JP2023175265A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

【課題】従来にはない形状を有する調理プレートを備えることで脂跳や脂煙の発生を抑制する加熱調理器を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の加熱調理器１は、調理器本体８と、調理器本体８に設けられたシーズヒータ５と、調理器本体８に着脱可能であり、シーズヒータ５により加熱される調理プレート７と、を備え、調理プレート７は、傾斜した傾斜部４２を有し、傾斜部４２には、複数の溝部４６が形成され、溝部４６の下端４８には、調理プレート７を貫通する滴下孔４９が形成され、滴下孔４９が他の溝部４６の延長線Ｌと交差する長さに形成されていることで、傾斜部４２を流動する肉汁Ｍを滴下孔４９に効率的かつ確実に流し込む。【選択図】図２

Description

本発明は、調理板（プレート）を備えるホットプレート式の加熱調理器に関する。

家庭でホットプレートを使用して焼肉等を行う場合に、食肉から流れ出た液状の脂等（肉汁）が加熱されることにより脂跳や脂煙が発生する。この脂跳や脂煙の発生を抑制する技術として、例えば、特許文献１に記載されたものが知られている。

特許文献１には、ケース本体と、ケース本体に載置され被調理物を調理するための調理プレートと、調理プレートの下方に配置されるヒーターとを備え、調理プレートは、下方に向かって傾斜するすり鉢状領域を有し、すり鉢状領域の中心部には、貫通孔を有し、すり鉢状領域には、貫通孔に向かって伸びる第１の凸状リブ群と、第１の凸状リブ群に直交し、且つ第１の凸状リブ群と交わらない第２の凸状リブ群及び第３の凸状リブ群とを有し、第１の凸状リブ群は、貫通孔上を橋渡しされる構成の加熱調理器が記載されている。そして、すり鉢状領域で食肉を焼いた場合には、脂を含む肉汁は第１の凸状リブ群、第２の凸状リブ群、第３の凸状リブ群の間等を流動し、貫通孔に流れ込むようになっている。

特開２０１１－１１５４２５号公報

特許文献１に記載された加熱調理器以外にも、脂跳や脂煙の発生を抑制するための調理プレートの形状は様々知られているが、本発明は、従来にはない形状を有する調理プレートを備えることで脂跳や脂煙の発生を抑制する加熱調理器を提供することを目的とする。

本発明の加熱調理器は、調理器本体と、前記調理器本体に設けられた加熱手段と、前記調理器本体に着脱可能であり、前記加熱手段により加熱される調理プレートと、を備え、前記調理プレートは、傾斜した傾斜部を有し、前記傾斜部には、複数の溝部が形成され、前記溝部の下端には、前記調理プレートを貫通する滴下孔が形成され、前記滴下孔が他の前記溝部の延長線と交差する長さに形成されていることを特徴とする。

本発明の加熱調理器によれば、被調理物から流れ出る脂や水等を効率良く流動させ、脂跳や脂煙の発生を抑制することができる。

本発明の一実施形態の調理プレートを使用した加熱調理器の部分平面図と縦断面図である。 本発明の一実施形態の調理プレートを使用した加熱中の加熱調理器の部分平面図と縦断面図である。 図１のＡ－Ａ断面図である。 本発明の一実施形態の平プレートを使用した加熱調理器の縦断面図である。 本発明の一実施形態の深鍋プレートを使用した加熱調理器の縦断面図である。

以下、本発明における好ましい加熱調理器の実施形態について、添付図面を参照して説明する。以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。

図１に示すように、本実施形態の加熱調理器１は、外枠２と、内枠３と、遮熱体４と、加熱手段であるシーズヒータ５と、温度センサー組立６と、調理プレート７と、を備えている。外枠２と、内枠３と、遮熱体４と、シーズヒータ５と、温度センサー組立６は、調理器本体８を構成する。調理プレート７や後述する脂受け皿２１は、調理器本体８に着脱可能となっている。また、調理器本体８には、給電用の電源プラグを有する電源コード（図示せず）が着脱可能となっている。さらに、調理器本体８には、温度調節等を行う操作部（図示せず）が設けられている。

外枠２は有底で上方が開口しており、内部に内枠３、遮熱体４、シーズヒータ５、温度センサー組立６、調理プレート７が配設されている。

内枠３は、底板部１１と、内側板部１２と、外側板部１３と、受板部１４と、を有し、全体として略円環形状をなしている。底板部１１は略水平に配設され、内側板部１２は底板部１１のうち加熱調理器１の中心に近い端部から立設されており、外側板部１３は底板部１１のうち加熱調理器１の中心から遠い端部から立設されている。そのため、内枠３は、底板部１１と内側板部１２と外側板部１３により囲まれた空間Ｓ１を有し、空間Ｓ１の上方は開口している。受板部１４は外側板部の上端部から外側方向（加熱調理器１の中心から離れる方向）に略水平に延設されている。

空間Ｓ１には、脂受け皿２１の受け容器部２２が配置される。受け容器部２２は上方が開口した有底形状を有している。また、脂受け皿２１は内枠３の受板部１４に係止する係止部２３を有している。脂受け皿２１は、係止部２３を内枠３の受板部１４に係止させることで、受け容器部２２が空間Ｓ１内に配置され、内枠３に対して吊設された状態となる。脂受け皿２１は、内枠３に着脱可能に取り付けられるものであり、取り外して洗浄することができる。脂受け皿２１は、受け容器部２２が後述する滴下孔４９の下方に位置し、流れ落ちる肉汁Ｍ（食肉１０から滲み出た脂や水分）や油等を回収するものである。

内枠３の底板部１１の下面には、遮熱体４が取り付けられている。遮熱体４は、底板部１１に取り付けられる取付部２６と、遮熱壁部２７と、上壁部２８と、を有している。取付部２６は略水平に配置された円環板状に形成されている。遮熱壁部２７は取付部２６の内側端部分から上方に突出しており、上方に向かって先細り形状を有している。上壁部２８は遮熱壁部２７の上端部分から略水平に配置され、円板形状を有している。上壁部２８の中心部分には、後述するサーミスタ３１を挿通する挿通孔２９が形成されている。遮熱体４は、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、アルミニウムメッキ鋼板等、耐熱性に優れ、かつ赤外線反射特性に優れた金属素材により形成することができる。内枠３と遮熱体４の間には、シーズヒータ５が配設されている。

シーズヒータ５は、略水平に円環状に配置されている。本実施形態では、内側と外側の２層構造であるが、１層や、３層以上であってもよい。また、加熱手段は、ＩＨ（Induction Heating：電磁誘導加熱）式、熱板式等、他の加熱手段であってもよい。

温度センサー組立６は、温度検知手段であるサーミスタ３１と、サーミスタ３１を保持する保持体３２と、保持体３２を上方向に付勢する付勢手段３３と、サーミスタ３１と保持体３２と付勢手段３３を取り付ける基台３４と、を有している。

基台３４は円板形状を有し、遮熱体４の取付部２６に取り付けられている。そのため、遮熱体４の遮熱壁部２７及び上壁部２８と基台３４により空間Ｓ２が形成されている。この空間Ｓ２内にサーミスタ３１と保持体３２と付勢手段３３が配設されている。基台３４の上面の中心部分に付勢手段３３が固定されている。付勢手段３３は例えば圧縮コイルばね等である。付勢手段３３の上部分にサーミスタ３１を保持した保持体３２が取り付けられている。保持体３２とその内部に配設されたサーミスタ３１の上側部分は、挿通孔２９から遮熱体４（空間Ｓ２）の外側に突出しており、調理プレート７が調理器本体８に取り付けられていない状態では、付勢手段３３は伸長しており、調理プレート７が調理器本体８に取り付けられた状態では、保持体３２が調理プレート７により下方向に押圧されることで付勢手段３３が僅かに収縮するようになっている。そのため、保持体３２は付勢手段３３の付勢力により調理プレート７に当接した状態が維持される。

第１のプレートである調理プレート７は、母材を熱伝導性に優れたアルミニウムとし、上面部分に非粘着性を有するフッ素コーティングを施しているが、鉄製、アルミニウム合金製、ステンレス製、陶磁器製、麦飯石製等であってもよい。調理プレート７は、円形の皿形状を有しており、円板形状の中心部４１と、中心部４１から外側に向かって低くなるように傾斜した傾斜部４２と、傾斜部４２の外側に形成された周囲部４３と、周囲部４３の外側に立設された側壁部４４と、を有する。中心部４１は、上面部４１Ａと下面部４１Ｂが平坦に形成されており、後述する溝部４６は形成されていない。外枠２の外形寸法Ｄ１は、調理プレート７の外形寸法ｄ１よりも大きくなっており、高温となる調理プレート７が外枠２から周囲に出ない構成になっている。また、外枠２の上端部９の高さ方向の位置は、調理プレート７の上端部４５の高さ位置以上となっており、高温となる調理プレート７が外枠２から上方に出ない構成になっている。

傾斜部４２には、放射状に複数の溝部４６が形成されている。複数の溝部４６は全て同一形状であり、断面視円弧形状を有している。また、全ての溝部４６が等間隔に配置されている。また、溝部４６は、短手方向の溝幅Ｔ１が上端４７から下端４８まで等幅である。溝部４６の上端４７は中心部４１に接しており、溝部４６の下端４８は周囲部４３に位置している。溝部４６の上端４７は隣り合う溝部４６に近接している。なお、溝部４６は必ずしも全てが等間隔である必要はなく、所望の間隔とすることができ、溝幅Ｔ１も部分的に変更可能であり、全ての溝部４６の形状を同一としなくてもよい。また、傾斜部４２の傾斜角度や、溝部４６の深さと数は、被調理物を載置した際の安定性や肉汁Ｍの流れ易さ等を考慮して設計することができる。

周囲部４３の上面は平坦に形成されている。周囲部４３には周囲部４３を貫通する滴下孔４９が形成されている。滴下孔４９は、平面視において溝部４６に接した近位端５０と反対側の遠位端５１が円弧状に形成された長孔である。滴下孔４９は、近位端５０と遠位端５１の曲率が同一であり、短手方向の孔幅Ｔ２が一定となるように形成されている。滴下孔４９の短手方向の孔幅Ｔ２は、溝部４６の短手方向の溝幅Ｔ１と略同一の長さである。なお孔幅Ｔ２は、例えば、近位端５０の曲率を遠位端５１の曲率よりも小さくし、滴下孔４９の孔幅Ｔ２が近位端５０から遠位端５１に向かって徐々に狭くする等、他の形状であってもよい。

図３に示すように、滴下孔４９は、縦断面視において、下側の開口面積が上側の開口面積よりも小さくなるように、滴下孔４９の内壁５２に傾斜面５３が形成されている。なお、滴下孔４９の内壁５２は、上側に垂直面５４、下側に傾斜面５３が形成されたもの等、脂や肉汁Ｍが表面張力により膜化せず、下方に落下し易い形状であれば他の形状に形成されてもよい。なお、図面において滴下孔４９のエッジ部分はシャープエッジとなっているが、実際は丸みのある角Ｒ形状となっている。

滴下孔４９は、溝部４６に対して所定の角度θを有して延びている。そして、滴下孔４９は、接している溝部４６の隣の溝部４６の延長線Ｌと交差している。図１において具体的に説明すると、溝部４６Ａに接している滴下孔４９Ａは隣の溝部４６Ｂの延長線Ｌ２と交差し、溝部４６Ｂに接している滴下孔４９Ｂは隣の溝部４６Ｃの延長線Ｌ３と交差し、溝部４６Ｃに接している滴下孔４９Ｃは隣の溝部４６Ｄの延長線Ｌ４と交差し、溝部４６Ｄに接している滴下孔４９Ｄは隣の溝部４６Ｅの延長線Ｌ５と交差し、溝部４６Ｅに接している滴下孔４９Ｅは隣の溝部４６Ｆの延長線Ｌ６と交差し、溝部４６Ｆに接している滴下孔４９Ｆは隣の溝部（図示せず）の延長線Ｌ７と交差し、以降同様に隣の溝部４６の延長線Ｌと交差する。なお、延長線Ｌは仮想線であり、調理プレート７に実際に表示されたものではない。

上述のとおり、シーズヒータ５は、略水平方向に円環状に設けられているため、図１及び図２に示すように、調理プレート７の中心部４１とシーズヒータ５が設けられている水平面Ｋとの距離Ｒ１は、調理プレート７の周囲部４３とシーズヒータ５が設けられている水平面Ｋとの距離Ｒ２よりも長くなっている。そして、傾斜部４２は、中心部４１側から周囲部４３側に向かって徐々に水平面Ｋとの距離Ｒ３が短くなっている。なお、水平面Ｋは、仮想面であり加熱調理器１を構成するものではない。

ここで、加熱調理器１の使用方法について説明する。まず、調理器本体８に脂受け皿２１を取り付ける。このとき、脂受け皿２１の係止部２３が内枠３の受板部１４に係止する。なお、図２に示すように、脂受け皿２１の受け容器部２２に水Ｗを入れておくことで、受け容器部２２に回収した肉汁Ｍの除去が容易となる。次に、調理器本体８に調理プレート７を取り付けると、調理プレート７の外周部分（周囲部４３と側壁部４４の接続部分）が脂受け皿２１の係止部２３に係止する。このとき、サーミスタ３１を保持する保持体３２が調理プレート７の中心部４１の下面部４１Ｂに当接し、付勢手段３３が僅かに収縮し、保持体３２が調理プレート７に押し付けられた状態となる。すなわちサーミスタ３１は、保持体３２を介して調理プレート７に当接し、中心部４１の温度を検知可能となっている。調理器本体８に調理プレート７を取り付け、調理器本体８に給電した状態で操作部（図示せず）を操作して電源を入れると、シーズヒータ５が駆動し、調理プレート７が下側から輻射加熱される。

次に、被調理物である食肉１０を焼いているときの肉汁Ｍの流れについて説明する。図２に示すように、傾斜部４２に食肉１０を載置すると、食肉１０から滲み出た肉汁Ｍは、溝部４６内を流動し近位端５０から滴下孔４９内に流れ込む（流れＦ１）。また、肉汁Ｍの量が多い場合や肉汁Ｍの流速が速い場合には、滴下孔４９の近位端５０に流れ込まず周囲部４３にまで流れるものもあり、隣の滴下孔４９の遠位端５１に流れ込む（流れＦ２）。また、隣り合う溝部４６の間の傾斜部４２を流れる肉汁Ｍは、一方の滴下孔４９に流れ込む場合（流れＦ３）と他方の滴下孔４９に流れ込む場合がある（流れＦ４）。なお、食肉１０を中心部４１に載置して焼いた場合も流れＦ１～Ｆ４の何れかの流動経路となる。このように、調理プレート７に食肉１０を載置して焼いた場合には、肉汁Ｍを確実に滴下孔４９に流し込み、下方に配設した脂受け皿２１の受け容器部２２に回収することができる。

加熱調理器１は、調理プレート７に替えて調理器本体８に取り付け可能な底平坦プレートである平プレート６１と深鍋プレート７１を備えている。そのため、調理メニュー等に応じて調理プレート７、平プレート６１、深鍋プレート７１を適宜選択して使用することができる。

図４は、第２のプレートである平プレート６１を使用した状態を示している。平プレート６１は、円形の浅皿形状を有しており、内側面が平坦に形成された底部６２と、底部６２の外周端部分に立設された側壁部６３と、を有する。外枠２の外形寸法Ｄ１は、平プレート６１の外形寸法ｄ２よりも大きくなっており、高温となる平プレート６１が外枠２から周囲に出ない構成になっている。また、外枠２の上端部９の高さ位置は、平プレート６１の上端部６４の高さ位置以上となっており、高温となる平プレート６１が外枠２から上方に出ない構成になっている。

平プレート６１を使用する場合も、調理器本体８に脂受け皿２１を取り付け、脂受け皿２１の係止部２３が内枠３の受板部１４に係止する。そして、調理器本体８に平プレート６１を取り付けると、平プレート６１の外周部分（底部６２と側壁部６３の接続部分）が脂受け皿２１の係止部２３に係止する。このとき、サーミスタ３１を保持する保持体３２が平プレート６１の底部６２の略中心部分の下面部６５に当接し、付勢手段３３が僅かに収縮し、保持体３２が平プレート６１に押し付けられた状態となる。すなわちサーミスタ３１は、保持体３２を介して平プレート６１に当接し、底部６２の略中心部分の温度を検知可能となっている。

図４に示すように、平プレート６１の底部６２は平坦に形成されているため、底部６２とシーズヒータ５が設けられている水平面Ｋとの距離Ｒ４は、底部６２のどの部分も同一である。

図５は、第３のプレートである深鍋プレート７１を使用した状態を示している。深鍋プレート７１は、円形の深皿形状を有しており、内側面が平坦に形成された底部７２と、底部７２の外周端部分に立設された側壁部７３と、を有する。外枠２の外形寸法Ｄ１は、深鍋プレート７１の外形寸法ｄ３よりも大きくなっており、高温となる深鍋プレート７１が外枠２から周囲に出ない構成になっている。また、外枠２の上端部９から深鍋プレート７１の上端部７４までの長さｈは、外枠２の高さＨの１／３以下となっており、不用意に深鍋プレート７１に触れ難くなっている。

深鍋プレート７１は蓋７５を備えており、蓋７５の上面中心部には蓋７５を把持するための蓋ツマミ７６が設けられている。この蓋７５は、調理プレート７や平プレート６１にも使用可能である。

深鍋プレート７１を使用する場合も、調理器本体８に脂受け皿２１を取り付け、脂受け皿２１の係止部２３が内枠３の受板部１４に係止する。そして、調理器本体８に深鍋プレート７１を取り付けると、深鍋プレート７１の外周部分（底部７２と側壁部７３の接続部分）が脂受け皿２１の係止部２３に係止する。このとき、サーミスタ３１を保持する保持体３２が深鍋プレート７１の底部７２の略中心部分の下面部７７に当接し、付勢手段３３が僅かに収縮し、保持体３２が深鍋プレート７１に押し付けられた状態となる。すなわちサーミスタ３１は、保持体３２を介して深鍋プレート７１に当接し、底部７２の略中心部分の温度を検知可能となっている。

図５に示すように、深鍋プレート７１の底部７２は平坦に形成されているため、底部７２とシーズヒータ５が設けられている水平面Ｋとの距離Ｒ５は、底部７２のどの部分も同一である。

以上のように、本実施形態の加熱調理器１は、調理器本体８と、調理器本体８に設けられたシーズヒータ５と、調理器本体８に着脱可能であり、シーズヒータ５により加熱される調理プレート７と、を備え、調理プレート７は、傾斜した傾斜部４２を有し、傾斜部４２には、複数の溝部４６が形成され、溝部４６の下端４８には、調理プレート７を貫通する滴下孔４９が形成され、滴下孔４９が他の溝部４６の延長線Ｌと交差する長さに形成されている。そのため、傾斜部４２、特に溝部４６によって肉汁Ｍを効率的に流動させ、滴下孔４９から受け容器部２２に確実に流れ落とすことができる。その結果、肉汁Ｍが長時間加熱され脂跳や脂煙が発生することを抑制することができる。

また、本実施形態の加熱調理器１は、滴下孔４９の下側開口の面積が上側開口の面積よりも小さいため、表面張力や肉汁Ｍの粘度等により滴下孔４９に肉汁Ｍの膜が形成され、肉汁Ｍが滴下孔４９から受け容器２２に流れ落ち難くなることを抑制することができる。

また、本実施形態の加熱調理器１は、調理プレート７の温度を検知するサーミスタ３１をさらに備え、傾斜部４２が調理プレート７の中心部４１から周囲部４３に向かって低くなるように傾斜し、中心部４１の下面部４１Ｂにサーミスタ３１が当接する。そのため、肉汁Ｍが傾斜によって周囲部４３方向へ流動し易くなる。また、中心部４１に肉汁Ｍが残り難くなるため、サーミスタ３１による中心部４１の温度検知の精度の悪化を抑制することができる。

また、本実施形態の加熱調理器１は、中心部４１には溝部４６が形成されていないため、中心部４１に食肉１０を載置して焼いた場合であっても、肉汁Ｍが中心部４１に残り難くすることができる。その結果、サーミスタ３１による中心部４１の温度検知の精度の悪化を抑制することができる。

また、本実施形態の加熱調理器１は、調理器本体８に着脱可能であり、シーズヒータ５により加熱され、底部６２が平坦な平プレート６１及び底部７２が平坦な深鍋プレート７１をさらに備え、調理プレート７と平プレート６１及び深鍋プレート７１は、何れか一方のみを調理器本体８に取り付けて加熱可能であり、平プレート６１及び深鍋プレート７１の中心部分の下面部６５、７７にサーミスタ３１が当接する。加熱調理器１は、調理プレート７と、平プレート６１と、深鍋プレート７１をユーザーが選択して使用することができ、それぞれのプレートに適した加熱調理を行うことができる。また、サーミスタ３１は平プレート６１及び深鍋プレート７１の中心部分の温度を検知するため、半解凍等の冷たい被調理物を底部６２、７２に部分的に載置した場合であっても、局部的かつ急激にプレートの温度が低下したことを感度よく検知することができる。

また、本実施形態の加熱調理器１は、シーズヒータ５が水平方向に設けられており、シーズヒータ５と調理プレート７との距離が中心部４１よりも周囲部４３の方が短く、シーズヒータ５と平プレート６１及び深鍋プレート７１との距離は平プレート６１及び深鍋プレート７１の中心部分と周囲部分で略同一である。そのため、調理プレート７を使用した場合には、被調理物から滲み出た肉汁Ｍ等を中心部４１側から周囲部４３側に流動させることができる。また、平プレート６１及び深鍋プレート７１を使用した場合には、平プレート６１及び深鍋プレート７１内の被調理物を均等に加熱することができる。

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更可能である。上記実施形態では調理プレート７、平プレート６１、深鍋プレート７１が平面視において円形状であるが、略矩形状等、加熱調理を行うことができれば他の形状であってもよい、

１ 加熱調理器
５ シーズヒータ（加熱手段）
７ 調理プレート
８ 調理器本体
３１ サーミスタ（温度検知手段）
４１ 中心部
４１Ｂ 下面部
４２ 傾斜部
４３ 周囲部
４６ 溝部
４８ 下端
４９ 滴下孔
６１ 平プレート（底平坦プレート）
６２ 底部
６５ 下面部
７１ 深鍋プレート（底平坦プレート）
７２ 底部
７７ 下面部
Ｌ 延長線

Claims (6)

1. 調理器本体と、
   前記調理器本体に設けられた加熱手段と、
   前記調理器本体に着脱可能であり、前記加熱手段により加熱される調理プレートと、を備え、
   前記調理プレートは、傾斜した傾斜部を有し、
   前記傾斜部には、複数の溝部が形成され、
   前記溝部の下端には、前記調理プレートを貫通する滴下孔が形成され、
   前記滴下孔が他の前記溝部の延長線と交差する長さに形成されていることを特徴とする加熱調理器。
2. 前記滴下孔の下側開口の面積が上側開口の面積よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
3. 前記調理プレートの温度を検知する温度検知手段をさらに備え、
   前記傾斜部が前記調理プレートの中心部から周囲部に向かって低くなるように傾斜し、
   前記中心部の下面部に前記温度検知手段が当接することを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
4. 前記中心部には前記溝部が形成されていないことを特徴とする請求項３に記載の加熱調理器。
5. 前記調理器本体に着脱可能であり、前記加熱手段により加熱され、内側底部が平坦な底平坦プレートをさらに備え、
   前記調理プレートと前記底平坦プレートは、何れか一方のみを前記調理器本体に取り付けて加熱可能であり、
   前記底平坦プレートの中心部分の下面部に前記温度検知手段が当接することを特徴とする請求項３に記載の加熱調理器。
6. 前記加熱手段が水平方向に設けられており、
   前記加熱手段と前記調理プレートとの距離が前記中心部よりも前記周囲部の方が短く、
   前記加熱手段と前記底平坦プレートとの距離は前記底平坦プレートの中心部分と周囲部分で略同一であることを特徴とする請求項５に記載の加熱調理器。

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