JPH06314678A - 密閉式洗浄装置 - Google Patents
密閉式洗浄装置Info
- Publication number
- JPH06314678A JPH06314678A JP12513793A JP12513793A JPH06314678A JP H06314678 A JPH06314678 A JP H06314678A JP 12513793 A JP12513793 A JP 12513793A JP 12513793 A JP12513793 A JP 12513793A JP H06314678 A JPH06314678 A JP H06314678A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- door
- pressure
- reducing chamber
- hermetically sealed
- container body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 密閉式洗浄装置内部を減圧し，効率よく負圧
維持する。 【構成】 容器の扉が閉止時，扉の接する本体側外周部
分に溝状に減圧室を設ける。この減圧室内を真空ポンプ
で減圧することによりＯリングを介した扉を本体に密着
させる。これにより，容器本体の内部を別途減圧するこ
とにより，扉部分からの空気流入を防ぐ。
維持する。 【構成】 容器の扉が閉止時，扉の接する本体側外周部
分に溝状に減圧室を設ける。この減圧室内を真空ポンプ
で減圧することによりＯリングを介した扉を本体に密着
させる。これにより，容器本体の内部を別途減圧するこ
とにより，扉部分からの空気流入を防ぐ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は密閉された空間内で物
品を洗浄する洗浄装置に関する。
品を洗浄する洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年，シリコンウェハ等の半導体基板の
洗浄において，洗浄中及び洗浄直後に基板表面が雰囲気
中の空気に含まれる酸素と反応して酸化膜を形成してし
まうことを防止するために雰囲気中の空気を不活性ガス
等で排除し，低酸素濃度の雰囲気中で洗浄することが行
われ始めている。不活性ガス中で洗浄するためには，図
３に示すような密閉空間内に不活性ガスを閉じ込めてそ
の中で洗浄する必要があるが，洗浄物を出し入れするた
めの開口部が必要であり，この開口を可動扉で閉じて密
閉空間を形成している。従来はこの扉を図３に一例を示
すようにネジで締め付けるなど機械的方式で密閉容器本
体に押しつけて扉と本体の間に隙間の生じるのを防いで
いた。しかし，この隙間が全くないようにするためには
強い力で均等に扉を押しつける必要があり，これを完璧
に行うのは困難であった。そして，この隙間から外部の
空気中酸素が侵入したり，内部の不活性ガスが外に漏れ
たりするなどの不具合があった。
洗浄において，洗浄中及び洗浄直後に基板表面が雰囲気
中の空気に含まれる酸素と反応して酸化膜を形成してし
まうことを防止するために雰囲気中の空気を不活性ガス
等で排除し，低酸素濃度の雰囲気中で洗浄することが行
われ始めている。不活性ガス中で洗浄するためには，図
３に示すような密閉空間内に不活性ガスを閉じ込めてそ
の中で洗浄する必要があるが，洗浄物を出し入れするた
めの開口部が必要であり，この開口を可動扉で閉じて密
閉空間を形成している。従来はこの扉を図３に一例を示
すようにネジで締め付けるなど機械的方式で密閉容器本
体に押しつけて扉と本体の間に隙間の生じるのを防いで
いた。しかし，この隙間が全くないようにするためには
強い力で均等に扉を押しつける必要があり，これを完璧
に行うのは困難であった。そして，この隙間から外部の
空気中酸素が侵入したり，内部の不活性ガスが外に漏れ
たりするなどの不具合があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は，上記従来の
問題点に着目し，容易に開口部扉の密着を行える密閉式
洗浄装置を提供することを目的とするものである。
問題点に着目し，容易に開口部扉の密着を行える密閉式
洗浄装置を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従来のネジで締め付ける
など機械的方式で扉を密閉容器本体に押しつけて密閉し
ようとする装置でも，容器内を所定の圧力以下に減圧す
ると容器内外の圧力差で扉は容器本体に吸引されて更に
押し付けられ，所定の圧力以上の時に存在した微小な隙
間を無くすことができる。そこで，本発明は密閉容器の
本体開口部の周囲に小容積の減圧室を溝状に設け，この
減圧室内を密閉容器とは別に減圧できるようにすること
で密閉容器内が大気圧の時でもこの減圧時の高い密閉性
能を得られるようにしたものである。
など機械的方式で扉を密閉容器本体に押しつけて密閉し
ようとする装置でも，容器内を所定の圧力以下に減圧す
ると容器内外の圧力差で扉は容器本体に吸引されて更に
押し付けられ，所定の圧力以上の時に存在した微小な隙
間を無くすことができる。そこで，本発明は密閉容器の
本体開口部の周囲に小容積の減圧室を溝状に設け，この
減圧室内を密閉容器とは別に減圧できるようにすること
で密閉容器内が大気圧の時でもこの減圧時の高い密閉性
能を得られるようにしたものである。
【０００５】
【実 施 例】本発明の一実施例を図面を参照して説明
する。図１は実施例に係る密閉式洗浄装置の密閉容器部
の外観図であり，図２はその切断面を示す図である。な
お，図１，図２とも洗浄に係わる機構は省略してある。
する。図１は実施例に係る密閉式洗浄装置の密閉容器部
の外観図であり，図２はその切断面を示す図である。な
お，図１，図２とも洗浄に係わる機構は省略してある。
【０００６】図２において密閉容器本体１の扉２と接す
る開口部周囲には密閉容器本体の内部空間と仕切られた
小容積の減圧室３が付設してある。密閉容器本体１と減
圧室３にはそれぞれ制御弁４，５を介して真空排気ポン
プ６と，また制御弁７，８を介して不活性ガスとして用
いたチッ素ガス供給配管９が接続してある。密閉容器本
体及び減圧室の外壁の扉と接する面には樹脂製のＯリン
グパッキン１０が取り付けてある。なお，真空排気ポン
プ６は減圧室３内を約１０秒間で５ｋＰａまで減圧でき
る能力がある。
る開口部周囲には密閉容器本体の内部空間と仕切られた
小容積の減圧室３が付設してある。密閉容器本体１と減
圧室３にはそれぞれ制御弁４，５を介して真空排気ポン
プ６と，また制御弁７，８を介して不活性ガスとして用
いたチッ素ガス供給配管９が接続してある。密閉容器本
体及び減圧室の外壁の扉と接する面には樹脂製のＯリン
グパッキン１０が取り付けてある。なお，真空排気ポン
プ６は減圧室３内を約１０秒間で５ｋＰａまで減圧でき
る能力がある。
【０００７】洗浄操作は，まず扉２を開けて密閉容器本
体１の内部に洗浄物（図示せず）を搬入後，扉２を閉
じ，手で軽く抑えながら真空排気ポンプ６を起動後，制
御弁４を開けて減圧室３を排気する。この時，扉と本体
の間に隙間があっても真空排気ポンプ６は漏れる空気量
以上の排気を行える。減圧室が５ｋＰａ以下到達以降に
制御弁４を閉じても減圧室内は減圧状態を維持して扉２
は密閉容器本体１に押し付けられており，Ｏリングと扉
２の間に隙間は無くなる。次に，密閉容器本体内の空気
をチッ素ガスと置換するためにまず制御弁５を開けて密
閉容器本体内の空気を排出した後，制御弁８を開けて密
閉容器本体内にチッ素ガスを供給する。この置換操作を
密閉容器本体内の酸素濃度が所定の値になるまで複数回
繰返し行う。これにより，密閉容器本体内がチッ素ガス
で充たされた大気圧になっても扉の押し付け力は保持さ
れており，扉からの不活性ガスの漏れや酸素の混入を防
止できる。上記実施例では，密閉容器内の空気を排気し
てから不活性ガスと置換したが排気を行わずにチッ素を
連続して供給しながら密閉容器内の空気との置換を行っ
ても良い。但し，その場合は排気する方法よりも多量の
チッ素が必要となる。
体１の内部に洗浄物（図示せず）を搬入後，扉２を閉
じ，手で軽く抑えながら真空排気ポンプ６を起動後，制
御弁４を開けて減圧室３を排気する。この時，扉と本体
の間に隙間があっても真空排気ポンプ６は漏れる空気量
以上の排気を行える。減圧室が５ｋＰａ以下到達以降に
制御弁４を閉じても減圧室内は減圧状態を維持して扉２
は密閉容器本体１に押し付けられており，Ｏリングと扉
２の間に隙間は無くなる。次に，密閉容器本体内の空気
をチッ素ガスと置換するためにまず制御弁５を開けて密
閉容器本体内の空気を排出した後，制御弁８を開けて密
閉容器本体内にチッ素ガスを供給する。この置換操作を
密閉容器本体内の酸素濃度が所定の値になるまで複数回
繰返し行う。これにより，密閉容器本体内がチッ素ガス
で充たされた大気圧になっても扉の押し付け力は保持さ
れており，扉からの不活性ガスの漏れや酸素の混入を防
止できる。上記実施例では，密閉容器内の空気を排気し
てから不活性ガスと置換したが排気を行わずにチッ素を
連続して供給しながら密閉容器内の空気との置換を行っ
ても良い。但し，その場合は排気する方法よりも多量の
チッ素が必要となる。
【０００８】
【発明の効果】本発明によれば，簡便にシール性の高い
密閉空間を作ることができ，不活性ガスの漏れによる消
費を抑制できるとともに，外部からの酸素の侵入を防止
できる。
密閉空間を作ることができ，不活性ガスの漏れによる消
費を抑制できるとともに，外部からの酸素の侵入を防止
できる。
【図１】実施例に係る密閉式洗浄装置の密閉容器部の外
観図。
観図。
【図２】図１の断面図。
１ 密閉容器本体 ２ 扉 ３ 減圧室 ４ 制御弁（排気用） ５ 制御弁（排気用） ６ 真空排気ポンプ ７ 制御弁（チッ素ガス用） ８ 制御弁（チッ素ガス用） ９ チッ素ガス供給配管 １０ Ｏリング １１ ねじ止め金具
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年３月２８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例に係る密閉式洗浄装置の密閉容器部外観
図。
図。
【図２】図１の断面図。
【図３】従来技術に係る密閉式洗浄装置の密閉容器部の
断面図。
断面図。
【符号の説明】 １ 密閉容器本体 ２ 扉 ３ 減圧室 ４ 制御弁（排気用） ５ 制御弁（排気用） ６ 真空排気ポンプ ７ 制御弁（チッ素ガス用） ８ 制御弁（チツ排ガス用） ９ チッ排ガス供給配管 １０ Ｏリング １１ ねじ止め金具
Claims (1)
- 【請求項１】 密閉式洗浄装置に於いて，洗浄物を出し
入れするための扉を有する本体装置の開口部の全周に真
空排気装置に接続した小容積の溝状減圧室を設け，前記
扉と当該減圧室で構成される空間を減圧状態にすること
で扉を密着し開口部に接続する空間を密閉するようにし
た密閉式洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12513793A JPH06314678A (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 密閉式洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12513793A JPH06314678A (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 密閉式洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06314678A true JPH06314678A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=14902783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12513793A Pending JPH06314678A (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 密閉式洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06314678A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10275793A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2013030502A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-07 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置、処理方法及び記憶媒体 |
| JP2017056391A (ja) * | 2015-09-15 | 2017-03-23 | サッポロビール株式会社 | 樽洗浄方法及び樽洗浄装置 |
-
1993
- 1993-04-28 JP JP12513793A patent/JPH06314678A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10275793A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2013030502A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-07 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置、処理方法及び記憶媒体 |
| JP2017056391A (ja) * | 2015-09-15 | 2017-03-23 | サッポロビール株式会社 | 樽洗浄方法及び樽洗浄装置 |
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