JP3672444B2

JP3672444B2 - 基板処理装置

Info

Publication number: JP3672444B2
Application number: JP27571598A
Authority: JP
Inventors: 浩二倉崎; 健一郎新居
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-09-29
Filing date: 1998-09-29
Publication date: 2005-07-20
Anticipated expiration: 2018-09-29
Also published as: JP2000114229A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板処理装置に関し、より特定的には、半導体デバイス製造プロセス、液晶ディスプレイ製造プロセス、電子部品関連製造プロセス等において、シリコンウエハ、ＦＰＤ（ＦｌａｔＰａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用ガラス基板、電子部品等の各種基板に対して、薬液処理を実行する基板処理部を複数備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、処理の対象となる基板を処理槽内に収納し、当該処理槽に各種薬液を供給して循環させることにより、当該基板に対して種々の薬液処理（洗浄処理、エッチング処理等）を施すような基板処理装置が知られている。通常、このような基板処理装置は、使用する薬液から生じるミストや揮発性のガス（以下、これらを不要気体と称す）が外部に漏れるのを防ぐために、密閉性のあるチャンバ内に収納されている。
【０００３】
ところで、実際の処理工程では、１台の基板処理装置を単独で使用することは少なく、１台の基板処理装置を１つの基板処理部として複数の基板処理部を連接し、１台の基板処理装置として使用することが多い。これによって、複数の薬液処理を順次的かつ連続的に行うことが可能となる。また、各基板処理部のチャンバ内には、薬液から生じる不要気体が充満するため、これを排気する必要がある。基板処理装置で扱う薬液には、大別すると、酸性の薬液と、アルカリ性の薬液とがある。もし、酸性の薬液から生じる酸性の不要気体と、アルカリ性の薬液から生じるアルカリ性の不要気体とを、１本のダクトで排気しようとすると、酸とアルカリとが反応して塩を生じるため、酸性の不要気体とアルカリ性の不要気体は、別々のダクトで排気する必要がある。従来は、各基板処理部のチャンバに引き込み管を設け、この引き込み管を酸性用の排気ダクトまたはアルカリ性用の排気ダクトのいずれかに連通させるようにしていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、複数の基板処理部を連接して構成される従来の基板処理装置では、各基板処理部毎に引き込み管を設けているため、システム全体のサイズが大型化するという問題点があった。また、最近、酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の両方を扱うような複合タイプの基板処理部（以下、複合処理部と称す）を含む基板処理装置が実用化されている。このような複合処理部では、チャンバを、酸性用の排気ダクトまたはアルカリ性用の排気ダクトいずれかに、選択的に切り換えて連通させなければならないため、引き込み管に弁機構を設けており、これがシステムのコストを上昇させていた。
【０００５】
それ故に、本発明の目的は、排気機構の占有スペースが最小限ですむような基板処理システムを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明は、上記のような目的を達成するために、以下に示すような特徴を有している。
【０００７】
第１の発明は、酸性の薬液を扱う第１の処理部とアルカリ性の薬液を扱う第２の処理部とが連接された基板処理装置であって、
第１の処理部および第２の処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部との２層に分かれており、さらに第１の処理部との連結部では、第１の排気部が第１の処理部の内部と連通しており、第２の処理部との連結部では、第２の排気部が第２の処理部の内部と連通している排気ダクトを備え、第１の排気部と第２の排気部とは隣接した２層構造であり、第１の排気部は第１の処理部および第２の処理部に対して隣接しているとともに、第２の排気部は第１の処理部および第２の処理部に対して隣接している。
【０００８】
上記のように、第１の発明によれば、排気ダクトが各処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられているため、各処理部毎に引き込み配管を設けて排気ダクトと接続する必要がなくなり、装置全体の構成が簡素化される。
【０００９】
第２の発明は、酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の両方を扱う複合処理部が複数連接された基板処理装置であって、
複数の複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気する為の第２の排気部との２層に分かれており、さらにそれぞれの複合処理部との連結部では、第１の排気部および第２の排気部が複合処理部の内部と連通している排気ダクトと、
排気ダクトとそれぞれの複合処理部との連結部に設けられ、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り替えて開放または閉塞させるための切り替え手段とを備えている。
【００１０】
上記のように、第２の発明によれば、排気ダクトが各複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられているため、各複合処理部毎に引き込み配管を設けて排気ダクトと接続する必要がなくなり、装置全体の構成が簡素化される。また、排気ダクトと複合処理部との連結部では、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り換えて開放または閉塞させるような構造になっているため、従来のような複雑な弁機構を設ける必要がなくなり、装置コストが安くなる。
【００１１】
第３の発明は、酸性の薬液またはアルカリ性の薬液のいずれかを扱うシンプル処理部と酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の両方を扱う複合処理部とが連接された基板処理装置であって、
シンプル処理部および複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部との２層に分かれており、さらにシンプル処理部との連結部では、第１の排気部または第２の排気部がシンプル処理部の内部と連通しており、複合処理部との連結部では、第１の排気部および第２の排気部が複合処理部の内部と連通している排気ダクトと、
排気ダクトと複合処理部との連結部に設けられ、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り替えて開放または閉塞させるための切り替え手段とを備えている。
【００１２】
上記のように、第３の発明によれば、排気ダクトが各処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられているため、各処理部毎に引き込み配管を設けて排気ダクトと接続する必要がなくなり、装置全体の構成が簡素化される。また、排気ダクトと複合処理部との連結部では、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り換えて開放または閉塞させるような構造になっているため、従来のような複雑な弁機構を設ける必要がなくなり、装置コストが安くなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の外観斜視図である。図１において、本実施形態の基板処理装置は、連接された複数の基板処理部ＫＳ１〜ＫＳ５によって構成されている。ここでは、基板処理部ＫＳ１およびＫＳ２が、例えば、硫酸、ふっ化水素酸、硝酸や塩酸および過酸化水素水の混合液（ＳＣ−２）などの酸性の薬液を扱うシンプルタイプの基板処理部（以下、シンプル処理部と称す）として、基板処理部ＫＳ３およびＫＳ４が上記の酸性の薬液およびアンモニア水および過酸化水素水の混合液（ＳＣ−１）などのアルカリ性の薬液を扱う複合処理部として、基板処理部ＫＳ５が上記のアルカリ性の薬液を扱うシンプル処理部として示されている。なお、このような組合せは例示にすぎず、他の組合せも勿論可能である。また、連接される基板処理部の数も、図１の構成に限定されるものではない。
【００１４】
さらに、各基板処理装置ＫＳ１〜ＫＳ５の側面には、排気ダクトＨＤが一体的に設けられる。この排気ダクトＨＤは、その内部が、酸性の不要気体を排気するための第１の排気部ＨＤ１と、アルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部ＨＤ２との２層構造になっている。なお、排気ダクトＨＤと各基板処理部ＫＳ１〜ＫＳ５との連結構造については、後述する。また、排気ダクトＨＤは、図示しない排気装置に接続されており、その内部が吸引されて負圧とされることにより、各基板処理部ＫＳ１〜ＫＳ５内の不要気体を強制排気する。
【００１５】
図２は、図１に示す各基板処理部ＫＳ１〜ＫＳ５（図２では、基板処理部ＫＳと表記する）の構成の一例を示す断面図である。図３は、チャンバ２内に収納される処理槽１の構成を示す一部破断斜視図である。以下、図２および図３を参照して、基板処理装置ＫＳの構成について説明する。
【００１６】
図２において、処理槽１は、チャンバ２内に収納されている。この処理槽１の内部には、複数枚の基板Ｗが互いに所定の間隔を開けて、かつ平行に配列されている。チャンバ２は、処理槽１を収納する本体２１と、この本体２１の上部に取り付けられる蓋２２とから構成されている。蓋２２を本体２１に取り付けると、Ｏリング２３の作用により、蓋２２と本体２１とが密着され、チャンバ２内は密閉状態となる。また、本体２１内側の最上部近傍には、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）蒸気及び窒素ガスの導入管２４が２つ取り付けられている。この２つの導入管２４は、処理槽１の内部に収納される基板Ｗの配列方向（すなわち、図２の紙面に対して垂直方向）に沿って延びており、当該導入管２４の表面上には、ＩＰＡ蒸気及び窒素ガスを吐出して基板Ｗに供給するための複数の吐出口（図示せず）が設けられている。また、導入管２４の両端部は、本体２１の側面を貫通して、外部に設けられるＩＰＡ蒸気の供給源（図示せず）と接続されている。
【００１７】
次に、図２および図３を参照して、処理槽１の構成をより詳細に説明する。処理槽１の外壁は、外板１０１により規定され、ほぼ直方体の外形を有している。なお、処理槽１の上部は開口しており、その底部は中央部が下方に突出した逆屋根形状に形成されている。この逆屋根形状の稜線１０２は、基板Ｗの配列方向に沿って延びている。外板１０１の上部外周には、その周囲を取り囲むように、受け板１０３が設けられている。この受け板１０３は、外板１０１の上部周縁と協働して、処理槽１から溢れ出た液体（純水又は薬液）を受けるためのオーバーフロー溝１０４を形成する。処理槽１の前端近傍であって、受け板１０３の下部には、孔が開けられ、この孔にはオーバーフロー排液管１０５の一端が接続されている。オーバーフロー排液管１０５の他端は、図示しないが、チャンバ２の本体２１の側面を貫通して外部へと導かれている。すなわち、オーバーフロー溝１０４に溢れ出た純水（または薬液）は、このオーバーフロー排液管１０５を介してチャンバ２の外部へと排出される。
【００１８】
処理槽１の前端近傍であってその下部には、アップフロー管１０６が設けられる。このアップフロー管１０６の一端は、チャンバ２の本体２１の側面を貫通して外部へと導かれ、純水および薬液の供給源に接続されている。アップフロー管１０６の他端は、処理槽１の前端部で左右に分岐し、処理槽１の左右両側部に設けられた注入内管１０７と接続されている。この注入内管１０７の外周を所定の間隔を開けて取り囲むように、注入外管１０８が設けられる。左右の注入外管１０８は、それぞれ基板Ｗの配列方向に沿って延びており、処理槽１の底部と左右側部との間を連結している。注入内管１０７の外周には、その軸方向に沿って複数の孔１０７ａが所定間隔毎に形成されている。各孔１０７ａは、処理槽１内の基板Ｗと反対の方向に向いて開口している。注入外管１０８の外周には、複数のスリット１０８ａが所定の間隔毎に形成されている。各スリット１０８ａは、処理槽内の基板Ｗの方向に向いて開口している。また、各スリット１０８ａは、それぞれが各基板Ｗの間に位置するように配置されている。なお、左右の注入内管１０７および注入外管１０８は、処理槽１の後端近傍において、終端されている。
【００１９】
外板１０１の左右側部であって、注入外管１０８の斜め上方には、槽内排液管１０９が設けられる。この槽内排液管１０９の一端は、外板１０１の左右側部に開けられた孔１１０と接続されている。また、左右の槽内排液管１０９は、処理槽１の前端近傍において統合され、その他端は、図示しないがチャンバ２の本体２１の側面を貫通して外部へと導かれている。これによって、処理槽内の液体が槽内排液管１０９を介して外部へと排出される。
【００２０】
以上説明したように、アップフロー管１０６、注入内管１０７、注入外管１０８および槽内排液管１０９は、処理槽１の下部に設けられている。したがって、処理槽１の上部には、空間を確保しやすくなる。本基板処理部ＫＳでは、この空間を利用して複数の基板Ｗを処理槽１内に収納する。
【００２１】
処理槽１の内部には、左右１対の基板支持部１１１が固定的に設けられる。これら基板支持部１１１の両端は、外板１０１の内壁の前端側面部分及び後端側面部分に固着されている。各基板支持部１１１には、所定間隔で複数の溝が形成されており、この溝に基板Ｗが差し込まれることにより、処理槽１内で基板Ｗが位置決めされて支持される。
【００２２】
さらに、上記のような処理槽１に関連してリフタ４が設けられる。このリフタ４は、基板ガイド４１と、この基板ガイド４１を昇降させる昇降装置４２と、これら昇降装置４２および基板ガイド４１を連結する連結板４３とから構成される。基板ガイド４１には、前述の基板支持部１１１に形成された溝と同様のピッチで複数の溝が形成されており、この溝に基板Ｗが差し込まれることにより、基板Ｗが支持される。
【００２３】
シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５については、基板に各薬液を循環供給可能な構成としても良い。この場合、上記の基板処理部ＫＳのオーバーフロー排液管１０５の途中から分岐し、アップフロー管１０６に接続された戻り配管を設けて循環経路を形成すれば良い。そして、オーバーフロー排液管１０５と戻り配管との分岐個所にオーバーフロー排液管１０５中の薬液を減圧チャンバ２外へ排出するか、戻り配管の方向に流すかを切り替える切り替え弁を設けるとともに循環経路中に薬液を循環させるポンプを設ける構成とすれば良い。
また、シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５については、処理レシピに応じて後述の準備工程、洗浄工程および排液／乾燥工程を実行しない場合があり、この場合においては、上記の基板処理部ＫＳの構成から準備工程、洗浄工程および排液／乾燥工程にのみ必要な構成を省略しても良い。
【００２４】
上記のような構成を有する基板処理部ＫＳを複合処理部ＫＳ３（またはＫＳ４）に適用した際の動作を次に説明する。まず、減圧チャンバ２の外部の純水供給源からアップフロー管１０６に純水が供給される。アップフロー管１０６は、供給された純水を、注入内管１０７へと導く。注入内管１０７内へと導かれた純水は、注入内管１０７に形成された各孔１０７ａから、注入外管１０８の内部へと流出する。注入外管１０８内に流入した純水は、注入外管１０８に形成された各スリット１０８ａから処理槽１内へと噴出し、処理槽１内に貯留されていく。やがて、純水は、処理槽１の上部から溢れ出し、オーバーフロー溝１０４内に流れ込み、そして、オーバーフロー排液管１０５を介して減圧チャンバ２の外部へと排出される。したがって、処理槽１内に予め存在する不要物は、純水と共に減圧チャンバ２の外部に排出される。これによって、処理槽１内は、以下に説明する基板処理の直前に清浄にされる。一定時間経過後、純水の供給は、処理槽１内を清浄な状態に保つことができる必要最小限の流量に絞られる。こうして、基板処理の準備工程は終了する。
【００２５】
次に、減圧チャンバ２内には微量の窒素ガスその他の不活性ガスが導入されて、これによって、当該チャンバ２内がパージされる。また、純水の供給は、上述した必要最小限な流量から、処理に必要な流量に変更される。このような状況で、他工程の終了した基板Ｗが、基板処理部ＫＳの上部まで搬送される。このとき、減圧チャンバ２の蓋２２は開いており、基板ガイド４１は昇降装置４２によって減圧チャンバ２の上部まで持ち上げられている。次に、基板Ｗが基板ガイド４１上に載置され、支持される。次に、リフタ４は、昇降装置４２によって基板ガイド４１を下降させる。基板ガイド４１が処理槽１の内部の基板支持部１１１の固設位置よりも下方に下降すると、基板Ｗが基板ガイド４１から基板支持部１１１へと受け渡され、基板支持部１１１によって基板Ｗが位置決められて支持される。これによって、各基板Ｗは、処理槽１内に収納される。その後、本体２１に蓋２２が自動的に被せられる。このとき、Ｏリング２３の作用によって、減圧チャンバ２が密閉される。
【００２６】
次に、アルカリ処理工程について説明する。このアルカリ処理工程の間中、減圧チャンバ２内には所定量の窒素ガスが導入管２４から導入されており、これによって、当該チャンバ２内がパージされる。このような状況下で、減圧チャンバ２の外部の薬液供給源からアップフロー管１０６に流れている純水にアルカリ性の薬液（例えば、アンモニア水および過酸化水素水の混合液（ＳＣ−１））が供給される。アップフロー管１０６は、供給された薬液を、注入内管１０７へと導く。注入内管１０７内へと導かれた薬液は、注入内管１０７に形成された各孔１０７ａから、注入外管１０８の内部へと流出し、さらに注入外管１０８に形成された各スリット１０８ａを介して処理槽１内に噴出する。アップフロー管１０６には、外部の薬液供給源から一定時間継続的に薬液が供給されるため、処理槽１内における薬液の濃度は、徐々に高くなり、やがて一定濃度となる。その間、溢れ出した薬液は、オーバーフロー溝１０４内に流れ込み、オーバーフロー排液管１０５を介して減圧チャンバ２の外部へと排出される。これによって、基板Ｗは、常に新しい薬液に浸漬されることになる。そして、薬液供給源は、薬液処理工程の開始から一定時間経過すると、薬液の供給を停止し、アルカリ処理工程が終了する。
【００２７】
次に、第１の洗浄工程について説明する。洗浄工程では、減圧チャンバ２の外部の純水供給源からアップフロー管１０６に純水が供給される。アップフロー管１０６は、供給された純水を、注入内管１０７へと導く。注入内管１０７内へと導かれた純水は、注入内管１０７に形成された各孔１０７ａから、注入外管１０８の内部へと流出する。注入外管１０８内に流入した純水は、注入外管１０８に形成された各スリット１０８ａから処理槽１内へと噴出する。ここで、各スリット１０８ａは、処理槽内で配列された各基板Ｗの間に位置するように配置されているため、各スリット１０８ａから噴出した純水は、各基板Ｗの間へと流れ込み、各基板Ｗの表面がまんべんなく洗浄される。また、純水の供給により処理槽１の上部から溢れ出した液体は、オーバーフロー溝１０４内に流れ込み、オーバーフロー排液管１０５を介して減圧チャンバ２の外部へと排出される。このとき、処理槽１内で各基板Ｗを浸漬していた薬液は、純水中に滞留せず、オーバーフロー水と共に外部へと排出される。アップフロー管１０６には、外部の純水供給源から継続的に純水が供給されるため、徐々に処理槽内の薬液の濃度が薄まり、やがて処理槽１内は純水のみに置換される。そして、処理槽１内の液体の比抵抗値が所定値（好ましくは純水の比抵抗値）になったことを比抵抗計（図示せず）が検出すると、純水の供給が停止され、洗浄工程が終了する。なお、本実施形態では、基板を洗浄するために純水が用いられているが、これに限られず、基板を洗浄できる性質を有していれば他の洗浄液（例えば、ふっ酸添加純水）を用いても良い。
【００２８】
次に、酸処理工程を実行する。酸処理工程は、この工程で使用する薬液が、アルカリ性の薬液ではなく酸性の薬液（例えば、ふっ化水素酸）である点が異なるだけで、その他の動作は上述のアルカリ処理工程と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。そして、酸処理工程が終了した後、上述の第１の洗浄工程と同様の第２の洗浄工程が実行される。
【００２９】
次に、排液／乾燥工程について説明する。上記第２の洗浄工程終了後には、処理槽１には純水が十分に貯留されている。そのため、排水／乾燥工程では、まず最初に、この純水の液面を微小量低下させるため、槽内排液管１０９から純水が微小量排出される。これは、ＩＰＡ蒸気供給により純水の液面上で凝縮するＩＰＡが、処理槽１の外部へと流出することを防止するためである。上述したような純水の液面を微小量低下させた後、図示しない外部のＩＰＡ供給源から導入管２４にＩＰＡ蒸気が供給される。導入管２４は、処理槽１の内部に貯留されている純水の液面に向けて、供給されたＩＰＡ蒸気を噴出する。その結果、ＩＰＡ蒸気は、処理槽１内の純水液面上で凝縮する。
【００３０】
一定時間経過後（凝縮したＩＰＡ層が一定の厚さになった後）、処理槽１内の純水が、槽内排液管１０９から排出される。この排出の間中、導入管２４はＩＰＡ蒸気を供給し続けている。この排出によって純水の液面が降下するにつれて、当該各基板Ｗには純水液面上で凝縮したＩＰＡが付着することとなる。その結果、各基板Ｗの表面上に付着している液滴は、凝縮したＩＰＡに置換される。これによって、各基板Ｗの表面に液滴を残すことなく、当該各基板Ｗは十分に乾燥する。そして、純水液面レベルが十分に低下し、かつ各基板Ｗと基板支持部１１１との間に残留する純水をも十分に乾燥させると、ＩＰＡ蒸気の供給が停止される。なお、本実施形態では、基板を乾燥させるためにＩＰＡが用いられているが、これに限られず、水溶性でかつ基板上に残る水滴の表面張力を低下させる性質を有していれば、ＩＰＡ蒸気に代えて他の有機溶剤の蒸気を用いても良い。
【００３１】
ＩＰＡ蒸気の供給停止後、減圧チャンバ２内は所定量の窒素ガスによりパージされる。同時に、減圧チャンバ２内は減圧される。その結果、ＩＰＡの沸点が低下するので、減圧チャンバ２内に残留するＩＰＡは容易に蒸発し、各基板Ｗの表面は短時間で乾燥する。一定時間経過後（減圧チャンバ２内の不必要なＩＰＡを減圧によって乾燥させた後）、減圧が終了する。この減圧終了後、再度窒素ガスによるパージを実行して、減圧チャンバ２の内部を大気圧まで戻す。こうして、排液／乾燥工程が終了する。
【００３２】
また、基板処理部ＫＳをシンプル処理部ＫＳ１（またはＫＳ２）に適用する場合は、上述のアルカリ処理工程は実行せず、少なくとも酸処理工程を実行すれば良い。上述の準備工程、洗浄工程、排液／乾燥工程は省略しても良い。
同様に基板処理部ＫＳをシンプル処理部ＫＳ５に適用する場合は、上述の酸処理工程は実行せず、少なくともアルカリ処理工程を実行すれば良い。上述の準備工程、洗浄工程、排液／乾燥工程は省略しても良い。
シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５において、上述のように基板処理部ＫＳに循環経路等を設ける構成とした場合は、この構成に応じた動作とすれば良い。
【００３３】
なお、以上説明した基板処理部ＫＳの構成および動作は一例にすぎず、基板に薬液を供給して何らかの薬液処理を行うものであれば、他の構成の基板処理部を用いても良い。例えば、枚葉の基板を回転させつつ酸性の薬液またはアルカリ性の薬液を供給する基板処理部を用いても良い。
【００３４】
図４は、酸性の薬液を扱う基板処理部ＫＳ１（または、ＫＳ２）と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。図示のごとく、排気ダクトＨＤは、基板処理部ＫＳ１のチャンバ２の側面（図２におけるチャンバ２の背面）に一体的に固着されている。そして、排気ダクトＨＤの内部は、酸性の不要気体を排気するための第１の排気部ＨＤ１と、アルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部ＨＤ２との２層構造になっている。チャンバ２の側面において、第１の排気部ＨＤ１と対向する部分には、開口５１ａが形成されている。従って、基板処理部ＫＳ１の内部に充満した酸性の不要気体は、開口５１ａを介して、排気ダクトＨＤ内の第１の排気部ＨＤ１へと流入し排気される。
【００３５】
図５および図６は、酸性およびアルカリ性の薬液を扱う基板処理部ＫＳ３（またはＫＳ４）と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。なお、図５は、基板処理部ＫＳ３が酸性の薬液を扱うときの連結状態を示しており、図６は、基板処理部ＫＳ３がアルカリ性の薬液を扱うときの連結状態を示している。図示のごとく、基板処理部ＫＳ３のチャンバ２の側面（図２におけるチャンバ２の背面）において、第１の排気部ＨＤ１と対向する部分には開口５３ａが形成され、第２の排気部ＨＤ２と対向する部分には開口５３ｂが形成されている。排気ダクトＨＤの外底部には、ピストン昇降装置６１が設けられている。このピストン昇降装置６１は、その内部に挿入されたピストン６２を、電磁力や空気圧等によって昇降させる。ピストン６２は、排気ダクトＨＤの底面を貫通しており、第１の排気部ＨＤ１内で昇降動作を行う。また、基板処理部ＫＳ３の内部には、チャンバ２の内壁と当接する状態で、昇降隔壁板７が設けられている。この昇降隔壁板７は、開口５３ｂを介して第２の排気部ＨＤ２内へと延びる係止板７１を有しており、この係止板７１の先端がピストン６２によって係止されることにより、昇降隔壁板７がピストン６２によって支持される。
【００３６】
まず、図５を参照して、基板処理部ＫＳ３が上述の酸処理工程において酸性の薬液を扱うときの、基板処理部ＫＳ３と排気ダクトＨＤとの連結状態を説明する。この場合、ピストン６２は、ピストン昇降装置６１によって上昇され、上死点の位置にある。応じて、昇降隔壁板７も上死点の位置にあり、開口５３ａを開放し、開口５３ｂを閉塞している。その結果、基板処理部ＫＳ３内の不要気体は、開口５３ａを介して、排気ダクトＨＤ内の第１の排気部ＨＤ１へと流入し排気される。
【００３７】
次に、図６を参照して、基板処理部ＫＳ３が上述のアルカリ処理工程においてアルカリ性の薬液を扱うときの、基板処理部ＫＳ３と排気ダクトＨＤとの連結状態を説明する。この場合、ピストン６２は、ピストン昇降装置６１によって下降され、下死点の位置にある。応じて、昇降隔壁板７も下死点の位置にあり、開口５３ａを閉塞し、開口５３ｂを開放している。その結果、基板処理部ＫＳ３内の不要気体は、開口５３ｂを介して、排気ダクトＨＤ内の第２の排気部ＨＤ２へと流入し排気される。
【００３８】
上記のように、酸性およびアルカリ性の薬液を扱う複合処理部ＫＳ３においては、扱う薬液の性質に応じて、不要気体の排気経路を第１または第２の排気部ＨＤ１またはＨＤ２へと選択的に切り換えることができる。
【００３９】
図７は、アルカリ性の薬液を扱う基板処理装置ＫＳ５と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。図示のごとく、基板処理部ＫＳ４のチャンバ２の側面（図２におけるチャンバ２の背面）において、第２の排気部ＨＤ２と対向する部分には、開口５４ｂが形成されている。従って、基板処理部ＫＳ４の内部に充満したアルカリ性の不要気体は、開口５４ｂを介して、排気ダクトＨＤ内の第２の排気部ＨＤ２へと流入し排気される。
【００４０】
なお、シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５に上述の洗浄工程を実行するための洗浄処理部が隣接して配置される場合がある。この洗浄処理部は、例えばシンプル処理部ＫＳ１で酸性の薬液によって上述の酸処理工程が実行された基板を純水で洗浄処理するものである。
この洗浄処理部と排気ダクトＨＤとの連結構造は、隣接する基板処理部、すなわち洗浄処理工程の前処理工程に応じて決定される。例えば、シンプル処理部ＫＳ１に隣接する洗浄処理部では、前処理工程として酸性の薬液による酸処理工程が実行されているので、洗浄処理部に搬入された基板には酸性の薬液が付着している。その結果、洗浄処理部の内部は酸性の不要気体が充満する。したがって、この洗浄処理部と排気ダクトとの連結構造は、図５に図示されるように洗浄処理部の内部と排気部ＨＤ１とが連通する構造とすれば良い。
同様に、例えば、シンプル処理部ＫＳ５に隣接する洗浄処理部では、前処理工程としてアルカリ性の薬液にアルカリ処理工程が実行されているので、この洗浄処理部と排気ダクトとの連結構造は、図７に図示されるように洗浄処理部の内部と排気部ＨＤ２とが連通する構造とすれば良い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の外観斜視図である。
【図２】図１に示す各基板処理部の構成の一例を示す断面図である。
【図３】チャンバ２内に収納される処理槽１の構成を示す一部破断斜視図である。
【図４】酸性の薬液を扱うシンプル処理部ＫＳ１（または、ＫＳ２）と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。
【図５】酸性およびアルカリ性の薬液を扱う複合処理部ＫＳ３（または、ＫＳ４）と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図であり、特に、複合処理部ＫＳ３が酸性の薬液を扱うときの連結状態を示す図である。
【図６】酸性およびアルカリ性の薬液を扱う複合処理部ＫＳ３（または、ＫＳ４）と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図であり、特に、複合処理部ＫＳ３がアルカリ性の薬液を扱うときの連結状態を示す図である。
【図７】アルカリ性の薬液を扱うシンプル処理部ＫＳ５と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。
【符号の説明】
ＫＳ１〜ＫＳ５…基板処理部
ＨＤ…排気ダクト
ＨＤ１…第１の排気部
ＨＤ２…第２の排気部
１…処理槽
２…チャンバ
６１…ピストン昇降装置
６２…ピストン
７…昇降隔壁板
７１…係止板

Claims

酸性の薬液を扱う第１の処理部とアルカリ性の薬液を扱う第２の処理部とが連接された基板処理装置であって、
第１の処理部および第２の処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部との２層に分かれており、さらに第１の処理部との連結部では、第１の排気部が第１の処理部の内部と連通しており、第２の処理部との連結部では、第２の排気部が第２の処理部の内部と連通している排気ダクトを備え、
前記第１の排気部と前記第２の排気部とは隣接した２層構造であり、前記第１の排気部は前記第１の処理部および前記第２の処理部に対して隣接しているとともに、前記第２の排気部は前記第１の処理部および前記第２の処理部に対して隣接している、基板処理装置。
酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の両方を扱う複合処理部が複数連接された基板処理装置であって、
複数の複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部との２層に分かれており、さらにそれぞれの複合処理部との連結部では、第１の排気部および第２の排気部が複合処理部の内部と連通している排気ダクトと、
前記排気ダクトとそれぞれの複合処理部との連結部に設けられ、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り替えて開放または閉塞させるための切り替え手段とを備える、基板処理装置。
酸性の薬液またはアルカリ性の薬液のいずれかを扱うシンプル処理部と酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の両方を扱う複合処理部とが連接された基板処理装置であって、
シンプル処理部および複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部との２層に分かれており、さらに前記シンプル処理部との連結部では、第１の排気部または第２の排気部がシンプル処理部の内部と連通しており、前記複合処理部との連結部では、第１の排気部および第２の排気部が複合処理部の内部と連通している排気ダクトと、
前記排気ダクトと前記複合処理部との連結部に設けられ、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り替えて開放または閉塞させるための切り替え手段とを備える、基板処理装置。