JP2023527517A - メモリセルのストリングを含むメモリアレイ及びメモリセルのストリングを含むメモリアレイを形成することに使用される方法 - Google Patents
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Abstract
Description
幾つかの実施形態では、メモリセルのストリングを含むメモリアレイを形成することに使用される方法は、基板上に導体材料を含む導体ティアを形成することを含む。横方向に隔離したメモリブロック領域が形成され、導体ティアの真上に第1のティアと第2のティアとを交互に含む垂直スタックを個々に含む。メモリセルのチャネル材料ストリングは、第1のティア及び第2のティアを通って拡張する。横方向に隔離したメモリブロック領域間の導体材料内に水平方向に延びる線が形成される。水平方向に延びる線は、水平方向に延びる線の横方向に間にある導体材料の上部とは異なる組成のものである。水平方向に延びる線が形成された後、個々のチャネル材料ストリングのチャネル材料と導体ティアの導体材料とを共に直接電気的に結合する、最下部の第1のティアの導電性材料が形成される。
Claims (29)
- 基板上に導体材料を含む導体ティアを形成することと、
前記導体ティアの真上に第1のティアと第2のティアとを交互に含む垂直スタックを個々に含む横方向に隔離したメモリブロック領域を形成することであって、メモリセルのチャネル材料ストリングは前記第1のティア及び前記第2のティアを通って拡張することと、
前記横方向に隔離したメモリブロック領域間の前記導体材料内に水平方向に延びる線を形成することであって、前記水平方向に延びる線は、前記水平方向に延びる線の横方向に間にある前記導体材料の上部とは異なる組成のものであることと、
前記水平方向の延びる線を形成した後、個々の前記チャネル材料ストリングの前記チャネル材料と前記導体ティアの前記導体材料とを共に直接電気的に結合する最下部の前記第1のティアの導電性材料を形成すること
を含む、メモリセルのストリングを含むメモリアレイを形成することに使用される方法。 - 前記垂直スタックを形成する前に、前記水平方向に延びる線を形成することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記垂直スタックを形成した後に、前記水平方向に延びる線を形成することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記水平方向に延びる線は、それらの上方にある前記メモリブロック領域の領域中に横方向に拡張する、請求項1に記載の方法。
- 前記水平方向に延びる線は、前記導体ティアほど垂直方向に厚くない、請求項1に記載の方法。
- 前記水平方向に延びる線は、前記水平方向に延びる線の横方向に間にある前記導体材料内に存在するよりも多い含有量のC、N、B、As、Sb、Bi、Li、Al、In、又は金属材料の内の1つ以上を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記水平方向に延びる線は導電性でない、請求項1に記載の方法。
- 前記水平方向に延びる線は導電性である、請求項1に記載の方法。
- 前記水平方向に延びる線は、マスキング材料内のマスク開口部を通じて前記導体材料にイオン注入することによって形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記チャネル材料ストリングの前記チャネル材料の最下面は、前記導体ティアの前記導体材料の何れにも直接接しない、請求項1に記載の方法。
- 基板上に導体材料を含む導体ティアを形成することと、
横方向に隔離したメモリブロック領域をそれらの上方に含むであろうものの間の前記導体材料に水平方向に延びる線を形成することであって、前記水平方向に延びる線は、前記水平方向に延びる線の横方向に間にある前記導体材料の上部とは異なる組成のものであることと、
前記水平方向に延びる線を形成した後、前記導体ティアの上方に第1のティアと第2のティアとを垂直方向に交互に含むスタックを形成することであって、最下部の前記第1のティアは、前記導体ティア内の前記水平方向に延びる線の最上部の組成とは異なる組成の犠牲材料を含み、前記スタックは、前記導体ティア内の前記導体材料内の個々の前記水平方向に延びる線の個々の真上にある水平方向に延びる線トレンチをそれらの間に有する前記横方向に隔離したメモリブロック領域を含み、チャネル材料ストリングは、前記第1のティア及び前記第2のティアを通って拡張し、前記第1のティアの材料は、前記第2のティアの材料とは異なる組成のものであることと、
前記最下部の第1のティアから前記犠牲材料を等方的にエッチングすることと、
前記等方的にエッチングすることの後、個々の前記チャネル材料ストリングの前記チャネル材料と前記導体ティアの前記導体材料とを共に直接電気的に結合する導電性材料を前記最下部の第1のティア内に形成すること
を含む、メモリセルのストリングを含むメモリアレイを形成することに使用される方法。 - 導体材料を含む導体ティアと、
前記導体ティアの真上に絶縁性ティアと導電性ティアとを交互に含む垂直スタックを個々に含む横方向に隔離したメモリブロックであって、メモリセルのチャネル材料ストリングは前記絶縁性ティア及び前記導電性ティアを通って拡張し、最下部の前記導電性ティアの導電材料は、個々の前記チャネル材料ストリングの前記チャネル材料と前記導体ティアの前記導体材料とを共に直接電気的に結合する、前記メモリブロックと、
すぐ横方向に隣接する前記メモリブロックの横方向に間にあり、長手方向に沿う介在材料であって、絶縁性材料を含む前記介在材料と、
前記横方向に隔離したメモリブロックの間の前記導体材料内の水平方向に延びる線であって、前記水平方向に延びる線の横方向に間にある前記導体材料とは異なる組成のものである前記水平方向に延びる線と
を含む、メモリセルのストリングを含むメモリアレイ。 - 前記水平方向に延びる線は、それらの上にある前記メモリブロックの領域中に横方向に拡張する、請求項12に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線は、前記導体ティアほど垂直方向に厚くない、請求項12に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線は、前記水平方向に延びる線の横方向に間にある前記導体材料に存在するよりも多い含有量のC、N、B、As、Sb、Bi、Li、Al、In、又は金属材料の内の1つ以上を有する、請求項12に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線は導電性でない、請求項12に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線は導電性である、請求項12に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線の最上部は、一次n型導電性生成ドーパント又は一次p型導電性生成ドーパントの内の1つをその中に有する導電的にドープされた半導体材料を含み、前記水平方向に延びる線の少なくとも前記最上部は、前記一次ドーパントの組成とは異なる組成の二次ドーパントを含む、請求項17に記載のメモリアレイ。
- 前記1つは前記一次n型導電性生成ドーパントである、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 前記1つは前記一次p型導電性生成ドーパントである、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 異なる前記一次ドーパント及び前記二次ドーパントは同じn型又はp型のものである、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 異なる前記一次ドーパント及び前記二次ドーパントは異なるn型又はp型のものである、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 前記二次ドーパントは、C、N、B、As、又は金属材料の内の1つ以上である、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 前記二次ドーパントは、Sb、Bi、Li、Al、又はInの内の1つ以上である、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線の前記最上部はポリシリコンを含む、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 前記水平方向に延びる線の前記最上部内の前記二次ドーパントは、前記最上部において少なくとも1×1014原子/cm3の濃度にある、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 複数の異なる組成の二次ドーパントを含む、請求項18に記載のメモリアレイ。
- 一次n型導電性生成ドーパントをその中に有するn型の導電的にドープされたポリシリコンを含む導体ティアと、
前記導体ティアの真上に絶縁性ティアと導電性ティアとを交互に含む垂直スタックを個別に含む横方向に隔離したメモリブロックであって、メモリセルのチャネル材料ストリングは、前記絶縁性ティア及び前記導電性ティアを通って拡張し、最下部の前記導電性ティアは、前記導体ティアの前記n型の導電的にドープされたポリシリコンに直接接し、前記最下部の導電性ティア内の前記チャネル材料ストリングのチャネル材料の側壁に直接接するn型の導電的にドープされたポリシリコンを含む、前記メモリブロックと、
すぐ横方向に隣接する前記メモリブロックの横方向に間にあり、長手方向に沿う介在材料であって、絶縁材料を含む前記介在材料と、
前記横方向に隔離したメモリブロック間の前記導体材料内の水平方向に延びる線であって。前記一次ドーパントの組成とは異なる組成の二次ドーパントを含むn型の導電的にドープされたポリシリコンを含む前記水平方向に延びる線と
を含む、メモリセルのストリングを含むメモリアレイ。 - 前記一次ドーパントはpであり、前記二次ドーパントはC、N、B、As、Sb、Bi、Li、Al、In、又は金属材料の内の1つ以上である、請求項28に記載のメモリアレイ。
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