JP2024014518A - 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 ハンドと物体との相対的な位置の変化の検出に有利な搬送装置を提供する。【解決手段】 物体を搬送するハンドと、前記ハンドが前記物体を保持する際の保持状態を計測するセンサと、前記ハンドにより前記物体が搬入又は搬出される格納容器が特定の格納容器である場合は、前記ハンドが前記物体の搬入又は搬出をするために前記ハンドと前記物体との一方又は両方を移動させたときの前記ハンドと前記物体との相対的な移動量を前記センサの計測結果に基づいて求める制御部と、を有する。【選択図】 図１

Description

本発明は、搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。

半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの製造工程において、格納容器内に格納された、基板やパターンが形成されたレチクル（原版）等の搬送物（物体）を搬送する搬送装置が用いられる。ここで、搬送装置のハンドが物体を取得する際に、床の沈み込みやハンドの垂れ等の経時変化により、ハンドと物体との相対的な位置が変化し物体を取得する取得位置がずれることがある。そこで、特許文献１には物体を搬送する通常の搬送時に、ハンドが物体を吸着するときの吸着圧に基づいて取得位置の調整の要否を判定する方法が記載されている。

特開２０１１－１８８６０号公報

しかし、全ての物体に対し、通常の搬送時に取得位置の調整の要否を判定すると、搬送を終了するまでに時間がかかり単位時間当たりの搬送数が減少する。

そこで、本発明は、ハンドと物体との相対的な位置の変化の検出に有利な搬送装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての搬送装置は、物体を搬送するハンドと、前記ハンドが前記物体を保持する際の保持状態を計測するセンサと、前記ハンドにより前記物体が搬入又は搬出される格納容器が特定の格納容器である場合は、前記ハンドが前記物体の搬入又は搬出をするために前記ハンドと前記物体との一方又は両方を移動させたときの前記ハンドと前記物体との相対的な移動量を前記センサの計測結果に基づいて求める制御部と、を有することを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、ハンドと物体との相対的な位置の変化の検出に有利な搬送装置を提供することができる。

第１実施形態における基板処理装置の構成を示す概略図である。 第１実施形態におけるハンドが格納容器からレチクルを取得する例を示した図である。 第１実施形態における搬送装置の動作を示すフローチャートである。 第１実施形態における通常の搬送動作（通常動作）のフローチャートである。 第１実施形態におけるハンドとレチクルとの相対的な移動量を求めるフローチャートである。 第２実施形態における物品の製造方法のフローチャートである。

以下に、本発明の実施形態を添付の図面に基づいて説明する。尚、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

また、本明細書および添付図面では、基本的に、鉛直方向をＺ軸とし、鉛直方向に対し垂直な水平面をＸＹ平面とし、各軸が相互に直交するＸＹＺ座標系によって方向が示されている。ただし、各図面に記載されたＸＹＺ座標系がある場合はその座標系を優先する。

以下、各実施形態において、具体的な構成を説明する。

＜第１実施形態＞
図１は、本実施形態における基板処理装置１００の構成を示す概略図である。基板処理装置１００は、本実施形態では、原版（マスク、レチクル）のパターンを、投影光学系を介して基板に露光する投影露光装置である。但し、基板処理装置１００は、露光装置に限定されるものではない。例えば、基板処理装置１００は、電子線やイオンビームなどによって基板に描画を行い、パターンを基板に形成する描画装置であってもよい。また、基板処理装置１００は、他のリソグラフィ装置、例えば、基板の上のインプリント材を型により成形してパターンを基板上に形成するインプリント装置であってもよい。あるいは、基板処理装置１００は、イオン打ち込み装置、現像装置、エッチング装置、成膜装置、アニール装置、スパッタリング装置、蒸着装置など、半導体ウエハやガラスプレートなどの基板を処理する他の装置であってもよい。また、基板処理装置１００は、平坦な板を用いて基板上の組成物を平坦化する平坦化装置であってもよい。

基板処理装置１００は、光を照射する光照射部である照明光学系２０と、投影光学系２と、レチクル１を保持するレチクルステージ（不図示）を備えるレチクルステージ空間１５と、基板３を保持する基板ステージ４と、を有する。基板ステージ４はＸＹ方向に移動可能なステージであり、基板３を真空吸着又は静電力により保持する。レチクル１は、例えば石英ガラスの表面に転写されるべきパターン（例えば回路パターン）がクロムで形成されている原版である。また、基板３は、例えば単結晶シリコンやガラスプレートであり、基板処理装置１００が露光装置である場合において基板処理装置１００に搬送される基板３は、表面上に感光性材料（レジスト）が塗布されている。

基板処理装置１００において、光源（不図示）からの露光光は、照明光学系２０を介して、レチクルステージに保持されたレチクル１を照明する。レチクル１を透過した光は、投影光学系２を介して、基板３に照射される。この時、レチクル１に形成されたパターンからの光が基板３表面に結像される。基板処理装置１００はこのように基板３上のショット領域を露光し、複数のショット領域のそれぞれについて同様に露光を行う。

また、基板処理装置１００は、開閉部７と、開閉部８と、読取部１６と、読取部１７と、搬送装置９と、を有する。搬送装置９は、ハンド９ａと、制御部３０と、とを備える。開閉部７、８（ポッドオープナ）はそれぞれ格納容器５、６の開閉を行い、格納容器内のレチクル１を搬送可能な状態にする。格納容器５、６は１、又は複数のレチクル１が格納可能であり、開閉可能な密閉容器である。この格納容器５、６はＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）ポッドと称されることもある。開閉部７、８により搬送可能な状態となったレチクル１は搬送装置９が備えている多軸のハンド９ａにより吸着保持される。ここで、ハンド９ａはレチクル１を吸着するための複数の吸引口を備えており、吸引口からレチクル１とハンド９ａとの間の空間の気体を吸引することによりレチクル１を吸着させる。また、ハンド９ａの複数の吸引口には圧力センサ９ｂが備えられており、制御部３０は圧力センサ９ｂが計測したハンド９ａとレチクル１との間の圧力の計測結果に基づいてレチクル１の吸着を完了したか、否かを判定する。なお、本実施形態では保持状態を確認する手段としてハンド９ａとレチクル１との間の圧力を圧力センサにより計測する例を示したが、ハンド９ａがレチクル１を保持する際の保持状態がわかればよく、センサは圧力センサに限定しない。

格納容器５、６にはそれぞれ格納容器の識別情報が書き込まれたＩＣタグ１８、１９が付帯（付与）されている。このＩＣタグ１８、１９には格納容器本体の情報と、格納容器に格納されているレチクルの情報が書き込まれており、書き換え可能である。なお、本実施形態では格納容器を識別するためにＩＣタグを使用する例を記載するが、ＩＣタグでなくともよく、例えばＱＲコード（登録商標）等でもよく、特に限定しない。読取部１６、１７（タグリーダ）はＩＣタグ１８、１９を読み取り、読み取った識別情報を搬送装置９が備える制御部３０に通知する。ここで、本実施形態では読取部１６、１７により識別情報を読み取る例を示したが、制御部３０が識別情報を取得できればよく、例えば、制御部３０は基板処理装置１００とは異なる外部の装置やホストコンピュータから識別情報を取得してもよい。

格納容器は複数存在し、複数の格納容器のうちから露光処理に使用するレチクルが格納されている格納容器を適宜、開閉部７、８上に載置する。複数の格納容器の中にはユーザーが予め定めた基準となる基準格納容器を１又は複数有する。基準格納容器は寸法が設計値の公差内であり且つ設計値と近い値で製造された格納容器である。制御部３０は通知された識別情報に含まれる格納容器本体の情報（例えば、格納容器の識別番号）から開閉部７、８に載置されている格納容器が基準格納容器か、否かを判定する。

さらに、基板処理装置１００は、レチクル読取部１０（コードリーダ）と、レチクルストッカ１１と、ペリクル検査装置１２と、位置合わせ部１３と、回転部１４と、を有する。レチクル１はハンド９ａに保持された状態でレチクル読取部１０によりレチクル１に付与されたレチクル識別情報を読み取られ、ハンド９ａによりレチクルストッカ１１に搬送される。ここで、レチクル識別情報はレチクル１に形成されたパターンと同様の方法で、レチクル１にバーコード又はＱＲコード（登録商標）が刻印されている。レチクル識別情報を読み取る際は、ハンド９ａに保持したままレチクル読取部１０によりレチクル識別情報を読み取ってもよいし、レチクル読取部１０にステージを配置し、ステージ上にレチクル１を載置してからレチクル識別情報を読み取ってもよい。

レチクルストッカ１１は、複数のレチクル１を保管可能な棚状の構造である。なお、基板処理装置１００が露光処理に用いるレチクル１はレチクルストッカ１１が保管できる数より多いことがある。その場合に、搬送装置９の搬送により使用予定のレチクル１をレチクルストッカ１１に適宜補充し、露光処理が完了し、次の使用が直近でないレチクル１を格納容器５、６に格納し装置外に排出する。

レチクルストッカ１１に保管された複数のレチクルの内、次に露光処理に用いられるレチクル１がレチクルストッカ１１からハンド９ａによりペリクル検査装置１２に搬送される。ペリクル検査装置１２はレチクル１にレーザー等の光を照射し、散乱光を検出することで異物の有無と大きさを検査する。ここで、ペリクルは、レチクル１への異物の付着を阻止するために枠状の部材（ペリクル枠）をレチクルに貼り付け、ペリクル枠に保護膜（ペリクル膜）を添付する構成である。ペリクル検査装置１２にて露光処理への影響が生じると推測される異物を検出した場合、そのレチクルは使用せず格納容器へ戻され、装置外に排出される。

そして、ペリクル検査装置１２の検査で異常がないと判定されたレチクル１は位置合わせ部１３に載置される。位置合わせ部１３はレチクル１の位置が所定の位置から所望のずれ量以下になるよう、例えばＸ方向における位置、Ｙ方向における位置、Ｚ軸周りの回転位置を調整することで位置合わせする。位置合わせ部１３により位置合わせされたレチクル１は回転部１４により保持され、回転部１４が回転することでレチクルステージ空間１５側へ移動する。レチクル１がレチクルステージ空間１５の所定位置に配置されると、前述の露光方法により基板３にパターンを形成する露光処理が行われる。

レチクル１を用いた露光処理が終了すると、レチクル１は回転部１４に保持される。この動作と同時に、回転部１４は、位置合わせ部１３により位置合わせされた次に露光処理に用いられるレチクル１を受け取る。つまり、回転部１４は露光に用いたレチクル１とこれから露光に用いるレチクル１との両方を別々の位置に保持した状態となっている。この状態で回転部１４は回転駆動し、露光に用いたレチクル１を位置合わせ部１３側へ、これから露光に用いるレチクル１をレチクルステージ空間１５側へ移動させ、レチクル１をそれぞれ受け渡す。

位置合わせ部１３側へ移動させられた、露光に用いたレチクル１は、搬送装置９のハンド９ａに吸着保持され、再度露光処理に用いられる予定がある場合には、レチクルストッカ１１に搬送される。一方、露光処理に用いたレチクル１が再度露光に用いられる予定がない場合には、格納容器５、６のいずれかに格納される。

図２は、本実施形態におけるハンド９ａが格納容器５からレチクル１を取得する例を示した図である。なお、開閉部７は、開閉部７に含まれている、開閉を行う開閉機構７ａと昇降を行う昇降部７ｂのみを表示している。図２（ａ）にて、格納容器５が開閉部７に載置された後、読取部１６はＩＣタグ１８に書き込まれた識別情報を読み取る。

図２（ｂ）にて、開閉機構７ａは格納容器５の上蓋の位置を固定するとともに格納容器５のレチクル１が載置されている下皿のロックを解除する。その後、昇降部７ｂの下降動作により、格納容器５の下皿を下方に移動させる。この時、ハンド９ａは待機状態であり、第１位置に配置されている。そして、図２（ｃ）にて、ハンド９ａはレチクル１と下皿の間の第２位置に挿入される。ここで、格納容器５は規格や設計値に基づいて設計されており、ハンド９ａの上面とレチクル１下面の隙間（距離）は、０．５ｍｍ～１．５ｍｍ程度である。

図２（ｄ）にて、ハンド９ａはレチクル１を吸着させるための吸引を開始しつつレチクル１を取得するために第３位置まで＋Ｚ方向に上昇移動し、ハンド９ａにてレチクル１を吸着保持する。この＋Ｚ方向へ移動する時のハンド９ａの移動量は２ｍｍ～２．５ｍｍ程度である。その後、図２（ｅ）にて、ハンド９ａを＋Ｘ方向へ移動させ第４位置まで移動させることにより格納容器５からレチクル１を搬出する。図２では格納容器５に対しハンド９ａがレチクル１を搬出する例を示したが、格納容器６に対しハンド９ａがレチクル１を搬出する時も同様の動作である。

前述のように、格納容器５からレチクル１を取り出すために許容される移動量は小さいため、床の沈み込みやハンド９ａの垂れなどによる経時変化が発生すると、レチクル１とハンド９ａの干渉、レチクル１の落下等が起こり得る。また、格納容器は設計値の公差内で製造されているものの、寸法は個体差がある。さらに、製造時に何らかの問題があり、格納容器自体に異常がある場合もある。このような寸法の違いを含む格納容器自体の異常によっても、前述のようなレチクル１とハンド９ａの干渉、レチクル１の落下等が起こり得る。

そこで、本実施形態の搬送装置９はハンド９ａがレチクル１の搬入出を行う時の、ハンド９ａとレチクル１とが近づく方向におけるハンド９ａとレチクル１（物体）との相対的な移動量を圧力センサ９ｂの計測結果に基づいて求める。これにより、経時変化や格納容器に起因する異常を検出する。この相対的な移動量は、ハンド９ａとレチクル１との一方又は両方が、ハンド９ａがレチクル１を吸着保持するために駆動を開始した時から、圧力センサ９ｂの計測結果に基づいて制御部３０がレチクル１の吸着を完了したと判定した時までの移動量である。経時変化に起因する異常については、基準格納容器が開閉部７、８に載置された時に相対的な移動量を求めることで検出することができる。また、格納容器自体の異常については、過去に搬送装置９で搬送した履歴があるか、否かを判定し、搬送した履歴がなければ相対的な移動量を求め、異常を検出する。異常か、否かの判定は、相対的な移動量を求めた結果と、予め決定した基準移動量Ｒ０との差分の絶対値が閾値以上か、否か、により判定する。具体的には、相対的な移動量を求めた結果と基準移動量Ｒ０との差分の絶対値が閾値以上である場合は、異常であると判定する。相対的な移動量を求めた結果と基準移動量Ｒ０との差分の絶対値が閾値未満である場合は、異常でないと判定する。なお、この閾値はユーザーが予め実験に基づいて決定してもよいし、設計値から求められる場合は設計値に基づいて決定してもよい。

また、基準移動量Ｒ０は基準格納容器に対し相対的な移動量を求めた結果に基づいて決定すればよい。基準移動量Ｒ０を決定する時の基準格納容器は、好ましくは複数の基準格納容器のうちで最も設計値に近い値で製造された基準格納容器であればよい。或いは、複数の基準格納容器に対しそれぞれ相対的な移動量を求め、その結果を平均した値を基準移動量Ｒ０としてもよい。

図３は本実施形態における搬送装置９の動作を示すフローチャートである。まず、読取部１６、１７によりＩＣタグ１８、１９を読み取る（Ｓ１０）。そして、制御部３０は、対象の格納容器を生産に使用するまでの時間は閾値以上か、否かを判定する（Ｓ１１）。ここで、ステップＳ１１で用いられる閾値は、格納容器に対してハンド９ａとレチクル１との相対的な移動量を求めてから通常の搬送動作を終了するまでの時間以上の値を設定する。なお、通常の搬送動作とは、レチクル１を格納容器から所定位置に搬送する動作、又は所定位置から格納容器内にレチクル１を搬入する動作のことである。これは、相対的な移動量を求めるとレチクル１の搬送完了までに時間がかかるため、生産性を低下させない場合にのみ相対的な移動量を求めるためである。生産に使用するまでの時間が閾値以上である場合は、相対的な移動量を求めても生産に影響を及ぼさないためステップＳ１２へ進む。生産に使用するまでの時間が閾値未満である場合は、相対的な移動量を求めると生産性を低下させる可能性があるため、相対的な移動量を求めずステップＳ１９へ進む。ここで、本実施形態における生産性とは単位時間当たりの搬送数のことである。

次に、制御部３０は識別情報に基づいて、基準格納容器か、否かを判定する（Ｓ１２）。基準格納容器であれば、制御部３０は相対的な移動量を求める条件を満たすか、否かを判定する（Ｓ１３）。ここで、相対的な移動量を求める条件とは、例えば、識別情報の取得回数、搬送装置９の稼働時間、搬送装置９による搬送回数、直近の相対的な移動量を求めてからの経過時間のうちいずれか１つ以上の情報に基づく条件である。識別情報の取得回数を条件として用いる場合、例えば、予め定めたＡ回と以前に相対的な移動量を求めた時から識別情報を読み取った回数であるＢ回を比較し、Ｂ回がＡ回以上であれば、相対的な移動量を求める条件を満たす、とする。ステップＳ１３で相対的な移動量を求める条件を満たすか、否かを判定する理由は、経時による影響が小さい場合に相対的な移動量を求めないためである。相対的な移動量を求めてから時間が経たないうちに基準格納容器が開閉部に載置された場合に、この基準格納容器に対して相対的な移動量を求めても経時による影響は少なく、異常を検出する可能性は低い。ステップＳ１３の判定により、必要以上に相対的な移動量を求めず、且つ定期的に経時変化による影響を検出することができる。

ステップＳ１３にて条件を満たす場合は、ハンド９ａとレチクル１との相対的な移動量を求め（Ｓ１４）、求めた相対的な移動量と基準移動量Ｒ０との差分の絶対値は閾値以上か、否かを判定する（Ｓ１５）。閾値以上である場合は、エラー処理を行い（Ｓ１６）、終了する。閾値未満である場合は、ステップＳ１９へ進む。ステップＳ１３にて条件を満たさない場合はステップＳ１９へ進む。

ステップＳ１２にて、基準格納容器でない場合、対象の格納容器は過去に搬送した履歴があるか、否かを判定する（Ｓ１７）。過去に搬送した履歴がなければ、ハンド９ａとレチクル１との相対的な移動量を求め（Ｓ２０）、格納容器本体の情報とステップＳ２０にて求めた相対的な移動量を移動量Ｒ１として記憶し（Ｓ２１）、ステップＳ１５に進む。ここで、ステップＳ１５における判定のための閾値は、基準格納容器に対して相対的な移動量を求めたときと、過去に搬送した履歴がない格納容器に対して相対的な移動量を求めたときとで異なる。ステップＳ１５で用いる、基準格納容器に対して求めた相対的な移動量について判定するための第１閾値は、過去に搬送した履歴がない格納容器に対して求めた相対的な移動量について判定するための第２閾値よりも小さいことが好ましい。例えば、第１閾値は基準移動量Ｒ０の３０％の値として設定する。

ステップＳ１７にて過去に搬送した履歴がある場合、つまり格納容器本体の情報と移動量Ｒ１が記憶されている場合は、ハンド９ａの位置を移動量Ｒ１に基づいて調整する（Ｓ１８）。そして、相対的な移動量を求めず通常の搬送動作を行い（Ｓ１９）、終了する。ここで、ステップＳ１８におけるハンド９ａの位置の調整について説明する。制御部３０は移動量Ｒ１と基準移動量Ｒ０との差分に基づいてハンド９ａの位置を調整し、Ｓ１９にて通常動作を実施する。これにより基準格納容器でない格納容器によりレチクル１を搬送した場合でも、レチクル１とハンド９ａの干渉、レチクル１の落下等の発生を抑制することができる。なお、本実施形態では、ハンド９ａの位置を移動量Ｒ１に基づいて調整する例を示したが、開閉部７、８のレチクル１を受け渡す位置を調整してもよい。

ここで、ステップＳ１６のエラー処理について説明する。ステップＳ１６のエラー処理の判定は２通りあり、基準格納容器に対する相対的な移動量を求めた結果、異常を検出した場合は、経時変化異常と判定する。過去に搬送した履歴のない格納容器に対する相対的な移動量を求めた結果、異常を検出した場合は、格納容器異常と判定する。そして、制御部３０は判定結果をユーザーに通知する。この通知方法は、例えば、表示制御部（不図示）により装置内又は装置外に配置されている表示部（不図示）に異常を表示することでユーザーに異常を通知してもよい。或いは、警報音が鳴る警報器（不図示）を配置し、警報音によりユーザーに異常を通知してもよい。警報音でユーザーに異常を通知する場合は、警報音の種類を異常の内容により使い分けることで、ユーザーに対し異常の内容を通知することができる。また、異常の通知を行う前に再度、ハンド９ａとレチクル１との相対的な移動量を求め、相対的な移動量の計測結果を再確認してもよい。これにより、誤作動や誤検知による異常の通知を抑制することができる。

また、制御部３０は格納容器異常と判定した場合に、異常と判定された格納容器が搬送される可能性のある搬送装置９とは異なる別の装置に格納容器異常に関する情報を通知してもよい。この通知を行うことにより、別の装置に異常と判定された格納容器が搬送された場合に、別の装置は異常の通知に基づいて動作できるため、別の装置においてもレチクル１とハンド９ａの干渉、レチクル１の落下等の発生を抑制することができる。

図４は本実施形態における通常の搬送動作（通常動作）のフローチャートである。まず、ハンド９ａがレチクル１の取得を開始するための第１位置へ移動し（Ｓ１１０）、ハンド９ａのレチクル１を保持する保持面がレチクル１の下側に位置するようハンド９ａが第２位置へ伸長する（Ｓ１２０）。そして、ハンド９ａの吸引口からレチクル１とハンド９ａの間の気体の吸引を開始し（Ｓ１３０）、ハンド９ａが第３位置まで上昇移動を開始する（Ｓ１４０）。制御部３０は、ハンド９ａに備えられた圧力センサ９ｂの値は閾値以上か、否かを判定する（Ｓ１５０）。なお、圧力センサ９ｂの値は大気圧を基準とした値の絶対値とする。ステップＳ１５０にて、圧力センサ９ｂの値が閾値以上であれば、レチクル１とハンド９ａとの間の空間は真空状態（負圧状態）であり、ハンド９ａはレチクル１を吸着保持できているため、ハンド９ａは収縮し、第４位置へ移動し（Ｓ１６０）、終了する。ステップＳ１５０にて、圧力センサ９ｂの値が閾値未満であれば、レチクル１とハンド９ａとの間の空間は大気圧と近い状態であり、ハンド９ａはレチクル１を吸着保持できていないため、ハンド９ａは吸引を終了し第２位置へ移動する（Ｓ１７０）。そしてハンド９ａは収縮し、第１位置へ移動し（Ｓ１８０）、終了する。なお、通常動作におけるハンド９ａの駆動は、相対的な移動量を求める時の駆動と比較して速い速度で行われる。

図５は本実施形態におけるハンド９ａとレチクル１との相対的な移動量を求めるフローチャートである。まず、ハンド９ａがレチクル１の取得を開始するための第１位置へ移動し（Ｓ２１０）、ハンド９ａのレチクル１を保持する保持面がレチクル１の下側に位置するようハンド９ａが第２位置へ伸長する（Ｓ２２０）。そして、ハンド９ａの吸引口からレチクル１とハンド９ａの間の気体の吸引を開始し（Ｓ２３０）、ハンド９ａは予めユーザーが定めた所定距離だけ上昇移動を行う（Ｓ２４０）。ここで、所定距離は、例えばＺ方向における第２位置と第３位置との間隔を２０分割した距離であり、微小距離であることが好ましい。制御部３０は、ハンド９ａに備えられた圧力センサ９ｂの値は閾値以上か、否かを判定する（Ｓ２５０）。なお、圧力センサ９ｂの値は大気圧を基準とした値の絶対値とする。ステップＳ２５０にて、圧力センサ９ｂの値が閾値以上であれば、レチクル１とハンド９ａとの間の空間は真空状態（負圧状態）であり、ハンド９ａはレチクル１を吸着保持できている。よって、制御部３０はハンド９ａがレチクル１を取得するために、第２位置から圧力センサ９ｂの値が閾値以上となった位置まで移動した移動量を相対的な移動量として記憶する（Ｓ２６０）。そして、ハンド９ａは第３位置まで上昇移動し（Ｓ２７０）、ハンド９ａは収縮し第４位置へ移動し（Ｓ２８０）、終了する。

ステップＳ２５０にて、圧力センサ９ｂの値が閾値未満であれば、レチクル１とハンド９ａとの間の空間は大気圧と近い状態であり、ハンド９ａはレチクル１を吸着保持できていない。そのため、Ｚ方向におけるハンド９ａの位置は第３位置未満か、否かを判定する（Ｓ２９０）。ハンド９ａの位置が第３位置未満であれば、ステップＳ２４０に戻る。ハンド９ａの位置が第３位置以上であれば、ハンド９ａは吸引を終了し、第２位置へ移動する（Ｓ３００）。そして、ハンド９ａは収縮し、第１位置へ移動し（Ｓ３１０）、終了する。

本実施形態では所定距離ずつ移動させるステップ移動方式により相対的な移動量を求めたが、所定距離ずつではなくハンド９ａの低速且つ連続的な移動により相対的な移動量を求めてもよい。この相対的な移動量は格納容器に対し物体を搬入又は搬出（搬入出）する通常の搬送動作中に実施するため、相対的な移動量を求めた後にハンド９ａは吸着保持したレチクル１をレチクルストッカ１１へ搬送するための通常の動作を継続する。

また、本実施形態では、ハンド９ａがレチクル１に近づくときの相対的な移動量を求める例を示したが、レチクル１がハンド９ａに近づいてもよく、ハンド９ａとレチクル１の両方が互いに近づいてもよい。本実施形態ではレチクル１を格納容器から搬出する時にハンド９ａの上昇移動量を相対的な移動量として求める例を示した。しかし、格納容器にレチクル１を搬入する時に、ハンド９ａがレチクル１を所定位置に載置するために下降移動した時の下降移動量を相対的な移動量として求めてもよい。

本実施形態によれば、経時変化に起因する異常について基準格納容器に対する相対的な移動量を求めることで検出し、格納容器自体の異常について搬送した履歴がない格納容器に対する相対的な移動量を求めることで異常を検出することができる。つまり、特定の格納容器に対する相対的な移動量を求めることで異常を検出することができる。そして、経時変化に起因する異常について、基準格納容器が開閉部７、８に載置されるタイミングで相対的な移動量を求め、異常を検知するため、常に経時変化について検出する場合と比較して生産性が高い。さらに、前回相対的な移動量を求めた時からの経時変化の影響が小さい時に再度、基準格納容器が開閉部７、８に載置された場合は、相対的な移動量を求めないため、経時変化による影響を適切な頻度で検出することができる。また、経時変化だけでなく格納容器自体の異常も検出することが可能であるため、新規の格納容器を使用する際に、ユーザーが手動で格納容器に対する動作確認をする必要がない。これにより、レチクル１とハンド９ａの干渉、レチクル１の落下等の発生を抑制することができる。また、本実施形態においてはレチクルの搬送における相対的な移動量を求める例を示したが、レチクルの搬送に限定されず、ハンドにより格納容器から物体を搬入出する場合であれば適用することが可能である。例えば、ハンドにより格納容器（ＦＯＵＰ＝Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）から基板を搬入出する場合に適用してもよい。

＜第２実施形態＞
本実施形態は、第１実施形態に記載の搬送装置を用いて物品を製造することを特徴とする。

図６は本実施形態における物品の製造方法のフローチャートである。まず、ハンド９ａによりレチクル１又は基板が搬入又は搬出される格納容器が基準となる基準格納容器又は過去に搬送した履歴がない格納容器か否かを判定する判定工程（Ｓ４１０）を行う。そして、判定工程の判定結果に応じてハンド９ａがレチクル１又は基板の搬入又は搬出をするためにハンド９ａとレチクル１又は基板との一方又は両方を移動させたときのハンド９ａとレチクル１又は基板との相対的な移動量を求める導出工程（Ｓ４２０）を行う。その後、ハンド９ａがレチクル１又は基板を搬送する搬送工程（Ｓ４３０）を行う。

そして、搬送工程で搬送されたレチクル１を用いて、或いは基板に対しパターンを形成する形成工程（Ｓ４４０）を行い、形成工程でパターンが形成された基板から物品を製造する製造工程（Ｓ４５０）を行う。

この製造方法で製造する物品は、例えば、半導体ＩＣ素子、液晶表示素子、カラーフィルタ、ＭＥＭＳ等である。

形成工程は、例えば、パターン材料上に感光材料が塗布された基板（シリコンウエハ、ガラスプレート等）を露光装置（リソグラフィ装置）により露光することで、基板にパターンを形成する。

製造工程は、例えば、パターンが形成された基板（感光材料）の現像、現像された基板に対するエッチング及びレジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングの実施が含まれる。本製造方法によれば、従来よりも生産性の高い方法により物品を製造することができる。

Claims (20)

1. 物体を搬送するハンドと、
   前記ハンドが前記物体を保持する際の保持状態を計測するセンサと、
   前記ハンドにより前記物体が搬入又は搬出される格納容器が特定の格納容器である場合は、前記ハンドが前記物体の搬入又は搬出をするために前記ハンドと前記物体との一方又は両方を移動させたときの前記ハンドと前記物体との相対的な移動量を前記センサの計測結果に基づいて求める制御部と、を有することを特徴とする搬送装置。
2. 前記制御部は、前記格納容器が、前記特定の格納容器であるか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
3. 前記制御部は、前記格納容器に付与されている識別情報、又は外部の装置から取得した識別情報により、前記格納容器が前記特定の格納容器であるか否かを判定することを特徴とする請求項２に記載の搬送装置。
4. 前記特定の格納容器は、基準となる基準格納容器又は過去に搬送した履歴がない格納容器であることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
5. 前記制御部は、前記物体が前記ハンドに保持されるまで前記ハンドと前記物体との少なくとも一方を、前記ハンドと前記物体とが近づく方向に移動させ、前記物体が前記ハンドに保持されるまでの前記ハンドと前記物体との相対的な移動量を求めることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
6. 前記物体が前記ハンドに保持されるまで前記ハンドと前記物体の少なくとも一方を、前記ハンドと前記物体とが近づく方向に移動させる動作において、前記ハンドと前記物体の少なくとも一方を所定距離ずつ移動させることを特徴とする請求項５に記載の搬送装置。
7. 前記相対的な移動量と基準となる基準移動量とに基づいて、経時変化に起因する異常又は前記格納容器の異常を検出することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
8. 前記制御部は、前記異常を検出した場合に、再度、前記格納容器における前記ハンドと前記物体との相対的な移動量を求めることを特徴とする請求項７に記載の搬送装置。
9. 前記制御部は、前記相対的な移動量と前記基準移動量の差分が閾値以上か、否かを判定し、前記閾値以上である場合は前記格納容器が搬送される前記搬送装置とは異なる別の装置に前記異常に関する情報を通知することを特徴とする請求項７に記載の搬送装置。
10. 前記制御部は、前記相対的な移動量に基づいて前記物体の受け渡し位置又は前記ハンドの位置を調整することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
11. 前記制御部は、前記識別情報の取得回数、前記搬送装置の稼働時間、前記搬送装置の搬送回数、直近の前記相対的な移動量を求めてからの経過時間のうちいずれか１つ以上の情報に基づいて、前記相対的な移動量を求めるか、否かを決定することを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
12. 前記相対的な移動量は、前記物体を搬入又は搬出する通常の搬送動作中に求められることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
13. 前記制御部は、前記物体を生産に使用するまでの時間に基づいて、前記相対的な移動量を求めるか、否かを決定することを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
14. 前記識別情報は前記物体に関する情報を含み、
    前記物体に関する情報は前記物体の入れ替えに伴って書き換えられることを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
15. 前記物体は基板又はパターンが形成された原版であることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
16. ハンドにより物体が搬入又は搬出される格納容器が基準となる基準格納容器又は過去に搬送した履歴がない格納容器か否かを判定する判定工程と、
    前記判定工程の判定結果に応じて前記ハンドが前記物体の搬入又は搬出をするために前記ハンドと前記物体との一方又は両方を移動させたときの前記ハンドと前記物体との相対的な移動量を求める導出工程と、を有することを特徴とする搬送方法。
17. 前記相対的な移動量は、前記物体が前記ハンドに保持されるまで前記ハンドと前記物体との少なくとも一方を、前記ハンドと前記物体とが近づく方向に移動させる方法により求めることを特徴とする請求項１６に記載の搬送方法。
18. 前記基準格納容器は複数あることを特徴とする請求項１６に記載の搬送方法。
19. 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
    前記基板又は前記パターンが形成された原版を搬送する請求項１～１５のうちいずれか１項に記載の搬送装置と、
    前記原版又は前記基板に光を照射する照明光学系と、
    を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
20. ハンドにより原版又は基板が搬入又は搬出される格納容器が基準となる基準格納容器又は過去に搬送した履歴がない格納容器か否かを判定する判定工程と、
    前記判定工程の判定結果に応じて前記ハンドが前記原版又は基板の搬入又は搬出をするために前記ハンドと前記原版又は基板との一方又は両方を移動させたときの前記ハンドと前記原版又は基板との相対的な移動量を求める導出工程と、
    前記ハンドが前記原版又は基板を搬送する搬送工程と、
    前記搬送工程で搬送された前記原版を用いて、或いは前記基板に対しパターンを形成する形成工程と、
    前記形成工程で前記パターンが形成された前記基板から物品を製造する製造工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。

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