JP2020109187A - 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 - Google Patents
化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020109187A JP2020109187A JP2020048725A JP2020048725A JP2020109187A JP 2020109187 A JP2020109187 A JP 2020109187A JP 2020048725 A JP2020048725 A JP 2020048725A JP 2020048725 A JP2020048725 A JP 2020048725A JP 2020109187 A JP2020109187 A JP 2020109187A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- formula
- alkylene group
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Polyethers (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【課題】指紋除去性および耐摩擦性に優れた表面層を形成できる化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法の提供。【解決手段】Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３で表されることを特徴とする化合物。Ｒ１は、アルキル基である。Ｘは、アルキレン基である。ｍは、２以上の整数である。Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。【選択図】なし
Description
本発明は、化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法に関する。
表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が優れる。そのため、表面処理剤は、たとえば、タッチパネル等の指で触れる面を構成する部材に好適に使用される。
特許文献１には、ポリ（オキシアルキレン）鎖の両側に、環状シロキサンやイソシアヌレート環を有し、環状シロキサンのケイ素原子やイソシアヌレート環の窒素原子を起点として延びる基の各末端に、複数の加水分解性基を有するシラン化合物が具体的に開示されている。
特許文献１には、ポリ（オキシアルキレン）鎖の両側に、環状シロキサンやイソシアヌレート環を有し、環状シロキサンのケイ素原子やイソシアヌレート環の窒素原子を起点として延びる基の各末端に、複数の加水分解性基を有するシラン化合物が具体的に開示されている。
近年、シラン化合物を用いて形成されてなる表面層に対する要求性能が高くなっている。たとえば、表面層が指で触れる面を構成する部材に適用される場合には、表面に付着した指紋を拭き取りによって容易に除去できる性能（指紋除去性）および繰り返し摩擦されても指紋除去性が低下しにくい性能（耐摩擦性）に優れる表面層が求められる。
本発明者らが特許文献１に記載の上記シラン化合物を用いて基材の表面に表面層を形成したところ、指紋除去性および耐摩擦性のいずれも改良の余地があることを知見した。
本発明者らが特許文献１に記載の上記シラン化合物を用いて基材の表面に表面層を形成したところ、指紋除去性および耐摩擦性のいずれも改良の余地があることを知見した。
本発明は、上記課題に鑑みて、指紋除去性および耐摩擦性に優れた表面層を形成できる化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法の提供を目的とする。
本発明は、下記［１］〜［３］の構成を有する化合物、組成物および物品を提供する。
［１］ 式１で表されることを特徴とする化合物。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
［２］ 上記Ｘの炭素数が１〜６である、上記［１］に記載の化合物。
［３］ 上記Ｒ１の炭素数が１〜１０である、上記［１］または［２］に記載の化合物。
［４］ 上記Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］ 上記Ｌ１の炭素数が１〜１０である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載の化合物。
［６］ 上記ｎが０である、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の化合物。
［７］ 上記［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物と、液状媒体とを含むことを特徴とする組成物。
［８］ 基材と、上記基材上に、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物または上記［７］に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
［９］ 上記［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物を含む表面処理剤。
［１０］ 式２で表されることを特徴とする化合物。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｌ２は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
［１１］ 式２で表される化合物をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させる、式１で表される化合物の製造方法。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
Ｌ２は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
［１］ 式１で表されることを特徴とする化合物。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
［２］ 上記Ｘの炭素数が１〜６である、上記［１］に記載の化合物。
［３］ 上記Ｒ１の炭素数が１〜１０である、上記［１］または［２］に記載の化合物。
［４］ 上記Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］ 上記Ｌ１の炭素数が１〜１０である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載の化合物。
［６］ 上記ｎが０である、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の化合物。
［７］ 上記［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物と、液状媒体とを含むことを特徴とする組成物。
［８］ 基材と、上記基材上に、上記［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物または上記［７］に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
［９］ 上記［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物を含む表面処理剤。
［１０］ 式２で表されることを特徴とする化合物。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｌ２は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
［１１］ 式２で表される化合物をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させる、式１で表される化合物の製造方法。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
Ｌ２は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
本発明によれば、指紋除去性および耐摩擦性に優れた表面層を形成できる化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法を提供できる。
本明細書において、式１で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよい。
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「表面層」とは、基材上に形成される層を意味する。なお、表面層は、基材の直上に形成されてもよいし、基材の表面に形成された他の層を介して基材上に形成されてもよい。
本明細書において、「アルキレン基がＡ基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素−炭素原子間にＡ基を有していてもよいし、アルキレン基−Ａ基−のように末端にＡ基を有していてもよい。
本発明における用語の意味は以下の通りである。
「表面層」とは、基材上に形成される層を意味する。なお、表面層は、基材の直上に形成されてもよいし、基材の表面に形成された他の層を介して基材上に形成されてもよい。
化合物１を用いて形成される表面層は、指紋除去性および耐摩擦性に優れる。その理由としては、化合物１はポリ（オキシアルキレン）鎖の片末端側にのみに−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎで表される基を有し、かつ、炭素原子を分岐点として複数の−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎで表される基を有する点にあると推測される。
なお、特許文献１で具体的に開示されている上記シラン化合物は、ポリ（オキシアルキレン）鎖の両側に、環状シロキサンまたはイソシアヌレート環というかさ高い基を介して複数の加水分解性基が配置されているため、分子自体の専有面積が大きいため、所望の効果が得られないと推測される。
なお、特許文献１で具体的に開示されている上記シラン化合物は、ポリ（オキシアルキレン）鎖の両側に、環状シロキサンまたはイソシアヌレート環というかさ高い基を介して複数の加水分解性基が配置されているため、分子自体の専有面積が大きいため、所望の効果が得られないと推測される。
〔化合物〕
化合物１は、式１で表される。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
Ｒ１は、アルキル基である。すなわちヘテロ原子を有さない炭化水素基である。
アルキル基中の炭素数は、表面層の指紋除去性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、耐摩擦性がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
化合物１は、式１で表される。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
Ｒ１は、アルキル基である。すなわちヘテロ原子を有さない炭化水素基である。
アルキル基中の炭素数は、表面層の指紋除去性がより優れる点から、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜３が特に好ましい。
アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、耐摩擦性がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
Ｘは、アルキレン基である。すなわちヘテロ原子を有さない炭化水素基である。
アルキレン基の炭素数は、指紋除去性がより優れる点から、１〜６が好ましく、２〜４が特に好ましい。
アルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、耐摩擦性がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
アルキレン基の炭素数は、指紋除去性がより優れる点から、１〜６が好ましく、２〜４が特に好ましい。
アルキレン基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよいが、耐摩擦性がより優れる点から、直鎖状が好ましい。
ｍは、２以上の整数であり、耐摩擦性がより優れる点から、２〜１５０の整数が好ましく、１０〜１００の整数が特に好ましい。
なお、複数のＸＯ（アルキレンオキシ基）は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＸＯ）ｍは、異なる２種以上のＸＯから構成されていてもよい。２種以上のＸＯとしては、炭素数の異なる２種以上のＸＯ、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上のＸＯが挙げられる。
２種以上のＸＯの結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
なお、複数のＸＯ（アルキレンオキシ基）は、同一であっても異なっていてもよい。つまり、（ＸＯ）ｍは、異なる２種以上のＸＯから構成されていてもよい。２種以上のＸＯとしては、炭素数の異なる２種以上のＸＯ、炭素数が同じであっても側鎖の有無や側鎖の種類が異なる２種以上のＸＯが挙げられる。
２種以上のＸＯの結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ４）２−および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。Ｒ３は、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。Ｒ４は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３）−アルキレン基−、−アルキレン基−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３）−アルキレン基−、−Ｏ−アルキレン基−が挙げられる。
２価の連結基としては、たとえば、２価の炭化水素基（２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６が特に好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基は、炭素数５〜２０が好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２〜２０のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基であってもよい。）、２価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒ３）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓｉ（Ｒ４）２−および、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。Ｒ３は、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）である。Ｒ４は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）、または、フェニル基である。
なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、たとえば、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３）−アルキレン基−、−アルキレン基−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ３）−アルキレン基−、−Ｏ−アルキレン基−が挙げられる。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。式１中、３個あるＲ２は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、Ｃ側の末端に−Ｏ−を有することが好ましい。
−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。
Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
アルキレン基が−Ｏ−を有する場合、Ｃ側の末端に−Ｏ−を有することが好ましい。
−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が特に好ましい。
Ｒは、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
Ｌは、加水分解性基または水酸基である。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ−Ｌで表される加水分解性シリル基は、加水分解反応によりＳｉ−ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。
Ｌの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ−Ｌで表される加水分解性シリル基は、加水分解反応によりＳｉ−ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材−ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材−Ｏ−Ｓｉ）を形成できる。
加水分解性基の具体例としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基（−ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造がより容易である点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性がより優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
ｎは、０〜２の整数である。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面層の基材への密着性がより強固になる。
ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や化合物１の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
化合物１の具体例としては、以下が挙げられる。
化合物１は、公知の製造方法によって製造できる。たとえば、化合物１は、化合物２をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させることによって製造できる。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
式中、Ｒ１、Ｘ、Ｙ、ｍの定義は上述の通りであり、Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−であり、Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２がヒドロシリル化されると化合物１のＲ２になる。化合物２は、たとえばＹが−アルキレン基−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−アルキレン基−の場合、Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−アルキレン基−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５（Ｒ５は炭素数１〜６のアルキル基。）を、ＮＨ２−アルキレン基−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３と反応させて製造できる。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
式中、Ｒ１、Ｘ、Ｙ、ｍの定義は上述の通りであり、Ｌ２は−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−であり、Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２がヒドロシリル化されると化合物１のＲ２になる。化合物２は、たとえばＹが−アルキレン基−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−アルキレン基−の場合、Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−アルキレン基−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５（Ｒ５は炭素数１〜６のアルキル基。）を、ＮＨ２−アルキレン基−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３と反応させて製造できる。
〔組成物〕
本発明の組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、化合物１と、液状媒体とを含む。
本発明の組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、化合物１と、液状媒体とを含む。
化合物１は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
化合物１の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．００１〜３０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％が特に好ましい。
化合物１の含有量は、本組成物の全質量に対して、０．００１〜３０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％が特に好ましい。
液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
有機溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが挙げられる。
フルオロアルキルエーテルは、炭素数４〜１２の化合物が好ましく、たとえば、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
フルオロアルコールの具体例としては、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、アルコール系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが挙げられる。炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが挙げられる。炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
液状媒体の含有量は、本組成物の全質量に対して、７０〜９９．９９９質量％が好ましく、８０〜９９．９９質量％が特に好ましい。
本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、化合物１と液状媒体以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、化合物１の製造工程で生成した副生物、未反応の原料等の製造上の不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒の具体例としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。
他の成分の含有量は、化合物１に対して、０〜１０質量％が好ましく、０〜５質量％がより好ましく、０〜１質量％が特に好ましい。
他の成分としては、化合物１の製造工程で生成した副生物、未反応の原料等の製造上の不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒の具体例としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸が挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアが挙げられる。
他の成分の含有量は、化合物１に対して、０〜１０質量％が好ましく、０〜５質量％がより好ましく、０〜１質量％が特に好ましい。
〔物品〕
本発明の物品は、基材と、基材上に化合物１または本組成物から形成されてなる表面層と、を有する。
すなわち化合物１を含む表面処理剤は物品の表面処理のために用いられる。
本発明の物品は、基材と、基材上に化合物１または本組成物から形成されてなる表面層と、を有する。
すなわち化合物１を含む表面処理剤は物品の表面処理のために用いられる。
表面層には、化合物１の加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。
表面層の膜厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の膜厚は、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＡＴＸ−Ｇ：製品名、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、この干渉パターンの振動周期から算出できる。
基材は、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材は、国際公開第２０１１／０１６４５８号の段落００８９〜００９５に記載の化合物やＳｉＯ２等で下地処理されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
また、基材としては、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラスまたは樹脂フィルムも好ましい。
基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８（ＩＳＯ ９０５０：１９９０）に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
また、基材としては、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラスまたは樹脂フィルムも好ましい。
上記物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物１または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。
なお、ウェットコーティング法においては、化合物１を酸触媒や塩基性触媒等を用いて予め加水分解しておき、加水分解した化合物と液状媒体とを含む組成物を使用することもできる。
・化合物１または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、上記物品を得る方法。
・ウェットコーティング法によって本組成物を基材の表面に塗布し、乾燥させて、上記物品を得る方法。
なお、ウェットコーティング法においては、化合物１を酸触媒や塩基性触媒等を用いて予め加水分解しておき、加水分解した化合物と液状媒体とを含む組成物を使用することもできる。
ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、化合物１の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に化合物１または本組成物を含浸させたペレット状物質を使用してもよい。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
物品は、化合物１または本組成物から形成されてなる表面層を有する面とは別の面に、他の化合物または他の化合物を含む組成物から形成されてなる表面層を有していてもよい。
他の化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、ならびに、ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基のいずれか一方または両方を有する含フッ素エーテル化合物が挙げられる。含フッ素エーテル化合物としては、化合物３が挙げられる。
［Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｒ−］ｊＺ２［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｇ 式３
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである。
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。
ｋは１〜１０の整数である。
Ｒ、Ｌおよびｎの定義はそれぞれ、式１のＲ、Ｌおよびｎと同義である。
Ｚ１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基または１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基である。
Ｒｆは、ペルフルオロアルキレン基である。
ｒは、２〜２００の整数であり
Ｚ２は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
ｊおよびｇはそれぞれ独立に、１以上の整数である。
他の化合物としては、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖、ならびに、ケイ素原子に結合した加水分解性基およびケイ素原子に結合した水酸基のいずれか一方または両方を有する含フッ素エーテル化合物が挙げられる。含フッ素エーテル化合物としては、化合物３が挙げられる。
［Ａ−Ｏ−Ｚ１−（ＲｆＯ）ｒ−］ｊＺ２［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｇ 式３
Ａは、ペルフルオロアルキル基または−Ｑ［−ＳｉＲｎＬ３−ｎ］ｋである。
Ｑは、（ｋ＋１）価の連結基である。
ｋは１〜１０の整数である。
Ｒ、Ｌおよびｎの定義はそれぞれ、式１のＲ、Ｌおよびｎと同義である。
Ｚ１は、単結合、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のオキシフルオロアルキレン基または１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のポリ（オキシフルオロアルキレン）基である。
Ｒｆは、ペルフルオロアルキレン基である。
ｒは、２〜２００の整数であり
Ｚ２は、（ｊ＋ｇ）価の連結基である。
ｊおよびｇはそれぞれ独立に、１以上の整数である。
含フッ素エーテル化合物は、市販品を使用することもできる。たとえば信越化学工業社製のＫＹ−１００シリーズ（ＫＹ−１７８、ＫＹ−１８５、ＫＹ−１９５等）、ダイキン工業社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ、オプツール（登録商標）ＡＥＳ、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３、オプツール（登録商標）ＵＤ５０９、旭硝子社製のＡｆｌｕｉｄ（登録商標）Ｓ５５０が挙げられる。
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。ただし本発明はこれらの実施例に限定されない。なお、各成分の配合量は、質量基準を示す。例１〜５のうち、例１および２が実施例、例３〜５が比較例である。
〔評価方法〕
（指紋除去性）
評価サンプルの表面層に油性のフェルトペン（マッキー極太黒色：製品名、ゼブラ社製）で線を引いた後、表面層に蒸留水を３分間かけ続けた後に、油性インク（線）の付着状態を目視で観察し、指紋除去性（初期の指紋除去性）を以下の基準にしたがって評価した。
◎（優良）：油性インクの除去率が９０％以上である。
○（良好）：油性インクの除去率が６０％以上９０％未満である。
△（可） ：油性インクの除去率が３０％以上６０％未満である。
×（不良）：油性インクの除去率が３０％未満である。
（指紋除去性）
評価サンプルの表面層に油性のフェルトペン（マッキー極太黒色：製品名、ゼブラ社製）で線を引いた後、表面層に蒸留水を３分間かけ続けた後に、油性インク（線）の付着状態を目視で観察し、指紋除去性（初期の指紋除去性）を以下の基準にしたがって評価した。
◎（優良）：油性インクの除去率が９０％以上である。
○（良好）：油性インクの除去率が６０％以上９０％未満である。
△（可） ：油性インクの除去率が３０％以上６０％未満である。
×（不良）：油性インクの除去率が３０％未満である。
（耐摩擦性）
耐摩擦性試験後の評価サンプルについて、上記指紋除去性の評価試験を実施して、同様の評価基準にて指紋除去性を評価した。耐摩擦試験後の指紋除去性に優れる程、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
＜耐摩擦性試験＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）を荷重：１ｋｇ、摩擦長：４ｃｍ、速度：３０ｒｐｍで１万回往復させた。
耐摩擦性試験後の評価サンプルについて、上記指紋除去性の評価試験を実施して、同様の評価基準にて指紋除去性を評価した。耐摩擦試験後の指紋除去性に優れる程、摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。
＜耐摩擦性試験＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５−Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）を荷重：１ｋｇ、摩擦長：４ｃｍ、速度：３０ｒｐｍで１万回往復させた。
〔例１〕
（例１−１）
公開特許公報第２００８／１０１９４９号の段落［００３６］〜［００３７］の方法に従い、化合物Ｘ１（ユニオックス（登録商標）Ｍ−１０００：製品名、日油社製）から化合物Ｘ２を合成した。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ 式Ｘ１
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ１の数平均分子量：１，０００。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３ 式Ｘ２
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ２の数平均分子量：１，０３０。
（例１−１）
公開特許公報第２００８／１０１９４９号の段落［００３６］〜［００３７］の方法に従い、化合物Ｘ１（ユニオックス（登録商標）Ｍ−１０００：製品名、日油社製）から化合物Ｘ２を合成した。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ 式Ｘ１
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ１の数平均分子量：１，０００。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３ 式Ｘ２
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ２の数平均分子量：１，０３０。
化合物Ｘ２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８４Ｈ）、３．７（３Ｈ）、４．２（２Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８４Ｈ）、３．７（３Ｈ）、４．２（２Ｈ）。
（例１−２）
２００ｍＬのナスフラスコに、テトラヒドロフランの５０．０ｇを入れ、０℃に冷却した。ナスフラスコ内に０．７ｍｏｌ／Ｌのアリルマグネシウムブロミドの３０ｍＬを滴下し、例１−１で得た化合物Ｘ２の１０．０ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液の５０ｍＬを混合物に入れて反応を停止させた。ジエチルエーテルの５０ｍＬで５回抽出し、濃縮して集めた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル、ヘキサン）で精製し、化合物Ｘ３の９．３ｇ（収率８９％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２ 式Ｘ３
２００ｍＬのナスフラスコに、テトラヒドロフランの５０．０ｇを入れ、０℃に冷却した。ナスフラスコ内に０．７ｍｏｌ／Ｌのアリルマグネシウムブロミドの３０ｍＬを滴下し、例１−１で得た化合物Ｘ２の１０．０ｇを滴下し、さらに２時間撹拌した１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液の５０ｍＬを混合物に入れて反応を停止させた。ジエチルエーテルの５０ｍＬで５回抽出し、濃縮して集めた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル、ヘキサン）で精製し、化合物Ｘ３の９．３ｇ（収率８９％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２ 式Ｘ３
化合物Ｘ３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．３〜２．４（４Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８６Ｈ）、５．１〜５．２（４Ｈ）、５．８〜５．９（２Ｈ）。
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ３の数平均分子量：１，０８０。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．３〜２．４（４Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８６Ｈ）、５．１〜５．２（４Ｈ）、５．８〜５．９（２Ｈ）。
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ３の数平均分子量：１，０８０。
（例１−３）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−２で得た化合物Ｘ３の５．０ｇ、臭化アリルの３．０ｇ、テトラブチルアンモニウムヨージドの０．０６ｇおよび水酸化カリウムの１．５ｇを入れ、８０℃で５時間撹拌した。ナスフラスコ内の混合物を２５℃まで冷却し、ジエチルエーテルの２０ｇを入れ、２回水洗した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル、ヘキサン）で精製し、化合物２−１の４．８ｇ（収率９３％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２ 式２−１
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物２−１の数平均分子量：１，１２０。
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−２で得た化合物Ｘ３の５．０ｇ、臭化アリルの３．０ｇ、テトラブチルアンモニウムヨージドの０．０６ｇおよび水酸化カリウムの１．５ｇを入れ、８０℃で５時間撹拌した。ナスフラスコ内の混合物を２５℃まで冷却し、ジエチルエーテルの２０ｇを入れ、２回水洗した。得られた粗液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル、ヘキサン）で精製し、化合物２−１の４．８ｇ（収率９３％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２ 式２−１
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物２−１の数平均分子量：１，１２０。
化合物２−１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．３〜２．４（４Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８８Ｈ）、５．０〜５．２（６Ｈ）、５．７〜５．９（３Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．３〜２．４（４Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８８Ｈ）、５．０〜５．２（６Ｈ）、５．７〜５．９（３Ｈ）。
（例１−４）
１０ｍＬのガラス製サンプル瓶に、例１−３で得た化合物２−１の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．１ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の１．３ｇ、アニリンの０．０３ｇ、トルエンの２．０ｇを入れ、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、混合物中の溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物１−１の２．６ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ｛ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝２ 式１−１
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物１−１の数平均分子量：１，４９０。
１０ｍＬのガラス製サンプル瓶に、例１−３で得た化合物２−１の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．１ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の１．３ｇ、アニリンの０．０３ｇ、トルエンの２．０ｇを入れ、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、混合物中の溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物１−１の２．６ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ｛ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝２ 式１−１
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物１−１の数平均分子量：１，４９０。
化合物１−１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．８（６Ｈ）、１．６〜２．０（１０Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（１１５Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．８（６Ｈ）、１．６〜２．０（１０Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（１１５Ｈ）。
〔例２〕
（例２−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物Ｘ２の５．０ｇおよび化合物Ｘ４の１．０ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物Ｘ２がすべて化合物２−２に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＡＣ−２０００の６．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル、ヘキサン）で精製し、化合物２−２の５．１ｇ（収率９０％）を得た。
Ｈ２ＮＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式Ｘ４
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２−２
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物２−２の数平均分子量：１，１６０。
（例２−１）
５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物Ｘ２の５．０ｇおよび化合物Ｘ４の１．０ｇを入れ、１２時間撹拌した。ＮＭＲから、化合物Ｘ２がすべて化合物２−２に変換していることを確認した。また、副生物であるメタノールが生成していた。得られた溶液をＡＣ−２０００の６．０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：酢酸エチル、ヘキサン）で精製し、化合物２−２の５．１ｇ（収率９０％）を得た。
Ｈ２ＮＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式Ｘ４
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２−２
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物２−２の数平均分子量：１，１６０。
化合物２−２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．４（６Ｈ）、３．４（５Ｈ）、３．５〜３．７（８４Ｈ）、３．９（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、５．９−６．２（３Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：２．４（６Ｈ）、３．４（５Ｈ）、３．５〜３．７（８４Ｈ）、３．９（２Ｈ）、５．２（６Ｈ）、５．９−６．２（３Ｈ）。
（例２−２）
化合物２−１を例２−１で得た化合物２−２の２．０ｇに変更した以外は例１−４と同様にして、化合物１−２の２．６ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｃ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝３ 式１−２
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物１−２の数平均分子量：１，５３０。
化合物２−１を例２−１で得た化合物２−２の２．０ｇに変更した以外は例１−４と同様にして、化合物１−２の２．６ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｃ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝３ 式１−２
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物１−２の数平均分子量：１，５３０。
化合物１−２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．３〜１．７（１２Ｈ）、３．４（５Ｈ）、３．５〜３．７（１１１Ｈ）、３．９（２Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．７（６Ｈ）、１．３〜１．７（１２Ｈ）、３．４（５Ｈ）、３．５〜３．７（１１１Ｈ）、３．９（２Ｈ）。
〔例３〕
（例３−１）
例１−２で得た化合物Ｘ３を化合物Ｘ１の５．０ｇに変更した以外は例１−３と同様にして、化合物Ｘ５の２．６ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２ 式Ｘ５
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ５の数平均分子量：１，０４０。
（例３−１）
例１−２で得た化合物Ｘ３を化合物Ｘ１の５．０ｇに変更した以外は例１−３と同様にして、化合物Ｘ５の２．６ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２ 式Ｘ５
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ５の数平均分子量：１，０４０。
化合物Ｘ５のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（９０Ｈ）、５．０〜５．１（２Ｈ）、５，７〜５．８（１Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（９０Ｈ）、５．０〜５．１（２Ｈ）、５，７〜５．８（１Ｈ）。
(例３−２)
例１−３で得た化合物２−１を例３−１で得た化合物Ｘ５の２．０ｇに変更した以外は例１−４と同様にして、混合物Ｘ６の２．２ｇ（収率９９％）を得た。混合物Ｘ６は下記化合物Ｘ６ａと化合物Ｘ６ｂの混合物（化合物Ｘ６ａ：化合物Ｘ６ｂ＝９６：４（質量比））であった。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 式Ｘ６ａ
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ６ａの数平均分子量：１，１６０。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ３ 式Ｘ６ｂ
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ６ｂの数平均分子量：１，０４０。
例１−３で得た化合物２−１を例３−１で得た化合物Ｘ５の２．０ｇに変更した以外は例１−４と同様にして、混合物Ｘ６の２．２ｇ（収率９９％）を得た。混合物Ｘ６は下記化合物Ｘ６ａと化合物Ｘ６ｂの混合物（化合物Ｘ６ａ：化合物Ｘ６ｂ＝９６：４（質量比））であった。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 式Ｘ６ａ
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ６ａの数平均分子量：１，１６０。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ３ 式Ｘ６ｂ
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ６ｂの数平均分子量：１，０４０。
化合物Ｘ６ａのＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．７（２Ｈ）、１．７〜１．８（２Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（９９Ｈ）。
化合物Ｘ６ｂのＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．６（３Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８８Ｈ）、４．４〜４．８（１Ｈ）、６．０〜６．２（１Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．７（２Ｈ）、１．７〜１．８（２Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（９９Ｈ）。
化合物Ｘ６ｂのＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：１．６（３Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（８８Ｈ）、４．４〜４．８（１Ｈ）、６．０〜６．２（１Ｈ）。
〔例４〕
国際公開第２０１６／０１９９０８号の段落［０１５５］（実施例１）の方法に従い、化合物Ｘ７（ＰＥＧ＃１０００：製品名、日油株式会社製）から化合物Ｘ８を合成した。
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ 式Ｘ７
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ７の数平均分子量：９９０。
下式Ｘ８中、繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ８の数平均分子量：２，４３０。
国際公開第２０１６／０１９９０８号の段落［０１５５］（実施例１）の方法に従い、化合物Ｘ７（ＰＥＧ＃１０００：製品名、日油株式会社製）から化合物Ｘ８を合成した。
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＨ 式Ｘ７
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ７の数平均分子量：９９０。
下式Ｘ８中、繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ８の数平均分子量：２，４３０。
化合物Ｘ８のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．１（２４Ｈ）、０．５−０．８（２８Ｈ）、１．６−１．８（４Ｈ）、３．５〜３．７（１４６Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．１（２４Ｈ）、０．５−０．８（２８Ｈ）、１．６−１．８（４Ｈ）、３．５〜３．７（１４６Ｈ）。
〔例５〕
１０ｍＬのガラス製サンプル瓶に、例１−２で得た化合物Ｘ３の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．１ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の１．３ｇ、アニリンの０．０３ｇ、トルエンの２．０ｇを入れ、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、混合物中の溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ９の２．４ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（ＯＨ）｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝２ 式Ｘ９
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ９の数平均分子量：１，３２０。
１０ｍＬのガラス製サンプル瓶に、例１−２で得た化合物Ｘ３の２．０ｇ、白金／１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２質量％）の０．１ｇ、ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３の１．３ｇ、アニリンの０．０３ｇ、トルエンの２．０ｇを入れ、４０℃で８時間撹拌した。反応終了後、混合物中の溶媒等を減圧留去し、１．０μｍ孔径のメンブランフィルタでろ過し、化合物Ｘ９の２．４ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＨ３Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−１ＣＨ２Ｃ（ＯＨ）｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝２ 式Ｘ９
繰り返し単位数ｎの平均値：２２、化合物Ｘ９の数平均分子量：１，３２０。
得られた化合物Ｘ９のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．７（４Ｈ）、１．６〜１．８（４Ｈ）、１．８〜１．９（４Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（１０４Ｈ）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：０．６〜０．７（４Ｈ）、１．６〜１．８（４Ｈ）、１．８〜１．９（４Ｈ）、３．４（３Ｈ）、３．５〜３．７（１０４Ｈ）。
〔評価サンプルの作製〕
各例によって得られた化合物または混合物を用いて、以下のウェットコーティング法にて基材の表面処理を行い、基材（化学強化ガラス）の表面に表面層が形成されてなる評価サンプルを得た。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１に示す。
各例によって得られた化合物または混合物を用いて、以下のウェットコーティング法にて基材の表面処理を行い、基材（化学強化ガラス）の表面に表面層が形成されてなる評価サンプルを得た。
得られた評価サンプルを用いて、上述の評価試験を実施し、結果を表１に示す。
各例によって得られた化合物または混合物と、イソプロピルアルコール（溶媒）とを混合して、化合物または混合物の濃度が１．５質量％であるウェットコーティング用の組成物を得た。
各組成物を基材にワイプコートし、塗膜を８０℃で３０分間乾燥させ、イソプロピルアルコールにて拭き上げることによって、基材の表面に表面層を有する評価サンプル（物品）を得た。
各組成物を基材にワイプコートし、塗膜を８０℃で３０分間乾燥させ、イソプロピルアルコールにて拭き上げることによって、基材の表面に表面層を有する評価サンプル（物品）を得た。
表１の通り、化合物１を用いて形成された表面層は、初期の指紋除去性および耐摩擦性に優れることを確認した（例１および２）。
本発明の化合物は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置のコート；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート；トイレタリー用防汚コート；導通しながら撥液が必要な部材へのコート；熱交換機の撥水・防水・滑水コート；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話（たとえば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート（たとえば、表示部等に使用するガラスまたはフィルムに対するコート、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラスまたはフィルムに対するコート）、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品、工具等の表面保護コート等が挙げられる。
Claims (11)
- 式１で表されることを特徴とする化合物。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。 - 前記Ｘの炭素数が１〜６である、請求項１に記載の化合物。
- 前記Ｒ１の炭素数が１〜１０である、請求項１または２に記載の化合物。
- 前記Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
- 前記Ｌ１の炭素数が１〜１０である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
- 前記ｎが０である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
- 請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物と、液状媒体とを含むことを特徴とする組成物。
- 基材と、前記基材上に、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物または請求項７に記載の組成物から形成されてなる表面層と、を有することを特徴とする物品。
- 請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物を含む表面処理剤。
- 式２で表されることを特徴とする化合物。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｌ２は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。 - 式２で表される化合物をＨＳｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎとヒドロシリル化反応させる、式１で表される化合物の製造方法。
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｒ２）３ 式１
Ｒ１−Ｏ−（ＸＯ）ｍ−Ｙ−Ｃ（Ｌ２−ＣＨ＝ＣＨ２）３ 式２
ただし、式中、
Ｒ１は、アルキル基である。
Ｘは、アルキレン基である。
ｍは、２以上の整数である。
Ｙは、単結合または２価の連結基である。
Ｒ２は、−Ｌ１−Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３−ｎである。Ｒは、１価の炭化水素基である。Ｌは、加水分解性基または水酸基である。ｎは、０〜２の整数である。Ｌ１は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基である。
Ｌ２は、−Ｏ−を有していてもよいアルキレン基、単結合または−Ｏ−である。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017169992 | 2017-09-05 | ||
| JP2017169992 | 2017-09-05 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018160737A Division JP6690675B2 (ja) | 2017-09-05 | 2018-08-29 | 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020109187A true JP2020109187A (ja) | 2020-07-16 |
Family
ID=65813791
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018160737A Active JP6690675B2 (ja) | 2017-09-05 | 2018-08-29 | 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 |
| JP2020048725A Pending JP2020109187A (ja) | 2017-09-05 | 2020-03-19 | 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018160737A Active JP6690675B2 (ja) | 2017-09-05 | 2018-08-29 | 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP6690675B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114555707B (zh) * | 2019-09-27 | 2024-04-23 | Ａｇｃ株式会社 | 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法、以及化合物 |
| KR20230154891A (ko) * | 2021-03-05 | 2023-11-09 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 함불소 에테르 화합물, 표면 처리제, 함불소 에테르 조성물, 코팅액, 물품, 물품의 제조 방법, 및 화합물 |
| KR20240035872A (ko) | 2021-08-10 | 2024-03-18 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리제 |
| TW202419458A (zh) * | 2022-08-10 | 2024-05-16 | 日商大金工業股份有限公司 | 表面處理劑 |
| WO2024171970A1 (ja) * | 2023-02-15 | 2024-08-22 | ダイキン工業株式会社 | シラン化合物 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017039782A (ja) * | 2014-01-09 | 2017-02-23 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| JP2015168785A (ja) * | 2014-03-07 | 2015-09-28 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む組成物 |
| TWI644942B (zh) * | 2015-06-12 | 2018-12-21 | 日商大金工業股份有限公司 | 表面處理劑 |
-
2018
- 2018-08-29 JP JP2018160737A patent/JP6690675B2/ja active Active
-
2020
- 2020-03-19 JP JP2020048725A patent/JP2020109187A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6690675B2 (ja) | 2020-04-28 |
| JP2019044179A (ja) | 2019-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6690675B2 (ja) | 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 | |
| CN111051383B (zh) | 含氟醚化合物、组合物及物品 | |
| JP7151711B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
| KR102584013B1 (ko) | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액, 물품 및 그 제조 방법 | |
| CN103087324B (zh) | 含氟氧化烯基聚合物组合物、表面处理剂、使用该处理剂处理的物品及光学物品 | |
| KR102582200B1 (ko) | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액, 물품 및 그 제조 방법 | |
| JP7180665B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品及びその製造方法 | |
| JPWO2019039226A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
| JP7031689B2 (ja) | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 | |
| JPWO2019049754A1 (ja) | 含フッ素化合物、組成物および物品 | |
| JP7392667B2 (ja) | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
| JP7196927B2 (ja) | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
| JPWO2019208503A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、それを含む組成物、コーティング液及び物品 | |
| WO2018216404A1 (ja) | 含フッ素コーティング剤組成物及び該組成物を含有する表面処理剤並びに物品 | |
| JP7074139B2 (ja) | 組成物および物品ならびに組成物を製造する方法 | |
| WO2020080167A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物および物品 | |
| KR20230067603A (ko) | 조성물, 표면층이 형성된 기재, 표면층이 형성된 기재의 제조 방법, 화합물 및 화합물의 제조 방법 | |
| WO2022260051A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル混合物、コーティング剤、物品及び物品の製造方法 |