JP2024518810A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2024518810A5
JP2024518810A5 JP2023573235A JP2023573235A JP2024518810A5 JP 2024518810 A5 JP2024518810 A5 JP 2024518810A5 JP 2023573235 A JP2023573235 A JP 2023573235A JP 2023573235 A JP2023573235 A JP 2023573235A JP 2024518810 A5 JP2024518810 A5 JP 2024518810A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
beam path
light source
masks
outcoupled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023573235A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2024518810A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102021113780.2A external-priority patent/DE102021113780B9/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2024518810A publication Critical patent/JP2024518810A/ja
Publication of JP2024518810A5 publication Critical patent/JP2024518810A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023573235A 2021-05-27 2022-05-10 マイクロリソグラフィのマスクの特性評価方法および装置 Pending JP2024518810A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102021113780.2 2021-05-27
DE102021113780.2A DE102021113780B9 (de) 2021-05-27 2021-05-27 Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
PCT/EP2022/062684 WO2022248216A1 (en) 2021-05-27 2022-05-10 Method and apparatus for characterization of a microlithography mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2024518810A JP2024518810A (ja) 2024-05-02
JP2024518810A5 true JP2024518810A5 (https=) 2025-05-21

Family

ID=81941168

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023573235A Pending JP2024518810A (ja) 2021-05-27 2022-05-10 マイクロリソグラフィのマスクの特性評価方法および装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240061328A1 (https=)
JP (1) JP2024518810A (https=)
DE (1) DE102021113780B9 (https=)
TW (1) TWI815479B (https=)
WO (1) WO2022248216A1 (https=)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102023101902B4 (de) * 2023-01-26 2025-10-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung, Verfahren zum Betreiben einer maskenmetrologischen Messvorrichtung und Computerprogrammprodukt
DE102024111144A1 (de) * 2024-04-22 2025-10-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben einer Maskeninspektionsvorrichtung, EUV-Kamera, Maskeninspektionsvorrichtung, Computerprogrammprodukt

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6738135B1 (en) * 2002-05-20 2004-05-18 James H. Underwood System for inspecting EUV lithography masks
US7123348B2 (en) * 2004-06-08 2006-10-17 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and method utilizing dose control
KR101658494B1 (ko) * 2009-06-30 2016-09-21 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 반사성 요소의 어레이의 회전을 위한 마운팅 및 이를 포함하는 리소그래피 장치
DE102009047180A1 (de) * 2009-11-26 2010-12-16 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel, Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage
DE102010009022B4 (de) * 2010-02-22 2019-10-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem sowie Projektionsobjektiv einer Maskeninspektionsanlage
DE102010030435A1 (de) * 2010-06-23 2011-12-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Metrologiesystem
DE102010063337B9 (de) 2010-12-17 2020-05-07 Carl Zeiss Ag Verfahren zur Maskeninspektion sowie Verfahren zur Emulation von Abbildungseigenschaften
NL2009426A (en) * 2011-10-07 2013-04-09 Asml Netherlands Bv Radiation source.
DE102011086345A1 (de) 2011-11-15 2013-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel
DE102012208514A1 (de) * 2012-05-22 2013-11-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Justagevorrichtung sowie Masken-Inspektionsvorrichtung mit einer derartigen Justagevorrichtung
DE102012209412A1 (de) * 2012-06-04 2013-12-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Verfahren und optische Messvorrichtung zum Messen von Winkellagen von Facetten zumindest eines Facettenspiegels für EUV-Anwendungen
DE102013211269A1 (de) 2013-06-17 2014-04-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung eines in einem Objektfeld anordenbaren, strukturierten Objektes sowie Metrologiesystem für die Untersuchung eines strukturierten Objektes
DE102013212613B4 (de) 2013-06-28 2015-07-23 Carl Zeiss Sms Gmbh Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
NL2015073A (en) * 2014-07-15 2016-04-12 Asml Netherlands Bv Lithography apparatus and method of manufacturing devices.
WO2016045945A1 (en) * 2014-09-26 2016-03-31 Asml Netherlands B.V. Inspection apparatus and device manufacturing method
KR20180010242A (ko) * 2015-05-21 2018-01-30 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 마이크로리소그래픽 투영 장치의 작동 방법
US10025079B2 (en) * 2015-09-28 2018-07-17 Kenneth Carlisle Johnson Actinic, spot-scanning microscope for EUV mask inspection and metrology
DE102016212266B4 (de) * 2016-07-05 2018-11-15 Myestro Interactive Gmbh Vorrichtung zur Messung der Distanz mindestens eines Objektes von einer Referenzebene
DE102017115262B9 (de) * 2017-07-07 2021-05-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
JP6898557B2 (ja) * 2017-08-01 2021-07-07 株式会社東京精密 レーザー加工装置及び亀裂検出方法
DE102017217867A1 (de) * 2017-10-09 2018-07-26 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Facettenspiegel für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
US11968772B2 (en) * 2019-05-30 2024-04-23 Kla Corporation Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2024518810A5 (https=)
JP6320550B2 (ja) コヒーレント回折イメージング方法を使用した、反射モードにおける装置
WO2008061681A3 (de) Beleuchtungsoptik für die projektions-mikrolithografie sowie mess- und überwachungsverfahren für eine derartige beleuchtungsoptik
JP5165101B2 (ja) マイクロリソグラフィ投影露光用の装置および基板の表面を検査するための装置
TWI456354B (zh) 照明光學系統、曝光裝置以及元件製造方法
JP2020508568A5 (https=)
DE60303613D1 (de) Optische projektionstomographie
TW200625027A (en) Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
JP6625532B2 (ja) 光学アセンブリ
CN106104202B (zh) 计量光学量测方法及系统
JP7463297B2 (ja) 車載用イメージング装置、車両用灯具、自動車
CN113767304B (zh) 成像装置、车辆用灯具、汽车、成像方法
JP2020086393A5 (https=)
EP1582854A3 (en) System and method for the measurement of optical distortions
JP2023515488A5 (https=)
TWI891308B (zh) 用於特徵化微影光罩的設備和方法
TWI815479B (zh) 用於微影光罩之特徵化的方法與裝置
JP2015152405A5 (https=)
JP2019140288A5 (https=)
JP2007036016A5 (https=)
WO2005069080A3 (de) Vorrichtung und verfahren zur optischen vermessung eines optischen systems, messstrukturträger und mikrolithographie-projektionsbelichtungsanlage
JPWO2021210052A5 (https=)
JP2009295981A (ja) 任意パターンを有するパターニングデバイス上のパーティクル検出
JP2009216531A (ja) イメージング分光計測装置及び露光装置
JP4504298B2 (ja) 表面特性を特定する装置