JPS63222137A - ジメチルフエノ−ルの精製方法 - Google Patents
ジメチルフエノ−ルの精製方法Info
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- JPS63222137A JPS63222137A JP5566387A JP5566387A JPS63222137A JP S63222137 A JPS63222137 A JP S63222137A JP 5566387 A JP5566387 A JP 5566387A JP 5566387 A JP5566387 A JP 5566387A JP S63222137 A JPS63222137 A JP S63222137A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、3,4−ジメチルフェノール(以下r3.
4−DMHJという)と3.5−ジメチルフェノール(
以下r3,5−DMH,という)の含有量の少ないジメ
チルフェノール類(以下rDMH類」と、いう)含有留
分番原料とし、蒸留によって特定の組成範囲の濃縮3.
4−DMH留分または濃縮3.5−DMH留分を回収し
、これを溶融晶析させて高純度の3.4−DMHまたは
3゜5−DMHを分離回収する方法に関する。
4−DMHJという)と3.5−ジメチルフェノール(
以下r3,5−DMH,という)の含有量の少ないジメ
チルフェノール類(以下rDMH類」と、いう)含有留
分番原料とし、蒸留によって特定の組成範囲の濃縮3.
4−DMH留分または濃縮3.5−DMH留分を回収し
、これを溶融晶析させて高純度の3.4−DMHまたは
3゜5−DMHを分離回収する方法に関する。
[従来技術]
3.4−DMHは、沸点226.9℃、融点65℃の白
色結晶で、また3、5−DMHは、沸点221.7℃、
融点63℃の白色結晶である。3.4−DMH13,5
−DMHは、コールタール留分であるカルポル油、ナ、
フタレン油、°洗浄油からアルカリ抽出して得られるタ
ール酸の中に含まれている化合物の一つである。3.4
−DMH’、3.5−DM)(は、フェノール樹脂、有
機合成薬品、農薬等の原料として使用されて−iる。
色結晶で、また3、5−DMHは、沸点221.7℃、
融点63℃の白色結晶である。3.4−DMH13,5
−DMHは、コールタール留分であるカルポル油、ナ、
フタレン油、°洗浄油からアルカリ抽出して得られるタ
ール酸の中に含まれている化合物の一つである。3.4
−DMH’、3.5−DM)(は、フェノール樹脂、有
機合成薬品、農薬等の原料として使用されて−iる。
コールタールは、蒸留により軽油、カルポル油、ナフタ
レン油、洗浄油および低軟化点のピッチ等に分離し、各
留分から必要に応じ、蒸留、抽出、晶析等の手段により
有用な製品を回収している。
レン油、洗浄油および低軟化点のピッチ等に分離し、各
留分から必要に応じ、蒸留、抽出、晶析等の手段により
有用な製品を回収している。
カルポル油、ナフタレン油、洗浄油等からアルカリ抽出
で分離されたタール酸は、蒸留によりフェノール、0−
メチルフェノール、m、P−メチルフェノールおよびジ
メチルフェノール(以下「DMHJという)留分に分離
精製される。
で分離されたタール酸は、蒸留によりフェノール、0−
メチルフェノール、m、P−メチルフェノールおよびジ
メチルフェノール(以下「DMHJという)留分に分離
精製される。
このうち、DMH留分には、6種類のDMH異性体のほ
か、エチルフェノール類、トリメチルフェノール類等が
含有されている。
か、エチルフェノール類、トリメチルフェノール類等が
含有されている。
このDMH留分を精密蒸留しても、これらの沸点が接近
しているため、通常の精密蒸留では高純度の3.4−D
MHや3.5−DMHを得ることができず、特殊な高い
段数をもった精留塔を使用し、高い還流比で蒸留しても
、高純度の3,4−DMHや3.5−DMHを得ること
ができない。
しているため、通常の精密蒸留では高純度の3.4−D
MHや3.5−DMHを得ることができず、特殊な高い
段数をもった精留塔を使用し、高い還流比で蒸留しても
、高純度の3,4−DMHや3.5−DMHを得ること
ができない。
一般に蒸留による分離が困難な場合、目的成分を晶析に
よって分離することはよく知られた操作である。しかし
ながら、本発明者等の研究によれば、前記DMH類含有
留分、例えば、タール留分から抽出されたタール酸を蒸
留して得なりMH留分を精密蒸留し、単に3.4−DM
H含有量を高めた濃縮3.4−DMH留分、または単に
3,5−DMH含有量を高めた濃縮3.5−DMH留分
を回収し、各留分を攪拌しながら冷却して結晶を析出せ
しめ、得られたスラリーを遠心分離機にかけて結晶と母
液に分離する方法では、高純度の3.4−DMHまたは
3.5−DMHを得ることができないことが判明した。
よって分離することはよく知られた操作である。しかし
ながら、本発明者等の研究によれば、前記DMH類含有
留分、例えば、タール留分から抽出されたタール酸を蒸
留して得なりMH留分を精密蒸留し、単に3.4−DM
H含有量を高めた濃縮3.4−DMH留分、または単に
3,5−DMH含有量を高めた濃縮3.5−DMH留分
を回収し、各留分を攪拌しながら冷却して結晶を析出せ
しめ、得られたスラリーを遠心分離機にかけて結晶と母
液に分離する方法では、高純度の3.4−DMHまたは
3.5−DMHを得ることができないことが判明した。
晶析法を用いて高純度製品を得る場合、純度向上を阻害
する要因は、共融混合物の生成と固溶体の生成とであり
、さらに一般に用いられる遠心分離法では、結晶に付着
する母液の残留が問題となる。
する要因は、共融混合物の生成と固溶体の生成とであり
、さらに一般に用いられる遠心分離法では、結晶に付着
する母液の残留が問題となる。
[解決しようとする問題点]
この発明は、前記DMH類含有留分から高純度の3.4
−DMHまたは3.5−DMHを、高収率で回収できる
DMHの精製方法を提供するものである。
−DMHまたは3.5−DMHを、高収率で回収できる
DMHの精製方法を提供するものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明者等は、DMH類含有留分から3.4−DMHま
たは3.5−DMHを高純度で回収するについて鋭意研
究の結果、DMH類含有留分を蒸留濃縮し、晶析原料の
濃113.4−DMHまたは濃縮3.5−DMH留分を
回収するにあたり、単に3.4−DMHまたは3.5−
DMH含有量を高めることのみを目的とするのではなく
、同時に3.5−DMHまたは3.4−DMHの含有量
を規制して蒸留し、得られた濃縮3.4−DMHまたは
濃″縮3.5−DMH留分を、溶融晶析することによっ
て初めて高純度の3.4−DMHまたは3.5−DMH
を分離回収できることを究明した。
たは3.5−DMHを高純度で回収するについて鋭意研
究の結果、DMH類含有留分を蒸留濃縮し、晶析原料の
濃113.4−DMHまたは濃縮3.5−DMH留分を
回収するにあたり、単に3.4−DMHまたは3.5−
DMH含有量を高めることのみを目的とするのではなく
、同時に3.5−DMHまたは3.4−DMHの含有量
を規制して蒸留し、得られた濃縮3.4−DMHまたは
濃″縮3.5−DMH留分を、溶融晶析することによっ
て初めて高純度の3.4−DMHまたは3.5−DMH
を分離回収できることを究明した。
すなわちこの発明は、DMH類含有留分を目的DMH濃
度50重量%以上で、かつ、井目的DMH濃度(U)が
(1)式で示す範囲となるように蒸留して濃縮DMH留
分を回収し、これを溶融晶析して目的DMHを分離する
ことを要旨とする。
度50重量%以上で、かつ、井目的DMH濃度(U)が
(1)式で示す範囲となるように蒸留して濃縮DMH留
分を回収し、これを溶融晶析して目的DMHを分離する
ことを要旨とする。
U≦(100−x)(P/ (100−P))=・(1
)ただし、U:濃縮DMH留分中の非目的DMH濃度(
%) X:濃縮DMH留分中の目的DMH濃 度(%) P:目的DMHの固液平衡線図から求 めた晶析温度での液中の目的DM H濃度(%) そして、目的DMHが3.4−DMHである場合は、非
目的DMHが3.5−DMHであり、目的DMHが3.
5−DMHの場合は、非目的DMHが3.4−DMHで
ある。
)ただし、U:濃縮DMH留分中の非目的DMH濃度(
%) X:濃縮DMH留分中の目的DMH濃 度(%) P:目的DMHの固液平衡線図から求 めた晶析温度での液中の目的DM H濃度(%) そして、目的DMHが3.4−DMHである場合は、非
目的DMHが3.5−DMHであり、目的DMHが3.
5−DMHの場合は、非目的DMHが3.4−DMHで
ある。
DMHの精製において、純度向上阻害因子が非常に多い
中で、3.4−DMHを目的とする場合に3.5−DM
Hに、3.5−DMHを目的とする場合は3.4−DM
Hに注目する理由は、これが他の成分に比べ溶融晶析時
相互に混入し易く、目標純度の3.4−DMHまたは3
.5−DMHを得るためには、濃縮3.4−DMH中の
3,5−DMH含有量を一定濃度以下に、濃縮3.5−
DMH中の3.4−DMH含有量を一定濃度以下にする
必要があるためである。
中で、3.4−DMHを目的とする場合に3.5−DM
Hに、3.5−DMHを目的とする場合は3.4−DM
Hに注目する理由は、これが他の成分に比べ溶融晶析時
相互に混入し易く、目標純度の3.4−DMHまたは3
.5−DMHを得るためには、濃縮3.4−DMH中の
3,5−DMH含有量を一定濃度以下に、濃縮3.5−
DMH中の3.4−DMH含有量を一定濃度以下にする
必要があるためである。
溶融晶析法の基本は、固液平衡関係である。これについ
て実験したところ、温度を下げても液相中の3.4−D
MH濃度または3.5−DMH濃度を30%以下にはで
きないことを見い出した。
て実験したところ、温度を下げても液相中の3.4−D
MH濃度または3.5−DMH濃度を30%以下にはで
きないことを見い出した。
すなわち、理論上濃縮3.4−DMH留分中の3.4−
DMH濃度が30%以上、または濃縮3゜5−DMH留
分中の3.5−DMH濃度が30%以上であれば、30
%との差だけ3.4−DMHまたは3.5−DMHを回
収できることになる。
DMH濃度が30%以上、または濃縮3゜5−DMH留
分中の3.5−DMH濃度が30%以上であれば、30
%との差だけ3.4−DMHまたは3.5−DMHを回
収できることになる。
しかし、現実には濃縮3.4−DMH留分中の3.4−
DMH濃度、または濃縮3.5−DMH留分中の3.5
−DMH濃度を上げないと、第1図および第2図に示す
とおり回収率が低下するため、50%以上、好ましくは
60〜70%以上とすることが望ましい。
DMH濃度、または濃縮3.5−DMH留分中の3.5
−DMH濃度を上げないと、第1図および第2図に示す
とおり回収率が低下するため、50%以上、好ましくは
60〜70%以上とすることが望ましい。
一方、3.4−DMHと3.5−DMHは、前記したと
おり沸点および融点が近接しているため、蒸留により3
.4−DMHと3.5−DMHを完全に分離することは
困難であり、また、溶融晶析時3,4−DMH結晶に3
.5−DMHが、3゜5−DMH結晶に3.4−DMH
が混入し易く、著しく相互に結晶純度を低下させる恐れ
があり、相互に純度低下阻害因子であることが判明した
。
おり沸点および融点が近接しているため、蒸留により3
.4−DMHと3.5−DMHを完全に分離することは
困難であり、また、溶融晶析時3,4−DMH結晶に3
.5−DMHが、3゜5−DMH結晶に3.4−DMH
が混入し易く、著しく相互に結晶純度を低下させる恐れ
があり、相互に純度低下阻害因子であることが判明した
。
そこで、3.4−DMH留分と3.5−DMH留分の各
々について、固液平衡関係を調査したところ、両者の固
液平衡線図は第3図および第4図に示すとおり極めて良
く類似していることが判明した。さらに溶融晶析時濃縮
3.4−DMH留分中の3.5−DMHの挙動は、3.
5−DMHの固液平衡線図によって説明でき、また、濃
縮3゜5−DMH留分中の3.4−DMHの挙動は、3
゜4−DMHの固液平衡線図によって説明できることを
究明した。
々について、固液平衡関係を調査したところ、両者の固
液平衡線図は第3図および第4図に示すとおり極めて良
く類似していることが判明した。さらに溶融晶析時濃縮
3.4−DMH留分中の3.5−DMHの挙動は、3.
5−DMHの固液平衡線図によって説明でき、また、濃
縮3゜5−DMH留分中の3.4−DMHの挙動は、3
゜4−DMHの固液平衡線図によって説明できることを
究明した。
以上の研究結果に基づき検討の結果、高純度の3.4−
DMHまたは3,5−DMHを溶融晶析法により製造す
るためには、濃縮3.4−DMH留分中の3.5−DM
H濃度を前記(1)式により、濃縮3.5−DMH留分
中の3.4−DMH濃度を前記(1)式により制限すれ
ばよいことを究明した。
DMHまたは3,5−DMHを溶融晶析法により製造す
るためには、濃縮3.4−DMH留分中の3.5−DM
H濃度を前記(1)式により、濃縮3.5−DMH留分
中の3.4−DMH濃度を前記(1)式により制限すれ
ばよいことを究明した。
前記(1)式のPは、晶析温度によって決まる値である
から、それぞれの固液平衡線図から求めることができる
。したがって、予め晶析温度を設定してPを求め、前記
(1)式によりUとXの関係、すなわち、3.4−DM
Hを目的とする場合は、濃縮3.4−DMH留分中の3
.4−DMH濃度と、これに対応する3、5−DMH濃
度の限界を 。
から、それぞれの固液平衡線図から求めることができる
。したがって、予め晶析温度を設定してPを求め、前記
(1)式によりUとXの関係、すなわち、3.4−DM
Hを目的とする場合は、濃縮3.4−DMH留分中の3
.4−DMH濃度と、これに対応する3、5−DMH濃
度の限界を 。
求める。また、3.5−DMHを目的とする場合は、濃
縮3.5−DMH留分中の3.5−DMH濃度と、これ
に対応する3、4−DMH濃度の限界を求める。そして
これに基づいてDMH類含有留分を蒸留し、濃縮3.4
−DMH留分または濃縮3.5−DMH留分を取得する
のである。
縮3.5−DMH留分中の3.5−DMH濃度と、これ
に対応する3、4−DMH濃度の限界を求める。そして
これに基づいてDMH類含有留分を蒸留し、濃縮3.4
−DMH留分または濃縮3.5−DMH留分を取得する
のである。
また、これとは逆に、既に濃縮3.4−DMH留分また
は濃縮3.5−DMH留分がある場合、前記(1)式に
よりPを求め、Pに対応する温度以上の晶析温度で溶融
晶析すれば良い、換言すれば(1)式のU、x、Pのう
ち、二つがわかれば、蒸留または晶析操作が限定される
ことになる。
は濃縮3.5−DMH留分がある場合、前記(1)式に
よりPを求め、Pに対応する温度以上の晶析温度で溶融
晶析すれば良い、換言すれば(1)式のU、x、Pのう
ち、二つがわかれば、蒸留または晶析操作が限定される
ことになる。
晶析温度は、約−10℃〜60℃の範囲から、目的とす
るDMH濃度、回収率、操作性等を考慮して選択する。
るDMH濃度、回収率、操作性等を考慮して選択する。
しかし、15℃以下で生じる結晶は微細であるため、冷
却温度は15℃以上とするのが好ましい0回収率を高め
るためには、約−10℃まで冷却し、て限界まで目的と
するDMH結晶を回収し、この結晶をさらに溶融晶析す
る方法が推奨される。
却温度は15℃以上とするのが好ましい0回収率を高め
るためには、約−10℃まで冷却し、て限界まで目的と
するDMH結晶を回収し、この結晶をさらに溶融晶析す
る方法が推奨される。
この発明で晶析に供する濃縮3.4−DMH留分または
濃縮3.5−DMH留分を得るための原料としては、コ
ールタールを蒸留して得られるカルポル油、ナフタレン
油、洗浄油等のコールタール留分を、アルカリ抽出して
得られるタール酸を蒸留して得られるDMH留分である
。
濃縮3.5−DMH留分を得るための原料としては、コ
ールタールを蒸留して得られるカルポル油、ナフタレン
油、洗浄油等のコールタール留分を、アルカリ抽出して
得られるタール酸を蒸留して得られるDMH留分である
。
このDMH留分は、前述のとおり多くの不純物を含有し
ており、第5図に示すとおり蒸留のみによって高純度の
3.4−DMHまたは3.5−DMHを回収することは
できない。
ており、第5図に示すとおり蒸留のみによって高純度の
3.4−DMHまたは3.5−DMHを回収することは
できない。
しかし、この発明においては、残った不純物を溶融晶析
によって除去するので、蒸留操作は容易となる。
によって除去するので、蒸留操作は容易となる。
したがって、蒸留は通常の蒸留で十分であり、回分蒸留
、連続蒸留またはこれらの組み合わせのいずれでも行う
ことができる。また、減圧蒸留、常圧蒸留あるいは加圧
蒸留のいずれも採用できる。
、連続蒸留またはこれらの組み合わせのいずれでも行う
ことができる。また、減圧蒸留、常圧蒸留あるいは加圧
蒸留のいずれも採用できる。
しかしながら、得られる濃縮3.4−DMH留分中の3
.5−DMH濃度を前記(1)式を満足させるよう低減
せしめるには、低沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留し
、また濃縮3.5−DMH留分中の3.4−DMH濃度
を前記(1)式を満足させるように低減せしめるには、
高沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留するのが好ましい
。
.5−DMH濃度を前記(1)式を満足させるよう低減
せしめるには、低沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留し
、また濃縮3.5−DMH留分中の3.4−DMH濃度
を前記(1)式を満足させるように低減せしめるには、
高沸点側成分の混入を注意しつつ蒸留するのが好ましい
。
このようにして得られた濃縮3.4−DMH留分または
濃[3,5−DMH留分は、ついで溶融晶析させて3.
4−DMHまたは3.5−DMHを分離回収する。この
際3.5−DMH濃度または3.4−DM)I濃度が前
記(1)式の規定範囲内であっても、3.4−DMHま
たは3.5−DMH濃度が約60%以下では、これを通
常行われる溶融晶析−遠心分離法で処理しても、高純度
品を得ることはできない、これは析出結晶の性状から遠
心分離法で母液を完全に振り切ることが極めて困難なた
めである。したがって、母液に対して適当な溶解性を有
する溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等を用い、結晶を
洗浄することにより高純度の3.4−DMHまたは3.
5−DMHを得ることができる。しかし、溶媒の除去、
回収等のプロセスが必要となり、かつ装置も複雑になる
。
濃[3,5−DMH留分は、ついで溶融晶析させて3.
4−DMHまたは3.5−DMHを分離回収する。この
際3.5−DMH濃度または3.4−DM)I濃度が前
記(1)式の規定範囲内であっても、3.4−DMHま
たは3.5−DMH濃度が約60%以下では、これを通
常行われる溶融晶析−遠心分離法で処理しても、高純度
品を得ることはできない、これは析出結晶の性状から遠
心分離法で母液を完全に振り切ることが極めて困難なた
めである。したがって、母液に対して適当な溶解性を有
する溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン等を用い、結晶を
洗浄することにより高純度の3.4−DMHまたは3.
5−DMHを得ることができる。しかし、溶媒の除去、
回収等のプロセスが必要となり、かつ装置も複雑になる
。
したがって、濃縮3.4−DMH留分または濃縮3.5
−DMH留分から連続晶析装置を用い、3.4−DMH
または3.5−DMHを分離回収するのが有利である。
−DMH留分から連続晶析装置を用い、3.4−DMH
または3.5−DMHを分離回収するのが有利である。
連続晶析装置としては、精製効果の優れる向流連続晶析
精製装置に属するものが適当である。
精製装置に属するものが適当である。
好ましい向流連続晶析精製装置としては、第6図に示す
とおり、竪型塔(1)の中段に原料供給口(2〉、上部
に冷却用ジャケット部(3)、下部に加熱用ジャケット
部(4)を有し、さらに、下端に製品抜き出し口(5)
、上端に母液抜き出し口(6)および塔内全体を攪拌す
る攪拌機(7)を設けたものである。
とおり、竪型塔(1)の中段に原料供給口(2〉、上部
に冷却用ジャケット部(3)、下部に加熱用ジャケット
部(4)を有し、さらに、下端に製品抜き出し口(5)
、上端に母液抜き出し口(6)および塔内全体を攪拌す
る攪拌機(7)を設けたものである。
この向流連続晶析精製装置を用いれば、結晶のまわりに
付着した母液は加熱融解した3、4−DMHまたは3.
5−DMHで洗われるから、特に溶媒を用いることなく
、高純度の3.4−DMHまたは3.5−DMHを分離
回収することができる。
付着した母液は加熱融解した3、4−DMHまたは3.
5−DMHで洗われるから、特に溶媒を用いることなく
、高純度の3.4−DMHまたは3.5−DMHを分離
回収することができる。
[実施例]
実施例1
コールタール留分からアルカリ抽出により分離された粗
タール酸を蒸留して得たDMHないしトリメチルフェノ
ール留分を、晶析温度を15℃に設定して前記(1)式
を満足させるように精密蒸留し、第1表に示す組成の濃
縮3.4−DMH留分を得た。この濃縮3.4−DMH
留分1000部を、60℃で溶解した。そして析出した
結晶を濾別(母液は系に戻す)しながら攪拌下に徐々に
冷却し、最終温度15℃まで冷却した。なお、濾別した
結晶は、n−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、3.4−
DMHを回収した。洗浄液はn−ヘキサンを留去したの
ち母液に戻す操作を繰り返した。
タール酸を蒸留して得たDMHないしトリメチルフェノ
ール留分を、晶析温度を15℃に設定して前記(1)式
を満足させるように精密蒸留し、第1表に示す組成の濃
縮3.4−DMH留分を得た。この濃縮3.4−DMH
留分1000部を、60℃で溶解した。そして析出した
結晶を濾別(母液は系に戻す)しながら攪拌下に徐々に
冷却し、最終温度15℃まで冷却した。なお、濾別した
結晶は、n−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、3.4−
DMHを回収した。洗浄液はn−ヘキサンを留去したの
ち母液に戻す操作を繰り返した。
その結果を第1表に示す、第1表の組成は、ガスクロマ
トグラフィーによる分析結果であり、結晶組成は平均組
成で示す。
トグラフィーによる分析結果であり、結晶組成は平均組
成で示す。
第1表に示すとおり、3.4−DMH濃度と3.5−D
MH濃度を前記(1)式を満足させるよう蒸留して得た
濃縮3.4−DMH留分を、溶融晶析せしめることによ
って、高純度の3.4−DMHを高収率で回収すること
ができる。
MH濃度を前記(1)式を満足させるよう蒸留して得た
濃縮3.4−DMH留分を、溶融晶析せしめることによ
って、高純度の3.4−DMHを高収率で回収すること
ができる。
実施例2および比較例1
実施例1と同じDMH〜トリメチルフェノール留分を、
晶析温度を15℃に設定して前記(1〉式を満足させる
よう蒸留し、第2表に示す組成の濃縮3.4−DMH留
分を得た。この濃縮3,4−DMH留分1000部を最
終晶析温度を15℃(実施例2)、5℃(比較例1)と
した以外は、実施例1と同一条件で溶融晶析せしめ、第
2表に示す組成の3.4−DMH結晶を回収した。
晶析温度を15℃に設定して前記(1〉式を満足させる
よう蒸留し、第2表に示す組成の濃縮3.4−DMH留
分を得た。この濃縮3,4−DMH留分1000部を最
終晶析温度を15℃(実施例2)、5℃(比較例1)と
した以外は、実施例1と同一条件で溶融晶析せしめ、第
2表に示す組成の3.4−DMH結晶を回収した。
第2表に示すとおり、3.5−DMHを多量に含有する
濃縮3.4−DMH留分てあっても、濃縮3.4−DM
H留分中の3.5−DMH濃度が、前記(1)式を満足
させる実施例2の場合は、高純度の3.4−DMHを回
収できるが、晶析温度を下げたため前記(1)式を満足
させない比較例1の場合は、高純度の3.4−DMHを
回収することはできない。
濃縮3.4−DMH留分てあっても、濃縮3.4−DM
H留分中の3.5−DMH濃度が、前記(1)式を満足
させる実施例2の場合は、高純度の3.4−DMHを回
収できるが、晶析温度を下げたため前記(1)式を満足
させない比較例1の場合は、高純度の3.4−DMHを
回収することはできない。
第 2 表 (単位二%)実施例3
実施例1で回収した第1表に示す組成の濃縮3゜4−D
MH留分を、第6図に示す連続溶融晶析装置を用いて溶
融晶析せしめ、3.4−DMHを回収した。
MH留分を、第6図に示す連続溶融晶析装置を用いて溶
融晶析せしめ、3.4−DMHを回収した。
すなわち、前記留分を液状で塔内に重点したのち、塔底
温度を60℃、上部冷却域温度を25℃に保持し、原料
の濃縮3.4−DMH留分装入量量を1000部/ h
r 、製品抜き出し量を415部/ h r 、母液
抜き出し量を585部/hrに設定し、8時間連続運転
した。この時の製品中の3゜4−DMH純度は、99.
99%であった。
温度を60℃、上部冷却域温度を25℃に保持し、原料
の濃縮3.4−DMH留分装入量量を1000部/ h
r 、製品抜き出し量を415部/ h r 、母液
抜き出し量を585部/hrに設定し、8時間連続運転
した。この時の製品中の3゜4−DMH純度は、99.
99%であった。
実施例4
実施例1と同じDMHないしトリメチルフェノール留分
を、晶析温度を一10℃に設定し、前記(1)式を満足
させるように精密蒸留し、第3表に示す組成の濃113
.5−DMH留分を得た。この濃縮3.5−DMH留分
1000部を60℃で溶解した。そして析出した結晶を
濾別(母液は系に戻す)しながら攪拌下に徐々に冷却し
、最終温度−10℃まで冷却した。なお、濾別した結晶
は、n−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、3.5−DM
Hを回収した。洗浄液はn−ヘキサンを留去したのち、
母液に戻す操作を繰り返した。その結果を第3表に示す
、第3表の結晶組成は平均組成である。
を、晶析温度を一10℃に設定し、前記(1)式を満足
させるように精密蒸留し、第3表に示す組成の濃113
.5−DMH留分を得た。この濃縮3.5−DMH留分
1000部を60℃で溶解した。そして析出した結晶を
濾別(母液は系に戻す)しながら攪拌下に徐々に冷却し
、最終温度−10℃まで冷却した。なお、濾別した結晶
は、n−ヘキサンで洗浄したのち風乾し、3.5−DM
Hを回収した。洗浄液はn−ヘキサンを留去したのち、
母液に戻す操作を繰り返した。その結果を第3表に示す
、第3表の結晶組成は平均組成である。
第 3 表 (単位:%)第3表に示す
とおり、前記(1)式を満足させるよう蒸留して得た濃
縮3.5−DMH留分を溶融せしめることによって、高
純度の3.5−DMHを回収できる。
とおり、前記(1)式を満足させるよう蒸留して得た濃
縮3.5−DMH留分を溶融せしめることによって、高
純度の3.5−DMHを回収できる。
実施例5
実施例4と同じDMHないしトリメチルフェノール留分
を、晶析温度を一15℃に設定して前記(1)式を満足
させるよう精密蒸留し、第4表に示す組成の濃縮3.5
−DMH留分を得た。この濃縮3.5−DMH留分10
00部を実施例4と同一条件で溶融晶析せしめ、3.5
−DMHを回収した。その結果を第4表に示す。
を、晶析温度を一15℃に設定して前記(1)式を満足
させるよう精密蒸留し、第4表に示す組成の濃縮3.5
−DMH留分を得た。この濃縮3.5−DMH留分10
00部を実施例4と同一条件で溶融晶析せしめ、3.5
−DMHを回収した。その結果を第4表に示す。
第4表に示すとおり、3.5−DMH濃度を高めると共
に、3.4−DMH濃度を前記(2)式を満足させるよ
う低減せしめた濃縮3.5−DMH留分を用いることに
より、3.5−DMHの回収率を高めることができる。
に、3.4−DMH濃度を前記(2)式を満足させるよ
う低減せしめた濃縮3.5−DMH留分を用いることに
より、3.5−DMHの回収率を高めることができる。
以下余白
第 4 表
実施例6
実施例4と同じDMHないしトリメチルフェノール留分
を、前記(1)式を満足させると共に、実施例4および
5よりも3.5−DMH濃度が高くなるよう精密蒸留し
、第5表に示す組成の濃縮3゜5−DMH留分を得た。
を、前記(1)式を満足させると共に、実施例4および
5よりも3.5−DMH濃度が高くなるよう精密蒸留し
、第5表に示す組成の濃縮3゜5−DMH留分を得た。
この濃縮3.5−DMH留分1000部を、晶析最終温
度を20℃としたした以外は、実施例4と同一操作によ
り溶融晶析せしめた。その結果を第5表に示す。なお、
n −ヘキサンで洗浄前の3.5−DMH結晶の性状も
併せて第5表に示す。
度を20℃としたした以外は、実施例4と同一操作によ
り溶融晶析せしめた。その結果を第5表に示す。なお、
n −ヘキサンで洗浄前の3.5−DMH結晶の性状も
併せて第5表に示す。
第5表に示すとおり、濃縮3.5−DMH留分中の3.
5−DMH濃度を高めることにより、回収する3、5−
DMH結晶の純度が向上すると共に、回収率も大巾に上
昇せしめることができる。
5−DMH濃度を高めることにより、回収する3、5−
DMH結晶の純度が向上すると共に、回収率も大巾に上
昇せしめることができる。
第 5 表 (単位二%)実施例7および
比較例2 第6表に示す組成のDMHないしトリメチルフェノール
留分を、晶析温度を15℃に設定して前記(2)式を満
足させるよう精密蒸留し、第6表に示す組成の濃縮3.
5−DMH留分を得た。この濃縮3.5−DMH留分1
000部を、最終晶析温度を15℃(実施例7)および
前記(2)式を満足させない5℃(比較例2)とした以
外は、実施例4と同一条件で溶融晶析し、それぞれ第6
表に示す性状の3.5−DMH結晶を回収した。
比較例2 第6表に示す組成のDMHないしトリメチルフェノール
留分を、晶析温度を15℃に設定して前記(2)式を満
足させるよう精密蒸留し、第6表に示す組成の濃縮3.
5−DMH留分を得た。この濃縮3.5−DMH留分1
000部を、最終晶析温度を15℃(実施例7)および
前記(2)式を満足させない5℃(比較例2)とした以
外は、実施例4と同一条件で溶融晶析し、それぞれ第6
表に示す性状の3.5−DMH結晶を回収した。
第6表に示すとおり、3.4−DMHを30%と多量に
含む濃縮3.5−DMH留分から、3゜5−DMHを回
収する場合であっても、前記(2)式を満足させる実施
例7の場合は、高純度の3゜5−DMHを回収できるの
に対し、晶析温度を下げて前記(2)式を満足させなく
した比較例2の場合は、3.5−DMHの純度が大巾−
に低減している。
含む濃縮3.5−DMH留分から、3゜5−DMHを回
収する場合であっても、前記(2)式を満足させる実施
例7の場合は、高純度の3゜5−DMHを回収できるの
に対し、晶析温度を下げて前記(2)式を満足させなく
した比較例2の場合は、3.5−DMHの純度が大巾−
に低減している。
以下余白
実施例8
実施例5で使用した濃縮3.5−DMH留分を、第6図
に示す連続溶融晶析装置を用い、溶融晶析せしめた。す
なわち、この装置の塔内に前記濃縮3.5−DMH留分
を液状で充填し、塔底温度を60℃、冷却域温度を30
℃に保持したのち、濃縮3.5−DMH留分装入量を1
000部/hr、製品抜き出し量を250部/hr、母
液抜き出し量を750部/hrに設定し、8時間運転し
た。8時間運転後の製品3.5−DMHは、純度99
、98%であった。
に示す連続溶融晶析装置を用い、溶融晶析せしめた。す
なわち、この装置の塔内に前記濃縮3.5−DMH留分
を液状で充填し、塔底温度を60℃、冷却域温度を30
℃に保持したのち、濃縮3.5−DMH留分装入量を1
000部/hr、製品抜き出し量を250部/hr、母
液抜き出し量を750部/hrに設定し、8時間運転し
た。8時間運転後の製品3.5−DMHは、純度99
、98%であった。
第1図は、溶融晶析後の母液中の3.4−DMH濃度が
30%となるまで最終晶析温度を低下した場合cy>a
tm3.4−DMHvII分中+7)3.4−DMH濃
度と、3.4−DMHの回収率との関係を示す線図、第
2図は、溶融晶析後の母液中の3゜5−DMH濃度が3
0%となるまで、最終晶析温度を低下せしめた場合の濃
縮3.5−DMH留分′中の3.5−DMH濃度と、3
.5−DMH回収率との関係を示す線図、第3図は、3
.4−DMHの固液平衡線図、第4図は、3.5−DM
Hの固液平衡線図、第5図は、DMH含有留分を理論段
数60段の蒸留装置を用い、100 mmAq、還流比
20で蒸留した場合の蒸留曲線、第6図は、向流連続溶
融晶析精製装置の一例を示す説明図である。 1・・・竪型塔、 2・・・原料供給口、3・・・冷却
用ジャケット部、 4・・・加熱用ジャレット部、 5・・・製品抜き出し口、 6・・・母液抜き出し口、
7・・・攪拌機、 特許出願人 住金化工株式会社 第1図 3,4−DMHの8′角や(/−) 3.5−DMHの8’*串CA) 第3図 五/l(’C) 温 鷹 (0C) 第 5 図 @6図 昭和63年6月10日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年特許願第55663号 2、発明の名称 込メチルフェノールの精製方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、補正の対象 出願明細書の「特許請求の範囲」の欄ならびに「発明の
詳細な説明」の欄 7ぶ〕\ 5、補正の内容 (1)昭和62年3月10日付提出の出願明細書の特許
請求の範囲を別紙のとおり補正する。 (2)同明細書の第6頁第15行目のrDMH濃度50
重量%以上」をrDMH濃度35重量%以上」と訂正す
る。 (3)同明細書の第13頁第7行目のつぎに「また、遠
心分N後の結晶を加熱溶解して冷却(いわゆる再溶解溶
融晶析)し、高純度の3.4−DMHまたは3.5−D
MHを得ることができる。しかし、操作が繁雑となる欠
点がある。」を挿入する。 別紙 2、特許請求の範囲 (1)ジメチルフェノール類含有留分を、目的ジメチル
フェノール濃度11重量%以上で、がっ、非目的ジメチ
ルフェノール濃度(U)が(1)式で示す範囲となるよ
うに蒸留して濃縮ジメチルフェノール留分を回収し、こ
れを溶融晶析して目的ジメチルフェノールを分離するこ
とを特徴とするジメチルフェノールの精製方法。 U≦(10O−x) (P/ (10O−P) )
・(1)ただし、U:濃縮ジメチルフェノール留分中の
非目的ジメチルフェノール濃度 (%) X:濃縮ジメチルフェノール留分中の 目的ジメチルフェノール濃度 (%) P:目的ジメチルフェノールの固液平 衡線図から求めな晶析温度での液 中の目的ジメチルフェノール濃度 (%) (2)目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが3。 5−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第1項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 (3)目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが3。 4−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第1項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 (4)ジメチルフェノール類含有留分が、非目的ジメチ
ルフェノールが3,4−ジメチルフェノールである特許
請求の範囲第1項ないし第3項記載のジメチルフェノー
ルの精製方法。 (4)溶融晶析をアルカリ抽出して得たタール酸分であ
る特許請求の範囲第1項ないし・第4項記載のジメチル
フェノールの精製方法。
30%となるまで最終晶析温度を低下した場合cy>a
tm3.4−DMHvII分中+7)3.4−DMH濃
度と、3.4−DMHの回収率との関係を示す線図、第
2図は、溶融晶析後の母液中の3゜5−DMH濃度が3
0%となるまで、最終晶析温度を低下せしめた場合の濃
縮3.5−DMH留分′中の3.5−DMH濃度と、3
.5−DMH回収率との関係を示す線図、第3図は、3
.4−DMHの固液平衡線図、第4図は、3.5−DM
Hの固液平衡線図、第5図は、DMH含有留分を理論段
数60段の蒸留装置を用い、100 mmAq、還流比
20で蒸留した場合の蒸留曲線、第6図は、向流連続溶
融晶析精製装置の一例を示す説明図である。 1・・・竪型塔、 2・・・原料供給口、3・・・冷却
用ジャケット部、 4・・・加熱用ジャレット部、 5・・・製品抜き出し口、 6・・・母液抜き出し口、
7・・・攪拌機、 特許出願人 住金化工株式会社 第1図 3,4−DMHの8′角や(/−) 3.5−DMHの8’*串CA) 第3図 五/l(’C) 温 鷹 (0C) 第 5 図 @6図 昭和63年6月10日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年特許願第55663号 2、発明の名称 込メチルフェノールの精製方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、補正の対象 出願明細書の「特許請求の範囲」の欄ならびに「発明の
詳細な説明」の欄 7ぶ〕\ 5、補正の内容 (1)昭和62年3月10日付提出の出願明細書の特許
請求の範囲を別紙のとおり補正する。 (2)同明細書の第6頁第15行目のrDMH濃度50
重量%以上」をrDMH濃度35重量%以上」と訂正す
る。 (3)同明細書の第13頁第7行目のつぎに「また、遠
心分N後の結晶を加熱溶解して冷却(いわゆる再溶解溶
融晶析)し、高純度の3.4−DMHまたは3.5−D
MHを得ることができる。しかし、操作が繁雑となる欠
点がある。」を挿入する。 別紙 2、特許請求の範囲 (1)ジメチルフェノール類含有留分を、目的ジメチル
フェノール濃度11重量%以上で、がっ、非目的ジメチ
ルフェノール濃度(U)が(1)式で示す範囲となるよ
うに蒸留して濃縮ジメチルフェノール留分を回収し、こ
れを溶融晶析して目的ジメチルフェノールを分離するこ
とを特徴とするジメチルフェノールの精製方法。 U≦(10O−x) (P/ (10O−P) )
・(1)ただし、U:濃縮ジメチルフェノール留分中の
非目的ジメチルフェノール濃度 (%) X:濃縮ジメチルフェノール留分中の 目的ジメチルフェノール濃度 (%) P:目的ジメチルフェノールの固液平 衡線図から求めな晶析温度での液 中の目的ジメチルフェノール濃度 (%) (2)目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが3。 5−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第1項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 (3)目的ジメチルフェノール フェノールで、非目的ジメチルフェノールが3。 4−ジメチルフェノールである特許請求の範囲第1項記
載のジメチルフェノールの精製方法。 (4)ジメチルフェノール類含有留分が、非目的ジメチ
ルフェノールが3,4−ジメチルフェノールである特許
請求の範囲第1項ないし第3項記載のジメチルフェノー
ルの精製方法。 (4)溶融晶析をアルカリ抽出して得たタール酸分であ
る特許請求の範囲第1項ないし・第4項記載のジメチル
フェノールの精製方法。
Claims (5)
- (1)ジメチルフェノール類含有留分を、目的ジメチル
フェノール濃度50重量%以上で、かつ、非目的ジメチ
ルフェノール濃度(U)が(1)式で示す範囲となるよ
うに蒸留して濃縮ジメチルフェノール留分を回収し、こ
れを溶融晶析して目的ジメチルフェノールを分離するこ
とを特徴とするジメチルフェノールの精製方法。 U≦(100−x)(P/(100−P))・・・(1
)ただし、U:濃縮ジメチルフェノール留分中の非目的
ジメチルフェノール濃度 (%) x:濃縮ジメチルフェノール留分中の 目的ジメチルフェノール濃度 (%) P:目的ジメチルフェノールの固液平 衡線図から求めた晶析温度での液 中の目的ジメチルフェノール濃度 (%) - (2)目的ジメチルフェノールが3,4−ジメチルフェ
ノールで、非目的ジメチルフェノールが3,5−ジメチ
ルフェノールである特許請求の範囲第1項記載のジメチ
ルフェノールの精製方法。 - (3)目的ジメチルフェノールが3,5−ジメチルフェ
ノールで、非目的ジメチルフェノールが3,4−ジメチ
ルフェノールである特許請求の範囲第1項記載のジメチ
ルフェノールの精製方法。 - (4)ジメチルフェノール類含有留分が、コールタール
留分をアルカリ抽出して得たタール酸分である特許請求
の範囲第1項ないし第3項記載のジメチルフェノールの
精製方法。 - (5)溶融晶析を連続的に行うことを特徴とする特許請
求の範囲第1項ないし第4項記載のジメチルフェノール
の精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5566387A JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP5566387A JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63222137A true JPS63222137A (ja) | 1988-09-16 |
JP2501106B2 JP2501106B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=13005088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP5566387A Expired - Lifetime JP2501106B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | ジメチルフェノ−ルの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2501106B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5094722A (en) * | 1989-10-11 | 1992-03-10 | Sumikin Chemical Co., Ltd. | Process for the purification of a dimethylphenol isomer |
CN116217346A (zh) * | 2023-03-10 | 2023-06-06 | 山东新和成维生素有限公司 | 一种3,5-二甲基苯酚粗品的纯化方法 |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5566387A patent/JP2501106B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5094722A (en) * | 1989-10-11 | 1992-03-10 | Sumikin Chemical Co., Ltd. | Process for the purification of a dimethylphenol isomer |
CN116217346A (zh) * | 2023-03-10 | 2023-06-06 | 山东新和成维生素有限公司 | 一种3,5-二甲基苯酚粗品的纯化方法 |
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JP2501106B2 (ja) | 1996-05-29 |
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