JP2522864B2 - キャリヤ洗浄機 - Google Patents

キャリヤ洗浄機

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JP2522864B2
JP2522864B2 JP3074936A JP7493691A JP2522864B2 JP 2522864 B2 JP2522864 B2 JP 2522864B2 JP 3074936 A JP3074936 A JP 3074936A JP 7493691 A JP7493691 A JP 7493691A JP 2522864 B2 JP2522864 B2 JP 2522864B2
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尚補 高尾
明久 本郷
信夫 藤江
和明 佐藤
謙二 渡辺
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Ebara Corp
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Ebara Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハを収納して運搬
するためのキャリヤを洗浄するキャリヤ洗浄機に関し、
特に、洗浄前のキャリヤを収納するストッカーからキャ
リヤを搬出して、ブラシ洗浄槽、薬液槽、純水槽、乾燥
槽と順次通過させて洗浄したあと、洗浄後のキャリヤを
別のストッカーへ格納することにしたキャリヤ洗浄機に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製品の製造に際して使用されるキ
ャリヤの洗浄について、薬液(例えば塩酸希釈液)を使
用する場合、従来は薬液槽にカバー等をするか、装置全
体をダクトから排気することで、薬液蒸気の拡散を防止
していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、該カバーを手
動或いは自動で開閉するにしても、キャリヤを薬液槽に
出し入れする度に該カバーの開閉を行うので薬液蒸気の
拡散防止を十分には図れないという問題が存在する。ま
た、薬液自体が希釈されているとは言え、洗浄のための
純水槽からも薬液蒸気が拡散するという問題がある。
【0004】さらに薬液蒸気が拡散することにより、洗
浄装置内部の金属部品の発錆が防止できないという問題
が存在する。
【0005】本発明は上記した従来技術の問題点に鑑み
て提案されたもので、薬液蒸気の拡散及びそれに伴う洗
浄装置内部の金属部品の発錆を防止することか出来るキ
ャリヤ洗浄機の提供を目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明のキャリヤ洗浄機
は、洗浄前のキャリヤを収納する第1のストッカーと、
キャリヤを洗浄するためのブラシ洗浄槽、薬液槽、純水
槽及び乾燥槽と、洗浄後のキャリヤを格納する第2のス
トッカーと、キャリヤを搬送する搬送機構とを含むキャ
リヤ洗浄機において、前記薬液槽の上面開口部には機械
的に開閉する扉を取付け、該扉の下側で前記開口部全体
を横断して流れる気体の層を作るため前記開口部の一端
部に気体の吹き出し口を設け且つ他端部には気体の吸込
口を設け、更に前記薬液層及び純水層を覆って他の部分
とは隔離するための囲いと、該囲い中のキャリヤ及び搬
送機構が出入りする箇所に取り付けた遮蔽物と、該囲い
の内部気体を吸引して外部に排出するためのダクトとを
含んでいる。
【0007】本発明の実施に際して、前記開口部全体を
横断して流れる気体の層は、N2 ガス或いは空気から構
成されるのが好ましい。
【0008】また、前記純水槽は1つだけ設けても良
く、或いは複数個設けても良い。
【0009】さらに、前記遮蔽物としては、例えばシャ
ッター、扉、カーテン等が好ましい。
【0010】これに加えて、前記囲いは例えば仕切板等
で構成されるのが好ましい。
【0011】
【作用】上述した様な構成を有する本発明のキャリヤ洗
浄機によれば、薬液槽と純水槽とを囲いにより他の部分
から隔離し、該囲いからダクトによって薬液蒸気等を吸
引して洗浄装置外へ放出するようにしてあるので、薬液
蒸気が洗浄装置内部へ拡散して錆を発生することが防止
される。
【0012】そして、キャリヤの搬送を妨害しない様に
するため、該囲いには開口部が設けられている。ここ
で、該開口部を介して薬液蒸気が拡散しないようにする
ため、開口部には遮蔽物を設けてある。これに加えて、
キャリヤ搬送に際して遮蔽物が開放されたとしても該囲
い内ではダクトを介して内部の空気が吸引されているた
め、薬液蒸気が囲いの外部へ漏れることは無い。
【0013】更に、囲い内部にある薬液槽の上面開口部
にはシャッター(扉)を設け、その下方にN2 ガス或い
は空気の様な気体の流れがエアーカーテンのように開口
部を横断するように構成した為、薬液蒸気の拡散をより
効果的に防止することができた。
【0014】すなわち薬液槽の開口部からの蒸気拡散を
エアーカーテン及び扉により防止し、これに加えて薬液
槽、水洗槽全体を囲いによりその他の部分から隔離し、
この囲いの内部雰囲気或いは内部空気をダクトにより吸
引し外部へ放出したことにより、洗浄装置内部へ薬液蒸
気が拡散すること及び金属部品に錆が発生することを防
止したのである。
【0015】
【0016】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。
【0017】第1図は本発明によるキャリヤ洗浄機の第
1実施例の全体を示している。
【0018】全体を符号1でしめすキャリヤ洗浄機は、
その内部に、洗浄すべきキャリヤ9を収納する(第1
の)ストッカー2と、このキャリヤ9を搬送するための
搬送機構40と、汚れているキャリヤを最初に洗浄する
ブラシ洗浄槽3と、該ブラシ洗浄槽3の次にキャリヤを
侵漬して化学的に洗浄するための薬液槽4、順次キャリ
ヤを侵漬していくための純水槽5、6を含んでいる。こ
こで搬送機構40は、把手部18、伸縮部11、横行レ
ール10とから概略構成されている。
【0019】更にキャリヤ洗浄機1の内部には、洗浄を
終了したキャリヤを乾燥するための乾燥槽7、乾燥工程
を終了し洗浄作業の全工程を終了したキャリヤを収納す
る(第2の)ストッカー8がある。
【0020】薬液槽4、純水槽5、6は囲い即ちカバー
12によって囲まれており、このカバー12にはキャリ
ヤ9及び搬送機構40が出入りする開口部13a、14
a、15aが形成されている。そして、これ等の開口部
13a、14a、15aにはそれぞれ扉13、14、1
5が設けられている。なお扉13、14、15の開閉は
手動或いは自動のいずれても良い。
【0021】第1図の実施例ではキャリヤ9及び搬送機
構40はカバー12の上部から入るように構成されてい
るが、カバー12の真横(第1図の紙面に垂直な方向)
から出し入れする様に構成しても良い。その様な実施例
(第2実施例)が第2図及び第3図に示されている。
【0022】第2図において、キャリヤ9をブラシ洗浄
槽3から薬液槽4に移送するための部材27、28があ
り、これによってキャリヤ9はカバー12の真横にある
開口部29からカバー12の中に入り、薬液槽4の中へ
侵漬される。
【0023】第3図で示す様に、キャリヤ9を保持して
横行したり上下動させるための機構34はカバー12の
外側にあり、前記移送部材27、28を横行或いは上下
動させる。
【0024】再び第2図において、カバー12を貫通す
る移送部28が横行上下動できるようにするため、カバ
ー12にはスリット30が形成されている。そして、こ
のスリット30に沿って移送部28が動き、キャリヤ9
を保持しつつ、薬液槽4、純水槽5、6へ順次キャリヤ
9を侵漬していく。そして純水槽6での侵漬を終える
と、キャリヤ9はカバー12の開口部31から乾燥槽7
の中へ移される。なお、カバー12の開口部29、31
にはそれぞれ扉32、33が設けられている。
【0025】第1図及び第2図において、カバー12の
内部はダクト16によって外部に連通しており、カバー
12の内部雰囲気或いは内部空気は吸気ファン17によ
って常に外部に排出されている。従って、カバー12の
各扉13、14、15或いは32、33が開放状態であ
っても、そしてスリット部30(第2図)が形成されて
いても、カバー12の内部雰囲気がカバー12の外部に
排出され、洗浄機1の内部に拡散してしまうことはな
い。
【0026】ここで、薬液槽4は第4図にその詳細を示
すように、その中には薬液(例えば塩酸希釈液)が満た
され、キャリヤ9(第4図では図示せず)がこの中に浸
されると該キャリヤに付着した金属イオン等が除去され
る。
【0027】この薬液槽4の上部開口部42には、N2
ガス或いは空気の流れ22が該開口部42全面に渡って
横断して流れるように、ファン19、吐出ダクト20
(吐出口)及び吸引ダクト21(吸込口)、及び外部吸
引部につながる配管26を設置してある。これにより開
口部を横切る気体流れ22がエアカーテンとして作用
し、薬液蒸気は容易に外部へ流出することが出来ない。
【0028】更にキャリヤ9が薬液槽4に出入りする時
以外は扉23により開口部42は閉鎖されており、気体
流れ22(エアカーテン)の作用と相俟って、薬液蒸気
が薬液槽4外部へ流出するのを防いでいる。ここで、扉
23は気体流れ22の上側に設置されており、シリンダ
24、ロッド25によって開閉されるようになってい
る。
【0029】次に、主として第1図を参照して、本発明
のキャリヤ洗浄機1の作動について説明する。
【0030】洗浄されるべきキャリヤ9はストッカー2
の中に収納されている。このストッカー2は、キャリヤ
9を収納したまま外部よりキャリヤ洗浄機1の中に持ち
込まれるよう構成されている。そしてストッカー2は取
外し可能になっており、運搬に便利なように底部にキャ
スター(図示せず)をつけている。
【0031】このストッカー2がキャリヤ洗浄機1内部
に設置されると、搬送機構40によりキャリヤ9はスト
ッカー2より持ち出され、ブラシ洗浄槽3の中に運び込
まれる。ブラシ洗浄槽3の中では、図示されていないブ
ラシによりキャリヤ9が洗浄される。
【0032】次にキャリヤ9は搬送機構40によりカバ
ー12の中にある薬液槽4の中に運び込まれ、この中の
薬液により更に洗浄される。そして搬送機構40により
隣の純水槽5の中に運び込まれ、キャリヤ9についた薬
液が洗い落とされ、更に次の純水槽6の中に運び込ま
れ、ここで純水による最終洗浄が行われる。
【0033】そのあと搬送機構40によりカバー12よ
り出されて、隣にある乾燥槽7の中に運び込まれ、ここ
でN2 ガス等により水分を完全に除去されて乾燥し、ス
トッカー8の中に収納される。
【0034】ストッカー8に洗浄を終了したキャリヤが
或程度の数量だけ収納されると、ストッカー2と同じ
く、外部へ運び出される。ここで、外部への搬出を容易
にするため、ストッカー8の底部にもストッカー2と同
じくキャスター(図示せず)がついている。
【0035】ここで、薬液槽4及び純水槽5、6は前述
のようにカバー12で囲まれており、この内部はダクト
16を通して外部へ接続されており、吸引フアン17に
より内部雰囲気(内部空気)は外部へ吸出されるので、
薬液槽4の上部開口部42を介して、エアーカーテン2
2及び扉23をかいくぐって薬液蒸気が漏れてきたとし
ても、ダクト16を通してカバー12の中から洗浄機1
の外部へ排出されてしまう。純水槽5、6の中からも洗
い落とされた薬液の蒸気が出てくることもあるが、これ
も同様にダクト16を通して外部へ排出され、カバー1
2外部であってキャリヤ洗浄機本体1の内部における他
の箇所へ洩れ出すことはなく、金属部品の発錆を防いで
いる。
【0036】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明は発錆の元凶
である薬液を貯蔵する薬液槽の開口部にエアカーテンと
扉とから成る二重シールを施し、更にこの薬液槽及び薬
液を洗い落とす単数或いは複数の純水槽を囲うカバーを
設け、このカバー内部(局所排気エリア)の雰囲気をダ
クトを通して外部へ放出するようにしたことにより、カ
バー内は常に外より負の圧力となり、薬液蒸気が洗浄機
内部へ拡散することを防止している。
【0037】そしてこれに伴い、キャリヤ洗浄機内部及
び外部の金属部品の発錆を防止し、運転の安定性を確保
し、各部品の長寿命化にも役立つのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示す断面側面図。
【図2】本発明の第2実施例を示す断面側面図。
【図3】図2のA−A矢視図。
【図4】本発明で用いられる薬液槽の詳細を示す部分拡
大図。
【符号の説明】 1…キャリヤ洗浄機 2…第1のストッカー 3…ブラシ洗浄槽 4…薬液槽 5、6…純水槽 7…乾燥槽 8…第2のストッカー 9…キャリヤ 12…カバー(囲い) 13a、14a、15a、…カバーの開口部 16…ダクト 20…気体の吹き出し口 21…気体の吸込口 22…気流(気体の層) 23…薬液槽の扉 34、40…搬送機構 42…薬液槽の開口部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本郷 明久 東京都大田区羽田旭町11番1号 株式会 社荏原製作所内 (72)発明者 藤江 信夫 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 佐藤 和明 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 渡辺 謙二 愛知県春日井市高蔵寺町二丁目1844番2 富士通ヴィエルエスアイ株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−142058(JP,A) 特開 昭61−43430(JP,A) 特開 昭62−30334(JP,A) 特開 平2−4491(JP,A) 特開 昭62−18037(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄前のキャリヤを収納する第1のスト
    ッカーと、キャリヤを洗浄するためのブラシ洗浄槽、薬
    液槽、純水槽及び乾燥槽と、洗浄後のキャリヤを格納す
    る第2のストッカーと、キャリヤを搬送する搬送機構と
    を含むキャリヤ洗浄機において、前記薬液槽の上面開口
    部には機械的に開閉する扉を取付け、該扉の下側で前記
    開口部全体を横断して流れる気体の層を作るため前記開
    口部の一端部に気体の吹き出し口を設け且つ他端部には
    気体の吸込口を設け、更に前記薬液層及び純水層を覆っ
    て他の部分とは隔離するための囲いと、該囲い中のキャ
    リヤ及び搬送機構が出入りする箇所に取り付けた遮蔽物
    と、該囲いの内部気体を吸引して外部に排出するための
    ダクトとを含むことを特徴とするキャリヤ洗浄機。
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JP2001286835A (ja) * 2000-04-10 2001-10-16 Jeol Ltd 洗浄装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101848700B1 (ko) * 2017-01-11 2018-04-16 주식회사 위드텍 자동 풉 세정장치

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