JP2024018207A - 搬送装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】加工ユニットに被加工物を搬送する際、ゴミが発生することを抑制する。【解決手段】搬送装置６０の搬送ユニット６１が、各構成要素の電源であるバッテリー１２３、搬送パッド７１の吸引源である吸引機構１２１、搬送パッド７１のエア源である離反機構１２２、および、水溜部１３１に蓄積される水を循環させる水供給機構１３０を、筐体６１０内に有している。したがって、搬送ユニット６１は、外部から電力、水およびエアの供給を受ける必要がないため、搬送ユニット６１から外部に延びる配線および配管、ならびに、配線および配管を収容する収容部材を備えていない。このため、収容部材と配線および配管とが擦れることによるゴミの発生を抑えることができる。【選択図】図３

Description

本発明は、搬送装置に関する。
特許文献１および２に開示のような加工装置は、複数の加工ユニットに被加工物を搬送する搬送装置を備える。
特開２０１５－０８２５６９号公報 特開２０１８－０６０９５８号公報 特開２０２０－１９４９０１号公報 特開２０１５－２１７５０１号公報
この搬送装置は、特許文献３および４に開示のように、吸引源、エア源、水源および電源に接続された状態で、各加工ユニットに対応した位置に移動している。そのため、搬送装置は、配管及び配線を収容しているケーブルベア（登録商標）等の収容部材の一端側を連結して、収容部材を引っ張って移動している。このため、移動の際に、収容部材と配線及び配管とが擦れて、ゴミが発生する。このゴミによって、加工装置が設置されているクリーンルームが汚染されることがある。
したがって、本発明の目的は、複数の加工ユニットに被加工物を搬送する際、ゴミが発生することを抑制することにある。
本発明の搬送装置（本搬送装置）は、複数の加工ユニットに被加工物を搬送する搬送装置であって、該複数の加工ユニットの配置に対応した移動ルートに沿って設けられた軌道と、被加工物を保持および離反する保持部を有する搬送ユニットと、該軌道に案内されるように該搬送ユニットを移動させる移動機構と、を備え、該搬送ユニットは、該保持部に吸引力を作用させる吸引機構と、該保持部が吸引保持した被加工物を該保持部から離反させる離反機構と、電力によって該保持部を水平方向および鉛直方向に移動させる保持部移動機構と、該保持部移動機構に電力を供給するための蓄電池と、を備える。
本搬送装置では、該搬送ユニットは、該保持部に保持された被加工物に水を供給する水供給機構を備えてもよい。
本搬送装置では、該水供給機構は、循環式であってもよく、該保持部に保持された該被加工物を水没させる水溜部と、該水溜部から回収した水に紫外線を照射する紫外線照射部と、該紫外線照射部から排出された水をイオン交換するイオン交換ユニットと、該イオン交換ユニットから排出された水を濾過する濾過フィルタと、を備えてもよく、濾過された水を再び該水溜部に供給してもよい。
本搬送装置では、搬送ユニットが、被加工物を保持する保持部に吸引力を与える吸引機構、保持部から被加工物を離反させるための離反機構、保持部を移動させるための保持部移動機構、および、保持部移動機構に電力を供給するための蓄電池を備えている。したがって、搬送ユニットは、外部から電力や流体などの供給を受ける必要がないため、搬送ユニットから外部に延びる配線および配管、ならびに、配線および配管を収容する収容部材を備える必要がない。したがって、収容部材と配線および配管とが擦れることによるゴミの発生を抑えることができる。
加工システムの構成を示す説明図である。 図２（ａ）および図２（ｂ）は、ウェーハを示す斜視図である。 搬送ユニットの構成を示す説明図である。 搬送ユニットの構成を示す説明図である。 搬送ユニットの構成を示す説明図である。 吸引・離反機構の構成を示す説明図である。
図１に示すように、本実施形態に係る加工システム１は、カセット機構１０のカセット１２に収容されているウェーハ１００を、複数の加工ユニットである位置合わせユニット２０、研削ユニット３０、研磨ユニット４０およびスピンナ洗浄ユニット５０を用いて加工するものであり、たとえば、図示しないクリーンルームに配設されている。
加工システム１では、ウェーハ１００は、複数の加工ユニットの間を、搬送装置６０によって搬送される。搬送装置６０は、複数の加工ユニットに、被加工物の一例であるウェーハ１００を搬送するものであり、複数の加工ユニットの配置に対応したＸ軸方向に延びる移動ルートＬ１に沿って移動するように構成されている。
カセット機構１０は、複数のカセット１２を有しており、各カセット１２には、複数のウェーハ１００が収容されている。
ウェーハ１００は、被加工物の一例であり、たとえば、円形の半導体ウェーハである。本実施形態では、ウェーハ１００は、たとえば、図２（ａ）に示すように、ウェーハ１００を保護する保護シート１０３を備えた状態で、カセット１２に収容されている。
あるいは、ウェーハ１００は、図２（ｂ）に示すように、ワークセット１１０の状態で取り扱われてもよい。ワークセット１１０は、ウェーハ１００を収容可能な開口を有するリングフレーム１１１と、リングフレーム１１１の開口に位置づけられたウェーハ１００とを、ダイシングテープであるテープ１１３によって一体化させることによって形成されている。
このようなウェーハ１００は、図１に示すように、加工システム１によって加工される際、搬送装置６０によって、カセット１２から取り出されて、位置合わせユニット２０の位置合わせテーブル２１に載置される。
位置合わせユニット２０は、位置合わせテーブル２１、および、位置合わせテーブル２１を囲むように外側に配置される複数の位置合わせピン２２を有している。位置合わせユニット２０では、複数の位置合わせピン２２が位置合わせテーブル２１の中央に向かって径方向に移動されることにより、位置合わせピン２２を結ぶ円が縮径される。これにより、位置合わせテーブル２１に載置されたウェーハ１００が、所定の位置に位置合わせ（センタリング）される。位置合わせされたウェーハ１００は、搬送装置６０によって研削ユニット３０に搬送される。
研削ユニット３０は、ウェーハ１００に対して粗研削を実施する粗研削ユニット３１、および、ウェーハ１００に対して仕上げ研削を実施する仕上げ研削ユニット３２を備えている。さらに、研削ユニット３０は、ウェーハ１００を保持するための３つのチャックテーブル３３、および、３つのチャックテーブル３３を保持するターンテーブル３５を有している。
研削ユニット３０では、ターンテーブル３５が自転することで、３つのチャックテーブル３３が公転する。これにより、研削ユニット３０では、チャックテーブル３３を、－Ｙ方向側の搬送位置に配置して、搬送装置６０によるチャックテーブル３３に対するウェーハ１００の搬入および搬出を実施することができる。また、ウェーハ１００を保持しているチャックテーブル３３を、粗研削ユニット３１および仕上げ研削ユニット３２の下方に順に配置して、粗研削ユニット３１および仕上げ研削ユニット３２によってウェーハ１００を研削加工することができる。
研削加工されたウェーハ１００は、搬送装置６０によって研磨ユニット４０に搬送される。
研磨ユニット４０は、ウェーハ１００を研磨する研磨ユニット４１を備えている。さらに、研磨ユニット４０は、２つのチャックテーブル４３、および、２つのチャックテーブル４３を保持するターンテーブル４５を有している。研磨ユニット４１は、たとえば、固定砥粒を含有する研磨パッドを有している。
研磨ユニット４０では、ターンテーブル４５が自転することで、２つのチャックテーブル４３が公転する。これにより、研磨ユニット４０では、チャックテーブル４３を、－Ｙ方向側の搬送位置に配置して、搬送装置６０によるチャックテーブル４３に対するウェーハ１００の搬入および搬出を実施することができる。また、ウェーハ１００を保持しているチャックテーブル３３を研磨ユニット４１の下方に配置して、ウェーハ１００を研磨加工することができる。
研磨加工されたウェーハ１００は、搬送装置６０によって、スピンナ洗浄ユニット５０のスピンナテーブル５１に載置される。
スピンナ洗浄ユニット５０は、ウェーハ１００を洗浄するものであり、ウェーハ１００を保持するスピンナテーブル５１、および、スピンナテーブル５１に向けて洗浄水および乾燥エアを噴射するノズル５２を備えている。
スピンナ洗浄ユニット５０では、ウェーハ１００を保持したスピンナテーブル５１が回転するとともに、ウェーハ１００に向けて洗浄水が噴射されて、ウェーハ１００がスピンナ洗浄される。その後、ウェーハ１００に乾燥エアが吹き付けられて、ウェーハ１００が乾燥される。
スピンナ洗浄ユニット５０によって洗浄されたウェーハ１００は、搬送装置６０によって、カセット機構１０のカセット１２に搬入される。
また、加工システム１は、図１に示すように、上述した加工システム１の各構成要素を制御する制御部７を備えている。制御部７は、搬送装置６０によってウェーハ１００を搬送しながら、複数の加工ユニットである位置合わせユニット２０、研削ユニット３０、研磨ユニット４０およびスピンナ洗浄ユニット５０を制御して、ウェーハ１００に対する加工を実施する。
次に、搬送装置６０の構成について説明する。
図１に示すように、搬送装置６０は、筐体６１０を有する搬送ユニット６１、および、ガイドレール６２を有している。ガイドレール６２は、搬送装置６０の移動ルートＬ１に沿って設けられている軌道の一例である。本実施形態では、図３に示すように、上下一対のガイドレール６２が、移動ルートＬ１に沿って延びるように、研削ユニット３０および研磨ユニット４０の－Ｙ方向側の側面に取り付けられている。
また、搬送装置６０は、搬送ユニット６１の筐体６１０の＋Ｙ方向側の側面に、ガイドレール６２に嵌合されてガイドレール６２に沿って摺動移動可能な摺動部材６３を有している。搬送ユニット６１は、この摺動部材６３を介してガイドレール６２に支持されて、ガイドレール６２に沿って移動することが可能となっている。なお、搬送装置６０は、摺動部材６３に代えて、ガイドレール６２に係合されてガイドレール６２上を転動可能な車輪を備えていてもよい。
さらに、搬送装置６０は、搬送ユニット６１の筐体６１０と研削ユニット３０および研磨ユニット４０との間に、リニアモータ６５を備えている。リニアモータ６５は、研削ユニット３０および研磨ユニット４０の－Ｙ方向側の側面にガイドレール６２に沿って設けられた固定レール６５１と、搬送ユニット６１の筐体６１０の＋Ｙ方向側の側面に固定レール６５１に対向するように設けられた可動子６５２とを備えている。リニアモータ６５は、ガイドレール６２に沿う方向の推進力を、可動子６５２を備えた搬送ユニット６１に与えるように構成されている。なお、このリニアモータ６５は、搬送ユニット６１に備えられているモータ制御部６９により制御される。
搬送装置６０では、これらの摺動部材６３およびリニアモータ６５により、搬送ユニット６１が、ガイドレール６２に沿って移動することが可能となっている。なお、摺動部材６３、リニアモータ６５およびモータ制御部６９は、ガイドレール６２に案内されるように搬送ユニット６１を移動させる移動機構の一例である。
なお、搬送ユニット６１の筐体６１０の下方の床面には、搬送装置６０の移動ルートＬ１（図１参照）に沿って延びる一対の床面レール６７が設置されている。そして、搬送ユニット６１の筐体６１０の下面には、床面レール６７上を転動可能な複数（たとえば４つ）の車輪６６が設けられている。
このように、搬送装置６０では、搬送ユニット６１が、移動ルートＬ１に沿う床面レール６７上を転動可能な車輪６６によって、下方から支持されている。したがって、リニアモータ６５によって搬送ユニット６１がガイドレール６２に沿って移動される際に、搬送ユニット６１を下方から堅固に支持することが可能となっている。
なお、搬送装置６０は、車輪６６を回転駆動するためのモータ６８を備えていてもよい。のモータ６８は、たとえばモータ制御部６９によって制御される。この場合、リニアモータ６５によって搬送ユニット６１が移動される際に、モータ６８によって車輪６６を回転駆動することにより、搬送ユニット６１の移動を促進することが可能となる。
この場合、床面レール６７も、搬送装置６０の移動ルートＬ１に沿って設けられている軌道の一例であり、車輪６６、モータ６８およびモータ制御部６９も、床面レール６７に案内されるように搬送ユニット６１を移動させる移動機構の一例である。また、モータ６８によって搬送ユニット６１を床面レール６７に沿って移動させることが可能な場合、搬送ユニット６１は、摺動部材６３およびリニアモータ６５を備えなくてもよい。
また、搬送ユニット６１は、図３に示すように、筐体６１０の内部から上方に延びるコラム６１１を有している。そして、搬送ユニット６１は、コラム６１１の上部に、被加工物であるウェーハ１００を保持および離反する保持部である搬送パッド７１を有する、ウェーハ保持部７０を備えている。さらに、搬送ユニット６１は、筐体６１０の内部に、バッテリー１２３を備えている。
ウェーハ保持部７０は、図２（ａ）に示したウェーハ１００を取り扱うために用いられる。図３に示すように、ウェーハ保持部７０は、ウェーハ１００を保持する搬送パッド７１、先端に搬送パッド７１を備える搬送アーム７２、および、搬送パッド７１を支持して移動させる搬送パッド移動機構７３を備えている。
搬送パッド移動機構７３は、コラム６１１の上部に配置されており、搬送アーム７２を支持している。搬送パッド移動機構７３は、バッテリー１２３から供給される電力によって、搬送アーム７２を伸縮させることが可能である。
また、搬送ユニット６１は、筐体６１０の内部に、搬送パッド移動機構７３を支持するコラム６１１を、バッテリー１２３から供給される電力によって鉛直方向に移動させる昇降機構６１２を備えている。
したがって、搬送ユニット６１では、バッテリー１２３から供給される電力によって、昇降機構６１２がコラム６１１とともに搬送パッド移動機構７３を昇降させること、および、搬送パッド移動機構７３が搬送アーム７２を伸縮させることにより、図４に示すように、搬送アーム７２の先端に備えられている搬送パッド７１を、所望の位置に移動させることが可能である。
このように、搬送アーム７２、搬送パッド移動機構７３、コラム６１１および昇降機構６１２は、電力によって搬送パッド７１を水平方向および鉛直方向に移動させる保持部移動機構として機能する。また、バッテリー１２３は、保持部移動機構に電力を供給するための蓄電池として機能する。
また、搬送ユニット６１は、筐体６１０の内部に、吸引機構１２１および離反機構１２２を備えている。
吸引機構１２１は、吸引源であり、ウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に吸引力を作用させるものである。すなわち、搬送パッド７１は、吸引機構１２１に連通されることにより吸引力を得て、ウェーハ１００を保持することが可能となる。
離反機構１２２は、エア源であり、搬送パッド７１が吸引保持したウェーハ１００を搬送パッド７１から離反させるものである。すなわち、搬送パッド７１は、離反機構１２２に連通されることにより、ウェーハ１００に対してエアを噴射して、保持しているウェーハ１００を離反させることができる。
このような構成を有する搬送装置６０では、搬送アーム７２、搬送パッド移動機構７３、コラム６１１および昇降機構６１２によって搬送パッド７１の位置を調整しながら、搬送パッド７１に吸引機構１２１あるいは離反機構１２２を連通させることにより、ウェーハ１００を、カセット機構１０のカセット１２、位置合わせユニット２０、研削ユニット３０、研磨ユニット４０およびスピンナ洗浄ユニット５０に対して、搬出および搬入することができる。
なお、搬送ユニット６１は、吸引機構１２１および離反機構１２２に代えて、吸引機構１２５および離反機構１２６を用いてもよい。吸引機構１２５および離反機構１２６は、コラム６１１に設けられていることを除いて、吸引機構１２１および離反機構１２２と同一の機能を有する。
また、搬送ユニット６１は、搬送パッド７１とは別の保持部である把持部８１を有する、ワークセット保持部８０を備えている。ワークセット保持部８０は、図２（ｂ）に示したウェーハ１００を含むワークセット１１０を取り扱うために用いられる。
図３に示すように、ワークセット保持部８０は、ワークセット１１０のリングフレーム１１１を把持する把持部８１、先端に把持部８１を備える把持部アーム８２、および、把持部アーム８２を支持して移動させる把持部移動機構８３を備えている。さらに、ワークセット保持部８０は、ワークセット１１０のリングフレーム１１１を案内するためのフレームガイド８４、および、フレームガイド８４を支持して移動させるフレームガイド移動機構８５を備えている。
把持部８１は、たとえばメカニカルクランプであり、リングフレーム１１１の外周縁を把持することができる。把持部移動機構８３は、ウェーハ保持部７０における搬送パッド移動機構７３の上方に配置されており、把持部アーム８２を支持している。把持部移動機構８３は、バッテリー１２３から供給される電力によって、把持部アーム８２を伸縮させることが可能である。
また、把持部移動機構８３は、搬送パッド移動機構７３を貫通するように延びる支持柱８６および回転機構９０を介して、コラム６１１に支持されている。回転機構９０は、モータ９１によって支持柱８６を回転させることにより、把持部移動機構８３を、把持部アーム８２および把持部８１とともに、水平方向に旋回させることが可能である。
また、上述したように、搬送ユニット６１は、筐体６１０の内部に、把持部移動機構８３を支持するコラム６１１を、バッテリー１２３から供給される電力によって鉛直方向に移動させる昇降機構６１２を備えている。
フレームガイド８４は、把持部８１によって把持されたワークセット１１０のリングフレーム１１１の周囲を保持するために用いられる。フレームガイド移動機構８５は、把持部移動機構８３の上部に積層されており、把持部移動機構８３とともに昇降移動および旋回移動するとともに、フレームガイド８４を、バッテリー１２３から供給される電力によって伸縮させることが可能である。
したがって、搬送ユニット６１では、バッテリー１２３から供給される電力によって、昇降機構６１２がコラム６１１とともにワークセット保持部８０の把持部移動機構８３およびフレームガイド移動機構８５を昇降させること、回転機構９０が把持部移動機構８３およびフレームガイド移動機構８５を旋回させること、把持部移動機構８３が把持部アーム８２を伸縮させること、および、フレームガイド移動機構８５がフレームガイド８４を伸縮させることにより、図５に示すように、把持部８１およびフレームガイド８４を、所望の位置に移動させることが可能である。図５に示す例では、ワークセット保持部８０によって、カセット１２に対するワークセット１１０の搬入あるいは搬出が実施されている。
なお、回転機構９０は、ウェーハ保持部７０の搬送パッド移動機構７３をモータ９１に連結するためのクラッチ９２を有している。したがって、回転機構９０では、クラッチ９２によって搬送パッド移動機構７３をモータ９１に連結することにより、搬送パッド移動機構７３を、搬送アーム７２および搬送パッド７１とともに、水平方向に旋回させることができる。
また、搬送ユニット６１は、ウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に保持された被加工物であるウェーハ１００に水を供給する水供給機構１３０を備えている。水供給機構１３０は、バッテリー１２３の電力を用いて駆動される循環式の装置である。水供給機構１３０において循環される水の流量は、たとえば１～１．５Ｌ／分程度である。
水供給機構１３０は、図３に示すように、筐体６１０の上面に設けられた水溜部１３１、および、筐体６１０の内部に配置されているバッファタンク１３２、ポンプ１３３、ＵＶ照射部１３４、イオン交換ユニット１３５、濾過フィルタ１３６および比抵抗計１３７を備えている。
水溜部１３１は、内部に水を蓄積するとともに、ウェーハ１００を保持している搬送パッド７１を受け入れることができる水槽として構成されている。すなわち、水溜部１３１は、搬送パッド７１に保持されたウェーハ１００を水没させて、ウェーハ１００を濡らしておくために用いられる。搬送パッド７１に保持されたウェーハ１００を濡らしておくことにより、たとえば、研磨ユニット４０によるＣＭＰ研磨後に、ウェーハ１００に残存しているスラリーがワークに固着することを防止することができる。そして、水供給機構１３０では、水溜部１３１の内部に蓄積されている水を回収して精製し、水溜部１３１に戻すように構成されている。
すなわち、水供給機構１３０では、水溜部１３１内に蓄積されている水は、たとえば所定時間ごとに、バッファタンク１３２に回収されて蓄積される。バッファタンク１３２の容量は、たとえば１．５Ｌ程度である。バッファタンク１３２に蓄積された水は、ポンプ１３３によって吸引されて、ＵＶ照射部（紫外線照射部）１３４に導入される。ＵＶ照射部１３４は、水溜部１３１から回収した水に紫外線を照射することにより、この水を殺菌する。ＵＶ照射部１３４において殺菌処理された水は、ＵＶ照射部１３４から排出されて、イオン交換ユニット１３５に導入される。イオン交換ユニット１３５は、ＵＶ照射部１３４から排出された水をイオン交換する。このイオン交換により、ＵＶ照射部１３４において殺菌処理された水が精製されて、たとえば純水となる。
このようにして精製された水には、イオン交換樹脂の樹脂屑等の微細な不純物が混入されている場合がある。このため、精製された水は、濾過フィルタ１３６に導入される。濾過フィルタ１３６は、たとえば精密濾過フィルタであり、イオン交換ユニット１３５から排出された水を濾過する。これにより、水から不純物が取り除かれる。
なお、濾過フィルタ１３６の上流側および下流側には、通過する水の圧力を検出する第１圧力センサ１３８および第２圧力センサ１３９がそれぞれ配設されている。これらの第１圧力センサ１３８および第２圧力センサ１３９によって測定された水圧が所定値を超えた場合には、不純物の堆積により濾過フィルタ１３６が劣化したと判断することができる。
濾過フィルタ１３６によって不純物が取り除かれた水は、比抵抗を測定するための比抵抗計１３７を経て、水溜部１３１に戻される。すなわち、水供給機構１３０は、濾過フィルタ１３６によって濾過された水を、再び水溜部１３１に供給する。
なお、比抵抗計１３７によって測定された水の比抵抗値は、たとえば、その水における純水の程度を検知するために用いられる。
以上のように、本実施形態では、搬送装置６０の搬送ユニット６１が、各構成要素の電源であるバッテリー１２３、搬送パッド７１の吸引源である吸引機構１２１、搬送パッド７１のエア源である離反機構１２２、および、水溜部１３１に蓄積される水を循環させる水供給機構１３０を、筐体６１０内に有している。したがって、搬送ユニット６１は、外部から、電力ならびに水およびエア等の流体の供給を受ける必要がないため、搬送ユニット６１から外部に延びる配線および配管、ならびに、配線および配管を収容する収容部材を備えていない。このため、収容部材と配線および配管とが擦れることによるゴミの発生がないので、このゴミによって、搬送装置６０を含む加工システム１が配設されているクリーンルームが汚染されることを防止することが可能である。
なお、本実施形態では、搬送ユニット６１におけるウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に吸引力を作用させるとともに、搬送パッド７１が吸引保持したウェーハ１００を搬送パッド７１から離反させるために、図３に示した吸引機構１２１および離反機構１２２に代えて、図６（ａ）に示すような、吸引・離反機構１５０を備えていてもよい。
図６（ａ）に示すように、吸引・離反機構１５０は、真空ポンプ１５１および単動シリンダ１５３を備えている。
単動シリンダ１５３は、シリンダ２０１と、シリンダ２０１の内部に収容されたピストン２０２とを備えている。
ピストン２０２は、円板状に形成されており、シリンダ２０１の内部を上流側の第１室２１０および下流側の第２室２２０に分けるように、シリンダ２０１内に設けられている。ピストン２０２の一方の面は、シリンダ２０１における第１流入出口２０５側の内壁２３０に、スプリング２０３によって連結されている。すなわち、ピストン２０２は、図６（ａ）に示すように、シリンダ２０１における第１流入出口２０５側の内壁２３０から離れる方向に、スプリング２０３によって付勢されている。
シリンダ２０１は、円筒形状を有しており、両方の端部に、それぞれ、シリンダ２０１の内部に対してエアを流入および流出させるための第１流入出口２０５および第２流入出口２０６を備えている。第１流入出口２０５は、シリンダ２０１の第１室２１０に対してエアを流入および流出させるために用いられる。第２流入出口２０６は、シリンダ２０１の第２室２２０に対してエアを流入および流出させるために用いられる。
真空ポンプ１５１は、第１バルブ１５５を介して、単動シリンダ１５３のシリンダ２０１における第１流入出口２０５に接続されている。また、真空ポンプ１５１は、第１バルブ１５５および第２バルブ１５６を介して、ウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に接続されている。
なお、シリンダ２０１における第１流入出口２０５は、第１バルブ１５５を介して、外気にも接続されている。
また、単動シリンダ１５３におけるシリンダ２０１の第２流入出口２０６は、第３バルブ１５７および第１フィルタ１５８を介して、ウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に接続されている。また、第２流入出口２０６は、第３バルブ１５７および第２フィルタ１５９を介して、外気に接続されている。
このような構成を有する吸引・離反機構１５０では、搬送パッド７１によってウェーハ１００を吸引保持するために、ウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に吸引力を作用させる際には、加工システム１の制御部７（図１参照）が、図６（ａ）に示すように、第１バルブ１５５および第２バルブ１５６を制御して、真空ポンプ１５１をウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に連通させる。これにより、搬送パッド７１に真空ポンプ１５１の吸引力が付与されて、矢印３００によって示すように、搬送パッド７１によってウェーハ１００を吸引保持することができる。
また、制御部７は、図６（ａ）に示すように、第１バルブ１５５を制御して、単動シリンダ１５３におけるシリンダ２０１の第１流入出口２０５を、外気に連通させる。この状態では、スプリング２０３の付勢力によってピストン２０２が内壁２３０から離れており、シリンダ２０１の第１室２１０が広がっている。この第１室２１０に、第１バルブ１５５を介して外気が導入される。
また、搬送パッド７１によってウェーハ１００が吸引保持された後、制御部７は、図６（ｂ）に示すように、第２バルブ１５６を閉じる。これにより、ウェーハ１００が搬送パッド７１に保持された状態を維持することができる。
また、この際、制御部７は、第３バルブ１５７を制御して、単動シリンダ１５３のシリンダ２０１の第２流入出口２０６を外気に連通させる。さらに、制御部７は、第１バルブ１５５を制御して、真空ポンプ１５１を、単動シリンダ１５３におけるシリンダ２０１の第１流入出口２０５に連通させる。
これにより、シリンダ２０１の第１室２１０側のエアが吸引されて、ピストン２０２が、スプリング２０３の付勢力に抗して、矢印３０１によって示すように、第１室２１０の内壁２３０に向かって移動される。このため、シリンダ２０１の第２室２２０が広がり、この第２室２２０に、第３バルブ１５７および第２フィルタ１５９を介して外気が導入されて蓄積される。
また、搬送パッド７１が吸引保持したウェーハ１００を搬送パッド７１から離反させる際には、制御部７は、図６（ｃ）に示すように、第１バルブ１５５を制御して、シリンダ２０１の第１流入出口２０５と真空ポンプ１５１との連通を遮断し、第１流入出口２０５を外気に連通させる。さらに、制御部７は、第３バルブ１５７を制御して、シリンダ２０１の第２流入出口２０６を、ウェーハ保持部７０の搬送パッド７１に接続させる。
これにより、スプリング２０３の付勢力によってピストン２０２が内壁２３０から離れて、シリンダ２０１の第１室２１０が広がり、この第１室２１０に、第１バルブ１５５を介して外気が導入される。さらに、シリンダ２０１の第２室２２０に蓄積されていた外気が、第１フィルタ１５８を介して、搬送パッド７１に送られる。その結果、搬送パッド７１からウェーハ１００にエアが噴射されて、矢印３０２によって示すように、搬送パッド７１に保持されているウェーハ１００を離反させることができる。
１：加工システム、７：制御部、１０：カセット機構、１２：カセット、
２０：位置合わせユニット、２１：位置合わせテーブル、２２：位置合わせピン、
３０：研削ユニット、３１：粗研削ユニット、３２：仕上げ研削ユニット、
３３：チャックテーブル、３５：ターンテーブル、
４０：研磨ユニット、４１：研磨ユニット、
４３：チャックテーブル、４５：ターンテーブル、
５０：スピンナ洗浄ユニット、５１：スピンナテーブル、５２：ノズル、
６０：搬送装置、６１：搬送ユニット、６２：ガイドレール、６３：摺動部材、
６５：リニアモータ、６６：車輪、６７：床面レール、
６８：モータ、６９：モータ制御部、
７０：ウェーハ保持部、７１：搬送パッド、７２：搬送アーム、
７３：搬送パッド移動機構、８０：ワークセット保持部、８１：把持部、
８２：把持部アーム、８３：把持部移動機構、
８４：フレームガイド、８５：フレームガイド移動機構、８６：支持柱、
９０：回転機構、９１：モータ、９２：クラッチ、
１００：ウェーハ、１０３：保護シート、
１１０：ワークセット、１１１：リングフレーム、１１３：テープ、
１２１：吸引機構、１２２：離反機構、１２３：バッテリー、１２５：吸引機構、
１２６：離反機構、１３０：水供給機構、１３１：水溜部、１３２：バッファタンク、
１３３：ポンプ、１３４：ＵＶ照射部、１３５：イオン交換ユニット、
１３６：濾過フィルタ、１３７：比抵抗計、１３８：第１圧力センサ、
１３９：第２圧力センサ、１５０：吸引・離反機構、１５１：真空ポンプ、
１５３：単動シリンダ、１５５：第１バルブ、１５６：第２バルブ、
１５７：第３バルブ、１５８：第１フィルタ、１５９：第２フィルタ、
２０１：シリンダ、２０２：ピストン、２０３：スプリング、２０５：第１流入出口、
２０６：第２流入出口、２１０：第１室、２２０：第２室、２３０：内壁、
６１０：筐体、６１１：コラム、６１２：昇降機構、６５１：固定レール、
６５２：可動子、Ｌ１：移動ルート

Claims (3)

  1. 複数の加工ユニットに被加工物を搬送する搬送装置であって、
    該複数の加工ユニットの配置に対応した移動ルートに沿って設けられた軌道と、
    被加工物を保持および離反する保持部を有する搬送ユニットと、
    該軌道に案内されるように該搬送ユニットを移動させる移動機構と、を備え、
    該搬送ユニットは、
    該保持部に吸引力を作用させる吸引機構と、
    該保持部が吸引保持した被加工物を該保持部から離反させる離反機構と、
    電力によって該保持部を水平方向および鉛直方向に移動させる保持部移動機構と、
    該保持部移動機構に電力を供給するための蓄電池と、
    を備える、搬送装置。
  2. 該搬送ユニットは、該保持部に保持された被加工物に水を供給する水供給機構を備える、請求項１記載の搬送装置。
  3. 該水供給機構は、循環式であって、
    該保持部に保持された該被加工物を水没させる水溜部と、
    該水溜部から回収した水に紫外線を照射する紫外線照射部と、
    該紫外線照射部から排出された水をイオン交換するイオン交換ユニットと、
    該イオン交換ユニットから排出された水を濾過する濾過フィルタと、を備え、
    濾過された水を再び該水溜部に供給する、
    請求項２記載の搬送装置。
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