JPS63222137A - ジメチルフエノ−ルの精製方法 - Google Patents
ジメチルフエノ−ルの精製方法Info
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- JPS63222137A JPS63222137A JP5566387A JP5566387A JPS63222137A JP S63222137 A JPS63222137 A JP S63222137A JP 5566387 A JP5566387 A JP 5566387A JP 5566387 A JP5566387 A JP 5566387A JP S63222137 A JPS63222137 A JP S63222137A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、３，４−ジメチルフェノール（以下ｒ３．
４−ＤＭＨＪという）と３．５−ジメチルフェノール（
以下ｒ３，５−ＤＭＨ，という）の含有量の少ないジメ
チルフェノール類（以下ｒＤＭＨ類」と、いう）含有留
分番原料とし、蒸留によって特定の組成範囲の濃縮３．
４−ＤＭＨ留分または濃縮３．５−ＤＭＨ留分を回収し
、これを溶融晶析させて高純度の３．４−ＤＭＨまたは
３゜５−ＤＭＨを分離回収する方法に関する。
４−ＤＭＨＪという）と３．５−ジメチルフェノール（
以下ｒ３，５−ＤＭＨ，という）の含有量の少ないジメ
チルフェノール類（以下ｒＤＭＨ類」と、いう）含有留
分番原料とし、蒸留によって特定の組成範囲の濃縮３．
４−ＤＭＨ留分または濃縮３．５−ＤＭＨ留分を回収し
、これを溶融晶析させて高純度の３．４−ＤＭＨまたは
３゜５−ＤＭＨを分離回収する方法に関する。
［従来技術］
３．４−ＤＭＨは、沸点２２６．９℃、融点６５℃の白
色結晶で、また３、５−ＤＭＨは、沸点２２１．７℃、
融点６３℃の白色結晶である。３．４−ＤＭＨ１３，５
−ＤＭＨは、コールタール留分であるカルポル油、ナ、
フタレン油、°洗浄油からアルカリ抽出して得られるタ
ール酸の中に含まれている化合物の一つである。３．４
−ＤＭＨ’、３．５−ＤＭ）（は、フェノール樹脂、有
機合成薬品、農薬等の原料として使用されて−ｉる。
色結晶で、また３、５−ＤＭＨは、沸点２２１．７℃、
融点６３℃の白色結晶である。３．４−ＤＭＨ１３，５
−ＤＭＨは、コールタール留分であるカルポル油、ナ、
フタレン油、°洗浄油からアルカリ抽出して得られるタ
ール酸の中に含まれている化合物の一つである。３．４
−ＤＭＨ’、３．５−ＤＭ）（は、フェノール樹脂、有
機合成薬品、農薬等の原料として使用されて−ｉる。
コールタールは、蒸留により軽油、カルポル油、ナフタ
レン油、洗浄油および低軟化点のピッチ等に分離し、各
留分から必要に応じ、蒸留、抽出、晶析等の手段により
有用な製品を回収している。
レン油、洗浄油および低軟化点のピッチ等に分離し、各
留分から必要に応じ、蒸留、抽出、晶析等の手段により
有用な製品を回収している。
カルポル油、ナフタレン油、洗浄油等からアルカリ抽出
で分離されたタール酸は、蒸留によりフェノール、０−
メチルフェノール、ｍ、Ｐ−メチルフェノールおよびジ
メチルフェノール（以下「ＤＭＨＪという）留分に分離
精製される。
で分離されたタール酸は、蒸留によりフェノール、０−
メチルフェノール、ｍ、Ｐ−メチルフェノールおよびジ
メチルフェノール（以下「ＤＭＨＪという）留分に分離
精製される。
このうち、ＤＭＨ留分には、６種類のＤＭＨ異性体のほ
か、エチルフェノール類、トリメチルフェノール類等が
含有されている。
か、エチルフェノール類、トリメチルフェノール類等が
含有されている。
このＤＭＨ留分を精密蒸留しても、これらの沸点が接近
しているため、通常の精密蒸留では高純度の３．４−Ｄ
ＭＨや３．５−ＤＭＨを得ることができず、特殊な高い
段数をもった精留塔を使用し、高い還流比で蒸留しても
、高純度の３，４−ＤＭＨや３．５−ＤＭＨを得ること
ができない。
しているため、通常の精密蒸留では高純度の３．４−Ｄ
ＭＨや３．５−ＤＭＨを得ることができず、特殊な高い
段数をもった精留塔を使用し、高い還流比で蒸留しても
、高純度の３，４−ＤＭＨや３．５−ＤＭＨを得ること
ができない。
一般に蒸留による分離が困難な場合、目的成分を晶析に
よって分離することはよく知られた操作である。しかし
ながら、本発明者等の研究によれば、前記ＤＭＨ類含有
留分、例えば、タール留分から抽出されたタール酸を蒸
留して得なりＭＨ留分を精密蒸留し、単に３．４−ＤＭ
Ｈ含有量を高めた濃縮３．４−ＤＭＨ留分、または単に
３，５−ＤＭＨ含有量を高めた濃縮３．５−ＤＭＨ留分
を回収し、各留分を攪拌しながら冷却して結晶を析出せ
しめ、得られたスラリーを遠心分離機にかけて結晶と母
液に分離する方法では、高純度の３．４−ＤＭＨまたは
３．５−ＤＭＨを得ることができないことが判明した。
よって分離することはよく知られた操作である。しかし
ながら、本発明者等の研究によれば、前記ＤＭＨ類含有
留分、例えば、タール留分から抽出されたタール酸を蒸
留して得なりＭＨ留分を精密蒸留し、単に３．４−ＤＭ
Ｈ含有量を高めた濃縮３．４−ＤＭＨ留分、または単に
３，５−ＤＭＨ含有量を高めた濃縮３．５−ＤＭＨ留分
を回収し、各留分を攪拌しながら冷却して結晶を析出せ
しめ、得られたスラリーを遠心分離機にかけて結晶と母
液に分離する方法では、高純度の３．４−ＤＭＨまたは
３．５−ＤＭＨを得ることができないことが判明した。
晶析法を用いて高純度製品を得る場合、純度向上を阻害
する要因は、共融混合物の生成と固溶体の生成とであり
、さらに一般に用いられる遠心分離法では、結晶に付着
する母液の残留が問題となる。
する要因は、共融混合物の生成と固溶体の生成とであり
、さらに一般に用いられる遠心分離法では、結晶に付着
する母液の残留が問題となる。
［解決しようとする問題点］
この発明は、前記ＤＭＨ類含有留分から高純度の３．４
−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを、高収率で回収できる
ＤＭＨの精製方法を提供するものである。
−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを、高収率で回収できる
ＤＭＨの精製方法を提供するものである。
［問題点を解決するための手段］
本発明者等は、ＤＭＨ類含有留分から３．４−ＤＭＨま
たは３．５−ＤＭＨを高純度で回収するについて鋭意研
究の結果、ＤＭＨ類含有留分を蒸留濃縮し、晶析原料の
濃１１３．４−ＤＭＨまたは濃縮３．５−ＤＭＨ留分を
回収するにあたり、単に３．４−ＤＭＨまたは３．５−
ＤＭＨ含有量を高めることのみを目的とするのではなく
、同時に３．５−ＤＭＨまたは３．４−ＤＭＨの含有量
を規制して蒸留し、得られた濃縮３．４−ＤＭＨまたは
濃″縮３．５−ＤＭＨ留分を、溶融晶析することによっ
て初めて高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨ
を分離回収できることを究明した。
たは３．５−ＤＭＨを高純度で回収するについて鋭意研
究の結果、ＤＭＨ類含有留分を蒸留濃縮し、晶析原料の
濃１１３．４−ＤＭＨまたは濃縮３．５−ＤＭＨ留分を
回収するにあたり、単に３．４−ＤＭＨまたは３．５−
ＤＭＨ含有量を高めることのみを目的とするのではなく
、同時に３．５−ＤＭＨまたは３．４−ＤＭＨの含有量
を規制して蒸留し、得られた濃縮３．４−ＤＭＨまたは
濃″縮３．５−ＤＭＨ留分を、溶融晶析することによっ
て初めて高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨ
を分離回収できることを究明した。
すなわちこの発明は、ＤＭＨ類含有留分を目的ＤＭＨ濃
度５０重量％以上で、かつ、井目的ＤＭＨ濃度（Ｕ）が
（１）式で示す範囲となるように蒸留して濃縮ＤＭＨ留
分を回収し、これを溶融晶析して目的ＤＭＨを分離する
ことを要旨とする。
度５０重量％以上で、かつ、井目的ＤＭＨ濃度（Ｕ）が
（１）式で示す範囲となるように蒸留して濃縮ＤＭＨ留
分を回収し、これを溶融晶析して目的ＤＭＨを分離する
ことを要旨とする。
Ｕ≦（１００−ｘ）（Ｐ／ （１００−Ｐ））＝・（１
）ただし、Ｕ：濃縮ＤＭＨ留分中の非目的ＤＭＨ濃度（
％） Ｘ：濃縮ＤＭＨ留分中の目的ＤＭＨ濃 度（％） Ｐ：目的ＤＭＨの固液平衡線図から求 めた晶析温度での液中の目的ＤＭ Ｈ濃度（％） そして、目的ＤＭＨが３．４−ＤＭＨである場合は、非
目的ＤＭＨが３．５−ＤＭＨであり、目的ＤＭＨが３．
５−ＤＭＨの場合は、非目的ＤＭＨが３．４−ＤＭＨで
ある。
）ただし、Ｕ：濃縮ＤＭＨ留分中の非目的ＤＭＨ濃度（
％） Ｘ：濃縮ＤＭＨ留分中の目的ＤＭＨ濃 度（％） Ｐ：目的ＤＭＨの固液平衡線図から求 めた晶析温度での液中の目的ＤＭ Ｈ濃度（％） そして、目的ＤＭＨが３．４−ＤＭＨである場合は、非
目的ＤＭＨが３．５−ＤＭＨであり、目的ＤＭＨが３．
５−ＤＭＨの場合は、非目的ＤＭＨが３．４−ＤＭＨで
ある。
ＤＭＨの精製において、純度向上阻害因子が非常に多い
中で、３．４−ＤＭＨを目的とする場合に３．５−ＤＭ
Ｈに、３．５−ＤＭＨを目的とする場合は３．４−ＤＭ
Ｈに注目する理由は、これが他の成分に比べ溶融晶析時
相互に混入し易く、目標純度の３．４−ＤＭＨまたは３
．５−ＤＭＨを得るためには、濃縮３．４−ＤＭＨ中の
３，５−ＤＭＨ含有量を一定濃度以下に、濃縮３．５−
ＤＭＨ中の３．４−ＤＭＨ含有量を一定濃度以下にする
必要があるためである。
中で、３．４−ＤＭＨを目的とする場合に３．５−ＤＭ
Ｈに、３．５−ＤＭＨを目的とする場合は３．４−ＤＭ
Ｈに注目する理由は、これが他の成分に比べ溶融晶析時
相互に混入し易く、目標純度の３．４−ＤＭＨまたは３
．５−ＤＭＨを得るためには、濃縮３．４−ＤＭＨ中の
３，５−ＤＭＨ含有量を一定濃度以下に、濃縮３．５−
ＤＭＨ中の３．４−ＤＭＨ含有量を一定濃度以下にする
必要があるためである。
溶融晶析法の基本は、固液平衡関係である。これについ
て実験したところ、温度を下げても液相中の３．４−Ｄ
ＭＨ濃度または３．５−ＤＭＨ濃度を３０％以下にはで
きないことを見い出した。
て実験したところ、温度を下げても液相中の３．４−Ｄ
ＭＨ濃度または３．５−ＤＭＨ濃度を３０％以下にはで
きないことを見い出した。
すなわち、理論上濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３．４−
ＤＭＨ濃度が３０％以上、または濃縮３゜５−ＤＭＨ留
分中の３．５−ＤＭＨ濃度が３０％以上であれば、３０
％との差だけ３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを回
収できることになる。
ＤＭＨ濃度が３０％以上、または濃縮３゜５−ＤＭＨ留
分中の３．５−ＤＭＨ濃度が３０％以上であれば、３０
％との差だけ３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを回
収できることになる。
しかし、現実には濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３．４−
ＤＭＨ濃度、または濃縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．５
−ＤＭＨ濃度を上げないと、第１図および第２図に示す
とおり回収率が低下するため、５０％以上、好ましくは
６０〜７０％以上とすることが望ましい。
ＤＭＨ濃度、または濃縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．５
−ＤＭＨ濃度を上げないと、第１図および第２図に示す
とおり回収率が低下するため、５０％以上、好ましくは
６０〜７０％以上とすることが望ましい。
一方、３．４−ＤＭＨと３．５−ＤＭＨは、前記したと
おり沸点および融点が近接しているため、蒸留により３
．４−ＤＭＨと３．５−ＤＭＨを完全に分離することは
困難であり、また、溶融晶析時３，４−ＤＭＨ結晶に３
．５−ＤＭＨが、３゜５−ＤＭＨ結晶に３．４−ＤＭＨ
が混入し易く、著しく相互に結晶純度を低下させる恐れ
があり、相互に純度低下阻害因子であることが判明した
。
おり沸点および融点が近接しているため、蒸留により３
．４−ＤＭＨと３．５−ＤＭＨを完全に分離することは
困難であり、また、溶融晶析時３，４−ＤＭＨ結晶に３
．５−ＤＭＨが、３゜５−ＤＭＨ結晶に３．４−ＤＭＨ
が混入し易く、著しく相互に結晶純度を低下させる恐れ
があり、相互に純度低下阻害因子であることが判明した
。
そこで、３．４−ＤＭＨ留分と３．５−ＤＭＨ留分の各
々について、固液平衡関係を調査したところ、両者の固
液平衡線図は第３図および第４図に示すとおり極めて良
く類似していることが判明した。さらに溶融晶析時濃縮
３．４−ＤＭＨ留分中の３．５−ＤＭＨの挙動は、３．
５−ＤＭＨの固液平衡線図によって説明でき、また、濃
縮３゜５−ＤＭＨ留分中の３．４−ＤＭＨの挙動は、３
゜４−ＤＭＨの固液平衡線図によって説明できることを
究明した。
々について、固液平衡関係を調査したところ、両者の固
液平衡線図は第３図および第４図に示すとおり極めて良
く類似していることが判明した。さらに溶融晶析時濃縮
３．４−ＤＭＨ留分中の３．５−ＤＭＨの挙動は、３．
５−ＤＭＨの固液平衡線図によって説明でき、また、濃
縮３゜５−ＤＭＨ留分中の３．４−ＤＭＨの挙動は、３
゜４−ＤＭＨの固液平衡線図によって説明できることを
究明した。
以上の研究結果に基づき検討の結果、高純度の３．４−
ＤＭＨまたは３，５−ＤＭＨを溶融晶析法により製造す
るためには、濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３．５−ＤＭ
Ｈ濃度を前記（１）式により、濃縮３．５−ＤＭＨ留分
中の３．４−ＤＭＨ濃度を前記（１）式により制限すれ
ばよいことを究明した。
ＤＭＨまたは３，５−ＤＭＨを溶融晶析法により製造す
るためには、濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３．５−ＤＭ
Ｈ濃度を前記（１）式により、濃縮３．５−ＤＭＨ留分
中の３．４−ＤＭＨ濃度を前記（１）式により制限すれ
ばよいことを究明した。
前記（１）式のＰは、晶析温度によって決まる値である
から、それぞれの固液平衡線図から求めることができる
。したがって、予め晶析温度を設定してＰを求め、前記
（１）式によりＵとＸの関係、すなわち、３．４−ＤＭ
Ｈを目的とする場合は、濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３
．４−ＤＭＨ濃度と、これに対応する３、５−ＤＭＨ濃
度の限界を 。
から、それぞれの固液平衡線図から求めることができる
。したがって、予め晶析温度を設定してＰを求め、前記
（１）式によりＵとＸの関係、すなわち、３．４−ＤＭ
Ｈを目的とする場合は、濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３
．４−ＤＭＨ濃度と、これに対応する３、５−ＤＭＨ濃
度の限界を 。
求める。また、３．５−ＤＭＨを目的とする場合は、濃
縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．５−ＤＭＨ濃度と、これ
に対応する３、４−ＤＭＨ濃度の限界を求める。そして
これに基づいてＤＭＨ類含有留分を蒸留し、濃縮３．４
−ＤＭＨ留分または濃縮３．５−ＤＭＨ留分を取得する
のである。
縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．５−ＤＭＨ濃度と、これ
に対応する３、４−ＤＭＨ濃度の限界を求める。そして
これに基づいてＤＭＨ類含有留分を蒸留し、濃縮３．４
−ＤＭＨ留分または濃縮３．５−ＤＭＨ留分を取得する
のである。
また、これとは逆に、既に濃縮３．４−ＤＭＨ留分また
は濃縮３．５−ＤＭＨ留分がある場合、前記（１）式に
よりＰを求め、Ｐに対応する温度以上の晶析温度で溶融
晶析すれば良い、換言すれば（１）式のＵ、ｘ、Ｐのう
ち、二つがわかれば、蒸留または晶析操作が限定される
ことになる。
は濃縮３．５−ＤＭＨ留分がある場合、前記（１）式に
よりＰを求め、Ｐに対応する温度以上の晶析温度で溶融
晶析すれば良い、換言すれば（１）式のＵ、ｘ、Ｐのう
ち、二つがわかれば、蒸留または晶析操作が限定される
ことになる。
晶析温度は、約−１０℃〜６０℃の範囲から、目的とす
るＤＭＨ濃度、回収率、操作性等を考慮して選択する。
るＤＭＨ濃度、回収率、操作性等を考慮して選択する。
しかし、１５℃以下で生じる結晶は微細であるため、冷
却温度は１５℃以上とするのが好ましい０回収率を高め
るためには、約−１０℃まで冷却し、て限界まで目的と
するＤＭＨ結晶を回収し、この結晶をさらに溶融晶析す
る方法が推奨される。
却温度は１５℃以上とするのが好ましい０回収率を高め
るためには、約−１０℃まで冷却し、て限界まで目的と
するＤＭＨ結晶を回収し、この結晶をさらに溶融晶析す
る方法が推奨される。
この発明で晶析に供する濃縮３．４−ＤＭＨ留分または
濃縮３．５−ＤＭＨ留分を得るための原料としては、コ
ールタールを蒸留して得られるカルポル油、ナフタレン
油、洗浄油等のコールタール留分を、アルカリ抽出して
得られるタール酸を蒸留して得られるＤＭＨ留分である
。
濃縮３．５−ＤＭＨ留分を得るための原料としては、コ
ールタールを蒸留して得られるカルポル油、ナフタレン
油、洗浄油等のコールタール留分を、アルカリ抽出して
得られるタール酸を蒸留して得られるＤＭＨ留分である
。
このＤＭＨ留分は、前述のとおり多くの不純物を含有し
ており、第５図に示すとおり蒸留のみによって高純度の
３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを回収することは
できない。
ており、第５図に示すとおり蒸留のみによって高純度の
３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを回収することは
できない。
しかし、この発明においては、残った不純物を溶融晶析
によって除去するので、蒸留操作は容易となる。
によって除去するので、蒸留操作は容易となる。
したがって、蒸留は通常の蒸留で十分であり、回分蒸留
、連続蒸留またはこれらの組み合わせのいずれでも行う
ことができる。また、減圧蒸留、常圧蒸留あるいは加圧
蒸留のいずれも採用できる。
、連続蒸留またはこれらの組み合わせのいずれでも行う
ことができる。また、減圧蒸留、常圧蒸留あるいは加圧
蒸留のいずれも採用できる。
しかしながら、得られる濃縮３．４−ＤＭＨ留分中の３
．５−ＤＭＨ濃度を前記（１）式を満足させるよう低減
せしめるには、低沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留し
、また濃縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．４−ＤＭＨ濃度
を前記（１）式を満足させるように低減せしめるには、
高沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留するのが好ましい
。
．５−ＤＭＨ濃度を前記（１）式を満足させるよう低減
せしめるには、低沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留し
、また濃縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．４−ＤＭＨ濃度
を前記（１）式を満足させるように低減せしめるには、
高沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留するのが好ましい
。
このようにして得られた濃縮３．４−ＤＭＨ留分または
濃［３，５−ＤＭＨ留分は、ついで溶融晶析させて３．
４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを分離回収する。この
際３．５−ＤＭＨ濃度または３．４−ＤＭ）Ｉ濃度が前
記（１）式の規定範囲内であっても、３．４−ＤＭＨま
たは３．５−ＤＭＨ濃度が約６０％以下では、これを通
常行われる溶融晶析−遠心分離法で処理しても、高純度
品を得ることはできない、これは析出結晶の性状から遠
心分離法で母液を完全に振り切ることが極めて困難なた
めである。したがって、母液に対して適当な溶解性を有
する溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等を用い、結晶を
洗浄することにより高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．
５−ＤＭＨを得ることができる。しかし、溶媒の除去、
回収等のプロセスが必要となり、かつ装置も複雑になる
。
濃［３，５−ＤＭＨ留分は、ついで溶融晶析させて３．
４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを分離回収する。この
際３．５−ＤＭＨ濃度または３．４−ＤＭ）Ｉ濃度が前
記（１）式の規定範囲内であっても、３．４−ＤＭＨま
たは３．５−ＤＭＨ濃度が約６０％以下では、これを通
常行われる溶融晶析−遠心分離法で処理しても、高純度
品を得ることはできない、これは析出結晶の性状から遠
心分離法で母液を完全に振り切ることが極めて困難なた
めである。したがって、母液に対して適当な溶解性を有
する溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等を用い、結晶を
洗浄することにより高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．
５−ＤＭＨを得ることができる。しかし、溶媒の除去、
回収等のプロセスが必要となり、かつ装置も複雑になる
。
したがって、濃縮３．４−ＤＭＨ留分または濃縮３．５
−ＤＭＨ留分から連続晶析装置を用い、３．４−ＤＭＨ
または３．５−ＤＭＨを分離回収するのが有利である。
−ＤＭＨ留分から連続晶析装置を用い、３．４−ＤＭＨ
または３．５−ＤＭＨを分離回収するのが有利である。
連続晶析装置としては、精製効果の優れる向流連続晶析
精製装置に属するものが適当である。
精製装置に属するものが適当である。
好ましい向流連続晶析精製装置としては、第６図に示す
とおり、竪型塔（１）の中段に原料供給口（２〉、上部
に冷却用ジャケット部（３）、下部に加熱用ジャケット
部（４）を有し、さらに、下端に製品抜き出し口（５）
、上端に母液抜き出し口（６）および塔内全体を攪拌す
る攪拌機（７）を設けたものである。
とおり、竪型塔（１）の中段に原料供給口（２〉、上部
に冷却用ジャケット部（３）、下部に加熱用ジャケット
部（４）を有し、さらに、下端に製品抜き出し口（５）
、上端に母液抜き出し口（６）および塔内全体を攪拌す
る攪拌機（７）を設けたものである。
この向流連続晶析精製装置を用いれば、結晶のまわりに
付着した母液は加熱融解した３、４−ＤＭＨまたは３．
５−ＤＭＨで洗われるから、特に溶媒を用いることなく
、高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを分離
回収することができる。
付着した母液は加熱融解した３、４−ＤＭＨまたは３．
５−ＤＭＨで洗われるから、特に溶媒を用いることなく
、高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．５−ＤＭＨを分離
回収することができる。
［実施例］
実施例１
コールタール留分からアルカリ抽出により分離された粗
タール酸を蒸留して得たＤＭＨないしトリメチルフェノ
ール留分を、晶析温度を１５℃に設定して前記（１）式
を満足させるように精密蒸留し、第１表に示す組成の濃
縮３．４−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．４−ＤＭＨ
留分１０００部を、６０℃で溶解した。そして析出した
結晶を濾別（母液は系に戻す）しながら攪拌下に徐々に
冷却し、最終温度１５℃まで冷却した。なお、濾別した
結晶は、ｎ−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、３．４−
ＤＭＨを回収した。洗浄液はｎ−ヘキサンを留去したの
ち母液に戻す操作を繰り返した。
タール酸を蒸留して得たＤＭＨないしトリメチルフェノ
ール留分を、晶析温度を１５℃に設定して前記（１）式
を満足させるように精密蒸留し、第１表に示す組成の濃
縮３．４−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．４−ＤＭＨ
留分１０００部を、６０℃で溶解した。そして析出した
結晶を濾別（母液は系に戻す）しながら攪拌下に徐々に
冷却し、最終温度１５℃まで冷却した。なお、濾別した
結晶は、ｎ−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、３．４−
ＤＭＨを回収した。洗浄液はｎ−ヘキサンを留去したの
ち母液に戻す操作を繰り返した。
その結果を第１表に示す、第１表の組成は、ガスクロマ
トグラフィーによる分析結果であり、結晶組成は平均組
成で示す。
トグラフィーによる分析結果であり、結晶組成は平均組
成で示す。
第１表に示すとおり、３．４−ＤＭＨ濃度と３．５−Ｄ
ＭＨ濃度を前記（１）式を満足させるよう蒸留して得た
濃縮３．４−ＤＭＨ留分を、溶融晶析せしめることによ
って、高純度の３．４−ＤＭＨを高収率で回収すること
ができる。
ＭＨ濃度を前記（１）式を満足させるよう蒸留して得た
濃縮３．４−ＤＭＨ留分を、溶融晶析せしめることによ
って、高純度の３．４−ＤＭＨを高収率で回収すること
ができる。
実施例２および比較例１
実施例１と同じＤＭＨ〜トリメチルフェノール留分を、
晶析温度を１５℃に設定して前記（１〉式を満足させる
よう蒸留し、第２表に示す組成の濃縮３．４−ＤＭＨ留
分を得た。この濃縮３，４−ＤＭＨ留分１０００部を最
終晶析温度を１５℃（実施例２）、５℃（比較例１）と
した以外は、実施例１と同一条件で溶融晶析せしめ、第
２表に示す組成の３．４−ＤＭＨ結晶を回収した。
晶析温度を１５℃に設定して前記（１〉式を満足させる
よう蒸留し、第２表に示す組成の濃縮３．４−ＤＭＨ留
分を得た。この濃縮３，４−ＤＭＨ留分１０００部を最
終晶析温度を１５℃（実施例２）、５℃（比較例１）と
した以外は、実施例１と同一条件で溶融晶析せしめ、第
２表に示す組成の３．４−ＤＭＨ結晶を回収した。
第２表に示すとおり、３．５−ＤＭＨを多量に含有する
濃縮３．４−ＤＭＨ留分てあっても、濃縮３．４−ＤＭ
Ｈ留分中の３．５−ＤＭＨ濃度が、前記（１）式を満足
させる実施例２の場合は、高純度の３．４−ＤＭＨを回
収できるが、晶析温度を下げたため前記（１）式を満足
させない比較例１の場合は、高純度の３．４−ＤＭＨを
回収することはできない。
濃縮３．４−ＤＭＨ留分てあっても、濃縮３．４−ＤＭ
Ｈ留分中の３．５−ＤＭＨ濃度が、前記（１）式を満足
させる実施例２の場合は、高純度の３．４−ＤＭＨを回
収できるが、晶析温度を下げたため前記（１）式を満足
させない比較例１の場合は、高純度の３．４−ＤＭＨを
回収することはできない。
第 ２ 表 （単位二％）実施例３
実施例１で回収した第１表に示す組成の濃縮３゜４−Ｄ
ＭＨ留分を、第６図に示す連続溶融晶析装置を用いて溶
融晶析せしめ、３．４−ＤＭＨを回収した。
ＭＨ留分を、第６図に示す連続溶融晶析装置を用いて溶
融晶析せしめ、３．４−ＤＭＨを回収した。
すなわち、前記留分を液状で塔内に重点したのち、塔底
温度を６０℃、上部冷却域温度を２５℃に保持し、原料
の濃縮３．４−ＤＭＨ留分装入量量を１０００部／ ｈ
ｒ 、製品抜き出し量を４１５部／ ｈ ｒ 、母液
抜き出し量を５８５部／ｈｒに設定し、８時間連続運転
した。この時の製品中の３゜４−ＤＭＨ純度は、９９．
９９％であった。
温度を６０℃、上部冷却域温度を２５℃に保持し、原料
の濃縮３．４−ＤＭＨ留分装入量量を１０００部／ ｈ
ｒ 、製品抜き出し量を４１５部／ ｈ ｒ 、母液
抜き出し量を５８５部／ｈｒに設定し、８時間連続運転
した。この時の製品中の３゜４−ＤＭＨ純度は、９９．
９９％であった。
実施例４
実施例１と同じＤＭＨないしトリメチルフェノール留分
を、晶析温度を一１０℃に設定し、前記（１）式を満足
させるように精密蒸留し、第３表に示す組成の濃１１３
．５−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．５−ＤＭＨ留分
１０００部を６０℃で溶解した。そして析出した結晶を
濾別（母液は系に戻す）しながら攪拌下に徐々に冷却し
、最終温度−１０℃まで冷却した。なお、濾別した結晶
は、ｎ−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、３．５−ＤＭ
Ｈを回収した。洗浄液はｎ−ヘキサンを留去したのち、
母液に戻す操作を繰り返した。その結果を第３表に示す
、第３表の結晶組成は平均組成である。
を、晶析温度を一１０℃に設定し、前記（１）式を満足
させるように精密蒸留し、第３表に示す組成の濃１１３
．５−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．５−ＤＭＨ留分
１０００部を６０℃で溶解した。そして析出した結晶を
濾別（母液は系に戻す）しながら攪拌下に徐々に冷却し
、最終温度−１０℃まで冷却した。なお、濾別した結晶
は、ｎ−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、３．５−ＤＭ
Ｈを回収した。洗浄液はｎ−ヘキサンを留去したのち、
母液に戻す操作を繰り返した。その結果を第３表に示す
、第３表の結晶組成は平均組成である。
第 ３ 表 （単位：％）第３表に示す
とおり、前記（１）式を満足させるよう蒸留して得た濃
縮３．５−ＤＭＨ留分を溶融せしめることによって、高
純度の３．５−ＤＭＨを回収できる。
とおり、前記（１）式を満足させるよう蒸留して得た濃
縮３．５−ＤＭＨ留分を溶融せしめることによって、高
純度の３．５−ＤＭＨを回収できる。
実施例５
実施例４と同じＤＭＨないしトリメチルフェノール留分
を、晶析温度を一１５℃に設定して前記（１）式を満足
させるよう精密蒸留し、第４表に示す組成の濃縮３．５
−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．５−ＤＭＨ留分１０
００部を実施例４と同一条件で溶融晶析せしめ、３．５
−ＤＭＨを回収した。その結果を第４表に示す。
を、晶析温度を一１５℃に設定して前記（１）式を満足
させるよう精密蒸留し、第４表に示す組成の濃縮３．５
−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．５−ＤＭＨ留分１０
００部を実施例４と同一条件で溶融晶析せしめ、３．５
−ＤＭＨを回収した。その結果を第４表に示す。
第４表に示すとおり、３．５−ＤＭＨ濃度を高めると共
に、３．４−ＤＭＨ濃度を前記（２）式を満足させるよ
う低減せしめた濃縮３．５−ＤＭＨ留分を用いることに
より、３．５−ＤＭＨの回収率を高めることができる。
に、３．４−ＤＭＨ濃度を前記（２）式を満足させるよ
う低減せしめた濃縮３．５−ＤＭＨ留分を用いることに
より、３．５−ＤＭＨの回収率を高めることができる。
以下余白
第 ４ 表
実施例６
実施例４と同じＤＭＨないしトリメチルフェノール留分
を、前記（１）式を満足させると共に、実施例４および
５よりも３．５−ＤＭＨ濃度が高くなるよう精密蒸留し
、第５表に示す組成の濃縮３゜５−ＤＭＨ留分を得た。
を、前記（１）式を満足させると共に、実施例４および
５よりも３．５−ＤＭＨ濃度が高くなるよう精密蒸留し
、第５表に示す組成の濃縮３゜５−ＤＭＨ留分を得た。
この濃縮３．５−ＤＭＨ留分１０００部を、晶析最終温
度を２０℃としたした以外は、実施例４と同一操作によ
り溶融晶析せしめた。その結果を第５表に示す。なお、
ｎ −ヘキサンで洗浄前の３．５−ＤＭＨ結晶の性状も
併せて第５表に示す。
度を２０℃としたした以外は、実施例４と同一操作によ
り溶融晶析せしめた。その結果を第５表に示す。なお、
ｎ −ヘキサンで洗浄前の３．５−ＤＭＨ結晶の性状も
併せて第５表に示す。
第５表に示すとおり、濃縮３．５−ＤＭＨ留分中の３．
５−ＤＭＨ濃度を高めることにより、回収する３、５−
ＤＭＨ結晶の純度が向上すると共に、回収率も大巾に上
昇せしめることができる。
５−ＤＭＨ濃度を高めることにより、回収する３、５−
ＤＭＨ結晶の純度が向上すると共に、回収率も大巾に上
昇せしめることができる。
第 ５ 表 （単位二％）実施例７および
比較例２ 第６表に示す組成のＤＭＨないしトリメチルフェノール
留分を、晶析温度を１５℃に設定して前記（２）式を満
足させるよう精密蒸留し、第６表に示す組成の濃縮３．
５−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．５−ＤＭＨ留分１
０００部を、最終晶析温度を１５℃（実施例７）および
前記（２）式を満足させない５℃（比較例２）とした以
外は、実施例４と同一条件で溶融晶析し、それぞれ第６
表に示す性状の３．５−ＤＭＨ結晶を回収した。
比較例２ 第６表に示す組成のＤＭＨないしトリメチルフェノール
留分を、晶析温度を１５℃に設定して前記（２）式を満
足させるよう精密蒸留し、第６表に示す組成の濃縮３．
５−ＤＭＨ留分を得た。この濃縮３．５−ＤＭＨ留分１
０００部を、最終晶析温度を１５℃（実施例７）および
前記（２）式を満足させない５℃（比較例２）とした以
外は、実施例４と同一条件で溶融晶析し、それぞれ第６
表に示す性状の３．５−ＤＭＨ結晶を回収した。
第６表に示すとおり、３．４−ＤＭＨを３０％と多量に
含む濃縮３．５−ＤＭＨ留分から、３゜５−ＤＭＨを回
収する場合であっても、前記（２）式を満足させる実施
例７の場合は、高純度の３゜５−ＤＭＨを回収できるの
に対し、晶析温度を下げて前記（２）式を満足させなく
した比較例２の場合は、３．５−ＤＭＨの純度が大巾−
に低減している。
含む濃縮３．５−ＤＭＨ留分から、３゜５−ＤＭＨを回
収する場合であっても、前記（２）式を満足させる実施
例７の場合は、高純度の３゜５−ＤＭＨを回収できるの
に対し、晶析温度を下げて前記（２）式を満足させなく
した比較例２の場合は、３．５−ＤＭＨの純度が大巾−
に低減している。
以下余白
実施例８
実施例５で使用した濃縮３．５−ＤＭＨ留分を、第６図
に示す連続溶融晶析装置を用い、溶融晶析せしめた。す
なわち、この装置の塔内に前記濃縮３．５−ＤＭＨ留分
を液状で充填し、塔底温度を６０℃、冷却域温度を３０
℃に保持したのち、濃縮３．５−ＤＭＨ留分装入量を１
０００部／ｈｒ、製品抜き出し量を２５０部／ｈｒ、母
液抜き出し量を７５０部／ｈｒに設定し、８時間運転し
た。８時間運転後の製品３．５−ＤＭＨは、純度９９
、９８％であった。
に示す連続溶融晶析装置を用い、溶融晶析せしめた。す
なわち、この装置の塔内に前記濃縮３．５−ＤＭＨ留分
を液状で充填し、塔底温度を６０℃、冷却域温度を３０
℃に保持したのち、濃縮３．５−ＤＭＨ留分装入量を１
０００部／ｈｒ、製品抜き出し量を２５０部／ｈｒ、母
液抜き出し量を７５０部／ｈｒに設定し、８時間運転し
た。８時間運転後の製品３．５−ＤＭＨは、純度９９
、９８％であった。
第１図は、溶融晶析後の母液中の３．４−ＤＭＨ濃度が
３０％となるまで最終晶析温度を低下した場合ｃｙ＞ａ
ｔｍ３．４−ＤＭＨｖＩＩ分中＋７）３．４−ＤＭＨ濃
度と、３．４−ＤＭＨの回収率との関係を示す線図、第
２図は、溶融晶析後の母液中の３゜５−ＤＭＨ濃度が３
０％となるまで、最終晶析温度を低下せしめた場合の濃
縮３．５−ＤＭＨ留分′中の３．５−ＤＭＨ濃度と、３
．５−ＤＭＨ回収率との関係を示す線図、第３図は、３
．４−ＤＭＨの固液平衡線図、第４図は、３．５−ＤＭ
Ｈの固液平衡線図、第５図は、ＤＭＨ含有留分を理論段
数６０段の蒸留装置を用い、１００ ｍｍＡｑ、還流比
２０で蒸留した場合の蒸留曲線、第６図は、向流連続溶
融晶析精製装置の一例を示す説明図である。 １・・・竪型塔、 ２・・・原料供給口、３・・・冷却
用ジャケット部、 ４・・・加熱用ジャレット部、 ５・・・製品抜き出し口、 ６・・・母液抜き出し口、
７・・・攪拌機、 特許出願人 住金化工株式会社 第１図 ３，４−ＤＭＨの８′角や（／−） ３．５−ＤＭＨの８’＊串ＣＡ） 第３図 五／ｌ（’Ｃ） 温 鷹 （０Ｃ） 第 ５ 図 ＠６図 昭和６３年６月１０日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 １、事件の表示 昭和６２年特許願第５５６６３号 ２、発明の名称 込メチルフェノールの精製方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ４、補正の対象 出願明細書の「特許請求の範囲」の欄ならびに「発明の
詳細な説明」の欄 ７ぶ〕＼ ５、補正の内容 （１）昭和６２年３月１０日付提出の出願明細書の特許
請求の範囲を別紙のとおり補正する。 （２）同明細書の第６頁第１５行目のｒＤＭＨ濃度５０
重量％以上」をｒＤＭＨ濃度３５重量％以上」と訂正す
る。 （３）同明細書の第１３頁第７行目のつぎに「また、遠
心分Ｎ後の結晶を加熱溶解して冷却（いわゆる再溶解溶
融晶析）し、高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．５−Ｄ
ＭＨを得ることができる。しかし、操作が繁雑となる欠
点がある。」を挿入する。 別紙 ２、特許請求の範囲 （１）ジメチルフェノール類含有留分を、目的ジメチル
フェノール濃度１１重量％以上で、がっ、非目的ジメチ
ルフェノール濃度（Ｕ）が（１）式で示す範囲となるよ
うに蒸留して濃縮ジメチルフェノール留分を回収し、こ
れを溶融晶析して目的ジメチルフェノールを分離するこ
とを特徴とするジメチルフェノールの精製方法。 Ｕ≦（１０Ｏ−ｘ） （Ｐ／ （１０Ｏ−Ｐ） ）
・（１）ただし、Ｕ：濃縮ジメチルフェノール留分中の
非目的ジメチルフェノール濃度 （％） Ｘ：濃縮ジメチルフェノール留分中の 目的ジメチルフェノール濃度 （％） Ｐ：目的ジメチルフェノールの固液平 衡線図から求めな晶析温度での液 中の目的ジメチルフェノール濃度 （％） （２）目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが３。 ５−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第１項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 （３）目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが３。 ４−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第１項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 （４）ジメチルフェノール類含有留分が、非目的ジメチ
ルフェノールが３，４−ジメチルフェノールである特許
請求の範囲第１項ないし第３項記載のジメチルフェノー
ルの精製方法。 （４）溶融晶析をアルカリ抽出して得たタール酸分であ
る特許請求の範囲第１項ないし・第４項記載のジメチル
フェノールの精製方法。
３０％となるまで最終晶析温度を低下した場合ｃｙ＞ａ
ｔｍ３．４−ＤＭＨｖＩＩ分中＋７）３．４−ＤＭＨ濃
度と、３．４−ＤＭＨの回収率との関係を示す線図、第
２図は、溶融晶析後の母液中の３゜５−ＤＭＨ濃度が３
０％となるまで、最終晶析温度を低下せしめた場合の濃
縮３．５−ＤＭＨ留分′中の３．５−ＤＭＨ濃度と、３
．５−ＤＭＨ回収率との関係を示す線図、第３図は、３
．４−ＤＭＨの固液平衡線図、第４図は、３．５−ＤＭ
Ｈの固液平衡線図、第５図は、ＤＭＨ含有留分を理論段
数６０段の蒸留装置を用い、１００ ｍｍＡｑ、還流比
２０で蒸留した場合の蒸留曲線、第６図は、向流連続溶
融晶析精製装置の一例を示す説明図である。 １・・・竪型塔、 ２・・・原料供給口、３・・・冷却
用ジャケット部、 ４・・・加熱用ジャレット部、 ５・・・製品抜き出し口、 ６・・・母液抜き出し口、
７・・・攪拌機、 特許出願人 住金化工株式会社 第１図 ３，４−ＤＭＨの８′角や（／−） ３．５−ＤＭＨの８’＊串ＣＡ） 第３図 五／ｌ（’Ｃ） 温 鷹 （０Ｃ） 第 ５ 図 ＠６図 昭和６３年６月１０日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 １、事件の表示 昭和６２年特許願第５５６６３号 ２、発明の名称 込メチルフェノールの精製方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ４、補正の対象 出願明細書の「特許請求の範囲」の欄ならびに「発明の
詳細な説明」の欄 ７ぶ〕＼ ５、補正の内容 （１）昭和６２年３月１０日付提出の出願明細書の特許
請求の範囲を別紙のとおり補正する。 （２）同明細書の第６頁第１５行目のｒＤＭＨ濃度５０
重量％以上」をｒＤＭＨ濃度３５重量％以上」と訂正す
る。 （３）同明細書の第１３頁第７行目のつぎに「また、遠
心分Ｎ後の結晶を加熱溶解して冷却（いわゆる再溶解溶
融晶析）し、高純度の３．４−ＤＭＨまたは３．５−Ｄ
ＭＨを得ることができる。しかし、操作が繁雑となる欠
点がある。」を挿入する。 別紙 ２、特許請求の範囲 （１）ジメチルフェノール類含有留分を、目的ジメチル
フェノール濃度１１重量％以上で、がっ、非目的ジメチ
ルフェノール濃度（Ｕ）が（１）式で示す範囲となるよ
うに蒸留して濃縮ジメチルフェノール留分を回収し、こ
れを溶融晶析して目的ジメチルフェノールを分離するこ
とを特徴とするジメチルフェノールの精製方法。 Ｕ≦（１０Ｏ−ｘ） （Ｐ／ （１０Ｏ−Ｐ） ）
・（１）ただし、Ｕ：濃縮ジメチルフェノール留分中の
非目的ジメチルフェノール濃度 （％） Ｘ：濃縮ジメチルフェノール留分中の 目的ジメチルフェノール濃度 （％） Ｐ：目的ジメチルフェノールの固液平 衡線図から求めな晶析温度での液 中の目的ジメチルフェノール濃度 （％） （２）目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが３。 ５−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第１項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 （３）目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが３。 ４−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第１項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 （４）ジメチルフェノール類含有留分が、非目的ジメチ
ルフェノールが３，４−ジメチルフェノールである特許
請求の範囲第１項ないし第３項記載のジメチルフェノー
ルの精製方法。 （４）溶融晶析をアルカリ抽出して得たタール酸分であ
る特許請求の範囲第１項ないし・第４項記載のジメチル
フェノールの精製方法。
Claims (5)
- （１）ジメチルフェノール類含有留分を、目的ジメチル
フェノール濃度５０重量％以上で、かつ、非目的ジメチ
ルフェノール濃度（Ｕ）が（１）式で示す範囲となるよ
うに蒸留して濃縮ジメチルフェノール留分を回収し、こ
れを溶融晶析して目的ジメチルフェノールを分離するこ
とを特徴とするジメチルフェノールの精製方法。 Ｕ≦（１００−ｘ）（Ｐ／（１００−Ｐ））・・・（１
）ただし、Ｕ：濃縮ジメチルフェノール留分中の非目的
ジメチルフェノール濃度 （％） ｘ：濃縮ジメチルフェノール留分中の 目的ジメチルフェノール濃度 （％） Ｐ：目的ジメチルフェノールの固液平 衡線図から求めた晶析温度での液 中の目的ジメチルフェノール濃度 （％） - （２）目的ジメチルフェノールが３，４−ジメチルフェ
ノールで、非目的ジメチルフェノールが３，５−ジメチ
ルフェノールである特許請求の範囲第１項記載のジメチ
ルフェノールの精製方法。 - （３）目的ジメチルフェノールが３，５−ジメチルフェ
ノールで、非目的ジメチルフェノールが３，４−ジメチ
ルフェノールである特許請求の範囲第１項記載のジメチ
ルフェノールの精製方法。 - （４）ジメチルフェノール類含有留分が、コールタール
留分をアルカリ抽出して得たタール酸分である特許請求
の範囲第１項ないし第３項記載のジメチルフェノールの
精製方法。 - （５）溶融晶析を連続的に行うことを特徴とする特許請
求の範囲第１項ないし第４項記載のジメチルフェノール
の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5566387A JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5566387A JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63222137A true JPS63222137A (ja) | 1988-09-16 |
| JP2501106B2 JP2501106B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=13005088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5566387A Expired - Lifetime JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501106B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5094722A (en) * | 1989-10-11 | 1992-03-10 | Sumikin Chemical Co., Ltd. | Process for the purification of a dimethylphenol isomer |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5566387A patent/JP2501106B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5094722A (en) * | 1989-10-11 | 1992-03-10 | Sumikin Chemical Co., Ltd. | Process for the purification of a dimethylphenol isomer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2501106B2 (ja) | 1996-05-29 |
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