化ジベンゾフラ
ン等の有機塩素化合物を除去して、排ガスを浄化するた
めの方法に関するものである。
焼却炉等から発生する排ガス中には、窒素酸化物(NOx)
と共に、微量ではあるが極めて毒性の強いポリ塩化ジベ
ンゾダイオキシン(PCDDs) 、ポリ塩化ジベンゾフラン(P
CDFs) 等の有機塩素化合物が含有されている。このよう
な有害な窒素酸化物および有機塩素化合物の、排ガス中
からの除去は、公害防止上、極めて重要である。
て、例えば、特公昭54-29419号公報には、排ガス中に還
元剤としてのアンモニアを添加し、このようにアンモニ
アが添加された排ガスを、窒素酸化物還元用触媒に接触
させることにより、排ガス中の窒素酸化物を還元して除
去する方法が開示されている。
として、例えば、特開昭63-290314 号公報には、排ガス
を、セラミック担体に担持させた白金等の有機塩素化合
物酸化用触媒と、300 〜900 ℃の温度で接触させること
により、排ガス中の有機塩素化合物を酸化させて除去す
る方法が開示されている。
19号公報に開示された方法によれば、排ガス中から窒素
酸化物のみを除去することができ、また、特開昭63-290
314 号公報に開示された方法によれば、排ガス中から有
機塩素化合物のみを除去することはできる。しかしなが
ら、上記何れの方法も、窒素酸化物および有機塩素化合
物の両者を共に排ガス中から除去することはできない。
この結果、排ガス中から、窒素酸化物および有機塩素化
合物を除去するためには、従来、窒素酸化物還元用触媒
を有する脱硝用反応器、および、有機塩素化合物酸化用
触媒を有する有機塩素化合物除去用反応器を、それぞれ
別個に設け、排ガスを、脱硝用反応器と有機塩素化合物
除去用反応器とに順次通し、先ず、脱硝用反応器の触媒
によって窒素酸化物を除去した後、有機塩素化合物除去
用反応器の触媒によって有機塩素化合物を除去しなけれ
ばならず、このために、設備が大型化し、且つ、触媒の
コストが上昇する問題があった。
排出された排ガス中に含有されている、有害な、窒素酸
化物および有機塩素化合物を、従来のような、窒素酸化
物除去用および有機塩素化合物除去用のそれぞれ別個の
触媒を必要とせず、1種類の触媒によって共に効率的に
除去し、従来よりも小型の設備によって、経済的に排ガ
スを浄化するための方法を提供することにある。
た問題を解決すベく鋭意研究を重ねた。その結果、3A
l 2 O 3 ・2SiO 2 を含有する酸化物の表面上にTi
O 2 が被覆された酸化物からなる基体、または、TiO
2 −SiO 2 、TiO 2 −ZrO 2 、TiO 2 −SiO
2 −Al 2 O 3 およびTiO 2 −SiO 2 −ZrO 2 の
うちの何れか1つの複合酸化物からなる基体の表面上
に、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,CrおよびFeか
らなる群から選択された少なくとも1種の金属またはそ
の酸化物を担持させた触媒に、還元剤としてのアンモニ
アが添加された排ガスを、特定の温度範囲で接触させれ
ば、排ガス中に含有されている窒素酸化物および有機塩
素化合物を、1種類の触媒によって共に効率的に除去
し、従来よりも小型の設備によって、経済的に排ガスを
浄化し得ることを知見した。
たものであって、この発明の方法は、焼却炉等から排出
された、窒素酸化物、および、ポリ塩化ジベンゾタイオ
キシン、ポリ塩化ジベンゾフラン等の有機塩素化合物を
含有する排ガス中に、還元剤としてのアンモニアを連続
的または間欠的に添加し、このようにアンモニアが添加
された排ガスを、3Al 2 O 3 ・2SiO 2 を含有する
酸化物の表面上にTiO 2 が被覆された酸化物からなる
基体、または、TiO 2 −SiO 2 、TiO 2 −ZrO
2 、TiO 2 −SiO 2 −Al 2 O 3 およびTiO 2 −
SiO 2 −ZrO 2 のうちの何れか1つの複合酸化物か
らなる基体の表面上に、Pt,Pd,Ru,Mn,C
u,CrおよびFeからなる群から選択された少なくと
も1種の金属またはその酸化物を担持させた触媒に、1
50〜340℃の温度で接触させることにより、前記排
ガス中に含有されている前記窒素酸化物を還元して除去
し、同時に、前記排ガス中に含有されている前記有機塩
素化合物を酸化して除去することに特徴を有するもので
ある。
のアンモニアを添加し、このようなアンモニアが添加さ
れた排ガスを、150 〜340 ℃の温度で、以下に述べる触
媒に接触させる。この結果、排ガス中の窒素酸化物は還
元除去され、同時に、排ガス中の有機塩素化合物酸化用
触媒は酸化除去される。
を含有する酸化物の表面上にTiO 2 が被覆された酸化
物、TiO 2 −SiO 2 またはTiO 2 −ZrO 2 の2
元系複合酸化物、または、TiO 2 −SiO 2 −Al 2
O 3 、TiO 2 −SiO 2 −ZrO 2 の3元系複合酸化
物を基体とし、この基体の表面上に、Pt,Pd,R
u,Mn,Cu,CrおよびFeからなる群から選択さ
れた少なくとも1種の金属またはその酸化物を担持させ
た触媒を使用する。
x,HCl,COおよびハロゲンガス等の存在する環境
下において、ガス中に添加されたアンモニアによる、窒
素酸化物の還元除去と、そして、ポリ塩化ジベンゾタイ
オキシン、ポリ塩化ジベンゾフラン等の有機塩素化合物
の酸化除去とを、同時に長期にわたって効率よく行うこ
とができる。
トを含有する酸化物の表面上にTiO2が被覆された構造と
すれば、ムライトの表面上に被覆されたTiO2により、基
体の表面に微細な凹凸が形成されるので、Pt等の触媒成
分を担持させて高活性を得るのに必要な表面積を十分に
確保することができ、且つ、ムライトの表面上を被覆す
るTiO2によって、優れた耐酸性が付与される。
ボン状、ハニカム状、ペレット状等、一体成形された任
意の形状のものを選ぶことができる。特に、第2図に断
面図で示すような、断面が格子状のハニカム構造体から
なる触媒A、または、第3図に断面図で示すような、断
面がコルゲート状のハニカム構造体からなる触媒Bが好
ましい。触媒をこのようなハニカム構造体によって構成
すれば、排ガス中に存在するダストが触媒に付着するこ
とはなく、従って、ダストの付着による圧力損失の増大
や性能の低下等が生ぜずに、安定した操業を行うことが
できる。
は、150 〜340 ℃の範囲内に限定すべきである。排ガス
の温度が150 ℃未満では、有機塩素化合物の酸化反応が
不十分になってその除去効率が低下し、更に、排ガス中
のSOx,HCl 等により、触媒が劣化する問題が生ずる。一
方、排ガスの温度が340 ℃を超えると、触媒によって、
逆に、排ガス中に添加されたアンモニアからの窒素酸化
物の発生が顕著になる問題が生ずる。
に、NH3/NOx(モル比) が1以上となるように、アンモニ
アを添加すれば、窒素酸化物の除去効率を高めることが
できる。このような割合で、排ガス中にアンモニアを添
加しても、排ガス中の未反応の余剰なアンモニアは、そ
の量が過多(約200ppm以上)でない限り、上述した触媒
によって窒素および水に分解して除去されるので、問題
が生ずることはない。
に行っても、または、間欠的に行ってもよい。排ガス中
へのアンモニアの添加を間欠的に行っても、上述した触
媒に吸着されたアンモニアによって、排ガス中に含有さ
れている窒素酸化物の還元を行うことができる。
す概略工程図である。第1図に示すように、この発明の
方法においては、先ず、混合室1において、排ガス中
に、アンモニア(NH3)を、連続的または間欠的に添加し
そして混合する。そして、このようにアンモニアが添加
された排ガスを、前述した触媒が設けられた、窒素酸化
物および有機塩素化合物同時除去用反応器2に、150 〜
340 ℃の温度で導く。この結果、排ガス中の窒素酸化物
および有機塩素化合物は、反応器2内の前述した触媒に
よって、同時に除去される。
比しながら更に詳細に説明する。ムライトを含む酸化物
の表面にTiO2が被覆された、TiO2の含有量が60wt.%であ
る、第3図に示すコルゲート状のハニカム構造体からな
る基体Bを調製した。基体Bの各部の寸法は、次の通り
である。 幅方向ピッチ(a) : 3.7mm 長さ方向ピッチ(b) : 7.5mm 波状壁の厚さ(c) : 0.4mm 側壁の厚さ(d) : 0.5mm 開口率 : 77% 上述した基体BにPt(2.5g/触媒1リットル)を担持させ
た。かくして、その表面がTiO2によって被覆されたムラ
イトからなる基体の表面上に、Ptが担持された、コルゲ
ート状の触媒を調製した。
程図に従って、この発明の方法により、窒素酸化物(NO
x)およびポリ塩化ジベンゾダイオキシン(PCDDs) を下記
のように含有する排ガス中から、窒素酸化物(NOx) およ
びポリ塩化ジベンゾダイオキシン(PCDDs) を除去した。 NOx 含有量 : 130 〜 180ppm PCDDs 含有量 : 2000 〜4000ng/Nm3
ンモニアの添加量〔NH3/NOx(モル比)]、NOx 除去率、NO
x 増加率およびPCDDs 除去率を示す。
施例であり、No. 6は、触媒に接触させる排ガスの温度
が本発明の範囲を超えて高い比較例である。第1表から
明らかように、触媒に接触させる排ガスの温度が本発明
の範囲を超えて高い比較例No. 6の場合は、排ガス中の
NOx が逆に増加した。これに対して、本発明実施例のN
o. 1〜5の場合は、何れも、NOx およびPCDDs を、排
ガス中から共に効率的に除去することができた。
ば、焼却炉等から排出された排ガス中に含有されてい
る、有害な窒素酸化物および有機塩素化合物は、1種類
の触媒によって共に効率的に除去され、従って、従来よ
りも小型の設備によって、経済的に排ガスを浄化するこ
とができる工業上有用な効果がもたらされる。
ある。
示す断面図である。
を示す断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 焼却炉等から排出された、窒素酸化物、
および、ポリ塩化ジベンゾタイオキシン、ポリ塩化ジベ
ンゾフラン等の有機塩素化合物を含有する排ガス中に、
還元剤としてのアンモニアを連続的または間欠的に添加
し、このようにアンモニアが添加された排ガスを、3A
l 2 O 3 ・2SiO 2 を含有する酸化物の表面上にTi
O 2 が被覆された酸化物からなる基体の表面上に、P
t,Pd,Ru,Mn,Cu,CrおよびFeからなる
群から選択された少なくとも1種の金属またはその酸化
物を担持させた触媒に、150〜340℃の温度で接触
させることにより、前記排ガス中に含有されている前記
窒素酸化物を還元して除去し、同時に、前記排ガス中に
含有されている前記有機塩素化合物を酸化して除去する
ことを特徴とする排ガスの浄化方法。 - 【請求項2】 焼却炉等から排出された、窒素酸化物、
および、ポリ塩化ジベンゾタイオキシン、ポリ塩化ジベ
ンゾフラン等の有機塩素化合物を含有する排ガス中に、
還元剤としてのアンモニアを連続的または間欠的に添加
し、このようにアンモニアが添加された排ガスを、Ti
O 2 −SiO 2 、TiO2−ZrO 2 、TiO 2 −Si
O 2 −Al 2 O 3 およびTiO 2 −SiO 2 −ZrO 2
のうちの何れか1つの複合酸化物からなる基体の表面上
に、Pt,Pd,Ru,Mn,Cu,CrおよびFeか
らなる群から選択された少なくとも1種の金属またはそ
の酸化物を担持させた触媒に、150〜340℃の温度
で接触させることにより、前記排ガス中に含有されてい
る前記窒素酸化物を還元して除去し、同時に、前記排ガ
ス中に含有されている前記有機塩素化合物を酸化して除
去することを特徴とする排ガスの浄化方法。
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