JP2024028015A - 含フッ素化合物、表面処理剤及び物品 - Google Patents

Abstract

【課題】撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成し得る基材の選択肢を広げ得る表面処理剤、物品、含フッ素化合物の提供。【解決手段】芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とを有し、上記芳香族基が芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する、含フッ素化合物。【選択図】なし

Description

本開示は、含フッ素化合物、表面処理剤及び物品に関する。

基材に撥水性等を付与するための方法として、基材上に、表面処理剤を用いて表面層を形成することが行われている。例えば、特許文献１では、パーフルオロポリエーテル基含有トリメトキシシランを含有する表面処理剤が開示されている。

特許第５６６９６９９号公報

近年、上記表面層には、様々な特性が求められている。例えば、表面層の撥水撥油性を長期間維持することを目的として、耐摩耗性に優れることが求められる。
本発明者らは、特許文献１の表面処理剤では、基材の種類によっては、表面層の耐摩耗性が十分ではなく、改善の余地があるとの知見を得た。

本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成し得る基材の選択肢を広げ得る表面処理剤を提供することにある。
また、本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を有する物品を提供することにある。
また、本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、新規な化合物を提供することにある。

本開示は以下の態様を含む。
＜１＞ 芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とを有し、
上記芳香族基が芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する、含フッ素化合物。
＜２＞ 上記芳香族基が上記ヒドロキシ基を２つ以上有する、上記＜１＞に記載の含フッ素化合物。
＜３＞ 上記芳香族基が、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造及びアントラセン構造から選択される１つ以上の構造を含む、上記＜１＞又は＜２＞に記載の含フッ素化合物。
＜４＞ 下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される、上記＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の含フッ素化合物。
（Ｇ^１－）_ａ１Ｑ^１（－Ｚ）_ｂ１ 式（Ａ１）
（Ｚ－）_ｂ２Ｑ^２－Ｇ^２－Ｑ^３（－Ｚ）_ｂ３ 式（Ａ２）
式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｇ^１及びＧ^２は、（ポリ）オキシフルオロアルキル基であり、
Ｑ^１は、単結合又は（ａ１＋ｂ１）価の連結基であり、
Ｑ^２は、単結合又は（ｂ２＋１）価の連結基であり、
Ｑ^３は、単結合又は（ｂ３＋１）価の連結基であり、
Ｚは、芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基であり、
ａ１は、１以上の整数であり、
ｂ１は、１以上の整数であり、
ｂ２は、１以上の整数であり、
ｂ３は、１以上の整数であり、
Ｇ^１が複数ある場合、複数あるＧ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、
Ｚが複数ある場合、複数あるＺは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
＜５＞ 芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とを有し、上記芳香族基が芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する、含フッ素化合物を含有する、表面処理剤。
＜６＞ 上記芳香族基が上記ヒドロキシ基を２つ以上有する、上記＜５＞に記載の表面処理剤。
＜７＞ 上記芳香族基が、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造及びアントラセン構造から選択される１つ以上の構造を含む、上記＜５＞又は＜６＞に記載の表面処理剤。
＜８＞ 上記含フッ素化合物が、下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される、上記＜５＞～＜７＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
（Ｇ^１－）_ａ１Ｑ^１（－Ｚ）_ｂ１ 式（Ａ１）
（Ｚ－）_ｂ２Ｑ^２－Ｇ^２－Ｑ^３（－Ｚ）_ｂ３ 式（Ａ２）
式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｇ^１及びＧ^２は、（ポリ）オキシフルオロアルキル基であり、
Ｑ^１は、単結合又は（ａ１＋ｂ１）価の連結基であり、
Ｑ^２は、単結合又は（ｂ２＋１）価の連結基であり、
Ｑ^３は、単結合又は（ｂ３＋１）価の連結基であり、
Ｚは、芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基であり、
ａ１は、１以上の整数であり、
ｂ１は、１以上の整数であり、
ｂ２は、１以上の整数であり、
ｂ３は、１以上の整数であり、
Ｇ^１が複数ある場合、複数あるＧ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、
Ｚが複数ある場合、複数あるＺは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
＜９＞ 表面処理剤の全質量に対する上記含フッ素化合物の含有率が、０．０５～１０質量％である、上記＜５＞～＜８＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
＜１０＞ フッ素系溶媒を含む溶媒を含有する、上記＜５＞～＜９＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
＜１１＞ 上記溶媒が、非フッ素系溶媒を含む、上記＜１０＞に記載の表面処理剤。
＜１２＞ 基材と、上記基材上に配置された表面層とを備え、且つ
上記表面層が上記＜５＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の表面処理剤により形成される、物品。
＜１３＞ 上記基材が、金属、金属酸化物、樹脂、サファイア、大理石及びガラスからなる群より選択される１つ以上を含む、上記＜１２＞に記載の物品。

本開示の一実施形態によれば、撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成し得る基材の選択肢を広げ得る表面処理剤が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を有する物品が提供される。
本開示の他の実施形態によれば、新規な化合物が提供される。

以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。

本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率及び含有率は、特に記載しない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率及び含有率を意味する。
本開示において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
本開示において、式（Ａ１）で表される化合物を化合物（Ａ１）と記す。他の式で表される化合物、基等もこれに準ずる。
本開示において、ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。
本開示において、フルオロアルキル基とは、パーシャルフルオロアルキル基とペルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。なお、パーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、且つ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。すなわち、フルオロアルキル基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。（ポリ）オキシフルオロアルキル基とは、鎖中に１又は２以上のオキシ基を有するフルオロアルキル基であり、モノオキシフルオロアルキレン基及びポリオキシフルオロアルキレン基が含まれる。
本開示において、「表面層」とは、基材の表面に存在する層を意味する。

[含フッ素化合物]
本開示の含フッ素化合物（以下、「本含フッ素化合物」とも記す。）は、芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とを有し、上記芳香族基が芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する。以下、ヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を、「特定芳香族基」とも記す。

本含フッ素化合物によれば、撥水撥油性及び耐摩耗性に優れる、表面層を形成できる。上記効果が奏される理由は明らかではないが以下のように推定される。
本含フッ素化合物は、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有しており、これにより、撥水撥油性に優れる表面層の形成が可能となると推定される。また、本含フッ素化合物は、ヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有している。この芳香族基と、基材に含まれる金属、金属酸化物との間で相互作用（複合体形成等）が生じ、耐摩耗性に優れる表面層の形成が可能となると推定される。また、２つ以上の含フッ素化合物において、それぞれの芳香族基同士のπ－π相互作用による複合体の形成、クロスリンキングと呼ばれる共有結合による結合の形成等により、表面層が緻密化され、耐摩耗性が向上すると推定される。

撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、特定芳香族基は、芳香環に結合するヒドロキシ基を２つ以上有することが好ましい。
撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、特定芳香族基は、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造及びアントラセン構造から選択される１つ以上の構造を含むことが好ましい。

撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、本含フッ素化合物は、下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されることが好ましい。
（Ｇ^１－）_ａ１Ｑ^１（－Ｚ）_ｂ１ 式（Ａ１）
（Ｚ－）_ｂ２Ｑ^２－Ｇ^２－Ｑ^３（－Ｚ）_ｂ３ 式（Ａ２）
式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｇ^１及びＧ^２は、（ポリ）オキシフルオロアルキル基であり、
Ｑ^１は、単結合又は（ａ１＋ｂ１）価の連結基であり、
Ｑ^２は、単結合又は（ｂ２＋１）価の連結基であり、
Ｑ^３は、単結合又は（ｂ３＋１）価の連結基であり、
Ｚは、芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基であり、
ａ１は、１以上の整数であり、
ｂ１は、１以上の整数であり、
ｂ２は、１以上の整数であり、
ｂ３は、１以上の整数であり、
Ｇ^１が複数ある場合、複数あるＧ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、
Ｚが複数ある場合、複数あるＺは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

〔Ｇ^１〕
Ｇ^１は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン基である。

製造容易性の観点から、Ｇ^１は、下式（Ｇ１－０）で表される構造が好ましい。
Ｒ^ｆ０Ｏ－（Ｒ^ｆ１２Ｏ）_ｃ１－ 式（Ｇ１－０）
式（Ｇ１－０）中、
Ｒ^ｆ０は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、Ｒ^ｆ１２は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、Ｒ^ｆ１２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１２は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｃ１は０～５００の整数であり、１～３００の整数がより好ましく、５～２００の整数がさらに好ましく、１０～１５０の整数が特に好ましい。

製造容易性の観点から、Ｇ^１は、下式（Ｇ１－１）で表される構造が好ましい。
Ｒ^ｆ０Ｏ－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ６］－Ｒ^ｆ７－ 式（Ｇ１－１）
式（Ｇ１－１）中、
Ｒ^ｆ０は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
Ｒ^ｆ１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり、
Ｒ^ｆ２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり、
Ｒ^ｆ３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
Ｒ^ｆ４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
Ｒ^ｆ５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
Ｒ^ｆ６は、炭素数６のフルオロアルキレン基である。
Ｒ^ｆ７は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は０～５００の整数である。

撥水（撥油）性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は、１～５００の整数、即ち、Ｇ^１が、ポリオキシフルオロアルキル基が好ましい。また、撥水（撥油）性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６は、１～３００の整数がより好ましく、５～２００の整数がさらに好ましく、１０～１５０の整数が特に好ましい。
なお、式（Ｇ１－１）における（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の結合順序は任意である。式（Ｇ１－１）のｍ１～ｍ６は、それぞれ、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５は、（Ｒ^ｆ５Ｏ）の数がｍ５個であることを表し、（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。

Ｒ^ｆ０において、フルオロアルキル基は、直鎖状フルオロアルキル基であってもよく、分岐状フルオロアルキル基であってもよく、環構造を有するフルオロアルキル基であってもよい。
Ｒ^ｆ３～Ｒ^ｆ７において、フルオロアルキレン基は、直鎖状フルオロアルキレン基であってもよく、分岐状フルオロアルキレン基であってもよく、環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。

Ｒ^ｆ１の具体例としては、－ＣＦ_２－及び－ＣＨＦ－が挙げられる。
Ｒ^ｆ２の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＦ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨＦ－が挙げられる。
Ｒ^ｆ３の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＨ_２－、及び－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨ_２－が挙げられる。
Ｒ^ｆ４の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｆ_６－が挙げられる。
Ｒ^ｆ５の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｆ_８－が挙げられる。
Ｒ^ｆ６の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｆ_１０－が挙げられる。
また、Ｒ^ｆ０及びＲ^ｆ７の具体例としては、上記Ｒ^ｆ１～Ｒ^ｆ６で挙げたものと同様のものが挙げられる。
ここで、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｆ_６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｆ_８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｆ_１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。

Ｇ^１は、耐摩耗性により優れた表面層を形成する観点から、下式（Ｆ１）～下式（Ｆ３）で表される構造からなる群より選択される少なくとも１つを含むことが好ましい。
（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２ 式（Ｆ１）
（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ２－（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ４ 式（Ｆ２）
（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ３ 式（Ｆ３）
ただし、式（Ｆ１）～式（Ｆ３）の各符号は、前記式（Ｇ１－１）と同様である。

式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）において、（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）、（Ｒ^ｆ２Ｏ）と（Ｒ^ｆ４Ｏ）の結合順序は各々任意である。例えば（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）が交互に配置されてもよく、（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。式（Ｆ３）においても同様である。
式（Ｆ１）において、ｍ１は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｍ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
式（Ｆ２）において、ｍ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｍ４は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
式（Ｆ３）において、ｍ３は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。

合成容易性の観点から、Ｇ^１は下式（Ｂ１）で表される基であることが好ましい。
Ｒ^ｆ１１Ｏ－（Ｒ^ｆ１２Ｏ）_ｃ１－Ｒ^ｆ１３－ 式（Ｂ１）
式（Ｂ１）中、
Ｒ^ｆ１１は炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
Ｒ^ｆ１２及びＲ^ｆ１３はそれぞれ独立に、炭素数１～６のフルオロアルキレン基を表し、Ｒ^ｆ１２が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ１２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ｃ１は０～５００の整数である。

なお、Ｒ^ｆ１１の具体例は、上記Ｒ^ｆ０と同様である。Ｒ^ｆ１２の具体例は上記Ｒ^ｆ１～Ｒ^ｆ６で挙げられたものと同様である。Ｒ^ｆ１３の具体例は、上記Ｒ^ｆ７と同様である。

〔Ｇ^２〕
Ｇ^２は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン基である。

Ｇ^２における（ポリ）オキシフルオロアルキレン基は、式（Ａ２）において、Ｑ^２又はＱ^３に結合する２つの末端が各々独立に－Ｏ－を有するか、炭素数２以上の炭素鎖の炭素－炭素原子間に－Ｏ－を有するか、又はこれらの組み合わせであるフルオロアルキレン基が好ましい。

製造容易性の観点から、Ｇ^２は下式（Ｇ２－１）で表される構造が好ましい。
－（Ｏ）_ｍ１０－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ１２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ１３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ１４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｍ１５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｍ１６］－Ｒ^ｆ７－ 式（Ｇ２－１）
式（Ｇ２－１）中、
ｍ１０は０又は１の整数であり、
ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５、ｍ１６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数であり、
ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５＋ｍ１６は１～５００の整数が好ましく、１～３００の整数がより好ましく、５～２００の整数がさらに好ましく、１０～１５０の整数が特に好ましい。
Ｒ^ｆ１、Ｒ^ｆ２、Ｒ^ｆ３、Ｒ^ｆ４、Ｒ^ｆ５、Ｒ^ｆ６、及びＲ^ｆ７は、上記Ｇ^１におけるものと同様である。なお、式（Ｇ２－１）における（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の結合順序は任意であり、上記式（Ｇ１－１）で説明したとおりである。

撥水撥油性や指紋除去性などの点から、ｍ１０が１、且つ、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３＋ｍ１４＋ｍ１５＋ｍ１６が１～５００の整数、即ち、Ｇ^２がポリオキシフルオロアルキレン基が好ましい。

Ｇ^２は、耐摩耗性により優れた表面層を形成する観点から、下式（Ｆ４）～下式（Ｆ６）で表される構造からなる群より選択される少なくとも１つを含むことが好ましい。
－Ｏ－（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｍ１１－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ１２ 式（Ｆ４）
－Ｏ－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｍ１２－（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｍ１４ 式（Ｆ５）
－Ｏ－（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｍ１３ 式（Ｆ６）
ただし、式（Ｆ４）～式（Ｆ６）の各符号は、上記式（Ｇ２－１）と同様である。

式（Ｆ４）及び式（Ｆ５）において、（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）、（Ｒ^ｆ２Ｏ）と（Ｒ^ｆ４Ｏ）の結合順序は各々任意である。例えば（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）が交互に配置されてもよく、（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。式（Ｆ６）においても同様である。
式（Ｆ４）において、ｍ１１は１～１５０の整数がより好ましく、２～１００の整数がさらに好ましく、５～７５の整数が特に好ましい。またｍ１２は１～１５０の整数がより好ましく、２～１００の整数がさらに好ましく、５～７５の整数が特に好ましい。
式（Ｆ５）において、ｍ１２は１～１５０の整数がより好ましく、２～１００の整数がさらに好ましく、５～７５の整数が特に好ましい。またｍ１４は１～１５０の整数がより好ましく、２～１００の整数がさらに好ましく、５～７５の整数が特に好ましい。
式（Ｆ６）において、ｍ１３は１～３００の整数がより好ましく、５～２００の整数がさらに好ましく、１０～１５０の整数が特に好ましい。

合成容易性の観点から、Ｇ^２は式（Ｇ２－１）におけるｍ１０が１のポリフルオロポリエーテル鎖、即ち、Ｇ^２が下式（Ｂ２）で表される基が好ましい。
－Ｏ－（Ｒ^ｆ２１Ｏ）_ｃ２－Ｒ^ｆ２２－ 式（Ｂ２）
式（Ｂ２）中、
Ｒ^ｆ２１は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、Ｒ^ｆ２１が複数ある場合、複数あるＲ^ｆ２１は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ^ｆ２２は、単結合又は炭素数１～６のフルオロアルキレン基であって、ｃ２は１～５００の整数である。
なお、Ｒ^ｆ２１の具体例は、上記Ｒ^ｆ１～Ｒ^ｆ６で挙げられたものと同様である。Ｒ^ｆ２２の具体例は、上記Ｒ^ｆ７と同様である。

Ｇ^１における（ポリ）オキシフルオロアルキル基及びＧ^２における（ポリ）オキシフルオロアルキレン基中のフッ素原子の割合［｛フッ素原子数／（フッ素原子数＋水素原子数）｝×１００（％）］は、撥水撥油性及び指紋除去性に優れる点から、４０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上がさらに好ましい。
また、（ポリ）オキシフルオロアルキル基及び（ポリ）オキシフルオロアルキレン基の分子量は、耐摩耗性の点から、２００～３０，０００が好ましく、６００～２５，０００がより好ましく、１，０００～２０，０００がさらに好ましい。

〔Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３〕
Ｑ^１は、単結合又は（ａ１＋ｂ１）価の連結基であり、Ｑ^２は、単結合又は（ｂ２＋１）価の連結基であり、Ｑ^３は、単結合又は（ｂ３＋１）価の連結基である。
化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）におけるＱ^１、Ｑ^２、及び、Ｑ^３は同一の構造であってもよく異なる構造であってもよい。Ｑ^１、Ｑ^２、及び、Ｑ^３の具体的な構造は共通す
るため、以下、Ｑ^１を代表して説明し、Ｑ^２及び、Ｑ^３、は特に断りのない限りＱ^１に準ずる。

耐摩耗性により優れた表面層を形成する観点から、Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３のうち少なくとも一つが、下式（Ｃ２）で表される基が好ましい。
－Ｑ^２１（－Ｒ^１２－）_ｗ 式（Ｃ２）
ただし、
Ｑ^２１は、単結合又は下式（１）～（３４）のいずれか１つで表される基であり、
式（１）～（３４）中の＊１がＧ^１又はＧ^２に接続し、＊２がＲ^１２に接続し、Ｒ^１２は、Ｚに接続し、
Ｔ^Ｎは水素原子又はアルキル基であって、Ｒ^１２と連結して環を形成していてもよく、
Ｔ^Ｃはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、
Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキレン基であって、炭素数２以上のアルキレン基において炭素－炭素原子間に－Ｏ－又は－ＮＲ^Ｄ－が含まれていてもよく、Ｒ^Ｄは、水素原子又はアルキル基であり、
ｗは０～３の整数である。
また、式（２９）中の環Ａは、少なくとも１つの窒素原子を含む複素環を表し、
式（３０）中の環Ｂは、２つの窒素原子を含む複素環を表し、
式（３１）中の環Ｃは、炭化水素環又は複素環を表し、
式（３２）中の環Ｄは、少なくとも１つの窒素原子を含む複素環を表し、
式（３４）中の環Ｅは、炭化水素環又は複素環を表す。
Ｒ^ｘ１、Ｒ^ｘ３、Ｒ^ｘ５、Ｒ^ｘ７及びＲ^ｘ９はそれぞれ独立に、単結合又は連結基であり、
Ｒ^ｘ２、Ｒ^ｘ４、Ｒ^ｘ６、Ｒ^ｘ８及びＲ^ｘ１０はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であり、
ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に、１又は２である。

環Ａとしては、ピロール環、ピロリジン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、及びピペラジン環が挙げられる。中でも、環Ａは、ピロリジン環、ピペリジン環、又はピペラジン環であることが好ましい。
環Ｂとしては、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、及びピペラジン環が挙げられる。中でも、環Ｂは、ピペラジン環であることが好ましい。
環Ｃで表される炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ノルボルネン環、アダマンタン環等の脂肪族炭化水素環；及び、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環等の芳香族炭化水素環が挙げられる。環Ｃで表される複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピロリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環、オキサゾリジン環、ピリジン環、ピペラジン環、ピラン環、ピペラジン環、及びモルホリン環が挙げられる。中でも、環Ｃは、炭化水素環であることが好ましく、脂肪族炭化水素環であることがより好ましく、シクロヘキサン環であることがさらに好ましい。
環Ｄとしては、ピロール環、ピロリジン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、及びピペラジン環が挙げられる。中でも、環Ｄは、ピロリジン環又はピペリジン環であることが好ましい。

Ｒ^ｘ１、Ｒ^ｘ３、Ｒ^ｘ５及びＲ^ｘ７はそれぞれ独立に、単結合又はアルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は１～６であることが好ましい。アルキレン基には、－Ｏ－又は－ＮＨ－が含まれていてもよい。
Ｒ^ｘ２、Ｒ^ｘ４、Ｒ^ｘ６及びＲ^ｘ８はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基であることが好ましい。

耐摩耗性により優れた表面層を形成する観点から、Ｑ^２１は、式（１）、式（２５）、又は式（３３）で表される基が好ましい。

Ｔ^Ｎは、水素原子又はアルキル基であって、水素原子が好ましい。
Ｔ^Ｎがアルキル基である場合、アルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよく、環状アルキル基であってもよい。中でも、アルキル基は、直鎖状アルキル基が好ましい。また、アルキル基の炭素数は１～６が好ましく、１又は２がより好ましい。

Ｔ^Ｃはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基である。
Ｔ^Ｃが置換基である場合、置換基としては、例えば、水酸基、置換していてもよいアルキル基、アルコキシ基、３級アミノ基、ハロゲン原子、及びイミド基が挙げられる。アルキル基が置換基を有する場合、置換基としては、３級アミノ基、４級アンモニウム基、水酸基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシド基、ハロゲン原子、イミド基、及びアルキル基で置換していてもよいアミノカルボニル基が挙げられる。
Ｔ^Ｃがアルキル基である場合、アルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよく、環状アルキル基であってもよい。

Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキレン基であって、炭素数２以上のアルキレン基において炭素－炭素原子間に－Ｏ－又は－ＮＲ^Ｄ－が含まれていてもよく、Ｒ^Ｄは、水素原子又はアルキル基である。アルキレン基は、直鎖状アルキレン基であってもよく、分岐鎖状アルキレン基であってもよく、環状アルキレン基であってもよい。中でも、アルキレン基は、直鎖状アルキレン基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、カルボキシ基、水酸基、３級アミノ基、４級アンモニウム基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシド基、ハロゲン原子、イミド基、及びアルキル基で置換していてもよいアミノカルボニル基が挙げられる。

〔Ｚ〕
Ｚは、特定芳香族基である。

撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、特定芳香族基は、芳香環に結合するヒドロキシ基を２つ以上有することが好ましい。
撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、特定芳香族基は、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造及びアントラセン構造から選択される１つ以上の構造を含むことが好ましい。

耐摩耗性により優れた表面層を形成する観点から、Ｚは、式（Ｚ１）～（Ｚ１７）のいずれかで表される基が好ましい。
式（Ｚ１）～（Ｚ１７）中の＊３がＱ^１、Ｑ^２、又は、Ｑ^３に接続し、
Ｒ^Ａはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基であり、
Ｒ^Ｎは水素原子又はアルキル基である。
ｘ１ａ及びｚ１ａはそれぞれ独立に、１～５の整数であり、ｙ１ａは０～４の整数であり、ｘ１ａ、ｙ１ａ、及びｚ１ａの和は６以下であり、
ｘ１ｂ及びｚ１ｂはそれぞれ独立に、１～４の整数であり、ｙ１ｂは０～３の整数であり、ｘ１ｂ、ｙ１ｂ、及びｚ１ｂの和は５以下であり、
ｘ２及びｚ２はそれぞれ独立に、１～３の整数であり、ｙ２は０～２の整数であり、ｘ２、ｙ２、及びｚ２の和は４以下であり、
ｘ３及びｚ３はそれぞれ独立に、１～３の整数であり、ｙ３は０～２の整数であり、ｘ３、ｙ３、及びｚ３の和は４以下であり、
ｘ４及びｚ４はそれぞれ独立に、１～５の整数であり、ｙ４は０～４の整数であり、ｘ４、ｙ４、及びｚ４の和は６以下であり、
ｘ５及びｚ５はそれぞれ独立に、１～４の整数であり、ｙ５は０～３の整数であり、ｘ５、ｙ５、及びｚ５の和は５以下であり、
ｘ６ａ及びｚ６ａはそれぞれ独立に、０～５の整数であり、ｙ６ａは０～５の整数であり、ｘ６ａ、ｙ６ａ、及びｚ６ａの和は５以下であり、
ｘ６ｂ及びｚ６ｂはそれぞれ独立に、０～５の整数であり、ｙ６ｂは０～５の整数であり、ｘ６ｂ、ｙ６ｂ、及びｚ６ｂの和は５以下であり、
ｘ６ｃ及びｚ６ｃはそれぞれ独立に、０～４の整数であり、ｙ６ｃは０～４の整数であり、ｘ６ｂ、ｙ６ｂ、及びｚ６ｃの和は４以下であり、
ただし、式（Ｚ１１）において、ｘ６ａ及びｘ６ｂの和は１以上であり、ｚ６ａ及びｚ６ｂの和は１以上であり、
ただし、式（Ｚ１２）において、ｘ６ａ、ｘ６ｂ及びｘ６ｃの和は１以上であり、ｚ６ａ、ｚ６ｂ及びｚ６ｃの和は１以上であり、
ｘ７ａ及びｚ７ａはそれぞれ独立に、０～５の整数であり、ｙ７ａは０～５の整数であり、ｘ７ａ、ｙ７ａ及びｚ７ａの和は５以下であり、
ｘ７ｂ及びｚ７ｂはそれぞれ独立に、０～５の整数であり、ｙ７ｂは０～５の整数であり、ｘ７ｂ、ｙ７ｂ及びｚ７ｂの和は５以下であり、
ｘ７ｃは０～５の整数であり、ｙ７ｃは０～５の整数であり、ｘ７ｃ及びｙ７ｃの和は５以下であり、
ただし、式（Ｚ１３）において、ｘ７ａ及びｘ７ｂの和は１以上であり、ｚ７ａ及びｚ７ｂの和は１以上であり、
ただし、式（Ｚ１４）において、ｘ７ａ及びｘ７ｃの和は１以上であり、ｚ７ａは１以上であり、
ｘ７ｄ及びｚ７ｄはそれぞれ独立に、０～５の整数であり、ｙ７ｄは０～５の整数であり、ｘ７ｄ、ｙ７ｄ及びｚ７ｄの和は５以下であり、
ｘ７ｅ及びｚ７ｅはそれぞれ独立に、０～５の整数であり、ｙ７ｅは０～５の整数であり、ｘ７ｅ、ｙ７ｅ及びｚ７ｅの和は５以下であり、
ただし、式（Ｚ１５）において、ｘ７ｄ及びｘ７ｅの和は１以上であり、ｚ７ｄ及びｚ７ｅの和は１以上であり、
ｘ８及びｚ８はそれぞれ独立に、１～８の整数であり、ｙ８は０～６の整数であり、ｘ８、ｙ８、及び、Ｚ８の和は８以下であり、
ｘ９及びｚ９はそれぞれ独立に、１～９の整数であり、ｙ９は０～８の整数であり、ｘ９、ｙ９、及び、Ｚ９の和は１０以下であり、
Ｒ^Ａが複数ある場合、複数あるＲ^Ａは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^Ａはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基である。
Ｒ^Ａが置換基である場合、置換基としては、例えば、水酸基、置換していてもよいアルキル基、アルコキシ基、３級アミノ基、ハロゲン原子、及びイミド基が挙げられる。アルキル基が置換基を有する場合、置換基としては、３級アミノ基、４級アンモニウム基、水酸基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシド基、ハロゲン原子、イミド基、及びアルキル基で置換していてもよいアミノカルボニル基が挙げられる。

Ｒ^Ｎは水素原子又はアルキル基であって、水素原子が好ましい。
Ｒ^Ｎがアルキル基である場合、アルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよく、環状アルキル基であってもよい。中でも、アルキル基は、直鎖状アルキル基が好ましい。また、アルキル基の炭素数は１～６が好ましく、１又は２より好ましい。

耐摩耗性により優れた表面層を形成する観点から、Ｚは、式（Ｚ１）、（Ｚ１１）、（Ｚ１２）、（Ｚ１６）及び（Ｚ１７）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく（すなわち、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造、又は、アントラセン構造を有する基）、式（１）がより好ましい。

式（Ｚ１）～（Ｚ１７）で表される基が、１つの芳香環に結合するヒドロキシ基を２つ有する場合、一方のヒドロキシ基の位置に対する、他方のヒドロキシ基の位置はオルト位又はメタ位が好ましく、オルト位がより好ましい。また、式（Ｚ１）～（Ｚ１７）で表される基が、１つの芳香環に結合するヒドロキシ基を３つ以上有することが好ましい。

〔ａ１、ｂ１、ｂ２及びｂ３〕
上記化合物（Ａ１）において、ａ１は、撥水撥油性、化合物の製造の容易性等の点から、１～１０の整数が好ましく、１～６の整数がより好ましい。
上記化合物（Ａ１）において、ｂ１は、耐摩耗性、撥水撥油性、製造容易性等の点から、１～１０の整数が好ましく、１～６の整数がより好ましい。
また、上記化合物（Ａ２）において、ｂ２及びｂ３は、耐摩耗性、撥水撥油性、製造容易性等の点から、それぞれ、１～１０の整数が好ましく、１～６の整数がより好ましい。

また、特定芳香族基の分子量は、本含フッ素化合物の溶媒への溶解性、本含フッ素化合物を含有する表面処理剤を用いた表面層の形成性等の点から、１００～１，０００が好ましく、１００～５００がより好ましく、１００～３００がさらに好ましい。

本含フッ素化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。

なお、Ｇ^１及びＺは上述の通りである。
ｎは１から１０の整数である。
Ｔ^Ｏは置換基を表す。置換基としては、例えば、置換基を有していてもよいアルキル基が挙げられる。アルキル基が置換基を有する場合、置換基としては、３級アミノ基、４級アンモニウム基、水酸基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシド基、ハロゲン原子、イミド基、及びアルキル基で置換していてもよいアミノカルボニル基が挙げられる。

本含フッ素化合物の製造方法の一例を以下に説明する。
本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基（保護基－Ｏ－で表される基）を少なくとも１つ有する芳香族基を有するアミン化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するエステル化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
また、本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するエステル化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するアミン化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
なお、上記ヒドロキシ基は、芳香環に結合する。
保護基としては、トリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ―メトキシフェニルベンジル基（ＰＭＢ）、アセチル基（Ａｃ）、ベンゾイル基（Ｂｚ）、トリチル基（Ｔｒ）等が挙げられる。以降に記載する別の製造方法においても、使用できる保護基の種類は同様である。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、アミド結合を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（１）、（２２）及び（２３）のいずれかである連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するカルボン酸化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するアルコール化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
また、本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するアルコール化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するカルボン酸化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
なお、上記ヒドロキシ基は、芳香環に結合する。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、エステル結合を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（１６）である連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
まず、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するアミン化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するエステル化合物とを反応させ、アミド結合を有する化合物を合成する。
上記アミド結合を有する化合物を、還元剤（例えば、水酸化リチウムアルミニウム）を用いて還元し、次いで、保護基を水素原子に置換することにより、本含フッ素化合物を製造できる。
なお、上記ヒドロキシ基は、芳香環に結合する。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、イミン結合（－ＮＲ－）を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（１７）、（２０）及び（２５）のいずれかである連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
まず、ベンゾジオキソール構造を有するチオール化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するアルコール化合物とを反応させ、スルフィド結合を有する化合物を合成する。
次いで、ベンゾジオキソール構造における環構造を開環させ、ジフェノール構造とすることにより、本含フッ素化合物を製造できる。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、スルフィド結合を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（２１）である連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するアルカノールアミン化合物（１，３－ジアミノ－２－プロパノール等）と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するエステル化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
また、本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するエステル化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するアルカノールアミン化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、オキサゾール構造を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（２）～（５）のいずれかである連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するカルボニルヒドラジン化合物（１－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル－イソニペコチック酸ヒドラジド等）と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するエステル化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
また、本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するエステル化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するカルボニルヒドラジン化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、オキサジアゾール構造を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（１２）である連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するアルキレントリアミン化合物（ジエチレントリアミン、ジプロピレントリアミン等）又はアルキレンテトラミン化合物（トリエチレンテトラミン、トリプロピレンテトラミン等）と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するエステル化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
また、本含フッ素化合物は、保護基が結合したヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基を有するエステル化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するアルキレントリアミン化合物とを反応させ、保護基を水素原子に置換することにより製造できる。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基との間に、イミダゾール構造を含む連結基（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（６）～（１１）、（１４）及び（１５）のいずれかである連結基）が存在する含フッ素化合物を製造できる。

本含フッ素化合物の製造方法の他の一例を以下に説明する。
まず、ベンゾジオキソール構造を有するボロン酸化合物と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基を有するハロゲン化合物とをＳｕｚｕｋｉ－ｃｏｕｐｌｉｎｇ反応させ、中間体を合成する。
次いで、中間体が有するベンゾジオキソール構造における環構造を開環させ、ジフェノール構造とすることにより、本含フッ素化合物を製造できる。
上記製造方法によれば、特定芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とが直接結合する（例えば、上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が単結合であり、ｗが０である。）含フッ素化合物を製造できる。

上記式（Ｃ２）中のＱ^２１が上記式（１）～（１２）、（１４）～（１７）、（２０）～（２３）、及び（２５）以外である連結基を有する本含フッ素化合物は、上記製造方法、従来技術を参照することにより製造できる。

[表面処理剤]
本開示の表面処理剤（以下、「本表面処理剤」とも記す。）は、本含フッ素化合物を含有する。本表面処理剤は、本含フッ素化合物を２種以上含有できる。

本表面処理剤の全質量に対する本含フッ素化合物の含有率は、用途、表面処理剤の塗布形式等により適宜変更することが好ましい。撥水撥油性及び耐摩耗性に優れた表面層を形成する観点から、本表面処理剤の全質量に対する本含フッ素化合物の含有率は、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．０５～１０質量％がさらに好ましい。

本表面処理剤は、溶媒を含有できる。本表面処理剤は、液状が好ましく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。液状媒体を含むことによって、本表面処理剤の形態、粘度、表面張力等を調整でき、塗布方法に適した液物性に制御できる。

溶媒は、フッ素系溶媒を含むことが好ましい。また、本含フッ素化合物の溶解性の観点から、溶媒は、フッ素系溶媒及び非フッ素系溶媒を含むことが好ましい。

フッ素系溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（製品名「アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００」、ＡＧＣ社製）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（製品名「アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００」、ＡＧＣ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（製品名「バートレル（登録商標）ＸＦ」、ケマーズ社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、例えば、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（製品名「アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００」、ＡＧＣ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（製品名「ノベック（登録商標）７１００」、３Ｍ社製）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（製品名「ノベック（登録商標）７２００」、３Ｍ社製）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（製品名「ノベック（登録商標）７３００」、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。

非フッ素系溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、又は水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒等が挙げられる。
上記した中でも、本含フッ素化合物の溶解性の観点から、アルコール系溶媒が好ましく、炭素数１～８のアルコール系溶媒がより好ましく、エタノールがさらに好ましい。

取り扱い性の観点から、本表面処理剤の全質量に対する溶媒の含有率は、６０～９９．９９質量％が好ましく、８０～９９．９５質量％がより好ましく、９０～９９．９０質量％がさらに好ましい。
溶媒が、フッ素系溶媒及び非フッ素系溶媒を含む場合、本含フッ素化合物の溶解性の観点から、溶媒の全質量に対する非フッ素系溶媒の含有率は、０．００５～１質量％が好ましく、０．０１～０．５質量％がより好ましく、０．０３～０．３質量％がさらに好ましい。
溶媒が、フッ素系溶媒及び非フッ素系溶媒を含む場合、溶媒の全質量に対するフッ素系溶媒の含有率は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。フッ素系溶媒の含有率の上限は、特に限定されるものではなく、例えば、９９．８質量％であってもよい。

本表面処理剤は、本開示の効果を損なわない範囲で、上記以外の他の成分を含んでいてもよい。
本表面処理剤における、他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。

他の成分としては、本含フッ素化合物以外の含フッ素化合物（以下、「他の含フッ素化合物」とも記す。）等が挙げられる。
他の含フッ素化合物としては、本含フッ素化合物の製造過程で副生する含フッ素化合物（以下、「副生含フッ素化合物」とも記す。）及び公知の含フッ素化合物が挙げられる。
他の含フッ素化合物としては、本表面処理剤の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。

公知の含フッ素化合物としては、例えば、下記の文献に記載のものが挙げられる。
特開平１１－０２９５８５号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特許第２８７４７１５号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー、
特開２０００－１４４０９７号公報に記載の有機ケイ素化合物、
特開２０００－３２７７７２号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン、
特表２００２－５０６８８７号公報に記載のフッ素化シロキサン、
特表２００８－５３４６９６号公報に記載の有機シリコーン化合物、
特許第４１３８９３６号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体、
米国特許出願公開第２０１０／０１２９６７２号明細書、国際公開第２０１４／１２６０６４号、特開２０１４－０７０１６３号公報に記載の化合物、
国際公開第２０１１／０６００４７号、国際公開第２０１１／０５９４３０号に記載のオルガノシリコン化合物、
国際公開第２０１２／０６４６４９号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物、
特開２０１２－７２２７２号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー、
国際公開第２０１３／０４２７３２号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８５号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１４／１６３００４号、特開２０１４－０８０４７３号公報、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号、国際公開第２０１７／１８７７７５号に記載の含フッ素エーテル化合物、
特開２０１４－２１８６３９号公報、国際公開第２０１７／０２２４３７号、国際公開第２０１８／０７９７４３号、国際公開第２０１８／１４３４３３号に記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル含有シラン化合物、
特開２０１５－１９９９０６号公報、特開２０１６－２０４６５６号公報、特開２０１６－２１０８５４号公報、特開２０１６－２２２８５９号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン
国際公開第２０１８／２１６６３０号、国際公開第２０１９／０３９２２６号、国際公開第２０１９／０３９３４１号、国際公開第２０１９／０３９１８６号、国際公開第２０１９／０４４４７９号、特開２０１９－４４１５８号公報、国際公開第２０１９／０４４４７９号、国際公開第２０１９／１６３２８２号に記載の含フッ素エーテル化合物。
国際公開第２０１９／１５１４４２号、国際公開第２０１９／１５１４４５号、国際公開第２０２０／０６６５３４号、国際公開第２０２０／０６６５３３号、国際公開第２０２０／１１１１３８号、国際公開第２０２１／０２９１８７号、国際公開第２０２１／１１１９９２号、特開２０２２－１９５７７号公報に記載の含フッ素エーテル化合物。
また、含フッ素化合物の市販品としては、信越化学工業社製のＫＹ－１００シリーズ（ＫＹ－１７８、ＫＹ－１８５、ＫＹ－１９５等）、ＡＧＣ社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９、オプツール（登録商標）ＵＤ１２０等が挙げられる。

[物品]
本開示の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、基材と、上記基材上に配置された表面層とを備え、且つ上記表面層が本表面処理剤により形成される。
表面層は、基材の表面の一部に形成されてもよく、基材のすべての表面に形成されてもよい。表面層は、基材の表面に膜状に拡がってもよく、点在（ドット状）してもよい。
基材の形状は、特に限定されるものではなく、用途に応じ適宜選択することが好ましい。

表面層の密着性の観点から、基材は、金属、金属酸化物、樹脂、サファイア、大理石及びガラスからなる群より選択される１つ以上を含むことが好ましく、金属及び金属酸化物からなる群より選択される１つ以上を含むことがより好ましく、金属を含むことがさらに好ましい。
金属としては、ステンレス、金、白金、銅等が挙げられる。これらの中でも、表面層の密着性の観点から、ステンレスが好ましい。
金属酸化物としては、酸化アルミニウム、酸化インジウムスズ、ジルコン酸チタン酸鉛、酸化銀、酸化銅等が挙げられる。
樹脂としては、アセチルセルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ケトン樹脂等が挙げられる。

基材が金属を含む場合、基材の総質量に対する金属の含有率は、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましく、１００質量％であってもよい。

耐摩耗性の観点から、表面層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ－Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる

本物品は、基材の表面に、本表面処理剤を塗布、乾燥することにより製造できる。
本表面処理剤の塗布方法は、限定されるものではなく、ドライコーティング法により塗布してもよく、ウェットコーティング法により塗布してもよい。
ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。
ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。

表面層の耐摩耗性の観点から、必要に応じて、加熱、加湿、光照射等の処理を実施してもよい。また、表面層を形成する基材の表面を、洗浄してもよい。

物品の用途は、特に限定されるものではなく、水栓；シャワーヘッド；手すり；レンジフード；車輪リム等の外装部品；エレベーターなどの金属パネル；精密機器外装用金属部材；金型；冷蔵庫扉などが挙げられる。

以下、実施例によって本開示の実施形態を詳細に説明する。ただし、本開示の実施形態はこれらに限定されない。本開示において、例１及び例２は実施例である。

＜例１＞
容量２００ｍＬの３口フラスコに、３－ヒドロキシチラミン塩酸塩（３．７９ｇ、２０ｍｍｏｌ）、イミダゾール（２．７２ｇ、４０ｍｍｏｌ）、及びジクロロメタン（５０ｍＬ）を入れた。マグネチックスターラーを用い、２５℃窒素雰囲気下で撹拌しながら、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルクロロシラン（６．０３ｇ、４０ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２０ｍＬ）の混合物を３０分かけて、上記３口フラスコへ滴下した。その後、２５℃窒素雰囲気下で１６時間撹拌した。得られた反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）を加え、分液ロートに移し、有機層を蒸留水で３回洗浄を行った。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した後、酢酸エチル及びヘキサンの混合物（７０：３０（体積比））を展開溶媒としたアミノ修飾シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、下記化合物Ａ（５．４１ｇ）を得た。
なお、以降の化合物中、ＴＢＳは、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基を表す。

容量３０ｍＬのナスフラスコに、下記化合物１ａ（１．０１ｇ、０．２２ｍｍｏｌ）、化合物Ａ（０．１２６ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）、ＡＣ－２０００（４ｍＬ）及び１，４－ジオキサン（１ｍＬ）を入れた。マグネチックスターラーを用い、２５℃窒素雰囲気下で１６時間撹拌した。得られた反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮しＡＣ－６０００に溶解させ、分液ロートに移し、メタノールで３回洗浄を行った。得られたフッ素溶媒層を濃縮した後、ＡＣ－２０００及びＡＥ－３０００の混合物（５０：５０（体積比））を展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、下記化合物Ｂ（０．７００ｇ）を得た。
なお、化合物１ａは、国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載されている前駆体（４ａ－２）の合成方法を参照して、製造した。繰り返し単位数ｎの平均値は１２．５である。

容量３０ｍＬのナスフラスコに、下記化合物Ｂ（０．３０ｇ、０．０６１ｍｍｏｌ）、酢酸（０．００７３ｇ、０．１２２ｍｍｏｌ）及び１，４－ジオキサン（１ｍＬ）を入れた。マグネチックスターラーを用い、２５℃で撹拌しながら１ｍｏｌ／Ｌテトラブチルアンモニウムフルオリド―テトラヒドロフラン溶液（０．１８３ｍＬ）をナスフラスコに加え、２５℃で１６時間撹拌した。得られた反応混合物にＡＣ－２０００を加え、分液ロートに移し、飽和塩化アンモニウム水溶液で３回洗浄した。得られたフッ素溶媒層を濃縮し、下記含フッ素化合物１（０．２３４ｇ）を得た。

含フッ素化合物１、フッ素系溶媒（３Ｍ社製、Ｎｏｖｅｃ７２００）及び非フッ素系溶媒（エタノール）を混合し、表面処理剤１を得た。
なお、表面処理剤１の総質量に対する含フッ素化合物１の含有率は０．１質量％、フッ素系溶媒の含有率は９９．８５質量％、非フッ素系溶媒の含有率は０．０５質量％とした。

ステンレス製基材（ＳＵＳ３０４基材、１０ｃｍ×１０ｃｍ）の表面をアセトン中に浸漬させ、超音波により１０分間洗浄した。洗浄後、アセトン中からステンレス製基材を取り出し、エアーで乾燥させた。

洗浄、乾燥後のステンレス製基材の表面に、２ｍＬの表面処理剤１を載せ、スピンコーター（製品名「Ｏｐｔｉｃｏａｔ ＭＳ－Ｂ２００」、ミカサ株式会社製）を用いて、回転数５００ｒｐｍで１分間回転させ、表面処理剤１の塗膜を形成した。その後、上記塗膜を、１２０℃で１０分間焼成し、厚さ１０ｎｍの表面層を形成させ、基材及び表面層を備える物品を得た。

＜例２＞
容量５０ｍＬのナスフラスコに、Ｌ－ＤＯＰＡ（３，４－ジヒドロキシフェニルアラニン、２．０ｇ、９．９ｍｍｏｌ）、ＴＢＳＣｌ（４．６ｇ、３０ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（２０ｍＬ）及びＤＭＦ（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、８．０ｍＬ）を入れた。マグネチックスターラーを用い、０℃で攪拌しながらイミダゾール（２．１ｇ、３１ｍｍｏｌ）をナスフラスコに加えた。さらに２５℃で２日間撹拌した後、濃縮し、ＴＢＳ化された粗体を得た。その一部を次の反応に用いた。
容量１００ｍＬナスフラスコに、得られた粗体（１．０ｇ、２．３ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン、２０ｍＬ）を入れた。マグネチックスターラーを用い、０℃で攪拌しながらＬＡＨ（水酸化アルミニウムリチウム、４．７ｍＬ、４．７ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ／ＬのＴＨＦ溶液）を加えた。２５℃に上げ、さらに１７時間撹拌した。水を加え、硫酸マグネシウムを加えて撹拌した後、吸引ろ過した。ろ液を濃縮し、減圧留去して得られた粗体をアミノシリカカラム精製し、下記化合物Ｄ（２５０ｍｇ、０．６０ｍｍｏｌ）を得た。

容量１０ｍＬのナスフラスコに、下記化合物Ｄ（２５０ｍｇ、０．６０ｍｍｏｌ）、下記化合物Ｅ（１．０ｇ、０．２ｍｍｏｌ、数平均分子量：約４，５００）、ＡＣ－２０００(１．５ｍＬ)及び１，４－ジオキサン（０．５ｍＬ）を加え、２５℃で５日間攪拌した。得られた粗液を減圧留去した。得られた粗体をＡＣ－６０００に溶解して、分液ロートに移し、メタノールを加えて洗浄する操作を３回繰り返した。溶媒を減圧留去して得られた粗体をカラム精製し、下記化合物Ｆ（７６０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を得た。
なお、化合物Ｄは、国際公開第２０１３／１２１９８４号に記載されている前駆体（４ａ－２）の合成方法を参照して、製造した。繰り返し単位数ｎの平均値は１２．５である。

得られた下記化合物Ｆ（７５０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）をＡＣ－２０００（３ｍＬ）に溶解し、酢酸（１６μＬ、０．２８ｍｍｏｌ）及びＴＢＡＦ（４２０μＬ、０．４２ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ／ＬのＴＨＦ溶液）を加えた。その後、マグネチックスターラーを用い、１．５時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ＡＣ－２０００で抽出した。溶媒を減圧留去して得られた粗体をカラム精製し、下記含フッ素化合物２（５２３ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）を得た。

含フッ素化合物１を含フッ素化合物２に変更した以外は、例１と同様にして、表面処理剤及び物品を製造した。

＜例３＞
特許第５６６９６９９号公報の合成例２に記載されている合成法を参照して、下記含フッ素化合物３を合成した。
・含フッ素化合物３：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_１１ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＭｅ）_３

含フッ素化合物１を含フッ素化合物３に変更した以外は、例１と同様にして、表面処理剤及び物品を製造した。

＜例４＞
国際公開第２０１４／１３６７８７号の（例１－６）に記載されている合成法を参照して、下記含フッ素化合物４を合成した。

含フッ素化合物１を含フッ素化合物４に変更した以外は、例１と同様にして、表面処理剤及び物品を製造した。

＜＜撥水性評価＞＞
例１～４で得られた物品が備える表面層の表面に、約２μＬの純水を滴下し、接触角を、接触角測定装置ＤＭ－５００（協和界面科学株式会社製）を用いて測定した。表面層の異なる５箇所で接触角の測定を行い、その平均値を水接触角（°）とし、表１にまとめた。なお、接触角の測定には２θ法を用いた。

＜＜撥油性評価＞＞
純水をヘキサデカンに変更した以外は、撥水性評価と同様にして、接触角（°）を測定、表１にまとめた。

＜＜耐摩耗性評価＞＞
例１～４で得られた物品が備える表面層の表面に対して、カナキン３号を取り付けられた圧子（底面積：１００ｍｍ^２）を備える３連式平面摩耗試験機（製品名「ＰＡ－３００Ａ」、大栄科学精器製作所製）を用い、荷重１０００ｇ、回転数６０ｒｐｍ、ストローク長４０ｍｍの摩耗条件で摩耗試験を行った。５０００回擦過後、表面層の擦過表面の水接触角（°）を撥水性評価と同様にして測定し、表１にまとめた。
また、撥水性評価において測定した水接触角との差（表１においては、水接触角の差と記す。）を算出し、表１にまとめた。

表１から、例１及び例２の物品は、例３及び例４の物品に比べ、撥水性評価及び撥油性評価において測定した接触角が高く、撥水性及び撥油性に優れていることがわかる。
表１から、例１及び例２の物品は、例３及び例４の物品に比べ、耐摩耗性評価において測定した水接触角と、撥水性評価において測定した水接触角との差が小さく、耐摩耗性に優れていることがわかる。

Claims (13)

1. 芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とを有し、
   前記芳香族基が芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する、含フッ素化合物。
2. 前記芳香族基が前記ヒドロキシ基を２つ以上有する、請求項１に記載の含フッ素化合物。
3. 前記芳香族基が、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造及びアントラセン構造から選択される１つ以上の構造を含む、請求項１又は請求項２に記載の含フッ素化合物。
4. 下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される、請求項１又は請求項２に記載の含フッ素化合物。
   （Ｇ^１－）_ａ１Ｑ^１（－Ｚ）_ｂ１ 式（Ａ１）
   （Ｚ－）_ｂ２Ｑ^２－Ｇ^２－Ｑ^３（－Ｚ）_ｂ３ 式（Ａ２）
   式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
   Ｇ^１及びＧ^２は、（ポリ）オキシフルオロアルキル基であり、
   Ｑ^１は、単結合又は（ａ１＋ｂ１）価の連結基であり、
   Ｑ^２は、単結合又は（ｂ２＋１）価の連結基であり、
   Ｑ^３は、単結合又は（ｂ３＋１）価の連結基であり、
   Ｚは、芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基であり、
   ａ１は、１以上の整数であり、
   ｂ１は、１以上の整数であり、
   ｂ２は、１以上の整数であり、
   ｂ３は、１以上の整数であり、
   Ｇ^１が複数ある場合、複数あるＧ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、
   Ｚが複数ある場合、複数あるＺは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
5. 芳香族基と、（ポリ）オキシフルオロアルキル基とを有し、前記芳香族基が芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する、含フッ素化合物を含有する、表面処理剤。
6. 前記芳香族基が前記ヒドロキシ基を２つ以上有する、請求項５に記載の表面処理剤。
7. 前記芳香族基が、ベンゼン構造、ビフェニル構造、トリフェニル構造、ナフタレン構造及びアントラセン構造から選択される１つ以上の構造を含む、請求項５又は請求項６に記載の表面処理剤。
8. 前記含フッ素化合物が、下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される、請求項５又は請求項６に記載の表面処理剤。
   （Ｇ^１－）_ａ１Ｑ^１（－Ｚ）_ｂ１ 式（Ａ１）
   （Ｚ－）_ｂ２Ｑ^２－Ｇ^２－Ｑ^３（－Ｚ）_ｂ３ 式（Ａ２）
   式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
   Ｇ^１及びＧ^２は、（ポリ）オキシフルオロアルキル基であり、
   Ｑ^１は、単結合又は（ａ１＋ｂ１）価の連結基であり、
   Ｑ^２は、単結合又は（ｂ２＋１）価の連結基であり、
   Ｑ^３は、単結合又は（ｂ３＋１）価の連結基であり、
   Ｚは、芳香環に結合するヒドロキシ基を少なくとも１つ有する芳香族基であり、
   ａ１は、１以上の整数であり、
   ｂ１は、１以上の整数であり、
   ｂ２は、１以上の整数であり、
   ｂ３は、１以上の整数であり、
   Ｇ^１が複数ある場合、複数あるＧ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、
   Ｚが複数ある場合、複数あるＺは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
9. 表面処理剤の全質量に対する前記含フッ素化合物の含有率が、０．０５～１０質量％である、請求項５又は請求項６に記載の表面処理剤。
10. フッ素系溶媒を含む溶媒を含有する、請求項５又は請求項６に記載の表面処理剤。
11. 前記溶媒が、非フッ素系溶媒を含む、請求項１０に記載の表面処理剤。
12. 基材と、前記基材上に配置された表面層とを備え、且つ
    前記表面層が請求項５又は請求項６に記載の表面処理剤により形成される、物品。
13. 前記基材が、金属、金属酸化物、樹脂、サファイア、大理石及びガラスからなる群より選択される１つ以上を含む、請求項１２に記載の物品。