JP2501106B2 - ジメチルフェノ−ルの精製方法 - Google Patents
ジメチルフェノ−ルの精製方法Info
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- dimethylphenol
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、3,4−ジメチルフェノール（以下「3,4−
DMH」という）と3,5−ジメチルフェノール（以下「3,5
−DMH」という）の含有量の少ないジメチルフェノール
類（以下「DMH類」という）含有留分を原料とし、蒸留
によって特定の組成範囲の濃縮3,4−DMH留分または濃縮
3,5−DMH留分を回収し、これを溶融晶析させて高純度の
3,4−DMHまたは3,5−DMHを分離回収する方法に関する。
DMH」という）と3,5−ジメチルフェノール（以下「3,5
−DMH」という）の含有量の少ないジメチルフェノール
類（以下「DMH類」という）含有留分を原料とし、蒸留
によって特定の組成範囲の濃縮3,4−DMH留分または濃縮
3,5−DMH留分を回収し、これを溶融晶析させて高純度の
3,4−DMHまたは3,5−DMHを分離回収する方法に関する。
［従来技術］ 3,4−DMHは、沸点226.9℃、融点65℃の白色結晶で、
また3,5−DMHは、沸点221.7℃、融点63℃の白色結晶で
ある。3,4−DMH、3,5−DMHは、コールタール留分である
カルボル油、ナフタレン油、洗浄油からアルカリ抽出し
て得られるタール酸の中に含まれている化合物の一つで
ある。3,4−DMH、3,5−DMHは、フェノール樹脂、有機合
成薬品、農薬等の原料として使用されている。
また3,5−DMHは、沸点221.7℃、融点63℃の白色結晶で
ある。3,4−DMH、3,5−DMHは、コールタール留分である
カルボル油、ナフタレン油、洗浄油からアルカリ抽出し
て得られるタール酸の中に含まれている化合物の一つで
ある。3,4−DMH、3,5−DMHは、フェノール樹脂、有機合
成薬品、農薬等の原料として使用されている。
コールタールは、蒸留により軽油、カルボル油、ナフ
タレン油、洗浄油および低軟化点のピッチ等に分離し、
各留分から必要に応じ、蒸留、抽出、晶析等の手段によ
り有用な製品を回収している。
タレン油、洗浄油および低軟化点のピッチ等に分離し、
各留分から必要に応じ、蒸留、抽出、晶析等の手段によ
り有用な製品を回収している。
カルボン油、ナフタレン油、洗浄油等からアルカリ抽
出で分離されたタール酸は、蒸留によりフェノール、ｏ
−メチルフェノール、m,p−メチルフェノールおよびジ
メチルフェノール（以下「DMH」という）留分に分離精
製される。
出で分離されたタール酸は、蒸留によりフェノール、ｏ
−メチルフェノール、m,p−メチルフェノールおよびジ
メチルフェノール（以下「DMH」という）留分に分離精
製される。
このうち、DMH留分には、６種類のDMH異性体のほか、
エチルフェノール類、トリメチルフェノール類等が含有
されている。
エチルフェノール類、トリメチルフェノール類等が含有
されている。
このDMH留分を精密蒸留しても、これらの沸点が接近
しているため、通常の精密蒸留では高純度の3,4−DMHや
3,5−DMHを得ることができず、特殊な高い段数をもった
精留塔を使用し、高い還流比で蒸溜しても、高純度の3,
4−DMHや3,5−DMHを得ることができない。
しているため、通常の精密蒸留では高純度の3,4−DMHや
3,5−DMHを得ることができず、特殊な高い段数をもった
精留塔を使用し、高い還流比で蒸溜しても、高純度の3,
4−DMHや3,5−DMHを得ることができない。
一般に蒸留による分離が困難な場合、目的成分を晶析
によって分離することはよく知られた操作である。しか
きながろ、本発明者等の研究によれば、前記DMH類含有
留分、例えば、タール留分から抽出されたタール酸を蒸
留して得らDMH留分を精密蒸留し、単に3,4−DMH含有量
を高めた濃縮3,4−DMH留分、または単に3,5−DMH含有量
を高めた濃縮3,5−DMH留分を回収し、各留分を撹拌しな
がら冷却して結晶を析出せしめ、得られたスラリーを遠
心分離機にかけて結晶と母液に分離する方法では、高純
度の3,4−DMHまたは3,5−DMHを得ることができないこと
が判明した。
によって分離することはよく知られた操作である。しか
きながろ、本発明者等の研究によれば、前記DMH類含有
留分、例えば、タール留分から抽出されたタール酸を蒸
留して得らDMH留分を精密蒸留し、単に3,4−DMH含有量
を高めた濃縮3,4−DMH留分、または単に3,5−DMH含有量
を高めた濃縮3,5−DMH留分を回収し、各留分を撹拌しな
がら冷却して結晶を析出せしめ、得られたスラリーを遠
心分離機にかけて結晶と母液に分離する方法では、高純
度の3,4−DMHまたは3,5−DMHを得ることができないこと
が判明した。
晶析法を用いて高純度製品を得る場合、純度向上を阻
害する要因は、共融混合物の生成と固溶体の生成とであ
り、さらに一般に用いられる遠心分離法では、結晶に付
着する母液の残留が問題となる。
害する要因は、共融混合物の生成と固溶体の生成とであ
り、さらに一般に用いられる遠心分離法では、結晶に付
着する母液の残留が問題となる。
［解決しようとする問題点］ この発明は、前記DMH類含有留分から高純度の3,4−DM
Hまたは3,5−DMHを、高収率で回収できるDMHの精製方法
を提供するものである。
Hまたは3,5−DMHを、高収率で回収できるDMHの精製方法
を提供するものである。
［問題点を解決するための手段］ 本発明者等は、DMH類含有留分から3,4−DMHまたは3,5
−DMHを高純度で回収するについて鋭意研究の結果、DMH
類含有留分を蒸留濃縮し、晶析原料の濃縮3,4−DMHまた
は濃縮3,5−DMH留分を回収するにあたり、単に3,4−DMH
または3,5−DMH含有量を高めることのみを目的とするの
ではなく、同時に3,5−DMHまたは3,4−DMHの含有量を規
制して蒸留し、得られた濃縮3,4−DMHまたは濃縮3,5−D
MH留分を、溶融晶析することによって初めて高純度の3,
4−DMHまたは3,5−DMHを分離回収できることを究明し
た。
−DMHを高純度で回収するについて鋭意研究の結果、DMH
類含有留分を蒸留濃縮し、晶析原料の濃縮3,4−DMHまた
は濃縮3,5−DMH留分を回収するにあたり、単に3,4−DMH
または3,5−DMH含有量を高めることのみを目的とするの
ではなく、同時に3,5−DMHまたは3,4−DMHの含有量を規
制して蒸留し、得られた濃縮3,4−DMHまたは濃縮3,5−D
MH留分を、溶融晶析することによって初めて高純度の3,
4−DMHまたは3,5−DMHを分離回収できることを究明し
た。
すなわちこの発明は、3,4−DMHおよび3,5−DMHを含有
するDMH類含有留分を原料とし、3,4−DMHを目的DMHとし
て、非目的DMHである3,5−DMHから分離し、または3,5−
DMHを目的DMHとして、非目的DMHである3,4−DMHから分
離する方法において、DMH類含有留分を、目的DMH濃度35
重量％以上で、かつ非目的DMH濃度（Ｕ）が（１）式で
示す範囲となるように蒸留して濃縮DMH留分を回収し、
これを溶融晶析して目的DMHを分離することを特徴とす
るDMHの精製方法である。
するDMH類含有留分を原料とし、3,4−DMHを目的DMHとし
て、非目的DMHである3,5−DMHから分離し、または3,5−
DMHを目的DMHとして、非目的DMHである3,4−DMHから分
離する方法において、DMH類含有留分を、目的DMH濃度35
重量％以上で、かつ非目的DMH濃度（Ｕ）が（１）式で
示す範囲となるように蒸留して濃縮DMH留分を回収し、
これを溶融晶析して目的DMHを分離することを特徴とす
るDMHの精製方法である。
Ｕ≦（100−ｘ）（P/（100−Ｐ）） …（１） ただし、U:濃縮DMH留分中の非目的DMH濃度（％） x:濃縮DMH留分中の目的DMH濃度（％） P:目的DMHの固液平衡線図から求めた晶析温度での液中
の目的DMH濃度（％） DMHの精製において、純度向上阻害因子が非常に多い
中で、3,4−DMHを目的とする場合に3,5−DMHに、3,5−D
MHを目的とする場合は3,4−DMHに注目する理由は、これ
が他の成分に比べ溶融晶析時相互に混入し易く、目標純
度の3,4−DMHまたは3,5−DMHを得るためには、濃縮3,4
−DMH中の3,5−DMH含有量を一定濃度以下に、濃縮3,5−
DMH中の3,4−DMH含有量を一定濃度以下にする必要があ
るためである。
の目的DMH濃度（％） DMHの精製において、純度向上阻害因子が非常に多い
中で、3,4−DMHを目的とする場合に3,5−DMHに、3,5−D
MHを目的とする場合は3,4−DMHに注目する理由は、これ
が他の成分に比べ溶融晶析時相互に混入し易く、目標純
度の3,4−DMHまたは3,5−DMHを得るためには、濃縮3,4
−DMH中の3,5−DMH含有量を一定濃度以下に、濃縮3,5−
DMH中の3,4−DMH含有量を一定濃度以下にする必要があ
るためである。
溶融晶析法の基本は、固液平衡関係である。これにつ
いて実験したところ、温度を下げても液相中の3,4−DMH
濃度または3,5−DMH濃度を30％以下にはできないことを
見い出した。
いて実験したところ、温度を下げても液相中の3,4−DMH
濃度または3,5−DMH濃度を30％以下にはできないことを
見い出した。
すなわち、理論上濃縮3,4−DMH留分中の3,4−DMH濃度
が30％以上、または濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH濃度
が30％以上であれば、30％との差だけ3,4−DMHまたは3,
5−DMHを回収できることになる。
が30％以上、または濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH濃度
が30％以上であれば、30％との差だけ3,4−DMHまたは3,
5−DMHを回収できることになる。
しかし、現実には濃縮3,4−DMH留分中の3,4−DMH濃
度、または濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH濃度を上げな
いと、第１図および第２図に示すとおり回収率が低下す
るため、50％以上、好ましくは60〜70％以上とすること
が望ましい。
度、または濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH濃度を上げな
いと、第１図および第２図に示すとおり回収率が低下す
るため、50％以上、好ましくは60〜70％以上とすること
が望ましい。
一方、3,4−DMHと3,5−DMHは、前記したとおり沸点お
よび融点が近接しているため、蒸留により3,4−DMHと3,
5−DMHを完全に分離することは困難であり、また、溶融
晶析時3,4−DMH結晶に3,5−DMHが、3,5−DMH結晶に3,4
−DMHが混入し易く、著しく相互に結晶純度を低下させ
る恐れがあり、相互に純度低下阻害因子であることが判
明した。
よび融点が近接しているため、蒸留により3,4−DMHと3,
5−DMHを完全に分離することは困難であり、また、溶融
晶析時3,4−DMH結晶に3,5−DMHが、3,5−DMH結晶に3,4
−DMHが混入し易く、著しく相互に結晶純度を低下させ
る恐れがあり、相互に純度低下阻害因子であることが判
明した。
そこで、3,4−DMH留分と3,5−DMH留分の各々につい
て、固液平衡関係を調査したところ、両者の固液平衡線
図は第３図および第４図に示すとおり極めて良く類似し
ていることが判明した。さらに溶融晶析時濃縮3,4−DMH
留分中の3,5−DMHの挙動は、3,5−DMHの固液平衡線図に
よって説明でき、また、濃縮3,5−DMH留分中の3,4−DMH
の挙動は、3,4−DMHの固液平衡線図によって説明できる
ことを究明した。
て、固液平衡関係を調査したところ、両者の固液平衡線
図は第３図および第４図に示すとおり極めて良く類似し
ていることが判明した。さらに溶融晶析時濃縮3,4−DMH
留分中の3,5−DMHの挙動は、3,5−DMHの固液平衡線図に
よって説明でき、また、濃縮3,5−DMH留分中の3,4−DMH
の挙動は、3,4−DMHの固液平衡線図によって説明できる
ことを究明した。
以上の研究結果に基づき検討の結果、高純度の3,4−D
MHまたは3,5−DMHを溶融晶析法により製造するために
は、濃縮3,4−DMH留分中の3,5−DMH濃度を前記（１）式
により、濃縮3,5−DMH留分中の3,4−DMH濃度を前記
（１）式により制限すればよいことを究明した。
MHまたは3,5−DMHを溶融晶析法により製造するために
は、濃縮3,4−DMH留分中の3,5−DMH濃度を前記（１）式
により、濃縮3,5−DMH留分中の3,4−DMH濃度を前記
（１）式により制限すればよいことを究明した。
前記（１）式のＰは、晶析温度によって決まる値であ
るから、それぞれの固液平衡線図から求めることができ
る。したがって、予め晶析温度を設定してＰを求め、前
記（１）式によりＵとｘの関係、すなわち、3,4−DMHを
目的とする場合は、濃縮3,4−DMH留分中の3,4−DMH濃度
と、これに対応する3,5−DMH濃度の限界を求める。ま
た、3,5−DMHを目的とする場合は、濃縮3,5−DMH中の3,
5−DMH濃度と、これに対応する3,4−DMH濃度の限界を求
める。そしてこれに基づいてDMH類含有留分を蒸留し、
濃縮3,4−DMH留分または濃縮3,5−DMH留分を取得するの
である。
るから、それぞれの固液平衡線図から求めることができ
る。したがって、予め晶析温度を設定してＰを求め、前
記（１）式によりＵとｘの関係、すなわち、3,4−DMHを
目的とする場合は、濃縮3,4−DMH留分中の3,4−DMH濃度
と、これに対応する3,5−DMH濃度の限界を求める。ま
た、3,5−DMHを目的とする場合は、濃縮3,5−DMH中の3,
5−DMH濃度と、これに対応する3,4−DMH濃度の限界を求
める。そしてこれに基づいてDMH類含有留分を蒸留し、
濃縮3,4−DMH留分または濃縮3,5−DMH留分を取得するの
である。
また、これとは逆に、既に濃縮3,4−DMH留分または濃
縮3,5−DMH留分がある場合、前記（１）式によりＰを求
め、Ｐに対応する温度以上の晶析温度で溶融晶析すれば
良い。換言すれば（１）式のU,x,Pのうち、二つがわか
れば、蒸留または晶析操作が限定されることになる。
縮3,5−DMH留分がある場合、前記（１）式によりＰを求
め、Ｐに対応する温度以上の晶析温度で溶融晶析すれば
良い。換言すれば（１）式のU,x,Pのうち、二つがわか
れば、蒸留または晶析操作が限定されることになる。
晶析温度は、約−10℃〜60℃の範囲から、目的とする
DMH濃度、回収率、操作性等を考慮して選択する。しか
し、15℃以下で生じる結晶は微細であるため、冷却温度
は15℃以上とするのが好ましい。回収率を高めるために
は、約−10℃まで冷却して限界まで目的とするDMH結晶
を回収し、この結晶をさらに溶融晶析する方法が推奨さ
れる。
DMH濃度、回収率、操作性等を考慮して選択する。しか
し、15℃以下で生じる結晶は微細であるため、冷却温度
は15℃以上とするのが好ましい。回収率を高めるために
は、約−10℃まで冷却して限界まで目的とするDMH結晶
を回収し、この結晶をさらに溶融晶析する方法が推奨さ
れる。
この発明で晶析に供する濃縮3,4−DMH留分または濃縮
3,5−DMH留分を得るための原料としては、コールタール
を蒸留して得られるカルボル油、ナフタレン油、洗浄油
等のコールタール留分を、アルカリ抽出して得られるタ
ール酸を蒸留して得られるDMH留分である。
3,5−DMH留分を得るための原料としては、コールタール
を蒸留して得られるカルボル油、ナフタレン油、洗浄油
等のコールタール留分を、アルカリ抽出して得られるタ
ール酸を蒸留して得られるDMH留分である。
このDMH留分は、前述のとおり多くの不純物を含有し
ており、第５図に示すとおり蒸留のみによって高純度の
3,4−DMHまたは3,5−DMHを回収することはできない。
ており、第５図に示すとおり蒸留のみによって高純度の
3,4−DMHまたは3,5−DMHを回収することはできない。
しかし、この発明においては、残った不純物を溶融晶
析によって除去するので、蒸留操作は容易となる。
析によって除去するので、蒸留操作は容易となる。
したがって、蒸留は通常の蒸留で十分であり、回分蒸
留、連続蒸留またはこれらの組み合わせのいずれでも行
うことができる。また、減圧蒸留、常圧蒸留あるいは加
圧蒸留のいずれも採用できる。しかしながら、得られる
濃縮3,4−DMH留分中の3,5−DMH濃度を前記（１）式を満
足させるよう低減せしめるには、低沸点側成分の混入を
注意しつつ蒸留し、また濃縮3,5−DMH留分中の3,4−DMH
濃度を前記（１）式を満足させるように低減せしめるに
は、高沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留するのが好ま
しい。
留、連続蒸留またはこれらの組み合わせのいずれでも行
うことができる。また、減圧蒸留、常圧蒸留あるいは加
圧蒸留のいずれも採用できる。しかしながら、得られる
濃縮3,4−DMH留分中の3,5−DMH濃度を前記（１）式を満
足させるよう低減せしめるには、低沸点側成分の混入を
注意しつつ蒸留し、また濃縮3,5−DMH留分中の3,4−DMH
濃度を前記（１）式を満足させるように低減せしめるに
は、高沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留するのが好ま
しい。
このようにして得られた濃縮3,4−DMH留分または濃縮
3,5−DMH留分は、ついで溶融晶析させて3,4−DMHまたは
3,5−DMHを分離回収する。この際3,5−DMH濃度または3,
4−DMH濃度が前記（１）式の規定範囲内であっても、3,
4−DMHまたは3,5−DMH濃度が約60％以下では、これを通
常行われる溶融晶析−遠心分離法で処理しても、高純度
品を得ることはできない。これは析出結晶の性状から遠
心分離法で母液を完全に振り切ることが極めて困難なた
めである。したがって、母液に対して適当な溶解性を有
する溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等を用い、結晶を
洗浄することにより高純度の3,4−DMHまたは3,5−DMHを
得ることができる。しかし、溶媒の除去、回収等のプロ
セスが必要となり、かつ装置も複雑になる。
3,5−DMH留分は、ついで溶融晶析させて3,4−DMHまたは
3,5−DMHを分離回収する。この際3,5−DMH濃度または3,
4−DMH濃度が前記（１）式の規定範囲内であっても、3,
4−DMHまたは3,5−DMH濃度が約60％以下では、これを通
常行われる溶融晶析−遠心分離法で処理しても、高純度
品を得ることはできない。これは析出結晶の性状から遠
心分離法で母液を完全に振り切ることが極めて困難なた
めである。したがって、母液に対して適当な溶解性を有
する溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等を用い、結晶を
洗浄することにより高純度の3,4−DMHまたは3,5−DMHを
得ることができる。しかし、溶媒の除去、回収等のプロ
セスが必要となり、かつ装置も複雑になる。
また、遠心分離後の結晶を加熱溶解して冷却（いわゆ
る再溶解溶融晶析）し、高純度の3,4−DMHまたは3,5−D
MHを得ることができる。しかし、操作が繁雑となる欠点
がある。
る再溶解溶融晶析）し、高純度の3,4−DMHまたは3,5−D
MHを得ることができる。しかし、操作が繁雑となる欠点
がある。
したがって、濃縮3,4−DMH留分または濃縮3,5−DMH留
分から連続晶析装置を用い、3,4−DMHまたは3,5−DMHを
分離回収するのが有利である。連続晶析装置としては、
精製効果の優れる向流連続晶析精製装置に属するものが
適当である。
分から連続晶析装置を用い、3,4−DMHまたは3,5−DMHを
分離回収するのが有利である。連続晶析装置としては、
精製効果の優れる向流連続晶析精製装置に属するものが
適当である。
好ましい向流連続晶析精製装置としては、第６図に示
すとおり、竪型塔（１）の中段に原料供給口（２）、上
部に冷却用ジャケツト部（３）、下部に加熱用ジャケツ
ト部（４）を有し、さらに、下端に製品抜き出し口
（５）、上端に母液抜き出し口（６）および塔内全体を
撹拌する撹拌機（７）を設けたものである。
すとおり、竪型塔（１）の中段に原料供給口（２）、上
部に冷却用ジャケツト部（３）、下部に加熱用ジャケツ
ト部（４）を有し、さらに、下端に製品抜き出し口
（５）、上端に母液抜き出し口（６）および塔内全体を
撹拌する撹拌機（７）を設けたものである。
この向流連続晶析精製装置を用いれば、結晶のまわり
に付着した母液は加熱溶解した3,4−DMHまたは3,5−DMH
で洗われるから、特に溶媒を用いることなく、高純度の
3,4−DMHまたは3,5−DMHを分離回収することができる。
に付着した母液は加熱溶解した3,4−DMHまたは3,5−DMH
で洗われるから、特に溶媒を用いることなく、高純度の
3,4−DMHまたは3,5−DMHを分離回収することができる。
［実施例］ 実施例１ コールタール留分からアルカリ抽出により分離された
粗タール酸を蒸留して得たDMHないしトリメチルフェノ
ール留分を、晶析温度を15℃に設定して前記（１）式を
満足させるように精密蒸留し、第１表に示す組成の濃縮
3,4−DMH留分を得た。この濃縮3,4−DMH留分1000部を、
60℃で溶解した。そして析出した結晶を濾別（母液は系
に戻す）しながら撹拌下に徐々に冷却し、最終温度15℃
まで冷却した。なお、濾別した結晶は、ｎ−ヘキサンで
洗浄したのち風乾し、3,4−DMHを回収した。洗浄液はｎ
−ヘキサンを留去したのち母液に戻す操作を繰り返し
た。
粗タール酸を蒸留して得たDMHないしトリメチルフェノ
ール留分を、晶析温度を15℃に設定して前記（１）式を
満足させるように精密蒸留し、第１表に示す組成の濃縮
3,4−DMH留分を得た。この濃縮3,4−DMH留分1000部を、
60℃で溶解した。そして析出した結晶を濾別（母液は系
に戻す）しながら撹拌下に徐々に冷却し、最終温度15℃
まで冷却した。なお、濾別した結晶は、ｎ−ヘキサンで
洗浄したのち風乾し、3,4−DMHを回収した。洗浄液はｎ
−ヘキサンを留去したのち母液に戻す操作を繰り返し
た。
その結果を第１表に示す。第１表の組成は、ガスクロ
マトグラフィーによる分析結果であり、結晶組成は平均
組成で示す。
マトグラフィーによる分析結果であり、結晶組成は平均
組成で示す。
第１表に示すとおり、3,4−DMH濃度と3,5−DMH濃度を
前記（１）式を満足させるよう蒸留して得た濃縮3,4−D
MH留分を、溶融晶析せしめることによって、高純度の3,
4−DMHを高収率で回収することができる。
前記（１）式を満足させるよう蒸留して得た濃縮3,4−D
MH留分を、溶融晶析せしめることによって、高純度の3,
4−DMHを高収率で回収することができる。
実施例２および比較例１ 実施例１と同じDMH〜トリメチルフェノール留分を、
晶析温度を15℃に設定して前記（１）式を満足させるよ
う蒸留し、第２表に示す組成の濃縮3,4−DMH留分を得
た。この濃縮3,4−DMH留分1000部を最終晶析温度を15℃
（実施例２）、５℃（比較例１）とした以外は、実施例
１と同一条件で溶融晶析せしめ、第２表に示す組成の3,
4−DMH結晶を回収した。
晶析温度を15℃に設定して前記（１）式を満足させるよ
う蒸留し、第２表に示す組成の濃縮3,4−DMH留分を得
た。この濃縮3,4−DMH留分1000部を最終晶析温度を15℃
（実施例２）、５℃（比較例１）とした以外は、実施例
１と同一条件で溶融晶析せしめ、第２表に示す組成の3,
4−DMH結晶を回収した。
第２表に示すとおり、3,5−DMHを多量に含有する濃縮
3,4−DMH留分であっても、濃縮3,4−DMH留分中の3,5−D
MH濃度が、前記（１）式を満足させる実施例２の場合
は、高純度の3,4−DMHを回収できるが、晶析温度を下げ
たため前記（１）式を満足させない比較例１の場合は、
高純度の3,4−DMHを回収することはできない。
3,4−DMH留分であっても、濃縮3,4−DMH留分中の3,5−D
MH濃度が、前記（１）式を満足させる実施例２の場合
は、高純度の3,4−DMHを回収できるが、晶析温度を下げ
たため前記（１）式を満足させない比較例１の場合は、
高純度の3,4−DMHを回収することはできない。
実施例３ 実施例１で回収した第１表に示す組成の濃縮3,4−DMH
留分を、第６図に示す連続溶融晶析装置を用いて溶融晶
析せしめ、3,4−DMHを回収した。
留分を、第６図に示す連続溶融晶析装置を用いて溶融晶
析せしめ、3,4−DMHを回収した。
すなわち、前記留分を液状で塔内に重点したのち、塔
底温度を60℃、上部冷却域温度を25℃に保持し、原料の
濃縮3,4−DMH留分装入量量を1000部/hr、製品抜き出し
量を415部/hr、母液抜き出し量を585部/hrに設定し、８
時間連続運転した。この時の製品中の3,4−DMH純度は、
99.99％であった。
底温度を60℃、上部冷却域温度を25℃に保持し、原料の
濃縮3,4−DMH留分装入量量を1000部/hr、製品抜き出し
量を415部/hr、母液抜き出し量を585部/hrに設定し、８
時間連続運転した。この時の製品中の3,4−DMH純度は、
99.99％であった。
実施例４ 実施例１と同じDMHないしトリメチルフェノール留分
を、晶析温度を−10℃に設定し、前記（１）式を満足さ
せるように精密蒸留し、第３表に示す組成の濃縮3,5−D
MH留分を得た。この濃縮3,5−DMH留分1000部を60℃で溶
解した。そして析出した結晶を濾別（母液は系に戻す）
しながら撹拌下に徐々に冷却し、最終温度−10℃まで冷
却した。なお、濾別した結晶は、ｎ−ヘキサンで洗浄し
たのち風乾し、3,5−DMHを回収した。洗浄液はｎ−ヘキ
サンを留去したのち、母液に戻す操作を繰り返した。そ
の結果を第３表に示す。第３表の結晶組成は平均組成で
ある。
を、晶析温度を−10℃に設定し、前記（１）式を満足さ
せるように精密蒸留し、第３表に示す組成の濃縮3,5−D
MH留分を得た。この濃縮3,5−DMH留分1000部を60℃で溶
解した。そして析出した結晶を濾別（母液は系に戻す）
しながら撹拌下に徐々に冷却し、最終温度−10℃まで冷
却した。なお、濾別した結晶は、ｎ−ヘキサンで洗浄し
たのち風乾し、3,5−DMHを回収した。洗浄液はｎ−ヘキ
サンを留去したのち、母液に戻す操作を繰り返した。そ
の結果を第３表に示す。第３表の結晶組成は平均組成で
ある。
第３表に示すとおり、前記（１）式を満足させるよう
蒸留して得た濃縮3,5−DMH留分を溶融せしめることによ
って、高純度の3,5−DMHを回収できる。
蒸留して得た濃縮3,5−DMH留分を溶融せしめることによ
って、高純度の3,5−DMHを回収できる。
実施例５ 実施例４と同じDMHないしトリメチルフェノール留分
を、晶析温度を−15℃に設定して前記（１）式を満足さ
せるよう精密蒸留し、第４表に示す組成の濃縮3,5−DMH
留分を得た。この濃縮3,5−DMH留分1000部を実施例４と
同一条件で溶融晶析せしめ、3,5−DMHを回収した。その
結果を第４表に示す。
を、晶析温度を−15℃に設定して前記（１）式を満足さ
せるよう精密蒸留し、第４表に示す組成の濃縮3,5−DMH
留分を得た。この濃縮3,5−DMH留分1000部を実施例４と
同一条件で溶融晶析せしめ、3,5−DMHを回収した。その
結果を第４表に示す。
第４表に示すとおり、3,5−DMH濃度を高めると共に、
3,4−DMH濃度を前記（２）式を満足させるよう低減せし
めた濃縮3,5−DMH留分を用いることにより、3,5−DMHの
回収率を高めることができる。
3,4−DMH濃度を前記（２）式を満足させるよう低減せし
めた濃縮3,5−DMH留分を用いることにより、3,5−DMHの
回収率を高めることができる。
実施例６ 実施例４と同じDMHないしトリメチルフェノール留分
を、前記（１）式を満足させると共に、実施例４および
５よりも3,5−DMH濃度が高くなるよう精密蒸留し、第５
表に示す組成の濃縮3,5−DMH留分を得た。この濃縮3,5
−DMH留分1000部を、晶析最終温度を20℃としたした以
外は、実施例４と同一操作により溶融晶析せしめた。そ
の結果を第５表に示す。なお、ｎ−ヘキサンで洗浄前の
3,5−DMH結晶の性状も併せて第５表に示す。
を、前記（１）式を満足させると共に、実施例４および
５よりも3,5−DMH濃度が高くなるよう精密蒸留し、第５
表に示す組成の濃縮3,5−DMH留分を得た。この濃縮3,5
−DMH留分1000部を、晶析最終温度を20℃としたした以
外は、実施例４と同一操作により溶融晶析せしめた。そ
の結果を第５表に示す。なお、ｎ−ヘキサンで洗浄前の
3,5−DMH結晶の性状も併せて第５表に示す。
第５表に示すとおり、濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH
濃度を高めることにより、回収する3,5−DMH結晶の純度
が向上すると共に、回収率も大巾に上昇せしめることが
できる。
濃度を高めることにより、回収する3,5−DMH結晶の純度
が向上すると共に、回収率も大巾に上昇せしめることが
できる。
実施例７および比較例２ 第６表に示す組成のDMHないしトリメチルフェノール
留分を、晶析温度を15℃に設定して前記（１）式を満足
させるよう精密蒸留し、第６表に示す組成の濃縮3,5−D
MH留分を得た。この濃縮3,5−DMH留分1000部を、最終晶
析温度を15℃（実施例７）および前記（１）式を満足さ
せない５℃（比較例２）とした以外は、実施例４と同一
条件で溶融晶析し、それぞれ第６表に示す性状の3,5−D
MH結晶を回収した。
留分を、晶析温度を15℃に設定して前記（１）式を満足
させるよう精密蒸留し、第６表に示す組成の濃縮3,5−D
MH留分を得た。この濃縮3,5−DMH留分1000部を、最終晶
析温度を15℃（実施例７）および前記（１）式を満足さ
せない５℃（比較例２）とした以外は、実施例４と同一
条件で溶融晶析し、それぞれ第６表に示す性状の3,5−D
MH結晶を回収した。
第６表に示すとおり、3,4−DMHを30％と多量に含む濃
縮3,5−DMH留分から、3,5−DMHを回収する場合であって
も、前記（１）式を満足させる実施例７の場合は、高純
度の3,5−DMHを回収できるのに対し、晶析温度を下げて
前記（１）式を満足させなくした比較例２の場合は、3,
5−DMHの純度が大巾に低減している。
縮3,5−DMH留分から、3,5−DMHを回収する場合であって
も、前記（１）式を満足させる実施例７の場合は、高純
度の3,5−DMHを回収できるのに対し、晶析温度を下げて
前記（１）式を満足させなくした比較例２の場合は、3,
5−DMHの純度が大巾に低減している。
実施例８ 実施例５で使用した濃縮3,5−DMH留分を、第６図に示
す連続溶融晶析装置を用い、溶融晶析せしめた。すなわ
ち、この装置の塔内に前記濃縮3,5−DMH留分を液状で充
填し、塔底温度を60℃、冷却域温度を30℃に保持したの
ち、濃縮3,5−DMH留分装入量を1000部/hr、製品抜き出
し量を250部/hr、母液抜き出し量を750部/hrに設定し、
８時間運転した。８時間運転後の製品3,5−DMHは、純度
99.98％であった。
す連続溶融晶析装置を用い、溶融晶析せしめた。すなわ
ち、この装置の塔内に前記濃縮3,5−DMH留分を液状で充
填し、塔底温度を60℃、冷却域温度を30℃に保持したの
ち、濃縮3,5−DMH留分装入量を1000部/hr、製品抜き出
し量を250部/hr、母液抜き出し量を750部/hrに設定し、
８時間運転した。８時間運転後の製品3,5−DMHは、純度
99.98％であった。
第１図は、溶融晶析後の母液中の3,4−DMH濃度が30％と
なるまで最終晶析温度を低下した場合の濃縮3,4−DMH留
分中の3,4−DMH濃度と、3,4−DMHの回収率との関係を示
す線図、第２図は、溶融晶析後の母液中の3,5−DMH濃度
が30％となるまで、最終晶析温度を低下せしめた場合の
濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH濃度と、3,5−DMH回収率
との関係を示す線図、第３図は、3,4−DMHの固液平衡線
図、第４図は、3,5−DMHの固液平衡線図、第５図は、DM
H含有留分を理論段数60段の蒸留装置を用い、100mmAq、
還流比20で蒸留した場合の蒸留曲線、第６図は、向流連
続溶融晶析精製装置の一例を示す説明図である。 １……竪型塔、２……原料供給口、 ３……冷却用ジャケツト部、 ４……加熱用ジャレット部、 ５……製品抜き出し口、６……母液抜き出し口、 ７……撹拌機、
なるまで最終晶析温度を低下した場合の濃縮3,4−DMH留
分中の3,4−DMH濃度と、3,4−DMHの回収率との関係を示
す線図、第２図は、溶融晶析後の母液中の3,5−DMH濃度
が30％となるまで、最終晶析温度を低下せしめた場合の
濃縮3,5−DMH留分中の3,5−DMH濃度と、3,5−DMH回収率
との関係を示す線図、第３図は、3,4−DMHの固液平衡線
図、第４図は、3,5−DMHの固液平衡線図、第５図は、DM
H含有留分を理論段数60段の蒸留装置を用い、100mmAq、
還流比20で蒸留した場合の蒸留曲線、第６図は、向流連
続溶融晶析精製装置の一例を示す説明図である。 １……竪型塔、２……原料供給口、 ３……冷却用ジャケツト部、 ４……加熱用ジャレット部、 ５……製品抜き出し口、６……母液抜き出し口、 ７……撹拌機、
Claims (1)
- 【請求項１】3,4−ジメチルフェノールおよび3,5−ジメ
チルフェノールを含有するジメチルフェノール類含有留
分を原料とし、3,4−ジメチルフェノールを目的ジメチ
ルフェノールとして、非目的ジメチルフェノールである
3,5−ジメチルフェノールから分離し、または3,5−ジメ
チルフェノールを目的ジメチルフェノールとして、非目
的ジメチルフェノールである3,4−ジメチルフェノール
から分離する方法において、ジメチルフェノール類含有
留分を、目的ジメチルフェノール濃度35重量％以上で、
かつ非目的ジメチルフェノール濃度（Ｕ）が（１）式で
示す範囲となるように蒸留して濃縮ジメチルフェノール
留分を回収し、これを溶融晶析して目的ジメチルフェノ
ールを分離することを特徴とするジメチルフェノールの
精製方法。 Ｕ≦（100−ｘ）（P/（100−ｐ）） …（１） ただし、U:濃縮ジメチルフェノール留分中の非目的ジメ
チルフェノール濃度（％） x:濃縮ジメチルフェノール留分中の目的ジメチルフェノ
ール濃度（％） P:目的ジメチルフェノールの固液平衡線図から求めた晶
析温度での液中の目的ジメチルフェノール濃度（％）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5566387A JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5566387A JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63222137A JPS63222137A (ja) | 1988-09-16 |
| JP2501106B2 true JP2501106B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=13005088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5566387A Expired - Lifetime JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501106B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03127751A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-05-30 | Sumikin Chem Co Ltd | ジメチルフェノールの精製方法 |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5566387A patent/JP2501106B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63222137A (ja) | 1988-09-16 |
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