JP2024069742A - 複合粒子 - Google Patents
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Abstract
【課題】酸化グラフェン粒子と無機物粒子とを含む複合粒子であって、酸化グラフェン粒子の酸性度を低く抑えることができ、樹脂との親和性が高い複合粒子を提供する。【解決手段】無機物粒子 と、前記無機物粒子の少なくとも一部を被覆する酸化グラフェン粒子とを含み、前記酸化グラフェン粒子は、表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基で修飾された修飾酸化グラフェン粒子である複合粒子。【選択図】図1
Description
本発明は、複合粒子に関する。
無機物粒子を分散させた樹脂組成物は絶縁性と熱伝導性とに優れており、例えば、回路基板などの材料に用いられている。無機物粒子と樹脂のような異種材料を含む樹脂組成物では、異種材料の界面にボイド(気孔)が発生するなどの理由により、異種材料間の密着が弱くなると熱伝導性などの特性が低下することがある。このため、無機物粒子と樹脂の密着性を向上させることは、樹脂組成物の特性発現や信頼性を担保するために重要である。そのために、無機物粒子と樹脂の少なくとも一方の表面を処理することは有効である。多くの場合は、無機物粒子に化学的な表面処理を行うことで有機物を付着させ、樹脂との親和性を向上させている。しかしながら、無機物粒子の種類によっては化学的に安定なため、化学的な表面処理による効果が得られにくい場合がある。化学的に安定な無機物粒子の樹脂との親和性を向上させるために、無機物粒子の表面を樹脂との親和性が高い粒子で被覆することが検討されている。
特許文献1には、樹脂親和性の良い窒化ホウ素粒子として、窒化ホウ素粒子の表面に酸化グラフェンを有するカーボン修飾窒化ホウ素が開示されている。また、特許文献2では酸化アルミニウム粒子の表面に酸化グラフェンが存在する、酸化グラフェン被覆酸化アルミニウム粒子が開示されている。
しかしながら、酸化グラフェン粒子は、一般に水との親和性が高く、空気中の水分と接触することによって高い酸性度を示すことがある。特に酸化グラフェン粒子の表面のカルボキシ基は反応性に富み、また塩基性の物質と反応して塩を形成しやすい。このため、酸化グラフェン粒子を表面に有する無機物粒子と樹脂とを塩基性の添加剤と共に溶媒に分散させると、その無機物粒子が溶媒中で凝集し、沈殿してしまうことがある。このため、酸化グラフェン粒子を表面に有する無機物粒子を樹脂組成物に適用する場合は、耐酸性の樹脂を用いることが必要となる、塩基性の添加剤を利用できないなど、樹脂組成物の設計に制限が生じる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、酸化グラフェン粒子と無機物粒子とを含む複合粒子であって、酸化グラフェン粒子の酸性度を低く抑えることができ、樹脂との親和性が高い複合粒子を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために検討を重ねた結果、酸化グラフェン粒子は、表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基で修飾することによって、酸化グラフェン粒子の酸性度を低く抑えることが可能となることを見出して、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、以下の発明に関わる。
[1]無機物粒子と、前記無機物粒子の少なくとも一部を被覆する酸化グラフェン粒子とを含み、前記酸化グラフェン粒子は、表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基で修飾された修飾酸化グラフェン粒子である複合粒子。
[2]前記無機物粒子は、セラミックス粒子、金属粒子及び金属酸化物粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種の粒子を含む[1]に記載の複合粒子。
[3]前記無機物粒子に対する前記酸化グラフェン粒子の被覆率が80%以上である[1]または[2]に記載の複合粒子。
[4]前記置換基を有していてもよい炭化水素基は、炭素原子数が3以上12以下の範囲内にある[1]~[3]に記載の複合粒子。
[5]前記無機物粒子が、Li、B、N、Na、Mg、Al、Si、P、K、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zu、Sr、Zr、Nb、Ag、Sn、Ba、Bi、Nd及びSmからなる群より得られる少なくとも一つの元素を含む[1]~[4]に記載の複合粒子。
[6]前記無機物粒子が、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基がグリシドキシ基を有するアルキル基を含む[5]に記載の複合粒子。
[7]前記無機物粒子が、酸化鉄、Fe-Si合金、Fe-Ni合金、Fe-Si-Al合金及び一酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、ヒドロキシ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む[5]に記載の複合粒子。
[8]前記無機物粒子が、コバルト酸リチウム、マンガン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸バナジウムリチウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、フルオロアルキル基を含む[5]に記載の複合粒子。
[9]前記無機物粒子が酸化チタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム及びチタン酸バリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、ヒドロキシ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む[5]に記載の複合粒子。
[10]前記無機物粒子が、チタン酸ジルコン酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、酸化亜鉛及びニオブ酸カリウムナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、フルオロアルキル基を含む[5]に記載の複合粒子。
本発明によれば、酸化グラフェン粒子と無機物粒子とを含む複合粒子であって、酸化グラフェン粒子の酸性度を低く抑えることができ、樹脂との親和性が高い複合粒子を提供することが可能となる。
以下、本発明について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合がある。したがって、図面に記載の各構成要素の寸法比率などは、実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施可能である。
本発明の実施形態に係る複合粒子は、樹脂や有機溶媒に対する分散性に優れる。このため、本発明の実施形態に係る複合粒子は、例えば、樹脂組成物用の無機フィラーとして利用することができる。また、本実施形態の複合粒子は、無機物粒子の種類によっては、磁性材料、電池の電極活物質材料、誘電材料、圧電材料として利用することができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る複合粒子の断面図である。
図1に示す複合粒子10は、無機物粒子11と、無機物粒子11を被覆する酸化グラフェン粒子12とを含む。酸化グラフェン粒子は、表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基13で修飾されている。
図1に示す複合粒子10は、無機物粒子11と、無機物粒子11を被覆する酸化グラフェン粒子12とを含む。酸化グラフェン粒子は、表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基13で修飾されている。
無機物粒子11の形状は、特に制限はない。無機物粒子は、例えば、球形、楕円球形、円柱形、角柱形であってもよい。無機物粒子は、平均粒子径が、例えば、0.2μm以上100μm以下の範囲内にあってもよく、0.2μm以上60μm以下の範囲内にあることが好ましい。なお、無機物粒子11の平均粒子径は、レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置によって測定された値である。
無機物粒子11は、例えば、セラミックス粒子、金属粒子及び金属酸化物粒子のいずれであってもよい。金属粒子は、一種の金属のみから金属粒子であってもよいし、二種以上の金属を含む合金粒子であってもよい。無機物粒子11は、例えば、Li、B、N、Na、Mg、Al、Si、P、K、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zu、Sr、Zr、Nb、Ag、Sn、Ba、Bi、Nd及びSmからなる群より得られる少なくとも一つの元素を含んでいてもよい。
無機物粒子11の種類は、複合粒子10の使用目的に応じて選択することができる。
複合粒子10を樹脂組成物用の無機フィラーとして利用する場合、無機物粒子11としては耐熱性が高く、熱伝導性に優れる無機物を含む粒子を用いることができる。具体的には、例えば、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素などの無機物を含む粒子を用いることができる。無機物粒子11は、これらの無機物のいずれか一種を単独で含む単一物であってもよいし、二種以上を含む複合物であってもよい。無機物粒子11は、上記の無機物を80質量%以上含むものであってもよいし、無機物のみを含むものであってもよい。
複合粒子10を樹脂組成物用の無機フィラーとして利用する場合、無機物粒子11としては耐熱性が高く、熱伝導性に優れる無機物を含む粒子を用いることができる。具体的には、例えば、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素などの無機物を含む粒子を用いることができる。無機物粒子11は、これらの無機物のいずれか一種を単独で含む単一物であってもよいし、二種以上を含む複合物であってもよい。無機物粒子11は、上記の無機物を80質量%以上含むものであってもよいし、無機物のみを含むものであってもよい。
また、複合粒子10を磁性材料として利用する場合、無機物粒子11としては磁性を有する磁性物質を含む粒子を用いることができる。具体的には、例えば、酸化鉄、Fe-Si合金、Fe-Ni合金、Fe-Si-Al合金及び一酸化マンガンなどの磁性物質を含む粒子を用いることができる。無機物粒子11は、これらの磁性物質のいずれか一種を単独で含む単一物であってもよいし、二種以上を含む複合物であってもよい。無機物粒子11は、上記の磁性物質を80質量%以上含むものであってもよいし、磁性物質のみを含むものであってもよい。
また、複合粒子10を電池の電極活物質として利用する場合、無機物粒子11としてはリチウムイオン二次電池などの公知の電池の電極活物質を含む粒子を用いることができる。具体的には、例えば、コバルト酸リチウム、マンガン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸バナジウムリチウム、酸化ケイ素などの電極活物質を含む粒子を用いることができる。無機物粒子11は、これらの電極活物質のいずれか一種を単独で含む単一物であってもよいし、二種以上を含む複合物であってもよい。無機物粒子11は、上記の電極活物質を80質量%以上含むものであってもよいし、電極活物質のみを含むものであってもよい。コバルト酸リチウム、マンガン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸バナジウムリチウムを含む複合粒子10はリチウム二次電池の正極活物質として、酸化ケイ素を含む複合粒子10はリチウム二次電池の負極活物質として利用することができる。
また、複合粒子10を誘電材料として利用する場合、無機物粒子11としては比誘電率が高い誘電物質を含む粒子を用いることができる。具体的には、例えば、酸化チタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム及びチタン酸バリウムなどの誘電物質を含む粒子を用いることができる。無機物粒子11は、これらの誘電物質のいずれか一種を単独で含む単一物であってもよいし、二種以上を含む複合物であってもよい。無機物粒子11は、上記の誘電物質を80質量%以上含むものであってもよいし、誘電物質のみを含むものであってもよい。
また、複合粒子10を圧電材料として利用する場合、無機物粒子11としては圧電性を有する圧電物質を含む粒子を用いることができる。具体的には、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、酸化亜鉛、ニオブ酸カリウムナトリウムなどの圧電物質を含む粒子を用いることができる。無機物粒子11は、これらの圧電物質のいずれか一種を単独で含む単一物であってもよいし、二種以上を含む複合物であってもよい。無機物粒子11は、上記の圧電物質を80質量%以上含むものであってもよいし、圧電物質のみを含むものであってもよい。
酸化グラフェン粒子12は、例えば、カルボキシ基、水酸基カルボニル基及びエポキシ基などの官能基が結合したグラファイトシートである。酸化グラフェン粒子12は、平均厚さが、例えば、0.8nm以上20nm以下の範囲内にあってもよく、0.8nm以上5nm以下の範囲内にあることが好ましい。また、厚さ方向に直行する面方向における最長径の平均(平均最長径)は、例えば、無機物粒子11の平均粒子径を1として0.1以上1以下の範囲内にあることが好ましく、0.3以上0.7以下の範囲内にあることがより好ましい。
無機物粒子11に対する酸化グラフェン粒子12の被覆率は、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。酸化グラフェン粒子12は、無機物粒子11の全体を被覆していなくてもよい。
酸化グラフェン粒子12を修飾する炭化水素基13は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。炭化水素基13は、分岐を有してもよい、炭化水素環を形成していてもよい。炭化水素基13は、炭素原子数が3以上12以下の範囲内にあることが好ましい。炭化水素基13の例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びアラルキル基を挙げることができる。
炭化水素基13は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子(特に、フッ素原子)、ヒドロキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、ウレイド基、イソシアネート基及びメルカプト基などを挙げることができる。
酸化グラフェン粒子12と炭化水素基13とは、エステル結合:*-C(=O)-O-、*-C(=O)-O-Si-結合、アミド結合:*-C(=O)-NH-(*は酸化グラフェン粒子12の炭素原子と結合する結合手を表す)を介して結合していてもよい。
炭化水素基13の種類は、複合粒子10の使用目的に応じて選択することができる。
複合粒子10を樹脂組成物用の無機フィラーとして利用する場合、炭化水素基13としては樹脂との親和性が高い基を用いることができる。炭化水素基13としては、例えば、エポキシ基またはアミノ基で置換されたアルキル基を含む基を用いることができる。
複合粒子10を樹脂組成物用の無機フィラーとして利用する場合、炭化水素基13としては樹脂との親和性が高い基を用いることができる。炭化水素基13としては、例えば、エポキシ基またはアミノ基で置換されたアルキル基を含む基を用いることができる。
また、複合粒子10を磁性材料として利用する場合、炭化水素基13としては、磁性材料の結着剤として利用されている樹脂材料(例えば、ポリビニルブチラール(PVB)やポリビニルアルコール(PVA))に対して親和性が高い基を用いることができる。炭化水素基13の例としては、ヒドロキシ基またはアミノ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む基を挙げることができる。ヒドロキシ基で置換された炭化水素基は、ヒドロキシアルキル基及びフェノール基を含む。
また、複合粒子10を電池の電極活物質として利用する場合、炭化水素基13としては、電極活物質の結着剤として利用されている樹脂材料(例えば、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)などのフッ素樹脂)に対して親和性が高い基を用いることができる。炭化水素基13の例としては、フルオロアルキル基を含む基を挙げることができる。
また、複合粒子10を誘電材料として利用する場合、炭化水素基13としては、誘電材料の結着剤として利用されている樹脂材料(例えば、ポリビニルブチラール(PVB)やポリビニルアルコール(PVA))に対して親和性が高い基を用いることができる。炭化水素基13の例としては、ヒドロキシ基またはアミノ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む基を挙げることができる。ヒドロキシ基で置換された炭化水素基は、ヒドロキシアルキル基及びフェノール基を含む。
また、複合粒子10を圧電材料として利用する場合、炭化水素基13としては、圧電材料の結着剤として利用されている樹脂材料(例えば、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)などのフッ素樹脂)に対して親和性が高い基を用いることができる。炭化水素基13の例としては、フルオロアルキル基を含む基を挙げることができる。
本実施形態に係る複合粒子10は、例えば、次にようにして製造することができる。
まず、無機物粒子11の表面に酸化グラフェン粒子12で被覆する(被覆工程)。次いで、酸化グラフェン粒子12で被覆された無機物粒子11の酸化グラフェン粒子12を、炭化水素基を有する表面処理剤で表面処理して、酸化グラフェン粒子12の表面を炭化水素基で修飾する(表面処理工程)。
まず、無機物粒子11の表面に酸化グラフェン粒子12で被覆する(被覆工程)。次いで、酸化グラフェン粒子12で被覆された無機物粒子11の酸化グラフェン粒子12を、炭化水素基を有する表面処理剤で表面処理して、酸化グラフェン粒子12の表面を炭化水素基で修飾する(表面処理工程)。
被覆工程では、例えば、有機溶媒中で、無機物粒子11と酸化グラフェン粒子12とを、攪拌して混合することによって、無機物粒子11の表面に酸化グラフェン粒子12を吸着させる。次いで、有機溶媒と固形物とを固液分離して、固形物を回収し、乾燥することによって、酸化グラフェン粒子12で被覆された無機物粒子11が得られる。有機溶媒としては、例えば、アルコール、ケトンを用いることができる。
表面処理工程では、例えば、有機溶媒中で、酸化グラフェン粒子12で被覆され無機物粒子11と表面処理剤とを接触させて、酸化グラフェン粒子12の官能基と表面処理剤とを反応させる。これにより、酸化グラフェン粒子12の官能基と表面処理剤とを結合させる。次いで、有機溶媒と固形物とを固液分離して、固形物を回収し、乾燥することによって、複合粒子10が得られる。
表面処理剤としては、炭化水素基13と、酸化グラフェン粒子12の官能基と反応して結合する基を有する化合物を用いることができる。酸化グラフェン粒子12の官能基(特に、カルボキシ基)と反応する基の例としては、ヒドロキシ基、シラノール基、アミノ基を挙げることができる。表面処理剤としては、アルコール(一価アルコール、二価アルコール)、加水分解によりシラノール基を生成するシラン化合物(シランカップリング剤)、アミンを用いることができる。表面処理剤としてアルコールを用いることによって、酸化グラフェン粒子12と炭化水素基13とが、エステル結合を介して結合した複合粒子10を得ることができる。また、表面処理剤としてシラン化合物を用いることによって、酸化グラフェン粒子12と炭化水素基13とが、-C(=O)-O-Si-結合を介して結合した複合粒子10を得ることができる。また、表面処理剤としてアミンを用いることによって、酸化グラフェン粒子12と炭化水素基13とが、アミド結合を介して結合した複合粒子10を得ることができる。
本実施形態に係る複合粒子10は、無機物粒子11を被覆する酸化グラフェン粒子12の表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基13で修飾されている。このため、酸化グラフェン粒子12の表面が水分と接触しにくいので、酸化グラフェン粒子12の酸性度を低く抑えることができる。また、酸化グラフェン粒子12の表面の官能基(特に、カルボキシ基)が修飾されることによって、酸化グラフェン粒子12の表面の官能基が塩基性の物質と反応して塩を形成することが抑制される。これらの理由から、本実施形態の複合粒子10は、種々の樹脂に適用することができる。本実施形態の複合粒子10が適用できる樹脂の例としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、オレフィン樹脂、フッ素樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリロニトリル・スチレン共重合体樹脂、エチレン・酢酸ビニル共重合体樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂を挙げることができる。
本実施形態の複合粒子10において、無機物粒子11が、セラミックス粒子、金属粒子及び金属酸化物粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種の粒子を含む場合、これらの粒子は酸化グラフェン粒子12との親和性が高い。このため、無機物粒子11自体は樹脂との密着性が低い場合でも、樹脂との密着性を向上させることができる。また、本実施形態の複合粒子10において、酸化グラフェン粒子12の被覆率が80%以上である場合、酸化グラフェン粒子12による複合粒子10の樹脂との親和性がより高くなり、樹脂に対する分散性がより向上する。また、本実施形態の複合粒子10において、炭化水素基は、炭素原子数が3以上12以下の範囲内にある場合は、酸化グラフェン粒子12の酸性度をより確実に低く抑えつつ、樹脂との親和性や樹脂に対する分散性を向上させることができる。
本実施形態の複合粒子10は、無機物粒子11として、Li、B、N、Na、Mg、Al、Si、P、K、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zu、Sr、Zr、Nb、Ag、Sn、Ba、Bi、Nd及びSmからなる群より得られる少なくとも一つの元素を含む種々の粒子を用いることができる。このため、本実施形態の複合粒子10は、様々な用途に適用することができる。
本実施形態の複合粒子10において、無機物粒子11が、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、炭化水素基13がグリシドキシ基を有するアルキル基を含む場合、無機物粒子11は耐熱性が高く、熱伝導性に優れ、炭化水素基13は樹脂との親和性が高い。このため、樹脂組成物用の無機フィラーとして有利に用いることができる。
本実施形態の複合粒子10において、無機物粒子11が、酸化鉄、Fe-Si合金、Fe-Ni合金、Fe-Si-Al合金及び一酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、炭化水素基13が、ヒドロキシ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む場合、無機物粒子11は磁性を有し、炭化水素基13は磁性材料の結着剤として利用されている樹脂材料に対して親和性が高い。このため、磁性材料として有利に用いることができる。
本実施形態の複合粒子10において、無機物粒子11が、コバルト酸リチウム、マンガン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸バナジウムリチウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、炭化水素基13が、フルオロアルキル基を含む場合、無機物粒子11はリチウムイオン二次電池の電極活物質であり、炭化水素基13は電極活物質の結着剤として利用されている樹脂材料に対して親和性が高い。このため、リチウムイオン二次電池の電極活物質として有利に用いることができる。
本実施形態の複合粒子10において、無機物粒子11が、酸化チタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム及びチタン酸バリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、炭化水素基13がヒドロキシ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む場合、無機物粒子11は比誘電率が高く、炭化水素基13は誘電材料の結着剤として利用されている樹脂材料に対して親和性が高い。このため、誘電材料として有利に用いることができる。
本実施形態の複合粒子10において、無機物粒子11が、チタン酸ジルコン酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、酸化亜鉛及びニオブ酸カリウムナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、炭化水素基13が、フルオロアルキル基を含む場合、無機物粒子11は圧電性を有し、炭化水素基13は圧電材料の結着剤として利用されている樹脂材料に対して親和性が高い。このため、圧電材料として有利に用いることができる。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。
[実施例1]
メチルエチルケトン70mLに、六方晶窒化ホウ素粒子(UHP1-K、昭和電工株式会社製)1gを加え、ホモジナイザーで5分間攪拌して六方晶窒化ホウ素粒子分散液を調製した。また、メチルエチルケトンと酸化グラフェンとを混合して、濃度1質量%の酸化グラフェン分散液を調製した。
得られた六方晶窒化ホウ素粒子分散液に、得られた酸化グラフェン粒子分散液0.2mLを加えて混合し、得られた混合液をさらにメカニカルスターラーで10分間攪拌した。攪拌後、静置によって固形物を沈殿させて、デカンテーションにより回収し、60℃で24時間真空乾燥した。こうして酸化グラフェン粒子で被覆された窒化ホウ素粒子を製造した。
メチルエチルケトン70mLに、六方晶窒化ホウ素粒子(UHP1-K、昭和電工株式会社製)1gを加え、ホモジナイザーで5分間攪拌して六方晶窒化ホウ素粒子分散液を調製した。また、メチルエチルケトンと酸化グラフェンとを混合して、濃度1質量%の酸化グラフェン分散液を調製した。
得られた六方晶窒化ホウ素粒子分散液に、得られた酸化グラフェン粒子分散液0.2mLを加えて混合し、得られた混合液をさらにメカニカルスターラーで10分間攪拌した。攪拌後、静置によって固形物を沈殿させて、デカンテーションにより回収し、60℃で24時間真空乾燥した。こうして酸化グラフェン粒子で被覆された窒化ホウ素粒子を製造した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(シランカップリング剤:KBM-403、信越化学工業株式会社製)0.65gと、純水8mLと、2-プロパノール72mLとを60℃で1時間撹拌混合して、3-グリシドキシプロピルトリメトシラン溶液を調製した。得られた3-グリシドキシプロピルトリメトシラン溶液に、酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子1gを加え70℃で3時間撹拌して、酸化グラフェン粒子を表面処理した。得られた混合物を室温まで放冷した後、吸引ろ過により固形物を回収した。回収した固形物を、100℃で1時間乾燥真空乾燥して複合粒子を得た。
[実施例2]
メチルエチルケトンと酸化グラフェンとを混合して、濃度1質量%の酸化グラフェン分散液を調製した。得られた酸化グラフェン分散液1mLを、六方晶窒化ホウ素粒子分散液に加えて混合したこと以外は、実施例1と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された窒化ホウ素粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
メチルエチルケトンと酸化グラフェンとを混合して、濃度1質量%の酸化グラフェン分散液を調製した。得られた酸化グラフェン分散液1mLを、六方晶窒化ホウ素粒子分散液に加えて混合したこと以外は、実施例1と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された窒化ホウ素粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例3]
六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、同量の酸化アルミニウム粒子(CB-P10、昭和電工株式会社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された酸化アルミニウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、同量の酸化アルミニウム粒子(CB-P10、昭和電工株式会社製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された酸化アルミニウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例4]
六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、同量の酸化マグネシウム粒子(Pyrokisuma5301K、共和化学工業)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、酸化グラフェン粒子で被覆された酸化マグネシウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、同量の酸化マグネシウム粒子(Pyrokisuma5301K、共和化学工業)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、酸化グラフェン粒子で被覆された酸化マグネシウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例5]
六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、同量のフェライト粒子を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子を製造した。
N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)20mL中に1,4-ブタンジオール20mL、酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子1gを加えて30分間攪拌して混合した。得られた混合液を60℃に保ちながら3時間攪拌をした。次に、混合液に、触媒としてN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドと1-ヒドロキシベンゾトリアゾールを加え、温度を60℃に維持しながら、さらに24時間攪拌をして、酸化グラフェン粒子を表面処理した。その後、さらに攪拌しながら24時間かけて室温まで徐冷をした。徐冷後の混合液を遠心分離して固形物を回収し、得られた固形物を、DMF、8wt%の炭酸水素ナトリウム水、純水の順で3回繰り返し洗浄を行った後、真空ろ過により濾別した。洗浄後の固形物を80℃で24時間真空乾燥して複合粒子を得た。
六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、同量のフェライト粒子を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子を製造した。
N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)20mL中に1,4-ブタンジオール20mL、酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子1gを加えて30分間攪拌して混合した。得られた混合液を60℃に保ちながら3時間攪拌をした。次に、混合液に、触媒としてN,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドと1-ヒドロキシベンゾトリアゾールを加え、温度を60℃に維持しながら、さらに24時間攪拌をして、酸化グラフェン粒子を表面処理した。その後、さらに攪拌しながら24時間かけて室温まで徐冷をした。徐冷後の混合液を遠心分離して固形物を回収し、得られた固形物を、DMF、8wt%の炭酸水素ナトリウム水、純水の順で3回繰り返し洗浄を行った後、真空ろ過により濾別した。洗浄後の固形物を80℃で24時間真空乾燥して複合粒子を得た。
[実施例6]
フェライト粒子の代わりに、同量のFeSiCr粒子(FSC-2K(C)、新東工業株式社製)を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたFeSiCr粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
フェライト粒子の代わりに、同量のFeSiCr粒子(FSC-2K(C)、新東工業株式社製)を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたFeSiCr粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例7]
フェライト粒子の代わりに、同量の一酸化マンガン粒子(株式会社高純度化学研究所製)を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された一酸化マンガン粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
フェライト粒子の代わりに、同量の一酸化マンガン粒子(株式会社高純度化学研究所製)を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された一酸化マンガン粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例8]
フェライト粒子の代わりに、同量のチタン酸バリウム粒子を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたチタン酸バリウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
フェライト粒子の代わりに、同量のチタン酸バリウム粒子を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたチタン酸バリウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例9]
フェライト粒子の代わりに、同量のコバルト酸リチウム粒子(株式会社高純度化学研究所製)を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたコバルト酸リチウム粒子を製造した。次いで1,4-ブタンジオールの代わりに、同量の2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールを用いたこと以外は実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
フェライト粒子の代わりに、同量のコバルト酸リチウム粒子(株式会社高純度化学研究所製)を用いたこと以外は、実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたコバルト酸リチウム粒子を製造した。次いで1,4-ブタンジオールの代わりに、同量の2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールを用いたこと以外は実施例5と同様にして酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例10]
コバルト酸リチウムの代わりに、同量の酸化ケイ素粒子(HS-206、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)を用いたこと以外は、実施例9と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された酸化ケイ素粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
コバルト酸リチウムの代わりに、同量の酸化ケイ素粒子(HS-206、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)を用いたこと以外は、実施例9と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆された酸化ケイ素粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例11]
コバルト酸リチウムの代わりに、同量のリン酸バナジウムリチウムを用いたこと以外は、実施例9と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたリン酸バナジウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
コバルト酸リチウムの代わりに、同量のリン酸バナジウムリチウムを用いたこと以外は、実施例9と同様にして酸化グラフェン粒子で被覆されたリン酸バナジウム粒子を製造し、次いで酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例12]
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、同量の8-グリシドキシオクチルトリメトキシシラン(シランカップリング剤:KBM-4803、信越化学工業株式会社製)を用いたこと以外は実施例2と同様にして複合粒子を得た。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりに、同量の8-グリシドキシオクチルトリメトキシシラン(シランカップリング剤:KBM-4803、信越化学工業株式会社製)を用いたこと以外は実施例2と同様にして複合粒子を得た。
[実施例13]
酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、実施例3で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化アルミニウム粒子を同量用いたこと以外は実施例12と同様にして複合粒子を得た。
酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、実施例3で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化アルミニウム粒子を同量用いたこと以外は実施例12と同様にして複合粒子を得た。
[実施例14]
酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、実施例4で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化マグネシウム粒子を同量用いたこと以外は実施例14と同様にして複合粒子を得た。
酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子の代わりに、実施例4で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化マグネシウム粒子を同量用いたこと以外は実施例14と同様にして複合粒子を得た。
[実施例15]
1,4-ブタンジオールの代わりに、同量の1,8-オジタンジオールを用いたこと以外は実施例5と同様にして、酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
1,4-ブタンジオールの代わりに、同量の1,8-オジタンジオールを用いたこと以外は実施例5と同様にして、酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の酸化グラフェン粒子を表面処理して複合粒子を得た。
[実施例16]
酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の代わりに、実施例6で製造した酸化グラフェンで被覆されたFeSiCr粒子を同量用いたこと以外は実施例15と同様にして複合粒子を得た。
酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の代わりに、実施例6で製造した酸化グラフェンで被覆されたFeSiCr粒子を同量用いたこと以外は実施例15と同様にして複合粒子を得た。
[実施例17]
酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の代わりに、実施例7で製造した酸化グラフェンで被覆された一酸化マンガン粒子を同量用いたこと以外は実施例15と同様にして複合粒子を得た。
酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の代わりに、実施例7で製造した酸化グラフェンで被覆された一酸化マンガン粒子を同量用いたこと以外は実施例15と同様にして複合粒子を得た。
[実施例18]
酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の代わりに、実施例8で製造した酸化グラフェンで被覆されたチタン酸バリウム粒子を同量用いたこと以外は実施例15と同様にして複合粒子を得た。
酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子の代わりに、実施例8で製造した酸化グラフェンで被覆されたチタン酸バリウム粒子を同量用いたこと以外は実施例15と同様にして複合粒子を得た。
[実施例19]
2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールの代わりに、同量の1H,1H-トリコサフルオロ-1-ドデカノールを用いたこと以外は実施例9と同様にして複合粒子を得た。
2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールの代わりに、同量の1H,1H-トリコサフルオロ-1-ドデカノールを用いたこと以外は実施例9と同様にして複合粒子を得た。
[実施例20]
2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールの代わりに、同量の1H,1H-トリコサフルオロ-1-ドデカノールを用いたこと以外は実施例10と同様にして複合粒子を得た。
2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールの代わりに、同量の1H,1H-トリコサフルオロ-1-ドデカノールを用いたこと以外は実施例10と同様にして複合粒子を得た。
[実施例21]
2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールの代わりに、同量の1H,1H-トリコサフルオロ-1-ドデカノールを用いたこと以外は実施例11と同様にして複合粒子を得た。
2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロ-1-ブタノールの代わりに、同量の1H,1H-トリコサフルオロ-1-ドデカノールを用いたこと以外は実施例11と同様にして複合粒子を得た。
[実施例22]
窒素雰囲気下において、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)20mに、実施例8で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたチタン酸バリウム1gを加えて、室温で30分間攪拌して混合した。その後、水酸化ナトリウムを0.2g加えて、1時間攪拌して混合した。次に、5-アミノ-1-ペンタノールを0.2g、1-ヒドロキシベンゾトリアゾールを0.26g、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドを0.4g加え、24時間攪拌して混合した。得られた混合物を遠心分離して固形物を回収し、得られた固形物をDMFで洗浄した。洗浄後の固形物を60℃で24時間真空乾燥して、複合粒子を得た。
窒素雰囲気下において、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)20mに、実施例8で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたチタン酸バリウム1gを加えて、室温で30分間攪拌して混合した。その後、水酸化ナトリウムを0.2g加えて、1時間攪拌して混合した。次に、5-アミノ-1-ペンタノールを0.2g、1-ヒドロキシベンゾトリアゾールを0.26g、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミドを0.4g加え、24時間攪拌して混合した。得られた混合物を遠心分離して固形物を回収し、得られた固形物をDMFで洗浄した。洗浄後の固形物を60℃で24時間真空乾燥して、複合粒子を得た。
[比較例1]
実施例1で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例1の複合粒子とした。
実施例1で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された六方晶窒化ホウ素粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例1の複合粒子とした。
[比較例2]
実施例3で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化アルミニウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例2の複合粒子とした。
実施例3で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化アルミニウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例2の複合粒子とした。
[比較例3]
実施例4で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化マグネシウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例3の複合粒子とした。
実施例4で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化マグネシウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例3の複合粒子とした。
[比較例4]
実施例5で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例4の複合粒子とした。
実施例5で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたフェライト粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例4の複合粒子とした。
[比較例5]
実施例6で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたFeSiCr粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例5の複合粒子とした。
実施例6で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたFeSiCr粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例5の複合粒子とした。
[比較例6]
実施例7で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された一酸化マンガン粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例6の複合粒子とした。
実施例7で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された一酸化マンガン粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例6の複合粒子とした。
[比較例7]
実施例8で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたチタン酸バリウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例7の複合粒子とした。
実施例8で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたチタン酸バリウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例7の複合粒子とした。
[比較例8]
実施例9で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたコバルト酸リチウムについて、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例8の複合粒子とした。
実施例9で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたコバルト酸リチウムについて、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例8の複合粒子とした。
[比較例9]
実施例10で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化ケイ素粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例9の複合粒子とした。
実施例10で製造した酸化グラフェン粒子で被覆された酸化ケイ素粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例9の複合粒子とした。
[比較例10]
実施例11で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたリン酸バナジウムリチウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例10の複合粒子とした。
実施例11で製造した酸化グラフェン粒子で被覆されたリン酸バナジウムリチウム粒子について、酸化グラフェン粒子を表面処理しなかったものを比較例10の複合粒子とした。
[評価]
実施例1~22及び比較例1~10で得られた複合粒子について、下記の評価を行った。その結果を、複合粒子に含まれる無機物粒子の種類と平均粒子径及び酸化グラフェンの平均厚さと平均最長径と共に、下記の表1に示す。
実施例1~22及び比較例1~10で得られた複合粒子について、下記の評価を行った。その結果を、複合粒子に含まれる無機物粒子の種類と平均粒子径及び酸化グラフェンの平均厚さと平均最長径と共に、下記の表1に示す。
(1)被覆率
複合粒子のラマンスペクトルを、レーザーラマン顕微分光光度計(NRS-7100、日本分光株式会社製)を用いて測定した。無機物粒子由来のバンドが確認された任意の100箇所でラマンスペクトルを測定し、得られたラマンスペクトルから酸化グラフェン由来の1574cm-1のバンドが確認された箇所を、酸化グラフェン粒子で被覆された箇所としてその数を計測した。そして、下記の式より酸化グラフェン粒子の被覆率(%)を求めた。
酸化グラフェン粒子の被覆率=n/100×100
(ただし、nは、酸化グラフェン由来の1574cm-1のバンドが確認された箇所の数である。)
複合粒子のラマンスペクトルを、レーザーラマン顕微分光光度計(NRS-7100、日本分光株式会社製)を用いて測定した。無機物粒子由来のバンドが確認された任意の100箇所でラマンスペクトルを測定し、得られたラマンスペクトルから酸化グラフェン由来の1574cm-1のバンドが確認された箇所を、酸化グラフェン粒子で被覆された箇所としてその数を計測した。そして、下記の式より酸化グラフェン粒子の被覆率(%)を求めた。
酸化グラフェン粒子の被覆率=n/100×100
(ただし、nは、酸化グラフェン由来の1574cm-1のバンドが確認された箇所の数である。)
(2)炭化水素基の有無
複合粒子の表面の赤外吸収スペクトルを測定した。赤外吸収スペクトルの測定は、FT-IR(Nicolet iS50、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製)を用い、拡散反射法により行った。赤外吸収スペクトルの測定の範囲は500-3500cm-1とした。1100cm-1付近あるいは1578cm-1と1630cm-1付近の波長に赤外吸収ピークが見られたものを炭化水素基が「有」とし、それらの波長に赤外吸収ピークが見られなかったものを炭化水素基が「無」とした。
複合粒子の表面の赤外吸収スペクトルを測定した。赤外吸収スペクトルの測定は、FT-IR(Nicolet iS50、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製)を用い、拡散反射法により行った。赤外吸収スペクトルの測定の範囲は500-3500cm-1とした。1100cm-1付近あるいは1578cm-1と1630cm-1付近の波長に赤外吸収ピークが見られたものを炭化水素基が「有」とし、それらの波長に赤外吸収ピークが見られなかったものを炭化水素基が「無」とした。
(3)カルボキシ基等量(酸性度)
複合粒子5gに対して、濃度0.05mmoL/gの炭酸水素ナトリウム水溶液10gを加え、48時間攪拌した。上澄み液を5g採取し、採取した上澄み液を濃度0.05moL/Lの塩酸水溶液にて中和滴定した。中和滴定には京都電子工業の電位差自動滴定装置AT-610を使用した。そして、この上澄み液の中和に要した塩酸水溶液の体積をX(単位:mL)として、下記の式より、複合粒子のカルボキシ基等量に換算した。
カルボキシ基等量(mmoL/g)=炭酸水素ナトリウム水溶液の濃度(0.05mmоL/g)-[{塩酸水溶液濃度(0.05moL/L)×中和に要した塩酸水溶液の体積(XmL)/上澄み溶液の質量(5g)}×{炭酸水素ナトリウム水溶液の質量(10g)/複合粒子の質量(5g)}]
複合粒子5gに対して、濃度0.05mmoL/gの炭酸水素ナトリウム水溶液10gを加え、48時間攪拌した。上澄み液を5g採取し、採取した上澄み液を濃度0.05moL/Lの塩酸水溶液にて中和滴定した。中和滴定には京都電子工業の電位差自動滴定装置AT-610を使用した。そして、この上澄み液の中和に要した塩酸水溶液の体積をX(単位:mL)として、下記の式より、複合粒子のカルボキシ基等量に換算した。
カルボキシ基等量(mmoL/g)=炭酸水素ナトリウム水溶液の濃度(0.05mmоL/g)-[{塩酸水溶液濃度(0.05moL/L)×中和に要した塩酸水溶液の体積(XmL)/上澄み溶液の質量(5g)}×{炭酸水素ナトリウム水溶液の質量(10g)/複合粒子の質量(5g)}]
(4)流動性
下記の式(1)で表される液晶性分子硬化剤(Mm=2650、Mw=5380)と、トリアジン骨格を有する3官能エポキシ化合物(TEPIC-S、日産化学工業株式会社製)とを質量比4:1で混合した。液晶性分子硬化剤は、下記の方法により製造した。得られたエポキシ樹脂組成物と複合粒子とを、複合粒子の含有量が30体積%となるように秤量し、乳鉢と乳棒を用いて混合して、粉末状混合物を得た。得られた粉末状混合物1gを、ステンレス板の上に静置し、120℃で30秒間プレスした。プレスにより粉末状混合物中のエポキシ樹脂組成物が溶融し、円形に広がりながら硬化してシート状硬化物が生成する。このプレスによって得られたシート状硬化物の面積とプレス時に付与した圧力からシート状硬化物の単位面積当たりに付与された圧力を算出した。この圧力が0.8MPa以下の場合、樹脂中の複合粒子が十分に流動して広がったとし、流動性を「優良」とし、圧力が0.8MPaを超え、1.0MPa以下の場合、流動性を「良」とし、圧力が1MPaを超えた場合、流動性を「不良」とした。
下記の式(1)で表される液晶性分子硬化剤(Mm=2650、Mw=5380)と、トリアジン骨格を有する3官能エポキシ化合物(TEPIC-S、日産化学工業株式会社製)とを質量比4:1で混合した。液晶性分子硬化剤は、下記の方法により製造した。得られたエポキシ樹脂組成物と複合粒子とを、複合粒子の含有量が30体積%となるように秤量し、乳鉢と乳棒を用いて混合して、粉末状混合物を得た。得られた粉末状混合物1gを、ステンレス板の上に静置し、120℃で30秒間プレスした。プレスにより粉末状混合物中のエポキシ樹脂組成物が溶融し、円形に広がりながら硬化してシート状硬化物が生成する。このプレスによって得られたシート状硬化物の面積とプレス時に付与した圧力からシート状硬化物の単位面積当たりに付与された圧力を算出した。この圧力が0.8MPa以下の場合、樹脂中の複合粒子が十分に流動して広がったとし、流動性を「優良」とし、圧力が0.8MPaを超え、1.0MPa以下の場合、流動性を「良」とし、圧力が1MPaを超えた場合、流動性を「不良」とした。
(式(1)において、nは、2~20の整数である。)
(液晶性分子硬化剤の製造方法)
メチルヒドロキノン(0.31モル)と、α、α‘-ジクロロ-p-キシレン(0.29モル)とを、3口フラスコに量りとり、テトラヒドロフラン(THF)1Lに溶解させて混合溶液を得た。混合溶液を窒素気流中でリフラックス(還流)させて、混合溶液中の溶存酸素を除去した。次いで、混合溶液に、水酸化ナトリウム(0.7モル)を含む水酸化ナトリウム50%水溶液を加え、12時間リフラックス(還流)状態を保ち反応させた後、室温まで放冷した。反応終了後、得られた反応溶液に塩酸を加えて、反応溶液をpH4~6に調整した。その後、反応溶液に水を注いで30分間攪拌し、生成した沈殿物をろ過で回収した。回収した沈殿物をメチルエチルケトン(МEK)1Lで洗浄、ろ過して不溶分を回収し、12時間以上真空乾燥し、一般式(1)の化合物を得た。
メチルヒドロキノン(0.31モル)と、α、α‘-ジクロロ-p-キシレン(0.29モル)とを、3口フラスコに量りとり、テトラヒドロフラン(THF)1Lに溶解させて混合溶液を得た。混合溶液を窒素気流中でリフラックス(還流)させて、混合溶液中の溶存酸素を除去した。次いで、混合溶液に、水酸化ナトリウム(0.7モル)を含む水酸化ナトリウム50%水溶液を加え、12時間リフラックス(還流)状態を保ち反応させた後、室温まで放冷した。反応終了後、得られた反応溶液に塩酸を加えて、反応溶液をpH4~6に調整した。その後、反応溶液に水を注いで30分間攪拌し、生成した沈殿物をろ過で回収した。回収した沈殿物をメチルエチルケトン(МEK)1Lで洗浄、ろ過して不溶分を回収し、12時間以上真空乾燥し、一般式(1)の化合物を得た。
(5)分散性
上記(4)流動性の評価で得られたシート状硬化物を光学顕微鏡で観察した。複合粒子が5個以上凝集した凝集体の個数が、シート状硬化物1cm2当たり2個未満である場合は分散性を「良好」とし、2個以上である場合は分散性を「不良」とした。
上記(4)流動性の評価で得られたシート状硬化物を光学顕微鏡で観察した。複合粒子が5個以上凝集した凝集体の個数が、シート状硬化物1cm2当たり2個未満である場合は分散性を「良好」とし、2個以上である場合は分散性を「不良」とした。
炭化水素基の有無について、実施例1-4及び12-14で得られた複合粒子は、1100cm-1付近に赤外吸収ピークが得られた。この赤外吸収ピークは、-C(=O)-O-Si-に由来すると考えられる。したがって、実施例1-4及び12-14で得られた複合粒子は、酸化グラフェン粒子のカルボキシ基とシランカップリング剤の加水分解により生成したシラノール基との反応によって生成した-C(=O)-O-Si-結合を介して、炭化水素基が酸化グラフェンにグラフト重合されたと考えられる。また、実施例5-11及び15-21で得られた複合粒子は、1630cm-1付近に赤外吸収ピークが得られた。この赤外吸収ピークは、エステル結合に由来すると考えられる。したがって、実施例5-11及び15-21で得られた複合粒子は、酸化グラフェン粒子のカルボキシ基とアルコールとの反応によって生成したエステル結合を介して、炭化水素基が酸化グラフェン粒子にグラフト重合されたと考えられる。一方、実施例22で得られた複合粒子においては1630cm-1と1578cm-1付近に赤外吸収ピークが確認された。これらの赤外吸収ピークはそれぞれ、アミド結合におけるC=Oの伸縮運動とC-Nの伸縮運動に由来すると考えられる。したがって、実施例22で得られた複合粒子は、酸化グラフェン粒子のカルボキシ基とアミンとの反応によって生成したアミド結合を介して、炭化水素基が酸化グラフェン粒子にグラフト重合されたと考えられる。
表面が炭化水素基で修飾された修飾酸化グラフェン粒子で被覆されている実施例1~22の複合粒子と、表面が炭化水素基で修飾されていないグラフェン粒子で被覆されている比較例1~10の複合粒子とを比較すると、無機物粒子が同じ場合、実施例1~22の複合粒子の方が酸性度を指標するカルボキシ基等量が低い値を示すことが確認された。また、実施例1~22の複合粒子は流動性及び分散性が良好であり、樹脂との親和性が高いことが確認された。
10…複合粒子、11…無機物粒子、12…酸化グラフェン粒子、13…炭化水素基
Claims (10)
- 無機物粒子と、前記無機物粒子の少なくとも一部を被覆する酸化グラフェン粒子とを含み、
前記酸化グラフェン粒子は、表面が、置換基を有していてもよい炭化水素基で修飾された修飾酸化グラフェン粒子である複合粒子。 - 前記無機物粒子は、セラミックス粒子、金属粒子及び金属酸化物粒子からなる群より選ばれる少なくとも一種の粒子を含む請求項1に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子に対する前記酸化グラフェン粒子の被覆率が80%以上である請求項1または請求項2に記載の複合粒子。
- 前記置換基を有していてもよい炭化水素基は、炭素原子数が3以上12以下の範囲内にある請求項1~請求項3のいずれか一項に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子が、Li、B、N、Na、Mg、Al、Si、P、K、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zu、Sr、Zr、Nb、Ag、Sn、Ba、Bi、Nd及びSmからなる群より得られる少なくとも一つの元素を含む請求項1~請求項4のいずれか一項に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子が、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基がグリシドキシ基を有するアルキル基を含む請求項5に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子が、酸化鉄、Fe-Si合金、Fe-Ni合金、Fe-Si-Al合金及び一酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、ヒドロキシ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む請求項5に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子が、コバルト酸リチウム、マンガン酸リチウム、リン酸鉄リチウム、リン酸バナジウムリチウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、フルオロアルキル基を含む請求項5に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子が酸化チタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム及びチタン酸バリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、ヒドロキシ基で置換された炭化水素基又はアルキル基を含む請求項5に記載の複合粒子。
- 前記無機物粒子が、チタン酸ジルコン酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ビスマスナトリウム、酸化亜鉛及びニオブ酸カリウムナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の無機物を含む粒子であり、前記置換基を有していてもよい炭化水素基が、フルオロアルキル基を含む請求項5に記載の複合粒子。
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