JP2014145121A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 ゲートバルブ内部で異物が落下することを回避し、シール性の低下による成膜室での真空漏れを未然に防止する。
【解決手段】 ガラス基板１１に対して真空状態で薄膜を形成する成膜室１２と、その成膜室１２に隣接して設けられ、成膜室１２との間でガラス基板１１を搬入あるいは搬出するロード側予備室１３およびアンロード側予備室１４と、成膜室１２と予備室１３，１４との間に設けられ、予備室１３，１４の真空状態で成膜室１２と予備室１３，１４との間を連通させると共に、予備室１３，１４の大気開放状態で成膜室１２と予備室１３，１４との間を遮断するゲートバルブ１５，１６とを備えた真空処理装置であって、そのゲートバルブ１５，１６内をガラス基板１１の搬送方向に沿って移動することでゲートバルブ１５，１６に対して出入り可能に設けられ、ガラス基板１１の搬出入時にガラス基板１１とゲートバルブ１５，１６との間に介在するシャッタ２７，２８を具備する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、例えば、基板に対して真空状態で薄膜を形成する成膜室を備え、その成膜室との間で基板を搬出入する予備室をゲートバルブを介して成膜室に連設した真空蒸着装置、スパッタリング装置やプラズマＣＶＤ装置などの真空処理装置に関する。

例えば、真空蒸着装置、スパッタリング装置やプラズマＣＶＤ装置などの真空処理装置は、図３２に示すように、基板１０１に対して真空状態で薄膜を形成する成膜室１０２と、その成膜室１０２のロード側に連設され、成膜室１０２に未処理の基板１０１を搬入するロード側予備室１０３と、成膜室１０２のアンロード側に連設され、成膜室１０２から処理済の基板１０１を搬出するアンロード側予備室１０４とを備え、ロード側予備室１０３と成膜室１０２との間、および成膜室１０２とアンロード側予備室１０４との間に、成膜室１０２と予備室１０３，１０４との間を開閉するゲートバルブ１０５，１０６を介在させた構造を具備する（例えば、特許文献１参照）。

なお、ロード側予備室１０３、成膜室１０２およびアンロード側予備室１０４には、基板１０１を搬送用トレイ１０７に載置して水平に保持した状態で、ロード側予備室１０３から成膜室１０２を介してアンロード側予備室１０４へ移送するための搬送ローラ１０８が設置されている。

図３３および図３４は成膜室１０２のロード側に設けられたゲートバルブ１０５を例示し、図３５および図３６は成膜室１０２のアンロード側に設けられたゲートバルブ１０６を例示する。これらゲートバルブ１０５，１０６は、図３３〜図３６に示すように、成膜室１０２と予備室１０３，１０４とを連結して成膜室１０２と予備室１０３，１０４との間で管路を形成するハウジング１０９，１１０と、成膜室１０２の搬出入口と連通するハウジング１０９，１１０の開口部１１１，１１２を開閉する弁体１１３，１１４と、その弁体１１３，１１４を上下動および水平動させる駆動機構１１５，１１６とで主要部が構成されている。

まず、成膜室１０２のロード側に設けられたゲートバルブ１０５では、基板１０１を成膜室１０２に搬入するに際して、真空状態にある成膜室１０２の搬入口と連通するハウジング１０９の開口部１１１を弁体１１３が閉塞した状態（図３３参照）から、ロード側予備室１０３を真空状態にした上で開状態へ移行する。このゲートバルブ１０９の開動作は、図３４に示すように、駆動機構１１５により弁体１１３を水平方向（図示左方向）に移動させた上で垂直方向（図示上方向）に移動させることにより行われる。

このようにして、ハウジング１０９の開口部１１１を開放することにより、ロード側予備室１０３と成膜室１０２との間をゲートバルブ１０５を介して連通させる。その後、基板１０１を搬送ローラ１０８によりロード側予備室１０３から成膜室１０２へ移送した上で、前述した開動作とは逆の閉動作でもって、ハウジング１０９の開口部１１１を弁体１１３で閉塞することにより、ロード側予備室１０３と成膜室１０２との間をゲートバルブ１０５を介して遮断した上で、ロード側予備室１０３を大気開放状態にする。

一方、成膜室１０２のアンロード側に設けられたゲートバルブ１０６では、基板１０１を成膜室１０２から搬出するに際して、真空状態にある成膜室１０２の搬出口と連通するハウジング１１０の開口部１１２を弁体１１４が閉塞した状態（図３５参照）から、アンロード側予備室１０４を真空状態にした上で開状態へ移行する。このゲートバルブ１０６の開動作は、図３６に示すように、駆動機構１１６により弁体１１４を水平方向（図示右方向）に移動させた上で垂直方向（図示上方向）に移動させることにより行われる。

このようにして、ハウジング１１０の開口部１１２を開放することにより、成膜室１０２とアンロード側予備室１０４との間をゲートバルブ１０６を介して連通させる。その後、基板１０１を搬送ローラ１０８により成膜室１０２からアンロード側予備室１０４へ移送した上で、前述した開動作とは逆の閉動作でもって、ハウジング１１０の開口部１１２を弁体１１４で閉塞することにより、成膜室１０２とアンロード側予備室１０４との間をゲートバルブ１０６を介して遮断した上で、アンロード側予備室１０４を大気開放状態にする。

特開平１１−１４５０８４号公報

ところで、前述した従来の真空処理装置において、成膜室１０２のロード側に設けられたゲートバルブ１０５では、基板１０１をロード側予備室１０３から成膜室１０２へ移送する時（図３４参照）、基板１０１に付着したゴミや、その基板１０１が載置された搬送用トレイ１０７に付着したゴミなどの異物がゲートバルブ１０５のハウジング１０９の底部１１７に落下することがある。また、成膜室１０２のアンロード側に設けられたゲートバルブ１０６でも、基板１０１を成膜室１０２からアンロード側予備室１０４へ移送する時（図３６参照）、成膜時に発生して基板１０１に付着したゴミや、その基板１０１が載置された搬送用トレイ１０７に付着したゴミなどの異物がゲートバルブ１０６のハウジング１１０の底部１１８に落下することがある。

このようにゲートバルブ１０５，１０６のハウジング１０９，１１０の底部１１７，１１８に異物が落下していると、ゲートバルブ１０５，１０６が、その弁体１１３，１１４を駆動機構１１５，１１６により水平動および上下動させる開閉動作を繰り返すことにより、ハウジング１０９，１１０の底部１１７，１１８に落下した異物を巻き上げることになる。巻き上げられた異物が弁体１１３，１１４のシール面に付着すると、弁体１１３，１１４によるシール性が低下し、成膜室１０２での真空漏れが発生するおそれがある。

そこで、本発明は前述の問題点に鑑みて提案されたもので、その目的とするところは、ゲートバルブ内部に異物が落下することを回避し、シール性の低下による成膜室での真空漏れを未然に防止し得る真空処理装置を提供することにある。

前述の目的を達成するための技術的手段として、本発明に係る真空処理装置は、被処理物に対して真空状態で処理を実行する処理室と、その処理室に隣接して設けられ、処理室との間で被処理物を搬入あるいは搬出する予備室と、処理室と予備室との間に設けられ、予備室の真空状態で処理室と予備室との間を連通させると共に、予備室の大気開放状態で処理室と予備室との間を遮断するゲートバルブとを備え、そのゲートバルブ内を被処理物の搬送方向に沿って移動することでゲートバルブに対して出入り可能に設けられ、被処理物の搬出入時に被処理物とゲートバルブとの間に介在するシャッタを具備したことを特徴とする。

本発明では、被処理物の搬出入時に被処理物とゲートバルブとの間に介在するシャッタを、ゲートバルブ内を被処理物の搬送方向に沿って移動することでゲートバルブに対して出入り可能に設けたことにより、被処理物の搬出入時に被処理物とゲートバルブとの間にシャッタが介在することから、被処理物に付着した異物はシャッタに落下することになってゲートバルブの内部に落下することはない。また、ゲートバルブ内を被処理物の搬送方向に沿って移動することでゲートバルブに対して出入り可能に設けたことで、ゲートバルブの開閉動作時、シャッタがゲートバルブの内部に存在しないことから、ゲートバルブが開閉動作を繰り返しても、シャッタに落下した異物を巻き上げることはない。

本発明におけるシャッタは、被処理物の搬送方向と直交する面内で被処理物を囲撓する筒状をなす構造が望ましい。このような筒状のシャッタを採用すれば、被処理物を完全に取り囲むことができるので、被処理物に付着した異物をシャッタに確実に落下させることができ、その異物がゲートバルブの内部に落下することは皆無となる。

本発明におけるシャッタは、その底面が被処理物の搬送方向に沿って凹状をなす構造が望ましい。このように、シャッタの底面が凹状をなす構造とすれば、ゲートバルブの開状態でのシャッタの開閉動作時や、ゲートバルブの閉状態での装置内部の圧力変動時であっても、シャッタに落下した異物が凹状底面のくぼみに集められるので、その異物がシャッタの外部に飛散してゲートバルブの内部へ落下することを確実に防止できる。

本発明におけるシャッタは、一対のシャッタ半体からなり、被処理物の搬出入時にシャッタ半体のそれぞれの対向端部を当接させる突き合わせ構造が望ましい。このような構造を採用すれば、ゲートバルブの開状態で一対のシャッタ半体を開閉動作させることになる。これにより、シャッタの設置スペースを予備室側と処理室側とに分配することができ、シャッタ半体の開閉動作に伴う移動距離を、単一のシャッタで構成した場合よりも半減させることができる。

この突き合わせ構造を有するシャッタは、一対のシャッタ半体の対向端部に、被処理物に向けて突出する段差部を設けた構造が望ましい。このような構造とすれば、ゲートバルブの開状態でのシャッタ半体の開閉動作時や、ゲートバルブの閉状態での装置内部の圧力変動時であっても、そのシャッタ半体に落下した異物が段差部により係止されるので、その異物がシャッタ半体の外部に飛散してゲートバルブの内部へ落下することを確実に防止できる。

また、この突き合わせ構造を有するシャッタは、各シャッタ半体の底面が被処理物の搬送方向に沿って凹状をなす構造が望ましい。このような構造とすれば、ゲートバルブの開状態でのシャッタ半体の開閉動作時や、ゲートバルブの閉状態での装置内部の圧力変動時であっても、そのシャッタ半体に落下した異物が凹状底面のくぼみに集められるので、その異物がシャッタ半体の外部に飛散してゲートバルブの内部へ落下することを確実に防止できる。

本発明におけるシャッタは、一対のシャッタ半体からなり、被処理物の搬出入時にシャッタ半体のそれぞれの対向端部を重合させる重ね合わせ構造が望ましい。このような構造を採用すれば、ゲートバルブの開状態で一対のシャッタ半体を開閉動作させることになる。これにより、シャッタの設置スペースを予備室側と処理室側とに分配することができ、シャッタ半体の開閉動作に伴う移動距離を、単一のシャッタで構成した場合よりも半減させることができる。さらに、シャッタ半体のそれぞれの対向端部を重合させることで、ゲートバルブの開状態でのシャッタ半体の開閉動作時や、ゲートバルブの閉状態での装置内部の圧力変動時であっても、シャッタ半体に落下した異物を重合部分で受けているので、その異物がシャッタ半体からゲートバルブの内部へ落下することを確実に防止できる。

本発明によれば、被処理物の搬出入時に被処理物とゲートバルブとの間に介在するシャッタを、ゲートバルブ内を被処理物の搬送方向に沿って移動することでゲートバルブに対して出入り可能に設けたことにより、被処理物の搬出入時に被処理物とゲートバルブとの間にシャッタが介在することから、被処理物に付着した異物はシャッタに落下することになってゲートバルブの内部に落下することはない。また、ゲートバルブ内を被処理物の搬送方向に沿って移動することでゲートバルブに対して出入り可能に設けたことで、ゲートバルブの開閉動作時、シャッタがゲートバルブの内部に存在しないことから、ゲートバルブが開閉動作を繰り返しても、シャッタに落下した異物を巻き上げることはない。このようにして、ゲートバルブ内部に異物が落下することを回避し、シール性の低下による処理室での真空漏れを未然に防止することができ、メンテナンス性に優れた真空処理装置を提供できる。

本発明の実施形態で、単一の筒状シャッタを設置した真空処理装置を示す概略構成図である。 図１の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図２のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 図１の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図４のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図６のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図８のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図１０のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図１２のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、一対のシャッタ半体からなる突き合わせ構造の筒状シャッタを設置した真空処理装置を示す概略構成図である。 図１４の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図１５のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 図１４の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図１７のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１４の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図１９のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１４の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図２１のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１４の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図２３のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、図１４の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図２５のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 本発明の他の実施形態で、一対のシャッタ半体からなる重ね合わせ構造の筒状シャッタを設置した真空処理装置を示す概略構成図である。 図２７の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図２８のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 図２７の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図３０のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 従来の真空処理装置を示す概略構成図である。 図３２の真空処理装置のロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図３３のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。 図３２の真空処理装置のアンロード側に設けられたゲートバルブの閉状態を示す要部拡大断面図である。 図３５のゲートバルブの開状態を示す要部拡大断面図である。

本発明に係る真空処理装置の実施形態を以下に詳述する。なお、以下の実施形態では、例えば、真空蒸着装置、スパッタリング装置やプラズマＣＶＤ装置などの薄膜形成装置に適用した場合を例示する。なお、本発明は、薄膜形成装置以外の他の真空処理装置にも適用可能である。

図１に示す実施形態の真空処理装置は、被処理物であるガラス基板１１に対して真空状態で薄膜を形成する処理室である成膜室１２と、その成膜室１２のロード側に連設され、成膜室１２に未処理のガラス基板１１を搬入するロード側予備室１３と、成膜室１２のアンロード側に連設され、成膜室１２から処理済のガラス基板１１を搬出するアンロード側予備室１４とを備え、ロード側予備室１３と成膜室１２との間に、ロード側予備室１３と成膜室１２との間を開閉するロード側ゲートバルブ１５を介在させると共に、成膜室１２とアンロード側予備室１４との間に、成膜室１２とアンロード側予備室１４との間を開閉するアンロード側ゲートバルブ１６を介在させた構造を具備する。

なお、ロード側予備室１３、成膜室１２およびアンロード側予備室１４には、ガラス基板１１を搬送用トレイ１７に載置して水平に保持した状態で、ロード側予備室１３から成膜室１２を介してアンロード側予備室１４へ移送するための搬送ローラ１８が設置されている。

図２および図３は成膜室１２のロード側に設けられたゲートバルブ１５を例示し、図４および図５は成膜室１２のアンロード側に設けられたゲートバルブ１６を例示する。これらゲートバルブ１５，１６は、図２〜図５に示すように、成膜室１２と予備室１３，１４とを連結して成膜室１２と予備室１３，１４との間で管路を形成するハウジング１９，２０と、成膜室１２の搬出入口と連通するハウジング１９，２０の開口部２１，２２を開閉する弁体２３，２４と、その弁体２３，２４を上下動および水平動させる駆動機構２５，２６とで主要部が構成されている。

この実施形態では、ガラス基板１１の搬出入時にそのガラス基板１１とゲートバルブ１５，１６のハウジング１９，２０との間に介在する単一の筒状シャッタ２７，２８をゲートバルブ１５，１６に対して出入り可能に設置している。つまり、成膜室１２の搬出入口およびゲートバルブ１５，１６の開口部２１，２２の内径よりも若干小さな外径を有するシャッタ２７，２８を駆動機構２９，３０により水平方向移動可能に配置している。

このシャッタ２７，２８の駆動機構２９，３０は、例えば、シャッタ２７，２８の底部にラックを固着すると共にそのラックに噛合するピニオンを予備室１３，１４の内部に回転自在に装着したラック＆ピニオン機構が好適である。この駆動機構２９，３０により、シャッタ２７，２８を予備室１３，１４およびゲートバルブ１５，１６の内部でガラス基板１１の搬送方向に沿って移動させることが可能となる。

まず、成膜室１２のロード側に設けられたゲートバルブ１５では、ガラス基板１１を成膜室１２に搬入するに際して、図２に示すように、真空状態にある成膜室１２の搬入口と連通するハウジング１９の開口部２１を弁体２３が閉塞した状態から、ロード側予備室１３を真空状態にした上で開状態へ移行する。このゲートバルブ１５の開動作は、図３に示すように、駆動機構２５により弁体２３を水平方向（図示左方向）に移動させた上で垂直方向（図示上方向）に移動させることにより行われる。

このようにして、ハウジング１９の開口部２１を開放することにより、ロード側予備室１３と成膜室１２との間をゲートバルブ１５を介して連通させる。その後、ガラス基板１１を搬送ローラ１８によりロード側予備室１３から成膜室１２へ移送した上で、前述した開動作とは逆の閉動作でもって、ハウジング１９の開口部２１を弁体２３で閉塞することにより、ロード側予備室１３と成膜室１２との間をゲートバルブ１５を介して遮断した上で、ロード側予備室１３を大気開放状態にする。

ゲートバルブ１５では、ハウジング１９の開口部２１を開放することにより、ガラス基板１１をロード側予備室１３から成膜室１２へ移送する時、シャッタ２７を駆動機構２９によりロード側予備室１３からゲートバルブ１５の内部へ水平移動させ、移送途中にあるガラス基板１１とハウジング１９の底部３１との間にシャッタ２７を介在させる（図３参照）。これにより、ガラス基板１１や搬送用トレイ１７に付着したゴミなどの異物はシャッタ２７の底面３３に落下することになってハウジング１９の底部３１に落下することはない。

また、ゲートバルブ１５の開閉動作時には、異物が落下したシャッタ２７を駆動機構２９によりゲートバルブ１５の内部からロード側予備室１３へ水平移動させることで（図２参照）、シャッタ２７がゲートバルブ１５の内部に存在しないことから、そのゲートバルブ１５が開閉動作を繰り返しても、シャッタ２７の底面３３に落下した異物を巻き上げることはない。その結果、異物が弁体２３のシール面に付着することはなく、弁体２３によるシール性の低下および成膜室１２での真空漏れの発生を未然に防止できる。

一方、成膜室１２のアンロード側に設けられたゲートバルブ１６では、ガラス基板１１を成膜室１２から搬出するに際して、図４に示すように、真空状態にある成膜室１２の搬出口と連通するハウジング２０の開口部２２を弁体２４が閉塞した状態から、アンロード側予備室１４を真空状態にした上で開状態へ移行する。このゲートバルブ１６の開動作は、図５に示すように、駆動機構２６により弁体２４を水平方向（図示右方向）に移動させた上で垂直方向（図示上方向）に移動させることにより行われる。

このようにして、ハウジング２０の開口部２２を開放することにより、成膜室１２とアンロード側予備室１４との間をゲートバルブ１６を介して連通させる。その後、ガラス基板１１を搬送ローラ１８により成膜室１２からアンロード側予備室１４へ移送した上で、前述した開動作とは逆の閉動作でもって、ハウジング２０の開口部２２を弁体２４で閉塞することにより、成膜室１２とアンロード側予備室１４との間をゲートバルブ１６を介して遮断した上で、アンロード側予備室１４を大気開放状態にする。

ゲートバルブ１６では、ハウジング２０の開口部２２を開放することにより、ガラス基板１１を成膜室１２からアンロード側予備室１４へ移送する時、シャッタ２８を駆動機構３０によりアンロード側予備室１４からゲートバルブ１６の内部へ水平移動させ、移送途中にあるガラス基板１１とハウジング２０の底部３２との間にシャッタ２８を介在させる（図５参照）。これにより、成膜時に発生してガラス基板１１や搬送用トレイ１７に付着したゴミなどの異物はシャッタ２８の底面３４に落下することになってハウジング２０の底部３２に落下することはない。

また、ゲートバルブ１６の開閉動作時には、異物が落下したシャッタ２８を駆動機構３０によりゲートバルブ１６の内部からアンロード側予備室１４へ水平移動させることで（図４参照）、シャッタ２８がゲートバルブ１６の内部に存在しないことから、そのゲートバルブ１６が開閉動作を繰り返しても、シャッタ２８の底面３４に落下した異物を巻き上げることはない。その結果、異物が弁体２４のシール面に付着することはなく、弁体２４によるシール性の低下および成膜室１２での真空漏れの発生を未然に防止できる。

このように、シャッタ２７，２８は、ガラス基板１１の搬送方向と直交する面内でそのガラス基板１１を囲撓する筒状をなす。これにより、シャッタ２７，２８でガラス基板１１を完全に取り囲むことができるので、ガラス基板１１に付着した異物をシャッタ２７，２８の底面３３，３４に確実に落下させることができ、その異物がゲートバルブ１５，１６のハウジング１９，２０の底部３１，３２に落下することは皆無となる。

以上の実施形態では、シャッタ２７，２８の底面３３，３４がガラス基板１１の搬送方向に沿って平坦状をなす場合を例示したが、例えば、図６〜図９に示すように、シャッタ２７，２８の底面３５，３６がガラス基板１１の搬送方向に沿って凹状、例えば、凹曲面状をなす形状であってもよい。このように、シャッタ２７，２８の底面３５，３６が凹曲面状をなすことにより、シャッタ２７，２８の底面３５，３６は、両端部から中央部へ向かって彎曲状に傾斜するくぼみが形成されることになる。なお、シャッタ２７，２８の底面形状以外の他の構成部分および開閉動作については、図２〜図５に示す実施形態の場合と同様であるため、同一部分には同一参照符号を付して重複説明は省略する。

図６〜図９に示す実施形態の場合、シャッタ２７，２８の底面３５，３６が凹曲面状をなすことにより、ゲートバルブ１５，１６の開状態（図７および図９参照）でのシャッタ２７，２８の開閉動作時や、ゲートバルブ１５，１６の閉状態（図６および図８参照）でのロード側およびアンロード側予備室１３，１４の圧力変動時（排気時および給気時など）であっても、シャッタ２７，２８の底面３５，３６に落下した異物が凹曲面状のくぼみに集められて溜まるので、その異物がシャッタ２７，２８から外部へ飛散してゲートバルブ１５，１６の内部へ落下することを確実に防止できる。

以上の実施形態では、シャッタ２７，２８の両端部を全面開口させた場合を例示したが、例えば、図１０〜図１３に示すように、シャッタ２７，２８の両端部を閉塞した構造であってもよい。この場合、ガラス基板１１および搬送用トレイ１７が挿通可能なように必要最小限度の開口部２７ａを設けることになる。なお、シャッタ２７，２８の両端部以外の他の構成部分および開閉動作については、図２〜図５に示す実施形態の場合と同様であるため、同一部分には同一参照符号を付して重複説明は省略する。

図１０〜図１３に示す実施形態の場合、シャッタ２７，２８の両端部が小さな開口部２７ａを除いて閉塞した構造となっていることから、ゲートバルブ１５，１６の開状態（図１１および図１３参照）でのシャッタ２７，２８の開閉動作時や、ゲートバルブ１５，１６の閉状態（図１０および図１２参照）でのロード側およびアンロード側予備室１３，１４の圧力変動時（排気時および給気時など）であっても、シャッタ２７，２８の底面３３，３４に落下した異物が外部へ飛散することを両端部の閉塞構造で阻止できるので、その異物がゲートバルブ１５，１６の内部へ落下することを確実に防止できる。

以上の実施形態では、単一の筒状シャッタ２７，２８を例示したが、例えば、図１４に示すように、一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂからなり、ガラス基板１１の搬出入時にシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂのそれぞれの対向端部を当接させる突き合わせ構造のシャッタ３７，３８であってもよい。つまり、図１４の実施形態におけるシャッタ３７，３８は、図１の実施形態における単一の筒状シャッタ２７，２８を二つに分割した形態をなす。なお、図１と同一部分には同一参照符号を付して重複説明は省略する。

このシャッタ３７，３８では、ゲートバルブ１５，１６の開状態で一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂを開閉動作させることになる。一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂのそれぞれは、ラック＆ピニオンからなる駆動機構３９ａ，３９ｂ，４０ａ，４０ｂを備えている。一方のシャッタ半体３７ａ，３８ａを予備室１３，１４およびゲートバルブ１５，１６の内部で駆動機構３９ａ，４０ａによりガラス基板１１の搬送方向に沿って移動させると共に、他方のシャッタ半体３７ｂ，３８ｂをゲートバルブ１５，１６および成膜室１２の内部で駆動機構３９ｂ，４０ｂによりガラス基板１１の搬送方向に沿って移動させるようにしている。

このような構造を採用することにより、シャッタ３７，３８の設置スペースを予備室１３，１４側と処理室１２側とに分配することができ、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの開閉動作に伴う移動距離を、単一のシャッタ２７，２８で構成した場合（図１参照）よりも半減させることができる。なお、ゲートバルブ１５，１６の開閉動作は、単一のシャッタ２７，２８を例示する実施形態の場合と同様である。

ゲートバルブ１５では、図１５および図１６に示すように閉状態から開状態へ移行し、ハウジング１９の開口部２１を開放する。その上で、ガラス基板１１をロード側予備室１３から成膜室１２へ移送する時、シャッタ３７を開状態から閉状態へ移行する。つまり、一方のシャッタ半体３７ａを駆動機構３９ａによりロード側予備室１３からゲートバルブ１５の内部へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体３７ｂを駆動機構３９ｂにより成膜室１２からゲートバルブ１５の内部へ水平移動させることで、両シャッタ半体３７ａ，３７ｂの対向端部を当接させて突き合わせる。これにより、移送途中にあるガラス基板１１とハウジング１９の底部３１との間に一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂからなるシャッタ３７を介在させる（図１６参照）。

これにより、ガラス基板１１や搬送用トレイ１７に付着したゴミなどの異物は一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂの底面４３ａ，４３ｂに落下することになってハウジング１９の底部３１に落下することはない。また、ゲートバルブ１５の開閉動作時には、異物が落下した一方のシャッタ半体３７ａを駆動機構３９ａによりゲートバルブ１５の内部からロード側予備室１３へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体３７ｂを駆動機構３９ｂによりゲートバルブ１５の内部から成膜室１２へ水平移動させることで、シャッタ３７が開状態にあって一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂがゲートバルブ１５の内部に存在しない（図１５参照）。これにより、ゲートバルブ１５が開閉動作を繰り返しても、一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂの底面４３ａ，４３ｂに落下した異物を巻き上げることはない。その結果、異物が弁体２３のシール面に付着することはなく、弁体２３によるシール性の低下および成膜室１２での真空漏れの発生を未然に防止できる。

一方、ゲートバルブ１６では、図１７および図１８に示すように閉状態から開状態へ移行し、ハウジング２０の開口部２２を開放する。その上で、ガラス基板１１を成膜室１２からアンロード側予備室１４へ移送する時、一方のシャッタ半体３８ａを駆動機構４０ａによりアンロード予備室１４からゲートバルブ１６の内部へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体３８ｂを駆動機構４０ｂにより成膜室１２からゲートバルブ１６の内部へ水平移動させることで、両シャッタ半体３８ａ，３８ｂの対向端部を当接させて突き合わせる。これにより、移送途中にあるガラス基板１１とハウジング２０の底部３２との間に一対のシャッタ半体３８ａ，３８ｂからなるシャッタ３８を介在させる（図１８参照）。

これにより、成膜時に発生してガラス基板１１や搬送用トレイ１７に付着したゴミなどの異物は一対のシャッタ半体３８ａ，３８ｂの底面４４ａ，４４ｂに落下することになってハウジング２０の底部３２に落下することはない。また、ゲートバルブ１６の開閉動作時には、異物が落下した一方のシャッタ半体３８ａを駆動機構４０ａによりゲートバルブ１６の内部からアンロード予備室１４へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体３８ｂを駆動機構４０ｂによりゲートバルブ１６の内部から成膜室１２へ水平移動させることで、シャッタ３８が開状態にあって一対のシャッタ半体３８ａ，３８ｂがゲートバルブ１６の内部に存在しない（図１７参照）。これにより、ゲートバルブ１６が開閉動作を繰り返しても、一対のシャッタ半体３８ａ，３８ｂの底面４４ａ，４４ｂに落下した異物を巻き上げることはない。その結果、異物が弁体２４のシール面に付着することはなく、弁体２４によるシール性の低下および成膜室１２での真空漏れの発生を未然に防止できる。

このように、一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂは、ガラス基板１１の搬送方向と直交する面内でそのガラス基板１１を囲撓する筒状をなす。これにより、一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂでガラス基板１１を完全に取り囲むことができるので、ガラス基板１１に付着した異物を一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４３ａ，４３ｂ，４４ａ，４４ｂに確実に落下させることができ、その異物がゲートバルブ１６のハウジング１９，２０の底部３１，３２に落下することは皆無となる。

また、前述の突き合わせ構造を有するシャッタ３７，３８では、一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの対向端部に、ガラス基板１１側に向けて突出する段差部４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂを設けた構造としている。これにより、ゲートバルブ１５，１６の開状態（図１６および図１８参照）でのシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの開閉動作時や、ゲートバルブ１５，１６の閉状態（図１５および図１７参照）での処理室１２、ロード側およびアンロード側予備室１３，１４の圧力変動時（排気時および給気時など）であっても、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４３ａ，４３ｂ，４４ａ，４４ｂに落下した異物が段差部４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂにより係止されるので、その異物がシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂから外部へ飛散してゲートバルブ１５，１６の内部へ落下することを確実に防止できる。なお、図示しないが、底面３３，３４が平坦状をなす単一のシャッタ２７，２８を使用した実施形態（図２〜図５参照）においても、そのシャッタ２７，２８のゲートバルブ側端部に前述のような段差部を設けるようにしてもよい。

以上の実施形態では、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４３ａ，４３ｂ，４４ａ，４４ｂがガラス基板１１の搬送方向に沿って平坦状をなす場合を例示したが、例えば、図１９〜図２２に示すように、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂがガラス基板１１の搬送方向に沿って凹状、例えば、凹曲面状をなす形状であってもよい。このように、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂが凹曲面状をなすことにより、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂは、両端部から中央部へ向かって彎曲状に傾斜するくぼみが形成されることになる。なお、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面形状以外の他の構成部分および開閉動作については、図１５〜図１８に示す実施形態の場合と同様であるため、同一部分には同一参照符号を付して重複説明は省略する。

図１９〜図２２に示す実施形態の場合、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂが凹曲面状をなすことから、ゲートバルブ１５，１６の開状態（図２０および図２２参照）でのシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの開閉動作時や、ゲートバルブ１５，１６の閉状態（図１９および図２１参照）での処理室１２、ロード側およびアンロード側予備室１３，１４の圧力変動時（排気時および給気時など）であっても、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂに落下した異物が凹曲面状のくぼみに集められて溜まるので、その異物がシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂから外部へ飛散してゲートバルブ１５，１６の内部へ落下することを確実に防止できる。

以上の実施形態では、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの両端部を全面開口させた場合を例示したが、例えば、図２３〜図２６に示すように、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの両端部を閉塞した構造であってもよい。この場合、ガラス基板１１および搬送用トレイ１７が挿通可能なように必要最小限度の開口部３７ｃ，３７ｄ，３８ｃ，３８ｄを設けることになる。なお、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの両端部以外の他の構成部分および開閉動作については、図１５〜図１８に示す実施形態の場合と同様であるため、同一部分には同一参照符号を付して重複説明は省略する。

図２３〜図２６に示す実施形態の場合、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの両端部が小さな開口部３７ｃ，３７ｄ，３８ｃ，３８ｄを除いて閉塞した構造となっていることにより、ゲートバルブ１５，１６の開状態（図２４および図２６参照）でのシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの開閉動作時や、ゲートバルブ１５，１６の閉状態（図２３および図２５参照）での処理室１２、ロード側およびアンロード側予備室１３，１４の圧力変動時（排気時および給気時など）であっても、シャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂの底面４３ａ，４３ｂ，４４ａ，４４ｂに落下した異物が外部へ飛散することを両端部の閉塞構造で阻止できるので、その異物がゲートバルブ１５，１６の内部へ落下することを確実に防止できる。

以上の実施形態では、一対のシャッタ半体３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂからなる突き合わせ構造のシャッタ３７，３８を例示したが、他の二分割構造として、例えば、図２７に示すように、一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂのそれぞれの対向端部を重合させる重ね合わせ構造のシャッタ４７，４８であってもよい。つまり、この実施形態のシャッタ４７，４８は、一方のシャッタ半体４７ａ，４８ａの内径を他方のシャッタ半体４７ｂ，４８ｂの外径よりも若干大きく設定し、一方のシャッタ半体４７ａ，４８ａの対向端部を他方のシャッタ半体４７ｂ，４８ｂの対向端部に外挿可能とした形態をなす。なお、図１４と同一部分には同一参照符号を付して重複説明は省略する。

このシャッタ４７，４８では、ゲートバルブ１５，１６の開状態で一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂを開閉動作させることになる。一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂのそれぞれは、ラック＆ピニオンからなる駆動機構４９ａ，４９ｂ，５０ａ，５０ｂを備えている。一方のシャッタ半体４７ａ，４８ａを予備室１３，１４およびゲートバルブ１５，１６の内部で駆動機構４９ａ，５０ａによりガラス基板１１の搬送方向に沿って移動させると共に、他方のシャッタ半体４７ｂ，４８ｂをゲートバルブ１５，１６および成膜室１２の内部で駆動機構４９ｂ，５０ｂによりガラス基板１１の搬送方向に沿って移動させるようにしている。

このような構造を採用することにより、シャッタ４７，４８の設置スペースを予備室１３，１４側と成膜室１２側とに分配することができ、シャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂの開閉動作に伴う移動距離を、単一のシャッタ２７，２８で構成した場合（図１参照）よりも半減させることができる。なお、ゲートバルブ１５，１６の開閉動作は、単一のシャッタ２７，２８を例示する実施形態の場合と同様である。

ゲートバルブ１５では、図２８および図２９に示すように閉状態から開状態へ移行し、ハウジング１９の開口部２１を開放する。その上で、ガラス基板１１をロード側予備室１３から成膜室１２へ移送する時、シャッタ４７を開状態から閉状態へ移行する。つまり、一方のシャッタ半体４７ａを駆動機構４９ａによりロード側予備室１３からゲートバルブ１５の内部へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体４７ｂを駆動機構４９ｂにより成膜室１２からゲートバルブ１５の内部へ水平移動させることで、両シャッタ半体４７ａ，４７ｂの対向端部を重合させる。これにより、移送途中にあるガラス基板１１とハウジング１９の底部３１との間に一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂからなるシャッタ４７を介在させる（図２９参照）。

これにより、ガラス基板１１や搬送用トレイ１７に付着したゴミなどの異物は一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂの底面５１ａ，５１ｂに落下することになってハウジング１９の底部３１に落下することはない。また、ゲートバルブ１５の開閉動作時には、異物が落下した一方のシャッタ半体４７ａを駆動機構４９ａによりゲートバルブ１５の内部からロード側予備室１３へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体４７ｂを駆動機構４９ｂによりゲートバルブ１５の内部から成膜室１２へ水平移動させることで、シャッタ４７が開状態にあって一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂがゲートバルブ１５の内部に存在しない（図２８参照）。これにより、ゲートバルブ１５が開閉動作を繰り返しても、一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂの底面５１ａ，５１ｂに落下した異物を巻き上げることはない。その結果、異物が弁体２３のシール面に付着することはなく、弁体２３によるシール性の低下および成膜室１２での真空漏れの発生を未然に防止できる。

一方、ゲートバルブ１６では、図３０および図３１に示すように閉状態から開状態へ移行し、ハウジング２０の開口部２２を開放する。その上で、ガラス基板１１を成膜室１２からアンロード側予備室１４へ移送する時、一方のシャッタ半体４８ａを駆動機構５０ａによりアンロード側予備室１４からゲートバルブ１６の内部へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体４８ｂを駆動機構５０ｂにより成膜室１２からゲートバルブ１６の内部へ水平移動させることで、両シャッタ半体４８ａ，４８ｂの対向端部を重合させる。これにより、移送途中にあるガラス基板１１とハウジング２０の底部３２との間に一対のシャッタ半体４８ａ，４８ｂからなるシャッタ４８を介在させる（図３１参照）。

これにより、成膜時に発生してガラス基板１１や搬送用トレイ１７に付着したゴミなどの異物は一対のシャッタ半体４８ａ，４８ｂの底面５２ａ，５２ｂに落下することになってハウジング２０の底部３２に落下することはない。また、ゲートバルブ１６の開閉動作時には、異物が落下した一方のシャッタ半体４８ａを駆動機構５０ａによりゲートバルブ１６の内部からアンロード側予備室１４へ水平移動させると共に、他方のシャッタ半体４８ｂを駆動機構５０ｂによりゲートバルブ１６の内部から成膜室１２へ水平移動させることで、シャッタ４８が開状態にあって一対のシャッタ半体４８ａ，４８ｂがゲートバルブ１６の内部に存在しない（図３０参照）。これにより、ゲートバルブ１６が開閉動作を繰り返しても、一対のシャッタ半体４８ａ，４８ｂの底面５２ａ，５２ｂに落下した異物を巻き上げることはない。その結果、異物が弁体２４のシール面に付着することはなく、弁体２４によるシール性の低下および成膜室１２での真空漏れの発生を未然に防止できる。

このように、一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂは、ガラス基板１１の搬送方向と直交する面内でそのガラス基板１１を囲撓する筒状をなす。これにより、一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂでガラス基板１１を完全に取り囲むことができるので、ガラス基板１１に付着した異物を一対のシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂの底面５１ａ，５１ｂ，５２ａ，５２ｂに確実に落下させることができ、その異物がゲートバルブ１５，１６のハウジング１９，２０の底部３１，３２に落下することは皆無となる。

さらに、シャッタ４７，４８の閉状態では、シャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂのそれぞれの対向端部を重合させる。これにより、シャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂに落下した異物を重合部分で受けるので、その異物がシャッタ半体４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂから外部へ飛散してゲートバルブ１５，１６の内部へ落下することを確実に防止できる。

本発明は前述した実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、さらに種々なる形態で実施し得ることは勿論のことであり、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲に記載の均等の意味、および範囲内のすべての変更を含む。

１１ 被処理物（ガラス基板）
１２ 処理室（成膜室）
１３ 予備室（ロード側予備室）
１４ 予備室（アンロード側予備室）
１５，１６ ゲートバルブ
２７，２８ シャッタ
３５，３６ 底面
３７，３８ シャッタ
３７ａ，３７ｂ，３８ａ，３８ｂ シャッタ半体
４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂ 段差部
４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂ 底面
４７，４８ シャッタ
４７ａ，４７ｂ，４８ａ，４８ｂ シャッタ半体

Claims (7)

1. 被処理物に対して真空状態で処理を実行する処理室と、前記処理室に隣接して設けられ、前記処理室との間で被処理物を搬入あるいは搬出する予備室と、前記処理室と前記予備室との間に設けられ、前記予備室の真空状態で処理室と予備室との間を連通させると共に、前記予備室の大気開放状態で処理室と予備室との間を遮断するゲートバルブとを備えた真空処理装置であって、
   前記ゲートバルブ内を被処理物の搬送方向に沿って移動することで前記ゲートバルブに対して出入り可能に設けられ、前記被処理物の搬出入時に前記被処理物と前記ゲートバルブとの間に介在するシャッタを具備したことを特徴とする真空処理装置。
2. 前記シャッタは、被処理物の搬送方向と直交する面内で前記被処理物を囲撓する筒状をなす請求項１に記載の真空処理装置。
3. 前記シャッタは、その底面が被処理物の搬送方向に沿って凹状をなす請求項１又は２に記載の真空処理装置。
4. 前記シャッタは、一対のシャッタ半体からなり、前記被処理物の搬出入時に前記シャッタ半体のそれぞれの対向端部を当接させる突き合わせ構造とした請求項１又は２に記載の真空処理装置。
5. 前記シャッタ半体の対向端部に、前記被処理物に向けて突出する段差部を設けた請求項４に記載の真空処理装置。
6. 前記シャッタ半体の底面が被処理物の搬送方向に沿って凹状をなす請求項４に記載の真空処理装置。
7. 前記シャッタは、一対のシャッタ半体からなり、前記被処理物の搬出入時に前記シャッタ半体のそれぞれの対向端部を重合させる重ね合わせ構造とした請求項１又は２に記載の真空処理装置。

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