JP2525853Y2 - Lead frame - Google Patents
Lead frameInfo
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- JP2525853Y2 JP2525853Y2 JP1990064358U JP6435890U JP2525853Y2 JP 2525853 Y2 JP2525853 Y2 JP 2525853Y2 JP 1990064358 U JP1990064358 U JP 1990064358U JP 6435890 U JP6435890 U JP 6435890U JP 2525853 Y2 JP2525853 Y2 JP 2525853Y2
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案はリードフレームの構造に関し、より詳細には
半導体素子収納用パッケージに用いられるリードフレー
ムの改良に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial application field) The present invention relates to a structure of a lead frame, and more particularly to an improvement of a lead frame used for a package for housing a semiconductor element.
(従来技術及びその課題) 従来、半導体素子、特に半導体集積回路素子を収容す
るための半導体素子収納用パッケージは通常、アルミナ
セラミックス等の電気絶縁材料から成り、その上面の略
中央部に半導体素子を収容するための凹部及び該凹部周
辺から上面周縁部にかけて導出されたモリブデン(M
o)、タングステン(W)、マンガン(Mn)等の高融点
金属粉末から成るメタライズ金属層を有する絶縁基体
と、半導体素子を外部回路に電気的に接続するために前
記メタライズ金属層に銀ロウ(Ag-Cu合金)等のロウ材
を介しロウ付けされたコバール(Fe-Ni-Co合金)や42Al
loy(Fe-Ni合金)等から成る外部リード端子と、蓋体と
から構成されており、絶縁基体の凹部底面に半導体素子
を取着固定し、半導体素子の各電極とメタライズ金属層
とをボンディングワイヤを介して電気的に接続するとと
もに絶縁基体上面に蓋体をガラス、樹脂等の封止材によ
り接合させ、絶縁基体と蓋体とから成る容器の内部に半
導体素子を気密に封止することによって半導体装置とな
る。(Prior art and its problems) Conventionally, a semiconductor element housing package for housing a semiconductor element, in particular, a semiconductor integrated circuit element, is usually made of an electrically insulating material such as alumina ceramics. The recess for accommodating and the molybdenum (M
o), an insulating base having a metallized metal layer made of a refractory metal powder such as tungsten (W), manganese (Mn) or the like; and a silver braze (metallized metal layer) for electrically connecting a semiconductor element to an external circuit. Kovar (Fe-Ni-Co alloy) or 42Al brazed through a brazing material such as Ag-Cu alloy)
Consists of external lead terminals made of loy (Fe-Ni alloy), etc., and a lid. A semiconductor element is attached and fixed to the bottom of the concave portion of the insulating base, and each electrode of the semiconductor element is bonded to the metallized metal layer. Electrically connected via wires and bonding the lid to the upper surface of the insulating base with a sealing material such as glass or resin to hermetically seal the semiconductor element inside the container consisting of the insulating base and the lid. Thus, a semiconductor device is obtained.
かかる従来の半導体素子収納用パッケージは絶縁基体
に設けたメタライズ金属層の各々に外部リード端子を個
々にロウ付けする際、そのロウ付けの作業性を容易とす
るために、また外部リード端子の外表面に耐蝕性に優れ
た金属層をメッキにより層着する際、その層着の作業性
を良好とするために、更には半導体素子収納用パッケー
ジを輸送する際、外部リード端子に外力が印加され、該
外力によって外部リード端子が変形するのを防止するた
めに通常、各外部リード端子はその一端が方形環状を成
すフレームの内周辺に一定間隔をもって共通に連結され
ており、これによって外部リード端子は絶縁基体に設け
た各メタライズ金属層へのロウ付けの作業性及び耐蝕性
金属層の層着の作業性が大幅に向上し、且つ輸送時の変
形が有効に防止されるようになっている。Such a conventional package for housing semiconductor elements, when the external lead terminals are individually brazed to each of the metallized metal layers provided on the insulating base, in order to facilitate the workability of the brazing, When a metal layer with excellent corrosion resistance is deposited on the surface by plating, external force is applied to the external lead terminals to improve the workability of the deposition and to transport the semiconductor element storage package. In order to prevent the external lead terminals from being deformed by the external force, one end of each external lead terminal is commonly connected to the inner periphery of a rectangular ring-shaped frame at a fixed interval, whereby the external lead terminals are connected. Can greatly improve the workability of brazing to each metallized metal layer provided on the insulating substrate and the workability of depositing the corrosion-resistant metal layer, and effectively prevent deformation during transportation. It has become way.
尚、前記外部リード端子はコバール、42Alloy等のイ
ンゴットを圧延加工法により薄板状となすとともに金属
打抜き加工法により所定形状に打ち抜くことによって形
成され、各外部リード端子の一端が連結される方形環状
フレームも外部リード端子を形成する際に同時に打抜き
形成される。The external lead terminals are formed by forming an ingot of Kovar, 42Alloy or the like into a thin plate by a rolling method and punching it into a predetermined shape by a metal punching method, and a rectangular annular frame to which one end of each external lead terminal is connected. Are also formed at the same time when the external lead terminals are formed.
しかし乍ら、近時、半導体収納用パッケージはその内
部に収容する半導体素子が高密度化、高集積化し、パッ
ケージに使用される外部リード端子もその数が極めて多
いものとなり、個々の外部リード端子はその線幅が約20
0μm、線厚みが約200μm程度の細いものとなってき
た。そこで従来の金属打抜き加工法では線幅の細い外部
リード端子の形成が不可であることから微細加工が可能
なエッチング加工法を利用して形成したリードフレー
ム、具体的には金属薄板の両主面に所定パターンのマス
クを被着させるとともに該金属薄板の一主面側からエッ
チング液を噴射し、金属薄板の一部を食刻することによ
って形成した第4図(a)に示すような方形環状フレー
ム21の内周各辺に線幅の細い複数個の外部リード端子22
を一定間隔をもって連結させて成るリードフレーム23が
使用されるようになってきた。However, in recent years, semiconductor packages housed in semiconductor packages have become denser and more highly integrated, and the number of external lead terminals used in the packages has become extremely large. Has a line width of about 20
It has become as thin as 0 μm and the line thickness is about 200 μm. Therefore, it is impossible to form an external lead terminal having a small line width by the conventional metal stamping method, so that a lead frame formed by using an etching method capable of fine processing, specifically, both main surfaces of a metal sheet. A mask having a predetermined pattern is applied to the metal sheet, and an etching solution is sprayed from one main surface side of the sheet metal to etch a part of the sheet metal to form a rectangular ring as shown in FIG. A plurality of thin external lead terminals 22 on each side of the inner circumference of the frame 21
Are being used at regular intervals.
しかし乍ら、金属薄板をエッチング加工し、リードフ
レーム23を形成した場合、方形環状フレーム21の各角部
Aに形成される空間が各外部リード端子22間に形成され
る空間より広いことから方形環状フレーム21の各角部A
に接する外部リード端子、即ち、方形環状フレーム21の
各辺最外部に位置する外部リード端子22aの外側面でエ
ッチング液が噴射される方の主面側がエッチング液の多
量の噴射によって大きく食刻され、断面が第4図(b)
に示す如く左右非対称で、且つエッチング液の噴射され
る側の線幅が線厚みより細くなった形状となってしま
う。そのためこのリードフレーム23を用いて半導体素子
収納用パッケージを製作し、パッケージの絶縁基体にロ
ウ付けした外部リード端子22(22a)を外部回路に電気
的に接続するために均等に折り曲げた場合、方形環状フ
レーム21の各辺最外部に位置した外部リード端子22aは
その断面が左右非対称であり、且つ一部の線幅が線厚み
より細くなっているため折り曲げの際に大きなねじれモ
ーメントが働いて他の外部リード端子22と異なる方向に
折れ曲がってしまい、その結果、全ての外部リード端子
を均等に折り曲げることが不可となり、全ての外部リー
ド端子22(22a)を外部回路に正確、且つ確実に接続す
ることができなくなるという欠点を誘発した。However, when the lead frame 23 is formed by etching a thin metal plate, since the space formed at each corner A of the rectangular annular frame 21 is wider than the space formed between the external lead terminals 22, Each corner A of the annular frame 21
In other words, the main surface side of the outer lead terminal 22a located at the outermost side of each side of the rectangular annular frame 21 on which the etchant is sprayed is largely etched by a large amount of the etchant. FIG. 4 (b)
As shown in (1), the line width on the side on which the etching liquid is jetted is narrower than the line thickness. Therefore, when a package for housing a semiconductor element is manufactured using the lead frame 23 and the external lead terminals 22 (22a) brazed to the insulating base of the package are uniformly bent to electrically connect to an external circuit, a square The outer lead terminal 22a located on the outermost side of each side of the annular frame 21 has a laterally asymmetric cross section, and a part of the line width is smaller than the line thickness. Bends in a direction different from that of the external lead terminals 22. As a result, it becomes impossible to bend all the external lead terminals evenly, and all the external lead terminals 22 (22a) are accurately and reliably connected to the external circuit. Induced the disadvantage that you can not.
(考案の目的) 本考案は上記欠点に鑑み案出されたもので、その目的
は全ての外部リード端子を均等に折り曲げ加工すること
を可能とし全ての外部リード端子を外部回路に正確、か
つ確実に接続することができるリードフレームを提供す
ることにある。(Purpose of the invention) The present invention was devised in view of the above-mentioned drawbacks, and its purpose is to make it possible to bend all the external lead terminals evenly and to make all the external lead terminals accurate and reliable to the external circuit. It is an object of the present invention to provide a lead frame which can be connected to a lead frame.
(課題を解決するための手段) 本考案は複数個の外部リード端子の一端が一定間隔を
もって方形環状フレームの内周各辺に連結されて成るリ
ードフレームにおいて、前記方形環状フレームの各角部
に膨大部を設け、且つ該膨大部の外周辺が方形環状フレ
ームの各辺最外部に位置する外部リード端子の外側に各
外部リード端子間の間隔に対し0.8乃至1.2倍の間隔をも
って近接配置されていることを特徴とするものである。(Means for Solving the Problems) The present invention relates to a lead frame in which one end of a plurality of external lead terminals is connected to each side of the inner periphery of a rectangular annular frame at a fixed interval, and at each corner of the rectangular annular frame. The enlarged portion is provided, and the outer periphery of the enlarged portion is disposed close to the outside of the external lead terminal located at the outermost side of each side of the rectangular annular frame with a spacing of 0.8 to 1.2 times the interval between the external lead terminals. It is characterized by having.
(実施例) 次に本考案を添付図面に示す実施例に基づき詳細に説
明する。(Example) Next, the present invention will be described in detail based on an example shown in the accompanying drawings.
第1図(a)(b)は本考案のリードフレームの一実
施例を示し、リードフレーム1は複数個の外部リード端
子2と方形環状を成すフレーム3とから構成されてい
る。1 (a) and 1 (b) show an embodiment of a lead frame according to the present invention. A lead frame 1 is composed of a plurality of external lead terminals 2 and a frame 3 having a rectangular ring shape.
前記外部リード端子2は半導体素子収納用パッケージ
の絶縁容器内に収容される半導体素子を外部回路に電気
的に接続する作用を為し、その線幅は約200μm、線厚
みは約150μm程度で、且つ一端側が絶縁容器の外表面
に設けたメタライズ金属層に銀ロウ(Ag-Cu合金)等の
ロウ材を介しロウ付けされる。The external lead terminal 2 serves to electrically connect the semiconductor element housed in the insulating container of the semiconductor element housing package to an external circuit, and has a line width of about 200 μm and a line thickness of about 150 μm. In addition, one end side is brazed to a metallized metal layer provided on the outer surface of the insulating container via a brazing material such as silver brazing (Ag-Cu alloy).
前記複数個の外部リード端子2はその他端側が方形環
状を成すフレーム3の内周各辺に一定間隔(例えば、0.
5mmの間隔)をもって共通に連結されており、該フレー
ム3は外部リード端子2の各々の位置を規制し、外部リ
ード端子2の一端を絶縁容器のメタライズ金属層にロウ
付けする際の作業性及び外部リード端子2の外表面に耐
蝕性に優れた金属層をメッキにより層着する際の作業性
を向上させる作用を為す。The plurality of external lead terminals 2 are arranged at regular intervals (for example, 0.
The frame 3 regulates the position of each of the external lead terminals 2, and the workability when brazing one end of the external lead terminals 2 to the metallized metal layer of the insulating container is improved. It has an effect of improving workability when a metal layer having excellent corrosion resistance is deposited on the outer surface of the external lead terminal 2 by plating.
尚、前記外部リード端子2のフレーム3への連結は隣
接する外部リード端子2の間隔が絶縁容器に設けたメタ
ライズ金属層の間隔に対応したものとなっている。The connection of the external lead terminals 2 to the frame 3 is such that the distance between the adjacent external lead terminals 2 corresponds to the distance between the metallized metal layers provided on the insulating container.
また前記外部リード端子2及びフレーム3はいずれも
コバール(Fe-Ni-Co合金)や42Alloy(Fe-Ni合金)等の
金属から成り、コバール等のインゴットを圧延加工法に
より薄板状に加工するとともに該金属薄板をエッチング
加工し、所定の形状に食刻することによって一度に形成
される。Each of the external lead terminals 2 and the frame 3 is made of a metal such as Kovar (Fe-Ni-Co alloy) or 42Alloy (Fe-Ni alloy). The ingot such as Kovar is processed into a thin plate by a rolling method. The thin metal plate is formed at a time by etching and etching into a predetermined shape.
前記リードフレーム1はまた方形環状を成すフレーム
3の各角部に膨大部Bが形成されており、該膨大部Bの
外周辺はフレーム3の各辺最外部に位置する外部リード
端子2aの外側に各外部リード端子2間の間隔に対し0.8
乃至1.2倍の間隔をもって近接配置されている。The lead frame 1 also has an enlarged portion B at each corner of the frame 3 having a rectangular ring shape, and the outer periphery of the enlarged portion B is outside the external lead terminal 2 a located at the outermost side of each side of the frame 3. 0.8 for the distance between each external lead terminal 2
They are arranged close to each other with an interval of 1.2 times.
前記方形環状を成すフレーム3の各角部に設けた膨大
部Bは金属薄板をエッチング加工し、リードフレーム1
を形成する際、フレーム3の各辺最外部に位置する外部
リード端子2aの外側面にエッチング液が多量に噴射され
るのを抑制してエッチング液が全ての外部リード端子2
(2a)に均等に噴射されるよう作用し、これによってフ
レーム3の各辺最外部に位置する外部リード端子2aはそ
の外側面の一部が大きく食刻されることはなく、他の外
部リード端子2と実質的に同一の形状となすことができ
る。そのためこの外部リード端子2aを他の外部リード端
子2とともに均等に折り曲げた場合、外部リード端子2a
はその形状が他の外部リード端子2と実質的に同一であ
ることから外部リード端子2と同一方向に、且つ均等に
折り曲げることができる。An enlarged portion B provided at each corner of the rectangular frame 3 is formed by etching a thin metal plate.
Is formed, a large amount of the etching solution is prevented from being sprayed onto the outer surface of the external lead terminal 2a located on the outermost side of each side of the frame 3 so that the etching solution is supplied to all the external lead terminals 2a.
(2a), so that the outer lead terminals 2a located on the outermost sides of the frame 3 do not have a large portion of the outer surface thereof etched, and the other external leads are The shape can be substantially the same as the terminal 2. Therefore, when this external lead terminal 2a is evenly bent together with the other external lead terminals 2, the external lead terminal 2a
Since the shape is substantially the same as that of the other external lead terminals 2, it can be uniformly bent in the same direction as the external lead terminals 2.
尚、前記方形環状を成すフレーム3の各角部に設けた
膨大部Bの外周辺はフレーム3の各辺最外部に位置する
外部リード端子2aの外側面からの距離(間隔)t1が各外
部リード端子2間の間隔t2に対し、1.2t1<t1<0.8t2と
なると、外部リード端子2aの形状が他の外部リード端子
2の形状と均等にならなくなり、全ての外部リード端子
2(2a)を同一方向に、且つ均等に折り曲げることが不
可となる。従って、フレーム3に設けた膨大部Bの外周
辺は該フレーム3の各辺最外部に位置する外部リード端
子2aからの距離(間隔)t1が各外部リード端子2間の間
隔t2に対し、0.8t2≦t1≦1.2t2の範囲となるように設け
る必要がある。The distance (interval) t 1 from the outer surface of the external lead terminals 2a outer periphery is located on each side outermost frame 3 of ampulla B provided at each corner of the frame 3 forming the rectangular annular each to interval t 2 between the external lead terminals 2, when it comes to 1.2t 1 <t 1 <0.8t 2 , the external lead shape of the terminal 2a is not become uniform and the other external lead terminals 2 form, all of the external lead The terminal 2 (2a) cannot be bent in the same direction and evenly. Therefore, the distance (interval) t 1 from the outer lead terminal 2 a located on the outermost side of each side of the frame 3 to the outer periphery of the enlarged portion B provided on the frame 3 is larger than the interval t 2 between the external lead terminals 2. , 0.8t 2 ≦ t 1 ≦ 1.2t 2 .
次に本考案に係るリードフレームの製造方法について
第2図(a)(b)(c)(d)に基づき説明する。Next, a method for manufacturing a lead frame according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 (a), 2 (b), 2 (c) and 2 (d).
まず第2図(a)に示す如く、厚さ150μm程度の金
属薄板4を準備する。First, as shown in FIG. 2A, a thin metal plate 4 having a thickness of about 150 μm is prepared.
前記金属薄板4はコバールや42Alloyから成り、所定
量に秤量した鉄、ニッケル、コバルトを加熱溶融し、合
金化させてコバールや42Alloyのインゴットを作るとと
もに該インゴットを圧延加工法により約150μmの厚み
に圧延することによって形成される。The metal sheet 4 is made of Kovar or 42Alloy, and a predetermined amount of iron, nickel, and cobalt is heated and melted and alloyed to produce an ingot of Kovar or 42Alloy, and the ingot is rolled to a thickness of about 150 μm. It is formed by rolling.
次に第2図(b)に示す如く、前記金属薄板4の両主
面にエッチングマスク5を被着する。Next, as shown in FIG. 2 (b), an etching mask 5 is applied to both main surfaces of the metal sheet 4.
前記エッチングマスク5は従来周知のフォトリソグラ
フィ技術を採用することによって金属薄板4の両主面に
被着され、エッチングマスク5の形状は製作するリード
フレームの形状に対応した形状となっている。The etching mask 5 is applied to both main surfaces of the metal thin plate 4 by employing a conventionally known photolithography technique, and the shape of the etching mask 5 is a shape corresponding to the shape of a lead frame to be manufactured.
次に第2図(c)に示す如く、エッチングマスク5を
被着させた金属薄板4の一主面側よりエッチング液を噴
射し、エッチングマスク5の存在しない部分、即ち、金
属薄板4の露出する部分を食刻し、フレーム3と該フレ
ーム3に一端が連結された多数の外部リード端子2を形
成する。Next, as shown in FIG. 2C, an etching solution is sprayed from one main surface side of the metal thin plate 4 on which the etching mask 5 is applied, and a portion where the etching mask 5 does not exist, that is, the metal thin plate 4 is exposed. The portion to be etched is etched to form a frame 3 and a number of external lead terminals 2 having one end connected to the frame 3.
尚、この場合、フレーム3の最外部に位置する外部リ
ード端子2aの外側にフレーム3の角部を膨大させた膨大
部Bが形成されているため該膨大部Bによってフレーム
3の各辺最外部に位置する外部リード端子2aに多量のエ
ッチング液が噴射されることはなく、全ての外部リード
端子2(2a)に均等にエッチング液が噴射されることと
なり、全ての外部リード端子2(2a)の形状を実質的に
同一となすことができる。In this case, since an enlarged portion B having an enlarged corner portion of the frame 3 is formed outside the external lead terminal 2a located at the outermost portion of the frame 3, the enlarged portion B forms the outermost portion of each side of the frame 3. A large amount of the etching solution is not sprayed on the external lead terminals 2a located at the position (1), and the etching solution is sprayed uniformly on all the external lead terminals 2 (2a). Can be made substantially the same.
そして次に、前記金属薄板4を食刻して外部リード端
子2(2a)及びフレーム3を形成したものは、その後、
第2図(d)に示す如く、エッチングマスク5が除去さ
れ、これによってリードフレーム1が完成する。Then, after the metal thin plate 4 is etched to form the external lead terminals 2 (2a) and the frame 3,
As shown in FIG. 2D, the etching mask 5 is removed, whereby the lead frame 1 is completed.
次に本考案のリードフレームを用いて半導体素子収納
用パッケージを製造する方法につき第3図に示す実施例
に基づき説明する。Next, a method of manufacturing a semiconductor device housing package using the lead frame of the present invention will be described with reference to the embodiment shown in FIG.
まず第3図に示すような半導体素子を収容するための
絶縁基体6を準備する。First, an insulating base 6 for housing a semiconductor element as shown in FIG. 3 is prepared.
前記絶縁基体6はその上面に複数個のメタライズ金属
層7を有しており、該メタライズ金属層7を有する絶縁
基体6は表面に金属ペーストを印刷塗布した未焼成セラ
ミックシートを複数枚積層するとともに還元雰囲気中
(H2-N2ガス中)、約1400〜1600℃の温度で焼成すこと
によって形成される。The insulating base 6 has a plurality of metallized metal layers 7 on its upper surface. The insulating base 6 having the metallized metal layers 7 is formed by laminating a plurality of unfired ceramic sheets having a surface coated with a metal paste by printing. It is formed by firing at a temperature of about 1400 to 1600 ° C. in a reducing atmosphere (in H 2 —N 2 gas).
尚、前記未焼成セラミックシートはアルミナ、シリカ
等のセラミックス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添
加混合して泥漿物を作り、これを従来周知のドクターブ
レード法によりシート状となすことによって形成され
る。The unsintered ceramic sheet is formed by adding a suitable organic solvent and a solvent to a ceramic raw material powder such as alumina and silica to form a slurry, and forming the slurry into a sheet by a conventionally known doctor blade method. You.
また前記金属ペーストはタングステン、モリブデン、
マンガン等の高融点金属粉末に適当な有機溶剤、溶媒を
添加混合することによって作成され、未焼成セラミック
シート表面に従来周知のスクリーン印刷等の厚膜手法に
よって印刷塗布される。The metal paste is tungsten, molybdenum,
It is prepared by adding and mixing an appropriate organic solvent and a solvent to a high melting point metal powder such as manganese, and is printed and applied to the surface of the unfired ceramic sheet by a conventionally known thick film method such as screen printing.
次に前記メタライズ金属層7を有する絶縁基体6を第
1図に示すリードフレーム1とともにカーボンから成る
治具(不図示)内にセットし、絶縁基体6に設けたメタ
ライズ金属層7の露出部分に外部リード端子2(2a)の
一端が銀ロウ等のロウ材8を介し載置されるように位置
合わせを行う。この場合、各外部リード端子2(2a)は
その一端がフレーム3に連結されており、位置が規制さ
れていることから全ての外部リード端子2(2a)を絶縁
基体6に受けたメタライズ金属層7に一度に、且つ容易
に位置合わせすることができる。Next, the insulating base 6 having the metallized metal layer 7 is set in a jig (not shown) made of carbon together with the lead frame 1 shown in FIG. Positioning is performed such that one end of the external lead terminal 2 (2a) is placed via a brazing material 8 such as silver brazing. In this case, one end of each external lead terminal 2 (2a) is connected to the frame 3 and the position is regulated, so that all the external lead terminals 2 (2a) are received on the insulating base 6 by the metallized metal layer. 7 can be aligned at once and easily.
そして次に前記位置合わせされた絶縁基体6及びリー
ドフレーム1を約900℃の温度に加熱された炉中に通
し、ロウ材8を加熱溶融させることによって外部リード
端子2(2a)をメタライズ金属層7にロウ付けする。Then, the aligned insulating substrate 6 and the lead frame 1 are passed through a furnace heated to a temperature of about 900 ° C., and the brazing material 8 is heated and melted so that the external lead terminals 2 (2 a) are metallized metal layers. Solder to 7.
そして最後にメタライズ金属層7にロウ付けされた外
部リード端子2(2a)の外表面に電解メッキ法によりニ
ッケルや金等の耐蝕性に優れた金属を層着させ、これに
よって製品としての半導体素子収納用パッケージが完成
する。Finally, a metal having excellent corrosion resistance, such as nickel or gold, is applied on the outer surface of the external lead terminal 2 (2a) brazed to the metallized metal layer 7 by electrolytic plating, thereby forming a semiconductor device as a product. The package for storage is completed.
尚、この場合、外部リード端子2(2a)の各々はその
一端がフレーム3に共通に連結されていることから電解
メッキのための電極をフレーム3に接続するだけで全て
の外部リード端子2(2a)にメッキ用の電界を共通に印
加することができ、電解メッキの作業が極めて容易とな
る。In this case, since one end of each of the external lead terminals 2 (2 a) is commonly connected to the frame 3, all the external lead terminals 2 (2 a) need only be connected to the electrode 3 for electrolytic plating. An electric field for plating can be commonly applied to 2a), and the operation of electrolytic plating becomes extremely easy.
また完成された半導体素子収納用パッケージは外部リ
ード端子2(2a)の一端がフレーム3に共通に連結され
ていることから半導体素子収納用パッケージを輸送する
際等において、外部リード端子2(2a)に外力が印加さ
れたとしても外部リード端子2(2a)に大きな変形を生
じることはなく、その結果、外部リード端子2(2a)を
所定の外部回路に正確、且つ確実に接続することが可能
となる。In addition, since the completed semiconductor device housing package has one end of the external lead terminal 2 (2a) commonly connected to the frame 3, the external lead terminal 2 (2a) can be used for transporting the semiconductor device housing package. The external lead terminal 2 (2a) is not greatly deformed even if an external force is applied to the external lead terminal. As a result, the external lead terminal 2 (2a) can be connected accurately and securely to a predetermined external circuit. Becomes
(考案の効果) 本考案によれば複数個の外部リード端子の一端が一定
間隔をもって方形環状フレームの内周各辺に連結されて
成るリードフレームにおいて、前記方形環状フレームの
各角部に膨大部を設け、且つ該膨大部の外周辺が方形環
状フレームの各辺最外部に位置する外部リード端子の外
側に各外部リード端子間の間隔に対し0.8乃至1.2倍の間
隔をもって近接配置されていることから金属薄板をエッ
チング加工し、リードフレームを形成する際、全ての外
部リード端子を実質的に同一の形状となすことができ
る。そのため全ての外部リード端子を外部回路に電気的
に接続すために均等に折り曲げた場合、全ての外部リー
ド端子を同一方向に、且つ均等に折り曲げることがで
き、外部リード端子の全てを外部回路に正確、且つ確実
に接続することが可能となる。(Effects of the Invention) According to the present invention, in a lead frame in which one end of a plurality of external lead terminals is connected to each inner peripheral side of a rectangular annular frame at a fixed interval, an enlarged portion is formed at each corner of the rectangular annular frame. And the outer periphery of the enlarged portion is arranged close to the outside of the external lead terminals located at the outermost sides of each side of the rectangular annular frame with an interval of 0.8 to 1.2 times the interval between the external lead terminals. When a metal thin plate is etched to form a lead frame, all the external lead terminals can be made to have substantially the same shape. Therefore, when all the external lead terminals are uniformly bent to electrically connect to the external circuit, all the external lead terminals can be bent in the same direction and evenly, and all of the external lead terminals are connected to the external circuit. It is possible to connect accurately and reliably.
第1図(a)は本考案に係るリードフレームの一実施例
を示す平面図、第1図(b)は第1図(a)に示すリー
ドフレームのY-Y線拡大断面図、第2図(a)(b)
(c)(d)は第1図(a)(b)に示すリードフレー
ムの製造方法を説明するための各工程毎の拡大断面図、
第3図は第1図(a)(b)に示すリードフレームを用
いて半導体素子収納用パッケージを製造する方法を説明
するための断面図、第4図(a)は従来のリードフレー
ムの平面図、第4図(b)は第4図(a)に示すリード
フレームのX-X線拡大断面図である。 1……リードフレーム 2、2a……外部リード端子 3……方形環状をなすフレーム B……膨大部FIG. 1A is a plan view showing an embodiment of the lead frame according to the present invention, FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the lead frame shown in FIG. a) (b)
(C) and (d) are enlarged cross-sectional views for each step for explaining the method for manufacturing the lead frame shown in FIGS. 1 (a) and (b).
FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a semiconductor element housing package using the lead frame shown in FIGS. 1A and 1B, and FIG. 4A is a plan view of a conventional lead frame. FIG. 4 (b) is an enlarged cross-sectional view of the lead frame shown in FIG. 4 (a) along the line XX. 1 ... lead frame 2, 2a ... external lead terminal 3 ... square ring-shaped frame B ... huge part
Claims (1)
複数個の外部リード端子の一端が一定間隔をもって方形
環状フレームの内周各辺に連結されて成るリードフレー
ムであって、前記方形環状フレームの各角部に膨大部を
設け、且つ該膨大部の外周辺が方形環状フレームの各辺
最外部に位置する外部リード端子の外側に各外部リード
端子間の間隔に対し0.8乃至1.2倍の間隔をもって近接配
置させることにより全ての外部リード端子の線幅が線厚
みより太く、且つ断面が左右対象となっていることを特
徴とするリードフレーム。A metal sheet formed by etching;
A lead frame in which one ends of a plurality of external lead terminals are connected at regular intervals to respective inner peripheral sides of a rectangular annular frame, wherein an enlarged portion is provided at each corner of the rectangular annular frame, and By placing the outer periphery close to the outer lead terminals located on the outermost side of each side of the rectangular annular frame with an interval of 0.8 to 1.2 times the interval between the external lead terminals, the line width of all the external lead terminals can be reduced. A lead frame characterized by being thicker than a line thickness and having a symmetrical cross section.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1990064358U JP2525853Y2 (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Lead frame |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1990064358U JP2525853Y2 (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Lead frame |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0423145U JPH0423145U (en) | 1992-02-26 |
JP2525853Y2 true JP2525853Y2 (en) | 1997-02-12 |
Family
ID=31595231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1990064358U Expired - Lifetime JP2525853Y2 (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Lead frame |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2525853Y2 (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2700253B2 (en) * | 1988-08-24 | 1998-01-19 | イビデン株式会社 | Electronic component equipment |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP1990064358U patent/JP2525853Y2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0423145U (en) | 1992-02-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |