JP2024506143A - デュアル真空シール - Google Patents

Abstract

真空システムであって、真空チャンバの壁と、真空チャンバのフランジと、それら壁・フランジ間に配設された外シールと、それら壁・フランジ間に配設された内シールとを有する。外シールは第１素材を含有し、内シールは、第１素材とは異なる第２素材を含有している。内シールは、外シールよりも真空チャンバの内部に近いところにあり且つ間隙により外シールから隔てられている。外シールを、内シールよりも、タイトな壁・フランジ間真空封止をもたらせるものとすることができる。内シールを、外シールよりも、真空チャンバの内部を清掃するのに用いられるガスに対し高耐性なものとすることができる。本真空システムは、間隙を排気すべくその間隙を第１真空ポンプに結合させる経路をも有する。

Description

本件開示は真空システム、より具体的には真空シールに関する。

［関連出願］
本願では、２０２１年２月１２日付米国仮特許出願第６３／１４８６２５号に基づく優先権を主張し、あらゆる目的でその全容を参照により繰り入れる。

ある種の真空システムでは、真空チャンバのフランジ（例．ドア）・壁間に真空封止を確立すべく、同一素材から作成されたＯリングがそのフランジ向けの内溝及び外溝内に配置される。それらＯリング各々のことをシールと呼ぶことができる。それらＯリングを隔てる間隙を排気することで、内Ｏリングに対する圧力を低減することができる。

特開２００４－０９９９２４号公報 特開平９－２６３９４４号公報

真空チャンバにて高真空を保てるようにするには、Ｏリングを、些少な漏れ及び浸透しかもたらさないものとすべきである。しかし、Ｏリングは、例えば、真空チャンバの内部を清掃するのに用いられるガスに対し耐性を呈するよう、安定なものともすべきである。そのガスに対する耐性が欠如していると、そのガスに対する露出を原因とする内Ｏリングの劣化が引き起こされ、その内Ｏリングから真空チャンバ内への粒子の放出及び漏れがもたらされかねない。これらの要請が対立することがある。

ある種の実施形態では、真空システムが、真空チャンバの壁と、真空チャンバのフランジと、それら壁・フランジ間に配設された外シールと、それら壁・フランジ間に配設された内シールとを有する。外シールが第１素材を含有し、内シールが第１素材とは異なる第２素材を含有する。内シールが、外シールよりも、真空チャンバの内部に近いところにある。外シールが間隙により内シールから隔てられる。外シールが、内シールよりも、タイトな壁・フランジ間真空封止をもたらせるものとされる。本真空システムは、その間隙を排気すべくその間隙を第１真空ポンプに結合させる経路をも有する。

ある種の実施形態に係る方法では、真空チャンバの壁とその真空チャンバのフランジとの間に外シール及び内シールが配設される。外シールが第１素材を含有し、内シールが第１素材とは異なる第２素材を含有する。内シールが、外シールよりも、真空チャンバの内部に近いところにある。外シールが間隙により内シールから隔てられる。外シールが、内シールよりも、タイトな壁・フランジ間真空封止をもたらせるものとされる。本方法では、また、第１真空ポンプを用いその間隙が排気され、且つ、その第１真空ポンプを用いその間隙を排気している間に第２真空ポンプを用い真空チャンバの内部が排気される。

ある種の実施形態では、真空システムが、真空チャンバの壁と、真空チャンバのフランジと、それら壁・フランジ間に配設された外シールと、それら壁・フランジ間に配設された内シールとを有する。外シールが第１素材を含有し、内シールが第１素材とは異なる第２素材を含有する。内シールが、外シールよりも、真空チャンバの内部に近いところにある。外シールが間隙により内シールから隔てられる。内シールが、外シールよりも、真空チャンバの内部を清掃するのに用いられるガスに対し高耐性である。本真空システムは、その間隙を排気すべくその間隙を第１真空ポンプに結合させる経路をも有する。

様々な記載実施形態のより良好な理解のため、後掲の詳細記述と併せ以下の図面を参照されたい。

ある種の実施形態に係る真空チャンバの一部分の断面図である。 ある種の実施形態に係り図１の真空チャンバ、第１真空ポンプ及び第２真空ポンプを有する真空システムの一部分の断面図である。 ある種の実施形態に係り図２の真空システムの一例たる真空システムの一部分の断面図である。 ある種の実施形態に係る真空システム動作方法が描かれているフローチャートである。

図面及び明細書を通じ、類似する参照番号により対応する部分を参照する。

以下、添付図面にその例が描かれている様々な実施形態を詳細に参照する。後掲の詳細記述にて、多数の具体的細部が説明されているのは、様々な記載実施形態の一貫理解を図るためである。しかしながら、本件技術分野に習熟した者（いわゆる当業者）には察せられる通り、それら具体的な詳細細部無しでそれら様々な記載実施形態を実施することもできる。別の諸例にて、周知な方法、手順、部材、回路及びネットワークが詳述されていないのは、諸実施形態の態様が不必要に曖昧化されないようにするためである。

図１はある種の実施形態に係る真空チャンバ１００の一部分の断面図である。真空チャンバ１００は壁１０２及びフランジ１０４を有している（単純性に鑑み図１には壁１０２及びフランジ１０４の一部分のみを示してある）。フランジの語は、本願での用法によれば、真空チャンバ１００の開口用のカバーのことを指している。例えばフランジ１０４をドアとし、その開閉により、真空チャンバ１００内に物質を配置すること及びそこから除去することができるようにしてもよい。また例えば、フランジ１０４を、壁１０２に固定装着されてはいるが取り外せるものとすることで、真空チャンバ１００に対するメンテナンスを実行できるようにしてもよい。真空チャンバ１００の壁１０２、フランジ１０４及び／又はその他の構成部材（例．他の壁及び／又はフランジを含むそれ）は、その真空チャンバ１００の内部１０６を囲んでいる。真空チャンバ１００内は真空（例．超高真空（ＵＨＶ））に保たれる（ＵＨＶは１０^－９ｔｏｒｒ以下のオーダの圧力を呈する真空のことを指す標準的で周知な技術用語である）。真空チャンバ１００の外部は大気１０８（即ち大気圧のそれ）とすることができる。

図１の例に示されている通り、フランジ１０４の一部分が壁１０２と隣り合っている。真空封止をもたらすべく、外シール１１０及び内シール１１２（例．外ガスケット及び内ガスケット）が壁１０２・フランジ１０４間（即ち壁１０２とフランジ１０４のうちその壁１０２に隣り合う部分との間）に配設されている。ある種の実施形態では、図１に示されている通り、外シール１１０及び／又は内シール１１２が、壁１０２の表面内にありフランジ１０４に隣り合う個別の溝内に配設される。別の諸実施形態では、外シール１１０及び／又は内シール１１２が、フランジ１０４の表面内にあり壁１０２に隣り合う個別の溝内に配設される。更に別の諸実施形態では、壁１０２及びフランジ１０４の双方が溝を有していてそこに外シール１１０及び／又は内シール１１２が着座することとなるよう、外シール１１０及び／又は内シール１１２が、壁１０２及びフランジ１０４にあり個別対をなす溝内に配設される。このように、壁１０２及びフランジ１０４のうち少なくとも一方を、外シール１１０が着座する第１溝、並びに内シール１１２が着座する第２溝が、備わるものとすることができる。内シール１１２は、外シール１１０よりも、真空チャンバ１００の内部１０６に近いところにある。例えば、外シール１１０及び内シール１１２は、壁１０２・フランジ１０４間に配設されていて（例．それらの個別溝内に配設されていて）同心状であり、外シール１１０が内シール１１２よりも大きな等価直径（即ち全長）を有している。外シール１１０及び内シール１１２は、壁１０２・フランジ１０４間に配設されていて、圧縮されている。

外シール１１０及び内シール１１２は間隙１１４により互いに隔てられている。間隙１１４は、フランジ１０４・壁１０２間且つ内シール１１２・外シール１１０間に位置している。経路１１６が間隙１１４から導かれているので、その間隙１１４を第１真空ポンプに結合させ、そのポンプによりその間隙１１４（及び経路１１６）を排気することができる。経路１１６は、（例．図１に示されている通り）壁１０２内やフランジ１０４内を通るものとすることができる。ある種の実施形態では、間隙１１４内で達成される真空が、真空チャンバ１００の内部１０６で達成される真空よりも高い圧力を有する（即ち低真空な）ものとなる。例えば、間隙１１４内で達成される真空が低真空（即ち１０^－３ｔｏｒｒ以上の圧力を呈する真空）となる一方、内部１０６での真空に係る圧力が１０^－３ｔｏｒｒ未満となる（例．ＵＨＶとなる）。間隙１１４を排気することで、間隙１１４と真空チャンバ１００の内部１０６との間の圧力差が減るため、内シール１１２に対する圧力が低減される。

外シール１１０は、内シール１１２よりも、タイトな壁１０２・フランジ１０４間真空封止（即ちそのシールを介した漏れが少ない良好な封止）をもたらせるものである。外シール１１０は第１素材を含有している（例．それで作成されている）。内シール１１２は、第１素材とは異なる第２素材を含有している（例．それで作成されている）。ある種の実施形態では、第２素材が第１素材よりも硬いため内シール１１２が外シール１１０よりも硬くなる。外シール１１０が内シール１１２ほど硬くないことで、外シール１１０にて内シール１１２よりもタイトなフィットを壁１０２及びフランジ１０４に対し形成することが可能となり、従って内シール１１２よりもタイトな壁１０２・フランジ１０４間真空封止をもたらすことが可能となる。

ある種の実施形態では、外シール１１０及び内シール１１２の双方がエラストマ性シール（例．Ｏリング）とされ、第１素材及び第２素材が個別のエラストマとされる。即ち、内シール１１２を内エラストマ性シール（例．内Ｏリング）、外シール１１０を外エラストマ性シール（例．外Ｏリング）とすることができる。第２素材（即ち内シール１１２を構成しているエラストマ）を、第１素材（即ち外シール１１０を構成しているエラストマ）よりも硬いものとすることができる。例えば、第１素材をフルオロエラストマ（即ちＦＫＭ／ＦＰＭ）（例．商標ＶＩＴＯＮ（登録商標）の許で販売されているそれ）とすることや、第２素材をパーフルオロエラストマ（即ちＦＦＫＭ）（例．商標ＰＥＲＦＲＥＺ（登録商標）の許で販売されているそれ）とすることができる。パーフルオロエラストマはフルオロエラストマよりも硬く、フルオロエラストマシールによってパーフルオロエラストマシールよりもタイトな真空封止がもたらされる。

随時（例．定期的に）、真空チャンバ１００の内部１０６を、内部１０６にガスを導入することにより清掃することができる。ある種の実施形態では、そのガスが還元性ガス（又はそれを含有するもの）とされる。例えば、そのガスがオゾン又は原子状酸素（又はそれを含有するもの）とされる。この清掃プロセス中は、真空チャンバ１００の内部１０６は、そのガスに係る分圧が高いので、真空チャンバ１００の動作中に内部１０６にて保たれる真空とはならない。清掃プロセス完了後は、内部１０６がポンピングされて動作時用の真空レベルに（例．ＵＨＶに）戻され、真空チャンバ１００の動作が再開される。

内シール１１２は、真空チャンバ１００の内部１０６を清掃するのに用いられるガス（例．オゾン又は原子状酸素）に対し、外シール１１０よりも高耐性である（即ちそのガスにより引き起こされる化学的及び／又は物理的変化に対しより高耐性である）。この高耐性は、例えば、内シール１１２が外シール１１０よりも硬いことでもたらされている。ある種の実施形態では、内シール１１２が、そのガスに対し、これもエラストマ性シール（例．Ｏリング）である外シール１１０よりも高耐性なエラストマ性シール（例．Ｏリング）とされる。例えば、内シール１１２がパーフルオロエラストマとされ、外シール１１０がフルオロエラストマとされる；パーフルオロエラストマは、真空チャンバ清掃用ガスに対し、フルオロエラストマよりも高耐性である。内シール１１２のガス耐性が高めであることで、そのガスへの露出を原因とする内シール１１２の劣化が低減されることにより、内シール１１２の劣化により引き起こされ内シール１１２から真空チャンバ１００の内部１０６に至る粒子放出とその内シール１１２を介した漏れとが低減される。そうした粒子は内部１０６（例．内部１０６に配設されている部材、例えば光学系）を汚染しかねない。従って、内シール１１２のガス耐性を高めとすることで、真空チャンバの内部１０６の汚染（例．内部１０６に配設されている部材の汚染）が低減される。

ある種の実施形態では、外シール１１０及び内シール１１２を、真空チャンバ１００の動作中に壁１０２に対するフランジ１０４の位置が静止固定される静的条件下で、動作させる。これに代え、外シール１１０及び内シール１１２を、真空チャンバ１００の動作中に壁１０２に対しフランジ１０４を動かせるよう動的条件下で動作させてもよい。例えば、自己整列のため壁１０２に対しフランジ１０４を動かし、真空チャンバ１００に対するその整列状態を保つことができる。外シール１１０及び内シール１１２により、壁１０２・フランジ１０４間真空封止を共同で保ちつつ、壁１０２に対するフランジ１０４の動きを収容することができる：外シール１１０及び内シール１１２の協働により、フランジ１０４の動きによらず真空封止が保たれる。

図２は、ある種の実施形態に係り真空チャンバ１００（図１）、第１真空ポンプ１１８及び第２真空ポンプ１２２を有する真空システム２００の一部分の断面図である。第１真空ポンプ１１８は経路１１６を介し間隙１１４に結合されていて、それを用い間隙１１４を排気すること、ひいてはその間隙１１４内に真空をもたらすことができる。例えば、チューブ１２０により第１真空ポンプ１１８を経路１１６に結合させることで、第１真空ポンプ１１８が経路１１６を介し間隙１１４に結合されている（同じく、チューブ１２０を経路１１６の一部と見なすこともできる）。ある種の実施形態では、第１真空ポンプ１１８が、間隙１１４内に低真空をもたらす粗引ポンプとされる。

第２真空ポンプ１２２は、真空チャンバ１００の内部１０６に真空をもたらすのに用いられている。第２真空ポンプ１２２が、その真空を単独でもたらすのでも、他の１個又は複数個の真空ポンプとの協働でもたらすのでもよい。別体の粗引ポンプを（例．第１真空ポンプ１１８を、図２には示されていない内部１０６との連結を通じ）初期的に用い、内部１０６を低真空に至るまでポンピングした後、単独で又は他の１個又は複数個の真空ポンプとの協働で、より高い真空に（例．ＵＨＶに）至るまで内部をポンピングしてもよい。第２真空ポンプ１２２の例には、限定ではないが、ターボポンプやクライオポンプがある。ある種の実施形態では、第２真空ポンプ１２２を用いることで、第１真空ポンプ１１８により間隙１１４内にもたらされ又はもたらすことが可能なそれより高い（即ちより低い圧力の）真空が、内部１０６にもたらされる。例えば、第２真空ポンプ１２２をＵＨＶポンプとする一方、第１真空ポンプ１１８を、間隙１１４内に超高真空をもたらしえないものとしてもよい（例．第１真空ポンプ１１８を、間隙１１４内に低真空をもたらす粗引ポンプとしてもよい）。

図３は、ある種の実施形態に係り真空システム２００（図２）の一例たる真空システム３００の一部分の断面図である。本真空システム３００では、第１真空ポンプ１１８が第２真空ポンプ１２２に結合されており、それにより第２真空ポンプ１２２を排気することができる。例えば、チューブ１２４により第２真空ポンプ１２２の排出部が第１真空ポンプ１１８に結合される。チューブ１２４をチューブ１２０と連結することもできる。

真空チャンバ１００を有する真空システム（例．図２の真空システム２００、例えば図３の真空システム３００）は、多種多様な用途で用いることができる。ある種の実施形態では、真空チャンバ１００が計量又は検査ツール（例．半導体計量又は検査ツール）にて用いられる。例えば、真空チャンバ１００を、欠陥に関しレティクル（即ちフォトマスク）又は半導体ウェハを検査するツールにて用いることができる。真空チャンバ１００は自身の内部１０６に光学系があるものにすることができ、ガスを用い内部１０６を清掃する際にその光学系が清掃されるものにすることができる。その光学系を極端紫外（ＥＵＶ）光学系（例．１３．５ｎｍ光学系）とすることができる。他にも多くの例が実現可能である。

図４は、ある種の実施形態に係る真空システム（例．図２の真空システム２００、例えば図３の真空システム３００）を動作させる方法４００が描かれているフローチャートである。本方法４００では、外シール（例．図１～図３の外シール１１０）及び内シール（例．図１～図３の内シール１１２）が、真空チャンバ（例．図１０３の真空チャンバ１００）の壁（例．図１～図３の壁１０２）と、その真空チャンバのフランジ（例．図１～図３のフランジ１０４）との間に配設される（４０２）。外シールは第１素材である。内シールは、第１素材とは異なる第２素材である。内シール及び外シールは、内シールが外シールよりも真空チャンバの内部（例．図１～図３の内部１０６）に近いところにあることとなるよう配設される。外シールは間隙（例．図１～図３の間隙１１４）により内シールから隔てる。ある種の実施形態では、外シールが、内シールによりも、タイトな壁・フランジ間真空封止をもたらせるものとされる（４０４）。ある種の実施形態では、内シールが外シールよりも硬いものとされ、第２素材が第１素材よりも硬いものとされる（４０６）。例えば、外シールが内シールほど硬くないため壁及びフランジ相手により良好なフィットを形成できるので、外シールにより、内シールよりも、タイトな壁・フランジ間真空封止をもたらすことができる。

ある種の実施形態では、内シール及び外シールがエラストマ性シール（例．Ｏリング）とされ、第１素材及び第２素材が個別のエラストマとされる（４０８）。第２素材（即ち内エラストマ性シールの素材）を第１素材（即ち外エラストマ性シールの素材）よりも硬くすることで、内エラストマ性シールを外エラストマ性シールよりも硬くすることができる。例えば第１素材がフルオロエラストマ、第２素材がパーフルオロエラストマとされる。

間隙が、第１真空ポンプ（例．図２～図３の第１真空ポンプ１１８）（例．ターボポンプ又はクライオポンプ）を用い排気される（４１０）。即ち、第１真空ポンプによりその間隙内に真空がもたらされる。第１真空ポンプを用い間隙が排気されている間に（即ちその間隙内に真空をもたらすべく第１真空ポンプが用いられている間に）、第２真空ポンプ（例．図２～図３の第２真空ポンプ１２２）を用い真空チャンバの内部が排気される（４１４）。例えば、超高真空より高い圧力が間隙内にもたらされている間に（４１２）、超高真空が真空チャンバの内部にもたらされる（４１６）。第２真空ポンプは、それ自体により、或いはそれと他の１個又は複数個のポンプ（例．他の１個又は複数個のターボポンプ又はクライオポンプ）との協働により、真空チャンバの内部に真空をもたらせるものである。

外シール及び内シールを用い、壁・フランジ間真空封止を保ちつつ壁に対するフランジの動きを収容することができる。その動きが生じることで、例えばフランジの自己整列が可能となる。その動きと外及び内シールによるその収容は、第１真空ポンプを用い間隙が排気されつつあり且つ第２真空ポンプを用い真空チャンバの内部が排気されつつある間に生じる。或いは、第１真空ポンプを用い間隙が排気されつつあり且つ第２真空ポンプを用い真空チャンバの内部が排気されつつある間、壁に対しフランジが静止保持される。

真空チャンバには清掃（例．定期清掃）が必要とされうる。従って、本方法４００にて更に、真空チャンバの内部の排気を中止させるようにしてもよい（４１８）。真空チャンバの内部の排気が中止された後に、ガス（例．還元性ガス）を用い真空チャンバの内部が清掃される（４２０）。ある種の実施形態では、そのガスがオゾン又は原子状酸素（或いはそれを含有するもの）とされる。内シールを、外シールよりも、そのガスに対し高耐性なものとすることができる（４２２）。真空チャンバの内部が清掃された後に、第２真空ポンプを用いた真空チャンバ内部の排気が再開され（４２４）、本方法４００の実行がステップ４１０及び４１４に戻される。或いは、本方法４００の実行がステップ４２４の後にステップ４０２へと戻される。こうすることで真空チャンバを反復的に清掃することができ、各回清掃を個別使用周期後に実行することができる。

上掲の記述は説明を目的とするものであり、具体的な諸実施形態を参照して記述されている。しかしながら、上掲の例証的議論は、排他的たることや、諸請求項の技術的範囲を開示形態そのものに限定することを、意図するものではない。多くの修正及び改変を上掲の教示に鑑みなすことができる。それら実施形態は、諸請求項の下地をなす諸原理及びそれらの実際的応用を最良説明すべく選択されているので、他の当業者は、想定されている具体的用途に見合う様々な修正と併せ諸実施形態を最良使用することができる。

Claims (25)

1. 真空システムであって、
   真空チャンバの壁と、
   前記真空チャンバのフランジと、
   前記壁・前記フランジ間に配設されており、第１素材を含有している外シールと、
   前記壁・前記フランジ間に配設されており、前記第１素材とは異なる第２素材を含有している内シールと、
   を備え、
   前記内シールが前記外シールよりも前記真空チャンバの内部に近いところにあり、
   前記外シールが間隙により前記内シールから隔てられており、且つ
   前記外シールが、前記内シールよりも、タイトな前記壁・前記フランジ間真空封止をもたらせる真空システムであり、且つ
   前記間隙を排気すべくその間隙を第１真空ポンプに結合させる経路を備える真空システム。
2. 請求項１に記載の真空システムであって、前記内シールが、前記外シールよりも、前記真空チャンバの内部を清掃するのに用いられるガスに対し高耐性である真空システム。
3. 請求項２に記載の真空システムであって、前記ガスがオゾンを含有している真空システム。
4. 請求項２に記載の真空システムであって、前記ガスが原子状酸素を含有している真空システム。
5. 請求項１に記載の真空システムであって、前記内シールが前記外シールよりも硬く、前記第２素材が前記第１素材よりも硬い真空システム。
6. 請求項１に記載の真空システムであって、前記内シール及び前記外シールがエラストマ性シールであり、前記第１素材及び前記第２素材が個別のエラストマである真空システム。
7. 請求項６に記載の真空システムであって、前記内シール及び前記外シールがＯリングである真空システム。
8. 請求項６に記載の真空システムであって、
   前記第１素材がフルオロエラストマであり、且つ
   前記第２素材がパーフルオロエラストマである真空システム。
9. 請求項６に記載の真空システムであって、前記内シールが前記外シールよりも硬く、前記第２素材が前記第１素材よりも硬い真空システム。
10. 請求項１に記載の真空システムであって、更に、
    前記経路を介し前記間隙に結合された前記第１真空ポンプと、
    前記真空チャンバの内部に超高真空をもたらす第２真空ポンプと、
    を備え、前記第１真空ポンプが、前記間隙内に真空をもたらすがその間隙内に超高真空をもたらせないものである真空システム。
11. 請求項１０に記載の真空システムであって、前記第２真空ポンプを排気すべく前記第１真空ポンプがその第２真空ポンプに結合されている真空システム。
12. 請求項１に記載の真空システムであって、
    前記フランジが、前記真空チャンバの動作中に前記壁に対し動かせるよう構成されており、且つ
    前記外シール及び前記内シールが、前記壁・前記フランジ間真空封止を共同で保ちつつその壁に対するそのフランジの動きを収容する真空システム。
13. 請求項１に記載の真空システムであって、前記フランジがドアである真空システム。
14. 請求項１に記載の真空システムであって、前記フランジ及び前記壁のうち少なくとも一方が、前記外シールが着座する第１溝と、前記内シールが着座する第２溝と、を有する真空システム。
15. 方法であって、
    真空チャンバの壁とその真空チャンバのフランジとの間に外シール及び内シールを配設し、但し
    前記外シールが第１素材を含有しており、
    前記内シールが前記第１素材とは異なる第２素材を含有しており、
    前記内シールが前記外シールよりも前記真空チャンバの内部に近く、
    前記外シールが間隙により前記内シールから隔てられていて、且つ
    前記外シールが前記内シールよりもタイトな前記壁・前記フランジ間真空封止をもたらせるものであることとし、
    第１真空ポンプを用い前記間隙を排気し、且つ
    前記第１真空ポンプを用い前記間隙を排気している間に、第２真空ポンプを用い前記真空チャンバの内部を排気する方法。
16. 請求項１５に記載の方法であって、更に、
    前記真空チャンバの内部の排気を中止し、
    前記真空チャンバの内部の排気を中止した後に、ガスを用い前記真空チャンバの内部を清掃し、但し前記内シールを前記外シールよりもそのガスに対し高耐性なものとし、且つ
    前記真空チャンバの内部を清掃した後に、前記第２真空ポンプを用いた前記真空チャンバの内部の排気を再開する方法。
17. 請求項１５に記載の方法であって、前記ガスがオゾン又は原子状酸素を含有している方法。
18. 請求項１５に記載の方法であって、前記内シールが前記外シールよりも硬く、前記第２素材が前記第１素材よりも硬い方法。
19. 請求項１５に記載の方法であって、前記内シール及び前記外シールがエラストマ性シールであり、前記第１素材及び前記第２素材が個別のエラストマである方法。
20. 請求項１９に記載の方法であって、前記内シール及び前記外シールがＯリングである方法。
21. 請求項１９に記載の方法であって、
    前記第１素材がフルオロエラストマであり、且つ
    前記第２素材がパーフルオロエラストマである方法。
22. 請求項１９に記載の方法であって、前記内シールが前記外シールよりも硬く、前記第２素材が前記第１素材よりも硬い方法。
23. 請求項１５に記載の方法であって、
    前記第２真空ポンプを用い前記真空チャンバの内部を排気する際に、前記真空チャンバの内部に超高真空をもたらし、且つ
    前記第１真空ポンプを用い前記間隙を排気する際に、超高真空よりも高い圧力を有する真空をその間隙内にもたらす方法。
24. 請求項１５に記載の方法であって、更に、前記第１真空ポンプを用い前記間隙を排気し前記第２真空ポンプを用い前記真空チャンバの内部を排気している間に、
    前記外シール及び前記内シールを用い、前記壁・前記フランジ間真空封止を保ちつつその壁に対するそのフランジの動きを収容する方法。
25. 真空システムであって、
    真空チャンバの壁と、
    前記真空チャンバのフランジと、
    前記壁・前記フランジ間に配設されており、第１素材を含有している外シールと、
    前記壁・前記フランジ間に配設されており、前記第１素材とは異なる第２素材を含有している内シールと、
    を備え、
    前記内シールが前記外シールよりも前記真空チャンバの内部に近いところにあり、
    前記外シールが間隙により前記内シールから隔てられており、且つ
    前記内シールが、前記外シールよりも、前記真空チャンバの内部を清掃するのに用いられるガスに対し高耐性な真空システムであり、且つ
    前記間隙を排気すべくその間隙を第１真空ポンプに結合させる経路を備える真空システム。