JP2517215B2 - ピリミジン誘導体、その製造方法及び除草剤 - Google Patents

ピリミジン誘導体、その製造方法及び除草剤

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規のピリミジン誘導体
に関し、より詳細には、新規な除草活性を有する2−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)オキシ安
息香酸フェニルイミノエステル誘導体、その製造方法及
び農作物に有害な植物を防除するための用途に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来から、2−フェノキシピリミジン又
は(ピリミジン−2−イル)オキシ安息香酸誘導体等が
除草剤として有用であることはよく知られており(Agr.
Biol.Cehm Vol.30,P.896(1966)、特開昭54-55729号、米
国特許第4,248,619 号及び第4,427,437 号)、最近では
2−フェノキシピリミジンを骨格として有する化合物の
うち、2−(ピリミジン−2−イル)オキシ安息香酸誘
導体が、優れた除草効果を表すということが明確となり
注目を浴びている(ヨーロッパ特許願第223,406号、第2
49,709 号、第287,072 号、第287,079 号、第315,889
号、第321,846 号、第330,990 号、第335,409 号、第34
6,789 号、第363,040 号、第402,751 号、第435,170
号、第435,186 号、第457,505 号、第459,243 号、第46
8,690 号、英国特許願第2,237,570 号、ドイツ特許願第
3,942,476 号)。これら公知化合物は既存のアミノ酸生
合成阻害除草剤として周知であるスルホニルウレア誘導
体、イミダゾルリノル誘導体及びトリアゾルピリミジン
誘導体等と類似した作用メカニズムを示し、構造が簡単
で合成が容易であるという長所を備えた新しい構造のア
ミノ酸生合成阻害除草剤として注目されている。
【0003】これら誘導体等の除草活性と作物選択性
は、2−(ピリミジン−2−イル)オキシ安息香酸のベ
ンゼン環にどのような置換基が置換されているかによっ
て、又は安息香酸エステル誘導体の形態によって変化す
る。従って、新しい除草剤についての研究開発の方向と
して、ベンゼン環に新しい置換基を導入するか、新しい
エステル誘導体を開発するか等に焦点が合わされてきて
いる。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、農作物に
対する薬害がなく、雑草のみに対して選択的に高い除草
活性を表す新規のエステル誘導体を開発しようと広範囲
な研究を遂行した。その結果、下記に定義した一般式
(I)の化合物のような芳香族環を持つイミノエステル
化合物が既存のエステル誘導体等に比べて優れた除草効
果を表すことを発見し、本発明を完成するに至った。
【0005】本発明は下記一般式(I)
【0006】
【化6】
【0007】(式中、R1 は4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジニル、C1 −C4 アルキル、C2 −C4 アルケ
ニル、アシル、アルキルスルホニル又はヘテロアリール
メチルを表し、R2 は水素、ハロゲン、シアノ、ニト
ロ、C1 −C8 アルキル、C1 −C8 アルコキシ、C1
−C8 アルキルチオ、C1 −C8 アルコキシカルボニ
ル、C2 −C4 アルケニルオキシカルボニル、アリール
メトキシカルボニル、ヘテロアリールメトキシカルボニ
ル、C1 −C4 アルキルアミノカルボニル、アリールC
1 −C4 アルキルアミノカルボニル、ヘテロアリールメ
チルアミノカルボニル、アリール、C2 −C8 アルケニ
ル、C3 −C6 シクロアルキル、アラルキル、アリール
オキシ、アリールチオ又はC1 −C8 アルキルカルボニ
ルを示し、R3 はハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C
4 アルキル、C3 −C6 シクロアルキル、C1 −C4
ルコキシ、C1 −C4 アルケニルオキシ、C1 −C4
ルキルチオ、C1 −C4 アルキルで置換されていてもよ
いアミノ、アリール、アリールオキシ、C1 −C4 アシ
ル、C1 −C4 アシルオキシ及びC2 −C4 アルケニル
で構成された群から選択された置換基によって任意に置
換されたフェニル基を表すか、一般式−COR4 の基を
表し、ここでR4 は水素、C1 −C4 アルキル、C2
4 アルケニル、C3 −C6 シクロアルキル、アラルキ
ル、アリール、C1 −C4 アルコキシ、C2 −C4 アル
ケニルオキシ、C3 −C6 シクロアルキルオキシ、ベン
ジルキシ、アリールオキシ、C1 −C4 アルキルチオ、
2 −C4 アルケニルチオ、C3 −C6 シクロアルキル
チオ、ベンジルチオ、アリールチオ、C1 −C4 アルキ
ルで置換されていてもよいアミノ、アリールで置換され
ていてもよいアミノ又はアリールメチルで置換されてい
てもよいアミノを表す。)で示される新規な2−(4,
6−ジメトキシピリミジン−2−イル)オキシ安息香酸
のイミノエステル誘導体を提供する。
【0008】上記定義の中で用語“アルキル”は単独で
使用される場合、アルキルチオ、アルキルスルホニル又
はアルキルアミノカルボニルのように合成語で使用され
る場合のいずれにおいても、メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピルもしくはn−ブチル又はその異性体
等の直鎖又は分枝の飽和炭化水素基を意味する。用語
“アルコキシ”は直鎖又は分枝のアルコキシ基、例えば
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ
もしくはn−ブトキシ又はその異性体等を意味する。
【0009】用語“アルケニル”は単独で使用される場
合、アルケニルオキシのように合成語で使用される場合
のいずれの場合も、ビニル、1−プロペニル、2−プロ
ペニル及びブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘップ
テニル等の種々の異性体のような直鎖又は分枝のアルケ
ンを意味する。用語“ハロゲン”は弗素、塩素、臭素、
ヨウ素等を意味する。
【0010】また、用語“アリール”は単独に使用され
る場合、アリールオキシ、アリールチオ、アリールC1
−C4 アルキルアミノカルボニル等の合成語で使用され
る場合のいずれの場合も、アルキル、アルコキシ、ハロ
ゲンからなる群から選択された置換基によって置換され
るか又は非置換のフェニル基又はナフチル基を意味す
る。一方、ヘテロアリールメチル、ヘテロアリールメチ
ルカルボニル又はヘテロアリールメトキシカルボニル等
のような合成語で使用された用語“ヘテロアリール”は
環構成元素として酸素、硫黄及び窒素からなる群から選
択された少なくとも一つのヘテロ原子を含有する5又は
6員環(芳香族異項環)を意味する。具体的には、フリ
ル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、
イソチアゾリル、イソオキサゾリル、ピリジル、ピラジ
ニル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラニル、ピペリジ
ル等が挙げられる。
【0011】用語“アシル”はアセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、バレリル等の脂肪族カルボン酸から誘導
されたアシル、ベンゾイルのような芳香族カルボン酸か
ら誘導されたアシルを意味する。用語“アラルキル”
は、ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル等を
意味する。本発明の化合物と類似した構造のアルキルイ
ミノエステル構造を持つ2,6−ジ(ピリミジン−2−
イル)オキシ安息香酸誘導体は、既に公知であるが(ヨ
ーロッパ特許願第321,846 号)、本発明の化合物のよう
な芳香族環又はカルボニル部分を持つイミノエステル誘
導体は公知ではない。また、上記特許で開示するアルキ
ルイミノエステル誘導体を合成する方法では、本発明の
芳香族環を持つイミノエステル誘導体を合成することが
できない。特別な場合に合成されるとしても、極めて低
い収率(5%未満)で合成されるのみである。従って、
本発明によれば、芳香族環を持つイミノエステル誘導体
を合成する新しい方法も提供される。
【0012】本発明の新規な一般式(I)の化合物の中
で好ましい一群の化合物は、R1 は4,6−ジメトキシ
−2−ピリミジニルを表し、R2 は水素、ハロゲン、シ
アノ、C1 −C8 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、C
1 −C4 アルキルチオ、C1 −C4 アルコキシカルボニ
ル、モノ−又はジ−C1 −C4 アルキルアミノカルボニ
ル、フェニルC1 −C2 アルキルアミノカルボニル(こ
こでフェニルはハロゲン、C1 −C2 アルキル又はC1
−C2 アルコキシによって任意で置換されていてもよ
い)、フリルメチルアミノカルボニル、又はフェニルを
表し、R3 はハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C4
ルキル、C1 −C4 アルコキシ、アルキルオキシ、C1
−C4 アルキルチオ、C1 −C4 アルキルで置換されて
いてもよいアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はア
セトキシによって置換されるか非置換のフェニルを表す
か、一般式−COR4 の基を表し、ここでR4はC1
4 アルコキシ、C1 −C4 アルキル、ベンジルオキシ
又はベンジルアミノを表す化合物のグループである。
【0013】また、上記一般式(I)の化合物の中で最
も望ましい化合物は、R1 が4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジニルを示し、R2 は水素、クロロ、シアノ、C
1 −C8 アルキル、メトキシ、メチルチオ、C1 −C2
アルコキシカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ジ
メチルアミノカルボニル、ベンジルアミノカルボニル
(ここでベンジルは塩素、メチル又はメトキシによって
任意に置換されていてもよい)、2’−フェニルエチル
アミノカルボニル、フリルメチルアミノカルボニル、フ
ェニルを示し、R3 はクロロ、フルオロ、シアノ、ニト
ロ、メチル、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、アリール
オキシ、メチルチオ、ジメチルアミノ、フェノキシ、ベ
ンジルオキシ又はアセトキシによって置換されるか非置
換のフェニルを示すか、一般式−COR4 の基を示し、
ここでR4 はメトキシ、エトキシ、メチル、ベンジルオ
キシ又はベンジルアミノを示す化合物のグループであ
る。
【0014】本発明の他の好ましい一般式(I)の化合
物のグループは、R1 がC1 −C2 アルキル、C2 −C
4 アルケニル、アリル、アセチル、メチルスルホニル、
チエニルメチル又はフリルメチルを示し、R2 は水素、
1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、C1 −C
4 アルキルチオ、シアノ又はC1 −C4 アルコキシカル
ボニルを示し、R3 はC1 −C4 アルキル、C1 −C4
アルコキシ又はC2 −C4 アルケニルによって置換され
るか非置換のフェニルを示す化合物のグループである。
【0015】上記の好ましい一般式(I)の化合物のグ
ループ中で特に望ましい化合物は、R1 がメチル、エチ
ル、アリル、アセチル、メチルスルホニル、チエニルメ
チル又はフリルメチルを示し、R2 は水素、メチル、メ
チルチオ、シアノ又はメトキシカルボニルを示し、R3
はメチル又はエチルによって置換されるか非置換のフェ
ニルを示す化合物のグループである。
【0016】上記定義したような本発明の一般式(I)
の化合物は、禾本化植物と雑草、広葉雑草又は一年生雑
草や多年生雑草等に対して優れた除草効果を示し、これ
ら雑草に対する除草有効量において、農作物である綿、
小麦や稲に対する薬害が全然発現されていない。特に雑
草防除が困難である直播稲に対しては極めて低薬量の濃
度においても、稗を含む問題の一年生及び多年生植物を
完全防除しながら直播稲に対する安全性も優れている。
例えば、ヨーロッパ特許願第321,846 号で提示している
アルキルイミノエステル構造を持っている2,6−ジ
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)オキシ安
息香酸の誘導体等に比べて、本発明で提示しているフェ
ニルイミノエステル化合物は直播稲に対する安全性が上
記化合物等より2倍以上優れている。
【0017】本発明の除草用組成物は、一般式(I)の
化合物であるピリミジン誘導体を有効成分としてそのま
ま使用してもよいが、その他の適当な液体担体(例えば
溶媒)に溶解するか、あるいは分散させ、また、適当な
固体担体(希釈剤、増量剤等)と混合するか、あるいは
これに吸着させ、必要な場合には、これに乳化剤、懸濁
剤、展着剤、浸透剤、浸潤剤、粘漿剤、安定剤等を添加
し、乳剤、水和剤、粉剤、粒剤等として用いることがで
きる。これらの製剤は公知の方法で調製することができ
る。これらの除草用組成物は、例えば水田1haあたり
約1〜1000gが好ましい。
【0018】本発明の一般式(I)で表示される化合物
の具体例を、表1〜表5に示す。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】
【表3】
【0022】
【表4】
【0023】
【表5】
【0024】本発明の一般式(I)の化合物のように安
息香酸の“2,6”の位置の置換された化合物は、カル
ボキシル基が立体的に甚だしく障害されているので、通
常の方法によってはこれらのイミノエステル誘導体を高
収率で合成することができない(Tetrahedro
n,Vol.36,P.2409(1980),J.O
rg.Chem.,Vol.35,1198(197
0))。しかもこのように立体的に障害されている場
合、安息香酸のエステル化反応は、一般に強い酸性条件
を必要とするので本発明による化合物の合成には有用で
ない。
【0025】このような点を克服するために本発明者等
は、本発明の一般式(I)の化合物を製造するにおい
て、下記一般式(II)で表示される新規なピリジンチオ
エステル化合物を重要な中間体として開発して利用し、
従って、下記一般式(II)の化合物も本発明の目的にな
る。
【0026】
【化7】
【0027】(式中、でR1 は一般式(I)の化合物に
対して定義した通りである。) 上記一般式(II)で表示されるピリジンチオエステル化
合物は、本発明の目的化合物である一般式(I)のイミ
ノエステル化合物の合成のみならず、一般的な方法によ
っては合成しにくい大部分のエステル化合物を合成する
においても有用である。
【0028】本発明の一般式(I)の目的化合物は、上
記一般式(II)の化合物と下記一般式(III )で表示さ
れるオキシム化合物を金属塩の存在下で縮合反応させる
ことによって容易に合成することができる。
【0029】
【化8】
【0030】(式中、R2 及びR3 は一般式(I)の化
合物に対して定義した通りである。) 本発明の一般式(I)の化合物の製造方法は、下記の反
応図式Aで表すことができる。
【0031】
【化9】
【0032】(式中、R1 、R2 及びR3 は一般式
(I)の化合物に対し定義した通りである。) 上記反応図式Aの反応は、反応不活性有機溶媒中で金属
塩の存在下で行うことができる。本反応に適合するよう
に使用ができる反応不活性有機溶媒には、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタ
ン等のハロゲン化炭化水素及びアセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリルが望ましい。本反応で使用がで
きる金属塩としては塩化銅(II)、臭化化銅(II)等の
銅(II)塩が望ましく使用され、反応は高温又は常温で
行われる。
【0033】本発明における上記反応図式Aの反応にお
いて出発物質で使用される一般式(II)の新規なピリジ
ンチオエステル化合物は、さらに下記反応図式Bで示さ
れたように公知の安息香酸化合物(IV)(ヨーロッパ特
許願第321,846 号)より容易に合成することができる。
【0034】
【化10】
【0035】(式中、R1 は上記の一般式(I)の化合
物に対し定義した通りであり、Xはハロゲン原子を示
す。) 反応図式Bにおける新規な一般式(II)の製造方法を各
段階別で具体的に説明すれば次の通りである。まず第1
段階においては、構造式(V)の化合物を反応不活性有
機溶媒及び塩基の存在下で構造式(VI)の化合物と反応
させることによって、構造式(VII )の化合物を得るこ
とができる。この反応で使用するに適合した塩基として
は水素化カリウム、水素化ナトリウムのような水素化ア
ルカリ金属や炭酸カリウム、重炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、重炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩等が
望ましく、溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、メチルエチルケトン等の炭化水素系溶媒又はジエチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル等の極性溶媒が望ましい。本反応で化合物(VI)と塩
基は化合物(V)に対し1当量の比で使用することが最
も望ましく、反応は常温又は高温で行うことができる。
【0036】反応図式Bの第2段階反応では、第1段階
で生成された構造式(VII )の化合物を適当な塩基及び
溶媒の存在下で、室温〜120℃の温度範囲で一般式
(VIII)の化合物と1〜24時間反応させ、一般式(I
X)の化合物を得る。本反応で使用するに適合した塩基
としては水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸ナトリウム等を挙げることができ、溶媒
としてはメチレンクロライド、アセトニトリル、テトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を挙げることが
できる。
【0037】第2段階で生成された一般式(IX)の化合
物は、第3段階で酸性条件又は塩基性条件下で加水分解
させることによって一般式(IV)の化合物を得て、継続
して生成された一般式(IV)の化合物を適当な溶媒の存
在下で同モル量の2,2’−ジピリジルジスルフィド及
びトリフェニルホスフィン(Ph3 P)と反応させるこ
とによって最終に目的とする新規な一般式(II)の化合
物を得る。この際、溶媒としてはベンゼン、トルエン、
キシレン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の炭化水
素溶媒を使用することが好ましい。
【0038】
【実施例】本発明を、以下の実施例によってより具体的
に説明する。しかし、これらの実施例は、本発明に対す
る理解のために示したものであり、本発明はこれらに限
定されるものではない。製造例1:6−ヒドロキシ−2−(4,6−ジメトキシ
ピリミジン−2−イル)オキシ安息香酸のアリルエステ
ル(VII )の合成 アリル2,6−ジヒドロキシベンゾエート(V)(2.
0g)を水素化ナトリウム(0.4g)のジメチルホル
ムアミド(50ml)懸濁液に加えて10分間撹拌した
後、この混合液に4,6−ジメトキシ−2−メチルスル
ホニルピリミジン(2.2g)を加えた。反応混合物を
5時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム溶液(50m
l)を加えてエチルアセテート(200ml)で抽出す
る。抽出液を無水芒硝で乾燥させ、溶媒を減圧下で蒸溜
させた後に残留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラ
フィ(ヘキサン:エチルアセテート=2:1v/v)に
付して表題化合物3.0g(収率:90%)を得た。1 H NMR(CDCl3, δ):3.81(s, 6H), 4.58(d, 2H), 5.11-
5.29(d, 2H), 5.51-5.70(m, 1H), 5.73(s, 1H), 6.68-
7.47(m, 3H), 11.12(s, 1H)製造例2:6−メトキシ−2−(4,6−ジメトキシピ
リミジン−2−イル)オキシ安息香酸のアリルエステル
(IX−1)の合成(IX,R1 =Me) 製造例1で合成した化合物(VII )(3.3g)、メチ
ルヨーダイド(1.4g)及び炭酸カリウム(1.4
g)をジメチルホルムアミド(200ml)に入れて1
2時間撹拌した。撹拌した後溶媒を減圧下で蒸溜させて
除去し、残留物にエチルアセテート(50ml)を加え
た後水で洗浄する。有機層を分離して無水芒硝で乾燥さ
せ、溶媒を減圧下で蒸溜させた後に残留物をシリカゲル
上でカラムクロマトグラフィ(ヘキサン:エチルアセテ
ート=2:1v/v)に付して表題化合物3.2g(収
率:92%)を得た。1 H NMR(CDCl3, δ):3.79(s, 6H), 3.90(s, 3H), 4.59
(d, 2H), 5.13-5.30(d, 2H), 5.52-5.72(m, 1H), 5.75
(s, 1H), 6.70-7.45(m, 3H) 同一の方法で化合物(VII )から化合物(IX−2,R1
=Et)、(IX−3,R1 =アリル)、(IX−4,R1
=アセチル)、(IX−5,R1 =メタンスルホニル)、
(IX−6,R1 =2−チオフェンメチル)、(IX−7,
1 =2−フリルメチル)を合成した。製造例3:6−メトキシ−2−(4,6−ジメトキシピ
リミジン−2−イル)オキシ安息香酸の2−ピリジンチ
オエステル(II−1)の合成(II、R1 =Me) 製造例2で合成したアリルエステル化合物(IX−1)
(3.5g)を2N水酸化ナトリウム溶液(20ml)
に加えて12時間撹拌した。反応溶液を6N塩酸溶液で
中和させた後、生成された固体を濾過し、乾燥させ、安
息香酸誘導体(VI−1,R1 =Me)を得た。生成され
た化合物(VI−1)(3.0g)、2,2−ジピリジル
ジスルフィド(2.2g)及びトリフェニルホスフィン
(2.6g)をトルエン(50ml)に加えて3時間常
温で強く撹拌した。反応混合物を減圧下で蒸溜し溶媒を
除去して残留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフ
ィ(ヘキサン:エチルアセテート=2:1 v/v)に
付して白色固体として表題化合物(II−1)3.6g
(収率:90%)を得た。1 H NMR(CDCl3, δ):3.80(s, 6H), 3.91(s, 3H), 5.76
(s, 1H), 6.85-7.65(m, 6H), 8.58(d,1H) 製造例3と同一の方法によって化合物(II−2)から
(II−7)を合成した。各化合物の物理的性質は下記の
通りである。
【0039】化合物(II−2,R1 =エチル)の1H NMR
(CDCl3, δ):1.46-1.54(t,3H), 3.82(s, 6H), 4.21-4.2
9(q, 2H), 5.77(s, 1H), 6.88-7.55(m, 6H), 8.57(d, 1
H) 化合物(II−3,R1 =アリル)の1H NMR(CDCl3, δ):
3.81(s, 6H), 4.64-4.66(d, 2H), 5.28-5.47(d, 2H),
5.75(s, 1H), 5.98-6.02(m, 1H), 6.83-7.67(m,6H), 8.
57(d, 1H) 化合物(II−4,R1 =アセチル)の1H NMR(CDCl3,
δ):2.25(s, 3H), 3.80(s, 6H), 5.76(s, 1H), 7.08-7.
70(m, 6H), 8.56(d, 1H) 化合物(II−5,R1 =メタンスルホニル)の1H NMR(C
DCl3, δ):3.27(s, 3H), 3.84(s, 6H), 5.83(s, 1H),
7.21-7.79(m, 6H), 8.58(d, 1H) 化合物(II−6,R1 =チエニルメチル)の1H NMR(CDC
l3, δ):3.82(s, 6H),5.35(s, 2H), 5.76(s, 1H), 6.88
-7.68(m, 6H), 8.55(d, 1H) 化合物(II−7,R1 =フリルメチル)の1H NMR(CDC
l3, δ):3.82(s, 6H), 5.13(s, 2H), 5.76(s, 1H), 6.3
2-7.66(m, 6H), 8.56(d, 1H)製造例4:2,6−ジ(4,6−ジメトキシピリミジン
−2−イル)オキシ安息香酸の2−ピリジンチオエステ
ル(II−8)の合成(II,R1 =4,6−ジメトキシ−
2−ピリミジニル) 公知化合物の2,6−ジ(4,6−ジメトキシピリミジ
ン−2−イル)オキシ安息香酸48.0g、2,2’−
ジピリジルジスルフィド22.0g及びトリフェニルホ
スフィン26.2gをトルエン250mlに加えて3時
間常温で強く撹拌した。反応混合物を濾過した後に濾液
を減圧下で蒸溜させトルエンを除去した。残留物をシリ
カゲル上でカラムクトマトグラフィ(ヘキサン:エチル
アセテート=2:1)に付して白色固体として表題化合
物(II−8)42.0g(収率:90%)を得た。1 H NMR(CDCl3, δ):3.77(s, 6H), 6.03(s, 2H), 7.32-
7.87(m, 6H), 8.54-8.55(d, 1H)製造例5:ベンズアルデヒドオキシム(III −1)の合
ベンズアルデヒド10.6g、ヒドロキシルアミン塩酸
塩7.0g及び炭酸カリウム14.0gをメタノール2
00mlに加えて5時間常温で撹拌した。反応混合物を
濾過した後、メタノールを減圧下で蒸溜させ白色の固体
として表題化合物(III −1)を12.0g(収率:9
9%)を得た。
【0040】同一の方法で置換基を有する一般式(III
)のベンズアルデヒドオキシム化合物をベンズアルデ
ヒド化合物より容易に合成することができる。製造例6:メチルピルベイトオキシム(III −4)の合
メチルピルベイト10.2g、ヒドロキシアミン塩酸塩
7.0g及び炭酸カリウム14.0gをメタノール20
0mlに加えて5時間常温で撹拌した。反応混合物を濾
過した後にメタノールを減圧下で蒸溜させ白色の固体と
して表題化合物(III −4)10.1g(収率99%)
を得た。実施例1:化合物(1)の合成(I,R1 =4,6−ジ
メトキシ−2−ピリミジニル,R2 =H,R3 =H) 製造例5で合成したベンズアルデヒドオキシム(III −
1)1.2gと製造例4で合成したピリジンチオエステ
ル化合物(II−8)4.0gをジクロロメタン50ml
に溶解させた後常温で撹拌させる。5分後に臭化銅(I
I)2.2gを添加した後、さらに1時間撹拌する。反
応混合物を濾過濃縮させ、シリカゲル上でカラムクロマ
トグラフィ(ヘキサン:エチルアセテート=2:1)に
付して表題化合物(1)を3.4g(収率:85%)得
た。実施例2:化合物(58)の合成(I,R1 =Me,R
2 =H,R3 =3−メチルフェニル) 製造例3で合成したピリジンチオエステル化合物(II−
1)(4.0g)と公知の化合物である3’−メチルベ
ンズアルデヒドオキシム(III −2)(1.4g)をメ
チレンクロライド(50ml)に溶解する。反応溶液を
常温で撹拌しながら臭化銅(II)(2.2g)を添加し
た後、さらに1時間撹拌する。反応混合物を濾過した
後、減圧蒸溜させた残留物をシリカゲル上でカラムクロ
マトグラフィ(ヘキサン:エチルアセテート=2:1
v/v)に付して表題化合物3.7g(収率:90%)
を得た。実施例3:化合物(65)の合成(I,R1 =アリル、
2 =Me,R3 =フェニル) 製造例3で合成したピリジンチオエステル化合物(II−
3)(4.2g)と公知の化合物であるアセトフェノン
オキシム(III −3)(1.4g)をメチレンクロライ
ド(50ml)に溶解する。この混合物を常温で撹拌し
ながら臭化銅(II)(2.2g)を添加した後30分間
撹拌した。反応混合物を濾過した後溶媒を減圧蒸溜し残
留物をシリカゲル上でカラムクロマトグラフィ(ヘキサ
ン:エチルアセテート=2:1 v/v)に付して表題
化合物3.2g(収率:80%)を得た。実施例4:化合物(48)の合成(I,R1 =4.6−
ジメトキシ−2−ピリニジル,R2 =CH3 ,R3 =C
OOCH3 製造例6で合成したメチルピルベイトオキシム(III −
4)1.0g(0.01モル)と製造例4で合成したチ
オエステル化合物(II−8)4.0g(0.01モル)
をジクロロメタン50mlに溶解した後常温で撹拌す
る。5分後にCuBr2 2.2g(約0.01モル)を
添加した後1時間更に撹拌する。反応混合物を濾過濃縮
させ、シリカゲル上でクロマトグラフィ(溶出溶媒=ヘ
キサン:エチルアセテート=2:1)に付して表題化合
物(48)3.4g(収率85%)を得た。
【0041】上記実施例1〜4と同一の方法によって上
記表1〜5で示した化合物を合成することができる。合
成された化合物の物理的性質は表6〜12に記載した。
【0042】
【表6】
【0043】
【表7】
【0044】
【表8】
【0045】
【表9】
【0046】
【表10】
【0047】
【表11】
【0048】
【表12】
【0049】本発明の一般式(I)の新規な除草性イミ
ノエステル誘導体の除草効力を検定するために、温室で
検定植物をポット栽培し、処理した。効力判定は薬効及
び表13に示す薬害評価基準によって評価を実施した。
【0050】
【表13】
【0051】効力検定のために、畑雑草として、めひし
ば(ジキタリア サングイナリス:Digitaria
sanguinalis)、アロペキュラス アエカ
リス(Alopecurus aequallis)、
狗屋草(セタリア ファベリ:Setaria far
beri)、犬稗(エキノシュロア クラス−ガリバー
カウダタ:Echinochloa crus−ga
lli var.caudata)、アマランタス レ
トロフレックス(Amaranthus retrof
lexus)、草合歓(アエスシノメネ インディカ:
Aeschynomcne indica)、ソラナム
ニグラム(Solanum nigrum)、黄麻
(アブチロン テオファラスティ:Abutilon
theophrasti)、おなもみ(キサンチウム
ストラマリウム:Xanthium strumari
um)、昼顔の花(カリステギア ジャポニカ:Cal
ystegia japonica)、パニカム ジコ
トミフロラム(Panicum dichotomif
lorum)及びもろこし(ソルガム ビカラー:So
rghum bicolor)、水田雑草としては稗
(エチノクラー クラス−ガリ バー オリジコラ:E
chinochlor crus−gallivar.
orzicola)、くろぐわい(エレオカリス クロ
グワイ:Eleocharis kuroguwa
i)、サジタリア トリフォリア(Sagittari
a trifolia)、サジタリア ピグマ(Sag
ittaria pygmaea)等を選定し、作物と
しては綿(ゴシピン ヒルスタム:Gosshipim
hirsutum)、小麦(トリチカム アエスチバ
ム:Triticum aestivum)と稲(オリ
ザ サチバー:Oryzasati var.)を選定
した。
【0052】本発明の化合物を用いる時は粘度、滑石、
珪藻土等の固形物質と水、アルコール、ベンゼン、トル
エン、エーテル、ケトン類、エステル類、酸類、アミド
類等の液体物質とを混合して液剤、乳剤、粉剤、粒剤等
の任意の剤型で調剤及び使用することができ、この際必
要によって乳化剤、分散剤、浸透剤、展着剤、安定剤を
添加することができる。
【0053】次の本発明に従う化合物を有効成分にする
除草剤の配合例を一部示したが、このような配合例で本
発明が限定されるのではない。配合例1(畑条件、500g/ha) 本発明の化合物160mgを有機溶媒(アセトン)64
0mlに溶解させた後、非イオン性界面活性剤ツイン
20が0.2%含有された蒸溜水640mlに希釈し配
合液にする。配合例2(畑条件、16g/ha) 本発明の化合物5mgを有機溶媒(アセトン)640m
lに溶解させた後、非イオン性界面活性剤ツイン 20
が0.2%含有された蒸溜水640mlに希釈し配合液
にする。配合例3(水田条件、250g/ha) 本発明の化合物80mgを有機溶媒(アセトン)320
mlに溶解させた後、非イオン性界面活性剤ツイン20
が0.2%含有された蒸溜水320mlに希釈し配合液
にする。実験例1:土壌処理による発芽前除草力検定(畑条件) 四角プラスチック容器(20×15×10cm)に雑菌
処理された畑土壌(砂質土、pH5.5−6.0)を充
填した後、表面積が300cm2 である状態で畑雑草6
種を一つの容器に播種し、0.5cmで埋土する。罐水
1日後、配合例1の溶液で処理薬量(500g/ha)
に該当する有効成分を土壌表面に均一に散布する。処理
後30日間植物栽培及び観察後、雑草に対する除草力を
評価基準に従って評価した。その結果を表14〜17に
示す。
【0054】
【表14】
【0055】
【表15】
【0056】
【表16】
【0057】
【表17】
【0058】なお、検定植物の略字は次の通りである
(他の表においても同一略字が使用される)。 Dig:めひしば(ジキタリア サングイナリス:Digi
taria sanguinalis)、Alo:アロペキ
ュラス アエカリス(Alopecurus aequ
allis)、Set:狗屋草(セタリア ファベリ:Se
taria farberi)、ECh:犬稗(エキノシュ
ロア クラス−ガリ バー カウダタ:Echinoc
hloa crus−galli var.cauda
ta)、Ama:アマランタス レトロフレックス(Ama
ranthus retroflexus)、Aes:草合
歓(アエスシノメネ インディカ:Aeschynom
cne indica)、Sol:ソラナム ニグラム(S
olanum nigrum)、Abu:黄麻(アブチロン
テオファラスティ:Abutilon theoph
rasti)、Xan:おなもみ(キサンチウム ストラマ
リウム:Xanthium strumarium)、
Cal:昼顔の花(カリステギア ジャポニカ:Calys
tegia japonica)、Pan:パニカム ジコ
トミフロラム(Panicum dichotomif
lorum)、Sor:もろこし(ソルガム ビカラー:S
orghum bicolor)、Ecg:稗(エチノクラ
ー クラス−ガリ バー オリジコラ:Echinoc
hlor crus−galli var.orzic
ola)、Ele:くろぐわい(エレオカリス クログワ
イ:Eleocharis kuroguwai)、Sa
g:サジタリア トリフォリア(Sagittaria
trifolia) Sap サジタリア ピグマ(Sagittaria py
gmaea) Cot:綿(ゴシピン ヒルスタム:Gosshipim
hirsutum)、Whe:小麦(トリチカム アエスチ
バム:Triticum aestivum) Ric:稲(オリザ サチバー:Oryza sativa
r) 目的とする処理薬量(63g/ha,125g/ha又
は250g/ha)に該当する有効成分を含有する配合
例2の溶液を使用し、上記と同一の方法で雑草に対する
除草力を評価した。その結果を表18に記載した。
【0059】
【表18】
【0060】実験例1と同一の方法で検定植物を播種し
た後、10〜14日間栽培して植物体が3〜4葉期に至
れば、配合例1で処理薬量(500g/ha)に該当す
る有効成分を植物体茎葉部位に均一に散布処理する。処
理後30日間栽培及び観察後雑草に対する除草力を評価
基準に従って評価した。その結果を表19〜22に示し
た。
【0061】
【表19】
【0062】
【表20】
【0063】
【表21】
【0064】
【表22】
【0065】目的とする処理薬量(63g/ha,12
5g/ha又は250g/ha)に該当する有効成分を
含有する配合例2の溶液を使用し、上記と同一の方法で
雑草に対する除草力を評価した。その結果は次の表23
に記載した。
【0066】
【表23】
【0067】実験例3:発芽前処理時の除草効力及び作
物薬害実験 処理薬量を変化させることを以外は実験例1の方法に準
じて、配合例1の溶液を使用し、雑草に対する除草力及
び小麦に対する薬害を検定した。その結果を表24〜2
5に示した。
【0068】
【表24】
【0069】
【表25】
【0070】配合例2の溶液を使用し、処理薬量を変化
させる以外は実験例1の方法に準じて雑草に対する除草
力及び綿に対する薬害を検定した。その結果を表26に
示した。本実験では対照薬剤として、下記に示した6−
メトキシ−2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
イル)オキシ安息香酸のメチルエステル化合物(A)及
びフェノキシエチルエステル化合物(B)を公知の方法
(ヨーロッパ特許願第321,846号)に従って合成
して同一の方法で使用した。
【0071】
【表26】
【0072】
【化11】
【0073】
【化12】
【0074】実験例4:発芽後処理時の除草効力及び作
物薬害実験 処理薬量を変化させること以外は実験例2の方法に準じ
て、配合例1の溶液を使用し、雑草に対する除草力及び
小麦に対する薬害を検定した。その結果を表27〜28
に示した。
【0075】
【表27】
【0076】
【表28】
【0077】配合例2の溶液を使用し、処理薬量を変化
させることを以外は実験例2の方法に準じて雑草に対す
る除草力及び綿に対する薬害を検定した。その結果を表
29に示した。本実験で対照薬剤としては実験例3で使
用したものと同一の化合物(A)及び(B)を使用し
た。
【0078】
【表29】
【0079】実験例5:土壌処理による発芽前除草効力
及び作物薬害実験(水田条件) 四角ポット(30×15×10cm)に殺菌した水田土
壌(植壌土、pH5.5−6.0)充填し、表面積45
0cm2 である状態で稲と水田雑草を播種し、土中混入
する。4cmの罐水1日後上記配合例3の溶液で処理薬
量に該当する有効成分を含有した溶液一部を点滴処理す
る。処理後4週間栽培管理及び観察した後、稲に対する
薬害及び雑草に対する除草効果を判定基準によって評価
した。その結果を表30〜31に示した。
【0080】
【表30】
【0081】
【表31】
【0082】実験例6:茎葉処理による発芽後除草効力
及び作物薬害実験(乾沓条件) 四角ポット(30×15×10cm)に殺菌した水田土
壌(植壌土、pH5.5−6.0)を充填し、表面積4
50cm2 である状態で稲と雑草を播種し0.5cmで
埋土する。20〜25℃の室温で12〜14日間栽培
し、植物体が2〜3葉期に至ると上記配合例3で処理薬
量に該当する有効成分を植物体茎葉部位に均一に散布処
理する。処理後30日間栽培及び観察後雑草に対する除
草力及び作物に対する薬害を評価基準に従って評価し
た。その結果を表32〜34に示した。
【0083】
【表32】
【0084】
【表33】
【0085】
【表34】
【0086】実験例7:茎葉処理による発芽後除草力及
び作物薬害対照実験(初期茎葉処理:1葉期) 対照薬剤としてヨーロッパ特許願321,846号で提
示する次の対照化合物Cを上記特許に従って合成して本
発明の化合物と対照実験する。実験例6に準じて稲と雑
草を播種し、20〜25℃で7日間栽培した後処理薬量
に該当する有効成分を植物体茎葉部位に均一に散布処理
する。処理後20日間栽培及び観察後、雑草に対する除
草力及び作物に対する薬害を評価基準に従って評価し
た。その結果を表35〜36に示した。
【0087】
【化13】
【0088】
【表35】
【0089】
【表36】
【0090】実験例8:茎葉処理による発芽後除草力及
び作物薬害対照実験(初期茎葉処理:2葉期) 対照薬剤として上記実施例7で示した対照化合物Cを使
用し、本発明の化合物と対照実験する。実験例6に準じ
て稲と雑草を播種し、20〜25℃で11日間栽培した
後、処理薬量に該当する有効成分を植物体茎葉部位に均
一に散布処理する。処理後20日間栽培及び観察後雑草
に対する除草力及び作物に対する薬害を評価基準に従っ
て評価した。その結果を表37〜38に示した。
【0091】
【表37】
【0092】
【表38】
【0093】実験例7と実験例8との結果より分かるよ
うに、本発明による化合物は稗を含む細葉雑草及び広葉
雑草に対し、低薬量で優れた除草力を持っており、更に
直播稲に対する安全性も優れている。また、公知化合物
Cと比較した場合、直播稲に対する安全性が2倍以上優
れていることが分かる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ホン シュ ミョン 大韓民国 デジョンシ、ユソング、ドリ ョンドン、386−42、ラッキー アパー ト 7−406 (72)発明者 キン ホン ウ 大韓民国 デジョンシ、ユソング、ドリ ョンドン、386−1、ラッキー寮 306 (72)発明者 リン ヨゥン ヒ 大韓民国 デジョンシ、ユソング、ドリ ョンドン、386−1、ラッキー寮 306 (72)発明者 リン ジェ ソック 大韓民国 デジョンシ、ユソング、ドリ ョンドン、386−42、ラッキー アパー ト 7−401 (72)発明者 チャ サン ヒォン 大韓民国 デジョンシ、ユソング、シン ソンドン、ラッキーハナ アパート 105−803 (72)発明者 キン ジョン シュ 大韓民国 デジョンシ、ユソング、ドリ ョンドン、386−1、ラッキー寮 414

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 は4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニ
    ル、C1 −C4 アルキル、C2 −C4 アルケニル、アシ
    ル、C1 −C4 アルキルスルホニル又はヘテロアリール
    メチルを示し、 R2 は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C8
    ルキル、C1 −C8 アルコキシ、C1 −C8 アルキルチ
    オ、C1 −C8 アルコキシカルボニル、C2 −C4 アル
    ケニルオキシカルボニル、アリールメトキシカルボニ
    ル、ヘテロアリールメトキシカルボニル、C1 −C4
    ルキルアミノカルボニル、アリールC1 −C4 アルキル
    アミノカルボニル、ヘテロアリールメチルアミノカルボ
    ニル、アリール、C2 −C8 アルケニル、C3 −C6
    クロアルキル、アラルキル、アリールオキシ、アリール
    チオ又はC1 −C8 アルキルカルボニルを示し、 R3 はハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C4 アルキ
    ル、C3 −C6 シクロアルキル、C1 −C4 アルコキ
    シ、C1 −C4 アルケニルオキシ、C1 −C4 アルキル
    チオ、C1 −C4 アルキルで置換されていてもよいアミ
    ノ、アリール、アリールオキシ、C1 −C4 アシル、C
    1 −C4 アシルオキシ及びC2 −C4 アルケニルで構成
    された群より選択された置換基によって任意に置換され
    たフェニル基を示すか、一般式−COR4 の基を示し、
    ここでR4 は水素、C1 −C4 アルキル、C2 −C4
    ルケニル、C3 −C6 シクロアルキル、アラルキル、ア
    リール、C1 −C4 アルコキシ、C2 −C4 アルケニル
    オキシ、C3 −C6 シクロアルキルオキシ、ベンジルオ
    キシ、アリールオキシ、C1 −C4 アルキルチオ、C2
    −C4 アルケニルチオ、C3 −C6 シクロアルキルチ
    オ、ベンジルチオ、アリールチオ、C1 −C4 アルキル
    で置換されていてもよいアミノ、アリールで置換されて
    いてもよいアミノ又はアリールメチルで置換されていて
    もよいアミノを示す。)で表されるピリミジン誘導体。
  2. 【請求項2】 R1 は4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
    ジニルを示し、 R2 は水素、ハロゲン、シアノ、C1 −C8 アルキル、
    1 −C4 アルコキシ、C1 −C4 アルキルチオ、C1
    −C4 アルコキシカルボニル、モノ−又はジ−C1 −C
    4 アルキルアミノカルボニル、フェニルC1 −C2 アル
    キルアミノカルボニル(ここでフェニルはハロゲン、C
    1 −C2 アルキル又はC1 −C2 アルコキシによって任
    意に置換されていてもよい)、フリルメチルアミノカル
    ボニル又はフェニルを示し、 R3 はハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C4 アルキ
    ル、C1 −C4 アルコキシ、アリールオキシ、C1 −C
    4 アルキルチオ、C1 −C4 アルキルで置換されていて
    もよいアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ又はアセト
    キシによって置換されるか置換されていないフェニルを
    示すか、一般式−COR4 の基を示し、ここでR4 はC
    1 −C4 アルコキシ、C1 −C4 アルキル、ベンジルオ
    キシ又はベンジルアミノを示す請求項1記載のピリミジ
    ン誘導体。
  3. 【請求項3】 R1 が4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
    ジニルを示し、 R2 は水素、クロロ、シアノ、C1 −C8 アルキル、メ
    トキシ、メチルチオ、C1 −C2 アルコキシカルボニ
    ル、プロピルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボ
    ニル、ベンジルアミノカルボニル(ここで、ベンジルは
    塩素、メチル又はメトキシによって任意に置換されてい
    てもよい)、2’−フェニルエチルアミノカルボニル、
    フリルメチルアミノカルボニル又はフェニルを示し、 R3 はクロロ、フルオロ、シアノ、ニトロ、メチル、メ
    トキシ、エトキシ、ブトキシ、アリールオキシ、メチル
    チオ、ジメチルアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ又
    はアセトキシによって任意に置換されていてもよいフェ
    ニルを示すか、一般式−COR4 の基を示し、ここでR
    4 はメトキシ、エトキシ、メチル、ベンジルオキシ又は
    ベンジルアミノを示す請求項2記載のピリミジン誘導
    体。
  4. 【請求項4】 R1 がC1 −C2 アルキル、C2 −C4
    アルケニル、アリル、アセチル、メチルスルホニル、チ
    エニル又はフリルメチルを示し、 R2 は水素、C1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキ
    シ、C1 −C4 アルキルチオ、シアノ又はC1 −C4
    ルコキシカルボニルを示し、 R3 はC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ又は
    2 −C4 アルケニルによって任意に置換されていても
    よいフェニルを示す請求項1記載のピリミジン誘導体。
  5. 【請求項5】 R1 がメチル、エチル、アリル、アセチ
    ル、メチルスルホニル、チエニルメチル又はフリルメチ
    ルを示し、 R2 は水素、メチル、メチルチオ、シアノ又はメトキシ
    カルボニルを示し、 R3 はメチル又はエチルによって任意に置換されていて
    もよいフェニルを示す請求項1記載のピリミジン誘導
    体。
  6. 【請求項6】 一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニ
    ル、C1 −C4 アルキル、C2 −C4 アルケニル、アセ
    チル、アルキルスルホニル又はヘテロアリールメチルを
    示す。)で表されるピリミジンチオエステル化合物。
  7. 【請求項7】 一般式(II) 【化3】 (式中、R1 は4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニ
    ル、C1 −C4 アルキル、C2 −C4 アルケニル、アシ
    ル、アルキルスルホニル又はヘテロアリールメチルを示
    す。)で表される化合物と、一般式(III ) 【化4】 (式中、R1 は一般式(II)の化合物に対して定義した
    通りであり、 R2 は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C8
    ルキル、C1 −C8 アルコキシ、C1 −C8 アルキルチ
    オ、C1 −C8 アルコキシカルボニル、C2 −C4 アル
    ケニルオキシカルボニル、アリールメトキシカルボニ
    ル、ヘテロアリールメトキシカルボニル、C1 −C4
    ルキルアミノカルボニル、アリールC1 −C4 アルキル
    アミノカルボニル、ヘテロアリールメチルアミノカルボ
    ニル、アリール、C2 −C8 アルケニル、C3 −C6
    クロアルキル、アラルキル、アリールオキシ、アリール
    チオ又はC1 −C8 アルキルカルボニルを示し、 R3 はハロゲン、シアノ、ニトロ、C1 −C4 アルキ
    ル、C3 −C6 シクロアルキル、C1 −C4 アルコキ
    シ、C1 −C4 アルケニルオキシ、C1 −C4 アルキル
    チオ、C1 −C4 アルキルで置換されていてもよいアミ
    ノ、アリール、アリールオキシ、C1 −C4 アシル、C
    1 −C4 アシルオキシ及びC2 −C4 アルケニルで構成
    された群より選択された置換基によって任意に置換され
    たフェニル基を示すか、一般式−COR4 の基を示し、
    ここでR4 は水素、C1 −C4 アルキル、C2 −C4
    ルケニル、C3 −C6 シクロアルキル、アラルキル、ア
    リール、C1 −C4 アルコキシ、C2 −C4 アルケニル
    オキシ、C3 −C6 シクロアルキルオキシ、ベンジルキ
    シ、アリールオキシ、C1 −C4 アルキルチオ、C2
    4 アルケニルチオ、C3 −C6 シクロアルキルチオ、
    ベンジルチオ、アリールチオ、C1 −C4 アルキルで置
    換されていてもよいアミノ、アリールで置換されていて
    もよいアミノ又はアリールメチルで置換されていてもよ
    いアミノを示す。)で表される化合物とを金属塩存在
    下、溶媒中で反応させて一般式(I) 【化5】 (式中、R1 、R2 及びR3 は一般式(II)及び(III)
    の化合物に対して定義した通りである。)で表されるピ
    リミジン誘導体を製造する方法。
  8. 【請求項8】 金属塩が銅(II)塩である請求項7記載
    の方法。
  9. 【請求項9】 金属塩が塩化銅(II)、臭化化銅(II)
    である請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 溶媒がハロゲン化炭化水素溶媒又はニ
    トリルである請求項7記載の方法。
  11. 【請求項11】 活性成分として請求項1記載の一般式
    (I)のピリミジン誘導体を少なくとも一つ含有するこ
    とからなる除草用組成物。
  12. 【請求項12】 綿、稲又は小麦の栽培地中で棲息する
    雑草を防除するための請求項11記載の除草用組成物。
  13. 【請求項13】 直播稲栽培地中で棲息する雑草を防除
    するための請求項12記載の除草用組成物。
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