JP2023182033A - 保持装置 - Google Patents
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 32
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 30
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 49
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 45
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 41
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 29
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 29
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 28
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 28
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 11
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000002683 reaction inhibitor Substances 0.000 description 3
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017119 AlPO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006136 organohydrogenpolysiloxane Polymers 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229940105963 yttrium fluoride Drugs 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K yttrium(iii) fluoride Chemical compound F[Y](F)F RBORBHYCVONNJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
Description
(1)本開示の一形態によれば、対象物を保持する保持装置が提供される。この保持装置は、前記対象物が載置される側の第1面と、前記第1面の裏面である第2面とを有する板状に形成される板状部と、前記板状部の前記第2面側に配置され、前記板状部を支持し、冷却機能を有し、板状に形成されるベース部と、前記板状部と前記ベース部との間に配置され、前記板状部と前記ベース部とを接合する接合部と、を備え、前記接合部の熱抵抗は、-60℃の時に1.1×10-3(m2K/W)以下である。
(A-1)静電チャックの全体構成:
図1は、第1実施形態における静電チャック10の構成を概略的に示す説明図である。図2は、静電チャック10の断面構成を模式的に表す説明図である。図1では、静電チャック10の一部を破断して示している。また、図には、方向を特定するために、互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック10は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。各図に示されるX軸、Y軸、Z軸は、それぞれ同じ向きを表す。なお、上記各図は、各部の配置を模式的に表しており、各部の寸法の比率を正確に表すものではない。
本実施形態の静電チャック10が備える接合部40の熱抵抗は、-60℃の時に1.1×10-3(m2K/W)以下である。接合部40の熱抵抗をR(m2K/W)、接合部40の厚みをt(m)、接合部40の熱伝導率をλ(W/mK)とすると、接合部40の熱抵抗Rは、以下の(1)式により求められる。
[シート状のサンプルの作製]
各サンプルでは、接着剤として、シリコーン樹脂を用いた。具体的には、硬化前の接着剤材料(樹脂材料)として、ポリジメチルシロキサン、およびフェニル基5mol%含有ポリジメチルシロキサンのいずれか一方を用いた。具体的には、サンプル1~3は、フェニル基5mol%含有ポリジメチルシロキサンを用い、サンプル4~11は、ポリジメチルシロキサンを用いた。図4に示すように、サンプル1と2、サンプル4と5、サンプル6と7、サンプル8と9、サンプル10と11は、それぞれ、同一の組成であり、図3に示すように、一方は厚みが0.5mmであり、他方は厚みが1mmである。各サンプルの組成は、図4に示す通りである。
平均粒子径は公知の粒子径分布測定装置を用いて測定することができる。充填剤を水中に分散させた後、例えばマイクロトラックMT3000IIを用いて測定し、累積頻度が50%となる径を平均粒子径とした。平均粒子径の求め方は、窒化アルミニウムについても同様である。
充填剤とシリコーン樹脂を混合し、ペースト状の接着剤を作製した。混合方法は特に制限はなく、公知の撹拌羽根による混合、三本ロール、ニーダー、自転・公転ミキサー、プラネタリーミキサーなどを使用することができる。作製したペースト状の接着剤を、公知の塗工装置で離型性のあるフィルムの上に塗り広げ、硬化させることでシート状のサンプルを得ることができる。塗工装置には例えば、ロールコータ―、バーコーター、ダイコーター、ナイフコーターなどを用いることができる。離型性のあるフィルムには、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いることができ、離型性を高めるため離型剤を塗布したPETフィルムを用いてもよい。上記の各種塗工装置では成形が困難な厚みのある硬化物、ブロック状の硬化物を得るためには、接着剤を所定の大きさの容器に入れたのち、硬化してもよい。ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)製の容器を用いると、取り出しやすく好適である。硬化のためには必要に応じて加熱してもよい。
サンプル1~12の静電チャックは、いずれも、図2に示す第1実施形態の静電チャック10と同様の構成を有している。静電チャック10の形態のサンプルは、上記した半硬化させた接着ペーストを、板状部20とベース部30との間に配置して、その後、接着ペーストを硬化させることにより作製した。板状部20としては、酸化アルミニウムによって構成される板状部(熱膨張率は7ppm/K)を用い、ベース部30としては、アルミニウムによって構成されるベース部(熱膨張率は23ppm/K)を用いた。板状部20および接合部の直径は350mmとした。
・熱伝導率
熱伝導率は、ブロック状のサンプルを対象として、公知の熱伝導率計(アグネ製熱伝導率測定装置ARC-TC-1000)を使用し、熱線法(プローブ法)により測定した。なお、ブロック状のサンプルに代えて、静電チャックに組み込まれた接合部を対象として熱伝導率を測定する場合には、静電チャックの板状部を平面研削盤等で削り取り、接合部を露出させた後に、ナイフ等を用いて接合部を剥ぎ取って、熱伝導率の測定を行えばよい。
熱抵抗Rは、上記のようにして測定した各サンプルの熱伝導率の測定値を用いて、以下の(1)式により求めた。(1)式において、tは接合部の厚みであり、λは接合部の熱伝導率、すなわち、上記の様に測定した各サンプルの熱伝導率である。
最大せん断応力時ひずみ量は、公知の引張試験機(島津製作所製オートグラフAGSー5kNX)を使用し、引張試験によって測定した。
静電チャックの各サンプル1~11について、板状部の温度分布を評価した。具体的には、各サンプルの板状部の表面温度の平均値が約100℃で時間的に一定になるように、板状部を加熱し、同時にベース部の冷媒流路に-60℃の冷媒を供給して冷却した。その時、板状部の表面温度の最大値と最小値との温度差が2℃未満を「◎」、2℃以上5℃未満を「〇」、5℃以上を「×」と評価した。なお、板状部の表面温度とその時間変化は赤外線放射温度計を用いて測定した。板状部は、板状部にプラズマを照射することで加熱できる。また、板状部にヒータ電極を設けた場合は、ヒータ電極に通電することでも加熱でき、プラズマ照射による加熱と併用してもよい。
静電チャックの各サンプル1~11について、上記板状部の温度分布の評価方法と同じく、板状部の表面温度の平均値が約100℃で時間的に一定になるように、板状部を加熱し、同時にベース部の冷媒流路に-60℃の冷媒を供給して冷却した後、板状部の加熱を停止し、ベース部の冷却を継続した。板状部の加熱を停止した時間を起点とし、板状部の表面温度の平均値の経時変化を測定した。板状部の平均温度が0℃以下に冷却されるのに要する時間を測定し、15秒以下の場合を「〇」、15秒を超える場合を「×」と評価した。
〔1〕接合部の熱抵抗は、-60℃の時に1.1×10-3(m2K/W)以下である。
〔2〕接合部は、-60℃のときの熱伝導率をλ1とし、25℃のときの熱伝導率をλ2としたとき、λ1/λ2が1.18以下である。
〔3〕接合部は、-60℃のときの熱抵抗をθ1とし、25℃のときの熱抵抗をθ2としたとき、θ1/θ2が0.85以上である。
〔4〕接合部は、25℃のときの熱抵抗が1.2×10-3(m2K/W)以下である。
〔5〕接合部は、25℃および-60℃のときの熱伝導率が0.7(W/mK)以上である。
〔6〕接合部は、窒化アルミニウム(AlN)を含有する。
〔7〕接合部の最大せん断応力時ひずみ量は、0.5(mm)以上である。
上記実施形態の接合部40を形成可能な材料を作成すべく、形成材料の熱伝導率の調整方法を検討した。具体的には、シリコーン樹脂(シリコーン接着剤)の種類と、充填剤の種類、および割合を違えた複数のサンプルを作成し、熱伝導率を測定した。詳しくは、第1シリコーン樹脂として、フェニル基5mol%含有ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン樹脂を用い、第2シリコーン樹脂として、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン樹脂を用いた。充填剤としては、窒化アルミニウムの粒子径が異なる3種(15μm、5μm、2μm)を用いた。第1シリコーン樹脂、第2シリコーン樹脂ともに加熱することにより硬化、接着することができるシリコーン樹脂(シリコーン接着剤)であり、主成分以外に、公知のシランカップリング剤、ポリジメチルシロキサン構造と硬化に必要な官能基を持つ架橋剤、シリコーンの硬化触媒などを含有する。
図19は、第2実施形態の静電チャック10Aの構成を模式的に示す断面図である。図20は、図19におけるX部の拡大図である。第2実施形態の静電チャック10Aは、第1実施形態の静電チャック10に加え、端子用貫通孔60(図19)を備える。第2実施形態の静電チャック10Aにおいて、第1実施形態の静電チャック10と共通する部分には同じ参照番号を付す。端子用貫通孔60を、単に「孔部」とも呼ぶ。
[適用例1]
対象物を保持する保持装置であって、
前記対象物が載置される側の第1面と、前記第1面の裏面である第2面とを有する板状に形成される板状部と、
前記板状部の前記第2面側に配置され、前記板状部を支持し、冷却機能を有し、板状に形成されるベース部と、
前記板状部と前記ベース部との間に配置され、前記板状部と前記ベース部とを接合する接合部と、
を備え、
前記接合部の熱抵抗は、-60℃の時に1.1×10-3(m2K/W)以下であることを特徴とする、
保持装置。
[適用例2]
適用例1に記載の保持装置であって、
前記接合部は、
-60℃のときの熱伝導率をλ1とし、25℃のときの熱伝導率をλ2としたとき、λ1/λ2が1.18以下であること、および
-60℃のときの熱抵抗をθ1とし、25℃のときの熱抵抗をθ2としたとき、θ1/θ2が0.85以上であること、
の少なくともいずれか一方を満たすことを特徴とする、
保持装置。
[適用例3]
適用例1または適用例2に記載の保持装置であって、
前記接合部は、25℃のときの熱抵抗が1.2×10-3(m2K/W)以下であることを特徴とする、
保持装置。
[適用例4]
適用例1から適用例3のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部は、25℃および-60℃のときの熱伝導率が0.7(W/mK)以上であることを特徴とする、
保持装置。
[適用例5]
適用例1から適用例4のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部は、窒化アルミニウム(AlN)を含有することを特徴とする、
保持装置。
[適用例6]
適用例1から適用例5のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部の最大せん断応力時ひずみ量は、0.5(mm)以上であることを特徴とする、
保持装置。
[適用例7]
適用例1から適用例6のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記ベース部を貫通する孔部と、
前記孔部の内壁を覆う絶縁部と、
前記絶縁部における前記板状部の前記第2面に対向する端面と、前記板状部とを接合する孔用接合部と、
を有し、
前記孔用接合部は、前記接合部を構成する材料と同一の材料により形成されており、かつ、前記接合部より厚みが薄いことを特徴とする、
保持装置。
20、20A…板状部
22…吸着電極
24…第1面
26…第2面
30、30A…ベース部
32…冷媒流路
40、40A…接合部
50…ガス供給路
52…ガス吐出口
60…端子用貫通孔
62…電極端子
64…絶縁部
64S…端面
66…孔用接合部
70…試験片
72…ビア
74…電極パッド
80…アルミニウム板
W…ウェハ
Claims (7)
- 対象物を保持する保持装置であって、
前記対象物が載置される側の第1面と、前記第1面の裏面である第2面とを有する板状に形成される板状部と、
前記板状部の前記第2面側に配置され、前記板状部を支持し、冷却機能を有し、板状に形成されるベース部と、
前記板状部と前記ベース部との間に配置され、前記板状部と前記ベース部とを接合する接合部と、
を備え、
前記接合部の熱抵抗は、-60℃の時に1.1×10-3(m2K/W)以下であることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1に記載の保持装置であって、
前記接合部は、
-60℃のときの熱伝導率をλ1とし、25℃のときの熱伝導率をλ2としたとき、λ1/λ2が1.18以下であること、および
-60℃のときの熱抵抗をθ1とし、25℃のときの熱抵抗をθ2としたとき、θ1/θ2が0.85以上であること、
の少なくともいずれか一方を満たすことを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1に記載の保持装置であって、
前記接合部は、25℃のときの熱抵抗が1.2×10-3(m2K/W)以下であることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部は、25℃および-60℃のときの熱伝導率が0.7(W/mK)以上であることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部は、窒化アルミニウム(AlN)を含有することを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記接合部の最大せん断応力時ひずみ量は、0.5(mm)以上であることを特徴とする、
保持装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の保持装置であって、
前記ベース部を貫通する孔部と、
前記孔部の内壁を覆う絶縁部と、
前記絶縁部における前記板状部の前記第2面に対向する端面と、前記板状部とを接合する孔用接合部と、
を有し、
前記孔用接合部は、前記接合部を構成する材料と同一の材料により形成されており、かつ、前記接合部より厚みが薄いことを特徴とする、
保持装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Publications (1)
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JP2023182033A true JP2023182033A (ja) | 2023-12-26 |
Family
ID=89310161
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Country | Link |
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JP (2) | JP2023182033A (ja) |
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