JP2000114229A

JP2000114229A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2000114229A
Application number: JP10275715A
Authority: JP
Inventors: Koji Kurasaki; 浩二倉崎; Kenichiro Arai; 健一郎新居
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-09-29
Filing date: 1998-09-29
Publication date: 2000-04-21
Anticipated expiration: 2018-09-29
Also published as: JP3672444B2

Abstract

(57)【要約】【課題】排気機構の占有スペースが最小限ですむよう
な基板処理装置を提供することである。【解決手段】本基板処理装置は、酸性またはアルカリ
性の薬液のいずれかを扱うシンプル処理部ＫＳ１，ＫＳ
２およびＫＳ５と、酸性およびアルカリ性の薬液の両方
を扱う複合処理部ＫＳ３およびＫＳ４とが、連接して構
成される。排気ダクトＨＤは、全ての基板処理装置に対
して共通的かつ一体的に取り付けられ、その内部が、酸
性の不要気体を排気する第１の排気部ＨＤ１と、アルカ
リ性の不要気体を排気する第２の排気部ＨＤ２とに分か
れている。そして、シンプル処理部との連結部では、第
１または第２の排気部が基板処理部内部と連通してい
る。また、複合処理部との連結部では、第１および第２
の排気部が基板処理部内部と連通しており、さらに、こ
れら連通部が選択的に切り換えて開放または閉塞され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
し、より特定的には、半導体デバイス製造プロセス、液
晶ディスプレイ製造プロセス、電子部品関連製造プロセ
ス等において、シリコンウエハ、ＦＰＤ（ＦｌａｔＰ
ａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用ガ
ラス基板、電子部品等の各種基板に対して、薬液処理を
実行する基板処理部を複数備えた基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、処理の対象となる基板を処理槽内
に収納し、当該処理槽に各種薬液を供給して循環させる
ことにより、当該基板に対して種々の薬液処理（洗浄処
理、エッチング処理等）を施すような基板処理装置が知
られている。通常、このような基板処理装置は、使用す
る薬液から生じるミストや揮発性のガス（以下、これら
を不要気体と称す）が外部に漏れるのを防ぐために、密
閉性のあるチャンバ内に収納されている。

【０００３】ところで、実際の処理工程では、１台の基
板処理装置を単独で使用することは少なく、１台の基板
処理装置を１つの基板処理部として複数の基板処理部を
連接し、１台の基板処理装置として使用することが多
い。これによって、複数の薬液処理を順次的かつ連続的
に行うことが可能となる。また、各基板処理部のチャン
バ内には、薬液から生じる不要気体が充満するため、こ
れを排気する必要がある。基板処理装置で扱う薬液に
は、大別すると、酸性の薬液と、アルカリ性の薬液とが
ある。もし、酸性の薬液から生じる酸性の不要気体と、
アルカリ性の薬液から生じるアルカリ性の不要気体と
を、１本のダクトで排気しようとすると、酸とアルカリ
とが反応して塩を生じるため、酸性の不要気体とアルカ
リ性の不要気体は、別々のダクトで排気する必要があ
る。従来は、各基板処理部のチャンバに引き込み管を設
け、この引き込み管を酸性用の排気ダクトまたはアルカ
リ性用の排気ダクトのいずれかに連通させるようにして
いた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、複数の
基板処理部を連接して構成される従来の基板処理装置で
は、各基板処理部毎に引き込み管を設けているため、シ
ステム全体のサイズが大型化するという問題点があっ
た。また、最近、酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の
両方を扱うような複合タイプの基板処理部（以下、複合
処理部と称す）を含む基板処理装置が実用化されてい
る。このような複合処理部では、チャンバを、酸性用の
排気ダクトまたはアルカリ性用の排気ダクトいずれか
に、選択的に切り換えて連通させなければならないた
め、引き込み管に弁機構を設けており、これがシステム
のコストを上昇させていた。

【０００５】それ故に、本発明の目的は、排気機構の占
有スペースが最小限ですむような基板処理システムを提
供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
は、上記のような目的を達成するために、以下に示すよ
うな特徴を有している。

【０００７】第１の発明は、酸性の薬液を扱う第１の処
理部とアルカリ性の薬液を扱う第２の処理部とが連接さ
れた基板処理装置であって、第１の処理部および第２の
処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、その
内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気部と
アルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気部と
の２層に分かれており、さらに第１の処理部との連結部
では、第１の排気部が第１の処理部の内部と連通してお
り、第２の処理部との連結部では、第２の排気部が第２
の処理部の内部と連通している排気ダクトを備えてい
る。

【０００８】上記のように、第１の発明によれば、排気
ダクトが各処理部に対して共通的かつ一体的に取り付け
られているため、各処理部毎に引き込み配管を設けて排
気ダクトと接続する必要がなくなり、装置全体の構成が
簡素化される。

【０００９】第２の発明は、酸性の薬液およびアルカリ
性の薬液の両方を扱う複合処理部が複数連接された基板
処理装置であって、複数の複合処理部に対して共通的か
つ一体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を
排気するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を
排気する為の第２の排気部との２層に分かれており、さ
らにそれぞれの複合処理部との連結部では、第１の排気
部および第２の排気部が複合処理部の内部と連通してい
る排気ダクトと、排気ダクトとそれぞれの複合処理部と
の連結部に設けられ、第１の排気部に対する連通部と第
２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り替えて開
放または閉塞させるための切り替え手段とを備えてい
る。

【００１０】上記のように、第２の発明によれば、排気
ダクトが各複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り
付けられているため、各複合処理部毎に引き込み配管を
設けて排気ダクトと接続する必要がなくなり、装置全体
の構成が簡素化される。また、排気ダクトと複合処理部
との連結部では、第１の排気部に対する連通部と第２の
排気部に対する連通部とを、選択的に切り換えて開放ま
たは閉塞させるような構造になっているため、従来のよ
うな複雑な弁機構を設ける必要がなくなり、装置コスト
が安くなる。

【００１１】第３の発明は、酸性の薬液またはアルカリ
性の薬液のいずれかを扱うシンプル処理部と酸性の薬液
およびアルカリ性の薬液の両方を扱う複合処理部とが連
接された基板処理装置であって、シンプル処理部および
複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付けられ、
その内部が酸性の不要気体を排気するための第１の排気
部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２の排気
部との２層に分かれており、さらにシンプル処理部との
連結部では、第１の排気部または第２の排気部がシンプ
ル処理部の内部と連通しており、複合処理部との連結部
では、第１の排気部および第２の排気部が複合処理部の
内部と連通している排気ダクトと、排気ダクトと複合処
理部との連結部に設けられ、第１の排気部に対する連通
部と第２の排気部に対する連通部とを、選択的に切り替
えて開放または閉塞させるための切り替え手段とを備え
ている。

【００１２】上記のように、第３の発明によれば、排気
ダクトが各処理部に対して共通的かつ一体的に取り付け
られているため、各処理部毎に引き込み配管を設けて排
気ダクトと接続する必要がなくなり、装置全体の構成が
簡素化される。また、排気ダクトと複合処理部との連結
部では、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に
対する連通部とを、選択的に切り換えて開放または閉塞
させるような構造になっているため、従来のような複雑
な弁機構を設ける必要がなくなり、装置コストが安くな
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
る基板処理装置の外観斜視図である。図１において、本
実施形態の基板処理装置は、連接された複数の基板処理
部ＫＳ１〜ＫＳ５によって構成されている。ここでは、
基板処理部ＫＳ１およびＫＳ２が、例えば、硫酸、ふっ
化水素酸、硝酸や塩酸および過酸化水素水の混合液（Ｓ
Ｃ−２）などの酸性の薬液を扱うシンプルタイプの基板
処理部（以下、シンプル処理部と称す）として、基板処
理部ＫＳ３およびＫＳ４が上記の酸性の薬液およびアン
モニア水および過酸化水素水の混合液（ＳＣ−１）など
のアルカリ性の薬液を扱う複合処理部として、基板処理
部ＫＳ５が上記のアルカリ性の薬液を扱うシンプル処理
部として示されている。なお、このような組合せは例示
にすぎず、他の組合せも勿論可能である。また、連接さ
れる基板処理部の数も、図１の構成に限定されるもので
はない。

【００１４】さらに、各基板処理装置ＫＳ１〜ＫＳ５の
側面には、排気ダクトＨＤが一体的に設けられる。この
排気ダクトＨＤは、その内部が、酸性の不要気体を排気
するための第１の排気部ＨＤ１と、アルカリ性の不要気
体を排気するための第２の排気部ＨＤ２との２層構造に
なっている。なお、排気ダクトＨＤと各基板処理部ＫＳ
１〜ＫＳ５との連結構造については、後述する。また、
排気ダクトＨＤは、図示しない排気装置に接続されてお
り、その内部が吸引されて負圧とされることにより、各
基板処理部ＫＳ１〜ＫＳ５内の不要気体を強制排気す
る。

【００１５】図２は、図１に示す各基板処理部ＫＳ１〜
ＫＳ５（図２では、基板処理部ＫＳと表記する）の構成
の一例を示す断面図である。図３は、チャンバ２内に収
納される処理槽１の構成を示す一部破断斜視図である。
以下、図２および図３を参照して、基板処理装置ＫＳの
構成について説明する。

【００１６】図２において、処理槽１は、チャンバ２内
に収納されている。この処理槽１の内部には、複数枚の
基板Ｗが互いに所定の間隔を開けて、かつ平行に配列さ
れている。チャンバ２は、処理槽１を収納する本体２１
と、この本体２１の上部に取り付けられる蓋２２とから
構成されている。蓋２２を本体２１に取り付けると、Ｏ
リング２３の作用により、蓋２２と本体２１とが密着さ
れ、チャンバ２内は密閉状態となる。また、本体２１内
側の最上部近傍には、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）蒸気及び窒素ガスの導入管２４が２つ取り付けられ
ている。この２つの導入管２４は、処理槽１の内部に収
納される基板Ｗの配列方向（すなわち、図２の紙面に対
して垂直方向）に沿って延びており、当該導入管２４の
表面上には、ＩＰＡ蒸気及び窒素ガスを吐出して基板Ｗ
に供給するための複数の吐出口（図示せず）が設けられ
ている。また、導入管２４の両端部は、本体２１の側面
を貫通して、外部に設けられるＩＰＡ蒸気の供給源（図
示せず）と接続されている。

【００１７】次に、図２および図３を参照して、処理槽
１の構成をより詳細に説明する。処理槽１の外壁は、外
板１０１により規定され、ほぼ直方体の外形を有してい
る。なお、処理槽１の上部は開口しており、その底部は
中央部が下方に突出した逆屋根形状に形成されている。
この逆屋根形状の稜線１０２は、基板Ｗの配列方向に沿
って延びている。外板１０１の上部外周には、その周囲
を取り囲むように、受け板１０３が設けられている。こ
の受け板１０３は、外板１０１の上部周縁と協働して、
処理槽１から溢れ出た液体（純水又は薬液）を受けるた
めのオーバーフロー溝１０４を形成する。処理槽１の前
端近傍であって、受け板１０３の下部には、孔が開けら
れ、この孔にはオーバーフロー排液管１０５の一端が接
続されている。オーバーフロー排液管１０５の他端は、
図示しないが、チャンバ２の本体２１の側面を貫通して
外部へと導かれている。すなわち、オーバーフロー溝１
０４に溢れ出た純水（または薬液）は、このオーバーフ
ロー排液管１０５を介してチャンバ２の外部へと排出さ
れる。

【００１８】処理槽１の前端近傍であってその下部に
は、アップフロー管１０６が設けられる。このアップフ
ロー管１０６の一端は、チャンバ２の本体２１の側面を
貫通して外部へと導かれ、純水および薬液の供給源に接
続されている。アップフロー管１０６の他端は、処理槽
１の前端部で左右に分岐し、処理槽１の左右両側部に設
けられた注入内管１０７と接続されている。この注入内
管１０７の外周を所定の間隔を開けて取り囲むように、
注入外管１０８が設けられる。左右の注入外管１０８
は、それぞれ基板Ｗの配列方向に沿って延びており、処
理槽１の底部と左右側部との間を連結している。注入内
管１０７の外周には、その軸方向に沿って複数の孔１０
７ａが所定間隔毎に形成されている。各孔１０７ａは、
処理槽１内の基板Ｗと反対の方向に向いて開口してい
る。注入外管１０８の外周には、複数のスリット１０８
ａが所定の間隔毎に形成されている。各スリット１０８
ａは、処理槽内の基板Ｗの方向に向いて開口している。
また、各スリット１０８ａは、それぞれが各基板Ｗの間
に位置するように配置されている。なお、左右の注入内
管１０７および注入外管１０８は、処理槽１の後端近傍
において、終端されている。

【００１９】外板１０１の左右側部であって、注入外管
１０８の斜め上方には、槽内排液管１０９が設けられ
る。この槽内排液管１０９の一端は、外板１０１の左右
側部に開けられた孔１１０と接続されている。また、左
右の槽内排液管１０９は、処理槽１の前端近傍において
統合され、その他端は、図示しないがチャンバ２の本体
２１の側面を貫通して外部へと導かれている。これによ
って、処理槽内の液体が槽内排液管１０９を介して外部
へと排出される。

【００２０】以上説明したように、アップフロー管１０
６、注入内管１０７、注入外管１０８および槽内排液管
１０９は、処理槽１の下部に設けられている。したがっ
て、処理槽１の上部には、空間を確保しやすくなる。本
基板処理部ＫＳでは、この空間を利用して複数の基板Ｗ
を処理槽１内に収納する。

【００２１】処理槽１の内部には、左右１対の基板支持
部１１１が固定的に設けられる。これら基板支持部１１
１の両端は、外板１０１の内壁の前端側面部分及び後端
側面部分に固着されている。各基板支持部１１１には、
所定間隔で複数の溝が形成されており、この溝に基板Ｗ
が差し込まれることにより、処理槽１内で基板Ｗが位置
決めされて支持される。

【００２２】さらに、上記のような処理槽１に関連して
リフタ４が設けられる。このリフタ４は、基板ガイド４
１と、この基板ガイド４１を昇降させる昇降装置４２
と、これら昇降装置４２および基板ガイド４１を連結す
る連結板４３とから構成される。基板ガイド４１には、
前述の基板支持部１１１に形成された溝と同様のピッチ
で複数の溝が形成されており、この溝に基板Ｗが差し込
まれることにより、基板Ｗが支持される。

【００２３】シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５に
ついては、基板に各薬液を循環供給可能な構成としても
良い。この場合、上記の基板処理部ＫＳのオーバーフロ
ー排液管１０５の途中から分岐し、アップフロー管１０
６に接続された戻り配管を設けて循環経路を形成すれば
良い。そして、オーバーフロー排液管１０５と戻り配管
との分岐個所にオーバーフロー排液管１０５中の薬液を
減圧チャンバ２外へ排出するか、戻り配管の方向に流す
かを切り替える切り替え弁を設けるとともに循環経路中
に薬液を循環させるポンプを設ける構成とすれば良い。
また、シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５について
は、処理レシピに応じて後述の準備工程、洗浄工程およ
び排液／乾燥工程を実行しない場合があり、この場合に
おいては、上記の基板処理部ＫＳの構成から準備工程、
洗浄工程および排液／乾燥工程にのみ必要な構成を省略
しても良い。

【００２４】上記のような構成を有する基板処理部ＫＳ
を複合処理部ＫＳ３（またはＫＳ４）に適用した際の動
作を次に説明する。まず、減圧チャンバ２の外部の純水
供給源からアップフロー管１０６に純水が供給される。
アップフロー管１０６は、供給された純水を、注入内管
１０７へと導く。注入内管１０７内へと導かれた純水
は、注入内管１０７に形成された各孔１０７ａから、注
入外管１０８の内部へと流出する。注入外管１０８内に
流入した純水は、注入外管１０８に形成された各スリッ
ト１０８ａから処理槽１内へと噴出し、処理槽１内に貯
留されていく。やがて、純水は、処理槽１の上部から溢
れ出し、オーバーフロー溝１０４内に流れ込み、そし
て、オーバーフロー排液管１０５を介して減圧チャンバ
２の外部へと排出される。したがって、処理槽１内に予
め存在する不要物は、純水と共に減圧チャンバ２の外部
に排出される。これによって、処理槽１内は、以下に説
明する基板処理の直前に清浄にされる。一定時間経過
後、純水の供給は、処理槽１内を清浄な状態に保つこと
ができる必要最小限の流量に絞られる。こうして、基板
処理の準備工程は終了する。

【００２５】次に、減圧チャンバ２内には微量の窒素ガ
スその他の不活性ガスが導入されて、これによって、当
該チャンバ２内がパージされる。また、純水の供給は、
上述した必要最小限な流量から、処理に必要な流量に変
更される。このような状況で、他工程の終了した基板Ｗ
が、基板処理部ＫＳの上部まで搬送される。このとき、
減圧チャンバ２の蓋２２は開いており、基板ガイド４１
は昇降装置４２によって減圧チャンバ２の上部まで持ち
上げられている。次に、基板Ｗが基板ガイド４１上に載
置され、支持される。次に、リフタ４は、昇降装置４２
によって基板ガイド４１を下降させる。基板ガイド４１
が処理槽１の内部の基板支持部１１１の固設位置よりも
下方に下降すると、基板Ｗが基板ガイド４１から基板支
持部１１１へと受け渡され、基板支持部１１１によって
基板Ｗが位置決められて支持される。これによって、各
基板Ｗは、処理槽１内に収納される。その後、本体２１
に蓋２２が自動的に被せられる。このとき、Ｏリング２
３の作用によって、減圧チャンバ２が密閉される。

【００２６】次に、アルカリ処理工程について説明す
る。このアルカリ処理工程の間中、減圧チャンバ２内に
は所定量の窒素ガスが導入管２４から導入されており、
これによって、当該チャンバ２内がパージされる。この
ような状況下で、減圧チャンバ２の外部の薬液供給源か
らアップフロー管１０６に流れている純水にアルカリ性
の薬液（例えば、アンモニア水および過酸化水素水の混
合液（ＳＣ−１））が供給される。アップフロー管１０
６は、供給された薬液を、注入内管１０７へと導く。注
入内管１０７内へと導かれた薬液は、注入内管１０７に
形成された各孔１０７ａから、注入外管１０８の内部へ
と流出し、さらに注入外管１０８に形成された各スリッ
ト１０８ａを介して処理槽１内に噴出する。アップフロ
ー管１０６には、外部の薬液供給源から一定時間継続的
に薬液が供給されるため、処理槽１内における薬液の濃
度は、徐々に高くなり、やがて一定濃度となる。その
間、溢れ出した薬液は、オーバーフロー溝１０４内に流
れ込み、オーバーフロー排液管１０５を介して減圧チャ
ンバ２の外部へと排出される。これによって、基板Ｗ
は、常に新しい薬液に浸漬されることになる。そして、
薬液供給源は、薬液処理工程の開始から一定時間経過す
ると、薬液の供給を停止し、アルカリ処理工程が終了す
る。

【００２７】次に、第１の洗浄工程について説明する。
洗浄工程では、減圧チャンバ２の外部の純水供給源から
アップフロー管１０６に純水が供給される。アップフロ
ー管１０６は、供給された純水を、注入内管１０７へと
導く。注入内管１０７内へと導かれた純水は、注入内管
１０７に形成された各孔１０７ａから、注入外管１０８
の内部へと流出する。注入外管１０８内に流入した純水
は、注入外管１０８に形成された各スリット１０８ａか
ら処理槽１内へと噴出する。ここで、各スリット１０８
ａは、処理槽内で配列された各基板Ｗの間に位置するよ
うに配置されているため、各スリット１０８ａから噴出
した純水は、各基板Ｗの間へと流れ込み、各基板Ｗの表
面がまんべんなく洗浄される。また、純水の供給により
処理槽１の上部から溢れ出した液体は、オーバーフロー
溝１０４内に流れ込み、オーバーフロー排液管１０５を
介して減圧チャンバ２の外部へと排出される。このと
き、処理槽１内で各基板Ｗを浸漬していた薬液は、純水
中に滞留せず、オーバーフロー水と共に外部へと排出さ
れる。アップフロー管１０６には、外部の純水供給源か
ら継続的に純水が供給されるため、徐々に処理槽内の薬
液の濃度が薄まり、やがて処理槽１内は純水のみに置換
される。そして、処理槽１内の液体の比抵抗値が所定値
（好ましくは純水の比抵抗値）になったことを比抵抗計
（図示せず）が検出すると、純水の供給が停止され、洗
浄工程が終了する。なお、本実施形態では、基板を洗浄
するために純水が用いられているが、これに限られず、
基板を洗浄できる性質を有していれば他の洗浄液（例え
ば、ふっ酸添加純水）を用いても良い。

【００２８】次に、酸処理工程を実行する。酸処理工程
は、この工程で使用する薬液が、アルカリ性の薬液では
なく酸性の薬液（例えば、ふっ化水素酸）である点が異
なるだけで、その他の動作は上述のアルカリ処理工程と
同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。そし
て、酸処理工程が終了した後、上述の第１の洗浄工程と
同様の第２の洗浄工程が実行される。

【００２９】次に、排液／乾燥工程について説明する。
上記第２の洗浄工程終了後には、処理槽１には純水が十
分に貯留されている。そのため、排水／乾燥工程では、
まず最初に、この純水の液面を微小量低下させるため、
槽内排液管１０９から純水が微小量排出される。これ
は、ＩＰＡ蒸気供給により純水の液面上で凝縮するＩＰ
Ａが、処理槽１の外部へと流出することを防止するため
である。上述したような純水の液面を微小量低下させた
後、図示しない外部のＩＰＡ供給源から導入管２４にＩ
ＰＡ蒸気が供給される。導入管２４は、処理槽１の内部
に貯留されている純水の液面に向けて、供給されたＩＰ
Ａ蒸気を噴出する。その結果、ＩＰＡ蒸気は、処理槽１
内の純水液面上で凝縮する。

【００３０】一定時間経過後（凝縮したＩＰＡ層が一定
の厚さになった後）、処理槽１内の純水が、槽内排液管
１０９から排出される。この排出の間中、導入管２４は
ＩＰＡ蒸気を供給し続けている。この排出によって純水
の液面が降下するにつれて、当該各基板Ｗには純水液面
上で凝縮したＩＰＡが付着することとなる。その結果、
各基板Ｗの表面上に付着している液滴は、凝縮したＩＰ
Ａに置換される。これによって、各基板Ｗの表面に液滴
を残すことなく、当該各基板Ｗは十分に乾燥する。そし
て、純水液面レベルが十分に低下し、かつ各基板Ｗと基
板支持部１１１との間に残留する純水をも十分に乾燥さ
せると、ＩＰＡ蒸気の供給が停止される。なお、本実施
形態では、基板を乾燥させるためにＩＰＡが用いられて
いるが、これに限られず、水溶性でかつ基板上に残る水
滴の表面張力を低下させる性質を有していれば、ＩＰＡ
蒸気に代えて他の有機溶剤の蒸気を用いても良い。

【００３１】ＩＰＡ蒸気の供給停止後、減圧チャンバ２
内は所定量の窒素ガスによりパージされる。同時に、減
圧チャンバ２内は減圧される。その結果、ＩＰＡの沸点
が低下するので、減圧チャンバ２内に残留するＩＰＡは
容易に蒸発し、各基板Ｗの表面は短時間で乾燥する。一
定時間経過後（減圧チャンバ２内の不必要なＩＰＡを減
圧によって乾燥させた後）、減圧が終了する。この減圧
終了後、再度窒素ガスによるパージを実行して、減圧チ
ャンバ２の内部を大気圧まで戻す。こうして、排液／乾
燥工程が終了する。

【００３２】また、基板処理部ＫＳをシンプル処理部Ｋ
Ｓ１（またはＫＳ２）に適用する場合は、上述のアルカ
リ処理工程は実行せず、少なくとも酸処理工程を実行す
れば良い。上述の準備工程、洗浄工程、排液／乾燥工程
は省略しても良い。同様に基板処理部ＫＳをシンプル処
理部ＫＳ５に適用する場合は、上述の酸処理工程は実行
せず、少なくともアルカリ処理工程を実行すれば良い。
上述の準備工程、洗浄工程、排液／乾燥工程は省略して
も良い。シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、ＫＳ５におい
て、上述のように基板処理部ＫＳに循環経路等を設ける
構成とした場合は、この構成に応じた動作とすれば良
い。

【００３３】なお、以上説明した基板処理部ＫＳの構成
および動作は一例にすぎず、基板に薬液を供給して何ら
かの薬液処理を行うものであれば、他の構成の基板処理
部を用いても良い。例えば、枚葉の基板を回転させつつ
酸性の薬液またはアルカリ性の薬液を供給する基板処理
部を用いても良い。

【００３４】図４は、酸性の薬液を扱う基板処理部ＫＳ
１（または、ＫＳ２）と排気ダクトＨＤとの連結構造を
示す断面図である。図示のごとく、排気ダクトＨＤは、
基板処理部ＫＳ１のチャンバ２の側面（図２におけるチ
ャンバ２の背面）に一体的に固着されている。そして、
排気ダクトＨＤの内部は、酸性の不要気体を排気するた
めの第１の排気部ＨＤ１と、アルカリ性の不要気体を排
気するための第２の排気部ＨＤ２との２層構造になって
いる。チャンバ２の側面において、第１の排気部ＨＤ１
と対向する部分には、開口５１ａが形成されている。従
って、基板処理部ＫＳ１の内部に充満した酸性の不要気
体は、開口５１ａを介して、排気ダクトＨＤ内の第１の
排気部ＨＤ１へと流入し排気される。

【００３５】図５および図６は、酸性およびアルカリ性
の薬液を扱う基板処理部ＫＳ３（またはＫＳ４）と排気
ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。なお、図
５は、基板処理部ＫＳ３が酸性の薬液を扱うときの連結
状態を示しており、図６は、基板処理部ＫＳ３がアルカ
リ性の薬液を扱うときの連結状態を示している。図示の
ごとく、基板処理部ＫＳ３のチャンバ２の側面（図２に
おけるチャンバ２の背面）において、第１の排気部ＨＤ
１と対向する部分には開口５３ａが形成され、第２の排
気部ＨＤ２と対向する部分には開口５３ｂが形成されて
いる。排気ダクトＨＤの外底部には、ピストン昇降装置
６１が設けられている。このピストン昇降装置６１は、
その内部に挿入されたピストン６２を、電磁力や空気圧
等によって昇降させる。ピストン６２は、排気ダクトＨ
Ｄの底面を貫通しており、第１の排気部ＨＤ１内で昇降
動作を行う。また、基板処理部ＫＳ３の内部には、チャ
ンバ２の内壁と当接する状態で、昇降隔壁板７が設けら
れている。この昇降隔壁板７は、開口５３ｂを介して第
２の排気部ＨＤ２内へと延びる係止板７１を有してお
り、この係止板７１の先端がピストン６２によって係止
されることにより、昇降隔壁板７がピストン６２によっ
て支持される。

【００３６】まず、図５を参照して、基板処理部ＫＳ３
が上述の酸処理工程において酸性の薬液を扱うときの、
基板処理部ＫＳ３と排気ダクトＨＤとの連結状態を説明
する。この場合、ピストン６２は、ピストン昇降装置６
１によって上昇され、上死点の位置にある。応じて、昇
降隔壁板７も上死点の位置にあり、開口５３ａを開放
し、開口５３ｂを閉塞している。その結果、基板処理部
ＫＳ３内の不要気体は、開口５３ａを介して、排気ダク
トＨＤ内の第１の排気部ＨＤ１へと流入し排気される。

【００３７】次に、図６を参照して、基板処理部ＫＳ３
が上述のアルカリ処理工程においてアルカリ性の薬液を
扱うときの、基板処理部ＫＳ３と排気ダクトＨＤとの連
結状態を説明する。この場合、ピストン６２は、ピスト
ン昇降装置６１によって下降され、下死点の位置にあ
る。応じて、昇降隔壁板７も下死点の位置にあり、開口
５３ａを閉塞し、開口５３ｂを開放している。その結
果、基板処理部ＫＳ３内の不要気体は、開口５３ｂを介
して、排気ダクトＨＤ内の第２の排気部ＨＤ２へと流入
し排気される。

【００３８】上記のように、酸性およびアルカリ性の薬
液を扱う複合処理部ＫＳ３においては、扱う薬液の性質
に応じて、不要気体の排気経路を第１または第２の排気
部ＨＤ１またはＨＤ２へと選択的に切り換えることがで
きる。

【００３９】図７は、アルカリ性の薬液を扱う基板処理
装置ＫＳ５と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図
である。図示のごとく、基板処理部ＫＳ４のチャンバ２
の側面（図２におけるチャンバ２の背面）において、第
２の排気部ＨＤ２と対向する部分には、開口５４ｂが形
成されている。従って、基板処理部ＫＳ４の内部に充満
したアルカリ性の不要気体は、開口５４ｂを介して、排
気ダクトＨＤ内の第２の排気部ＨＤ２へと流入し排気さ
れる。

【００４０】なお、シンプル処理部ＫＳ１、ＫＳ２、Ｋ
Ｓ５に上述の洗浄工程を実行するための洗浄処理部が隣
接して配置される場合がある。この洗浄処理部は、例え
ばシンプル処理部ＫＳ１で酸性の薬液によって上述の酸
処理工程が実行された基板を純水で洗浄処理するもので
ある。この洗浄処理部と排気ダクトＨＤとの連結構造
は、隣接する基板処理部、すなわち洗浄処理工程の前処
理工程に応じて決定される。例えば、シンプル処理部Ｋ
Ｓ１に隣接する洗浄処理部では、前処理工程として酸性
の薬液による酸処理工程が実行されているので、洗浄処
理部に搬入された基板には酸性の薬液が付着している。
その結果、洗浄処理部の内部は酸性の不要気体が充満す
る。したがって、この洗浄処理部と排気ダクトとの連結
構造は、図５に図示されるように洗浄処理部の内部と排
気部ＨＤ１とが連通する構造とすれば良い。同様に、例
えば、シンプル処理部ＫＳ５に隣接する洗浄処理部で
は、前処理工程としてアルカリ性の薬液にアルカリ処理
工程が実行されているので、この洗浄処理部と排気ダク
トとの連結構造は、図７に図示されるように洗浄処理部
の内部と排気部ＨＤ２とが連通する構造とすれば良い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の外観
斜視図である。

【図２】図１に示す各基板処理部の構成の一例を示す断
面図である。

【図３】チャンバ２内に収納される処理槽１の構成を示
す一部破断斜視図である。

【図４】酸性の薬液を扱うシンプル処理部ＫＳ１（また
は、ＫＳ２）と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面
図である。

【図５】酸性およびアルカリ性の薬液を扱う複合処理部
ＫＳ３（または、ＫＳ４）と排気ダクトＨＤとの連結構
造を示す断面図であり、特に、複合処理部ＫＳ３が酸性
の薬液を扱うときの連結状態を示す図である。

【図６】酸性およびアルカリ性の薬液を扱う複合処理部
ＫＳ３（または、ＫＳ４）と排気ダクトＨＤとの連結構
造を示す断面図であり、特に、複合処理部ＫＳ３がアル
カリ性の薬液を扱うときの連結状態を示す図である。

【図７】アルカリ性の薬液を扱うシンプル処理部ＫＳ５
と排気ダクトＨＤとの連結構造を示す断面図である。

【符号の説明】

ＫＳ１〜ＫＳ５…基板処理部ＨＤ…排気ダクトＨＤ１…第１の排気部ＨＤ２…第２の排気部１…処理槽２…チャンバ６１…ピストン昇降装置６２…ピストン７…昇降隔壁板７１…係止板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ０８Ｂ 17/02 Ｂ０８Ｂ 17/02 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ (72)発明者新居健一郎滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１大日本スクリーン製造株式会社野洲事業所内Ｆターム(参考） 3B117 AA01 BA21 3B201 AA03 AB01 BB04 BB92 BB93 BB96 CB15 CC11 CD11 CD24 CD31 5F043 EE02 EE32 EE36 EE37 EE40

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸性の薬液を扱う第１の処理部とアルカ
リ性の薬液を扱う第２の処理部とが連接された基板処理
装置であって、第１の処理部および第２の処理部に対して共通的かつ一
体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気
するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気
するための第２の排気部との２層に分かれており、さら
に第１の処理部との連結部では、第１の排気部が第１の
処理部の内部と連通しており、第２の処理部との連結部
では、第２の排気部が第２の処理部の内部と連通してい
る排気ダクトを備える、基板処理装置。
【請求項２】酸性の薬液およびアルカリ性の薬液の両
方を扱う複合処理部が複数連接された基板処理装置であ
って、複数の複合処理部に対して共通的かつ一体的に取り付け
られ、その内部が酸性の不要気体を排気するための第１
の排気部とアルカリ性の不要気体を排気するための第２
の排気部との２層に分かれており、さらにそれぞれの複
合処理部との連結部では、第１の排気部および第２の排
気部が複合処理部の内部と連通している排気ダクトと、前記排気ダクトとそれぞれの複合処理部との連結部に設
けられ、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に
対する連通部とを、選択的に切り替えて開放または閉塞
させるための切り替え手段とを備える、基板処理装置。
【請求項３】酸性の薬液またはアルカリ性の薬液のい
ずれかを扱うシンプル処理部と酸性の薬液およびアルカ
リ性の薬液の両方を扱う複合処理部とが連接された基板
処理装置であって、シンプル処理部および複合処理部に対して共通的かつ一
体的に取り付けられ、その内部が酸性の不要気体を排気
するための第１の排気部とアルカリ性の不要気体を排気
するための第２の排気部との２層に分かれており、さら
に前記シンプル処理部との連結部では、第１の排気部ま
たは第２の排気部がシンプル処理部の内部と連通してお
り、前記複合処理部との連結部では、第１の排気部およ
び第２の排気部が複合処理部の内部と連通している排気
ダクトと、前記排気ダクトと前記複合処理部との連結部に設けら
れ、第１の排気部に対する連通部と第２の排気部に対す
る連通部とを、選択的に切り替えて開放または閉塞させ
るための切り替え手段とを備える、基板処理装置。