JP2023158691A - スピンドルユニット - Google Patents

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Abstract

【課題】加工屑を含んだ加工液のスピンドルの先端部への付着を抑制して当該先端部の洗浄の頻度を低減させることが可能なスピンドルユニットを提供する。【解決手段】スピンドルの先端部の側面のうち隙間を介してカバーの内側面と対向する領域にスピンドルの周りを１周する溝を形成する。そして、溝が形成されている箇所においては、スピンドルの先端部とカバーとの隙間の断面積が大きくなる。そのため、スピンドルの先端部とカバーとの隙間は、断面積が小さい空間（流路）と断面積が大きい空間（膨張室）とが交互に配置されている空間であると表現できる。この場合、スピンドルの先端部とカバーとの隙間に加工屑を含んだ加工液が進入する場合であっても、膨張室の奥に設けられている流路まで加工液が進入しにくくなる。これにより、加工屑を含んだ加工液のスピンドルの先端部への付着が抑制され、当該先端部の洗浄の頻度を低減させることが可能である。【選択図】図３

Description

本発明は、スピンドルユニットに関する。
ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）等のデバイスのチップは、携帯電話及びパーソナルコンピュータ等の各種電子機器において不可欠の構成要素である。このようなチップは、例えば、以下の順序で製造される。
まず、フォトリソグラフィ等を実施してウェーハ等の被加工物の表面に多数の素子を形成することで複数のデバイスを形成する。次いで、被加工物の裏面側を研削して被加工物を薄化する。次いで、複数のデバイスの境界に沿って被加工物を切削して被加工物を複数のチップへと分割する。
被加工物を研削する研削装置又は切削する切削装置等の加工装置には、一般的に、加工具を装着するためのマウントが連結されている先端部を有するスピンドルと、スピンドルの先端部以外の少なくとも一部を囲繞し、かつ、エアベアリングを形成するためにスピンドルに向かってエアを噴射するためのエア噴出口が形成されているケーシングと、を備えるスピンドルユニットが設けられている。
具体的には、研削装置においては、環状に離散された複数の研削砥石が設けられている円環状の研削ホイールがマウントに装着されている。そして、ケーシングのエア噴出口からスピンドルに向かってエアを噴出することによって両者の間にエアベアリングを形成した状態で、スピンドルとともに研削ホイールを回転させながら被加工物に複数の研削砥石を接触させることによって被加工物が研削される。
また、切削装置においては、砥粒が分散されている円環状の切削ブレードがマウントに装着されている。そして、ケーシングのエア噴出口からスピンドルに向かってエアを噴出することによって両者の間にエアベアリングを形成した状態で、スピンドルとともに切削ブレードを回転させながら被加工物に切削ブレードを接触させることによって被加工物が切削される。
さらに、これらの加工装置においては、被加工物の加工に伴って生じる加工屑を洗い流すために被加工物と加工具との接触点（加工点）に加工液を供給しながら被加工物が加工される。ただし、このような加工は、通常、スピンドルとともに加工具が高速回転した状態で行われるため、加工屑を含んだ加工液がミスト状に飛散する。
ここで、ケーシングに形成されているエア噴出口近傍の領域に加工屑を含んだ加工液が付着すると、スピンドルユニットにおいてエアベアリングを形成することが困難になるおそれがある。そのため、スピンドルユニットにおいては、この領域への加工液の付着を防止するためにスピンドルの先端部を囲繞するカバーが設けられることが一般的である。
なお、このカバーは、ケーシングに形成されているエア噴出口から噴出されるエアが排気されるとともにスピンドルの回転を阻害しないように、隙間を介してスピンドルの先端部を囲繞する。そのため、これらの加工装置において被加工物を加工する際には、加工屑を含んだ加工液が当該隙間に進入し、スピンドルの先端部の側面に付着することがある。
そして、スピンドルの先端部の側面に付着した加工液が乾燥して加工屑が固着すると、スピンドルの正常な回転が阻害されるおそれがある。例えば、スピンドルの先端部とカバーとの隙間が加工屑によって埋められると、ケーシングのエア噴出口から噴出されるエアの排気が阻害される。この場合、スピンドルの回転軸が傾いてスピンドルがケーシング及び／又はカバーに接触するおそれがある。
この点を踏まえて、２つに分解可能なカバーによってスピンドルの先端部を囲繞するスピンドルユニットが提案されている（例えば、特許文献１参照）。このスピンドルユニットにおいては、カバーを２つに分割してスピンドルの先端部を露出させてから当該先端部を洗浄することができる。
特開２０１７－２２２００３号公報
しかしながら、スピンドルの先端部の洗浄に先立ってカバーを２つに分解し、その洗浄後に再びカバーを組み立てるのは煩雑であり、作業者の負担が大きい。この点に鑑み、本発明の目的は、加工屑を含んだ加工液のスピンドルの先端部への付着を抑制して当該先端部の洗浄の頻度を低減させることが可能なスピンドルユニットを提供することである。
本発明の一側面によれば、加工具を装着するためのマウントが連結されている先端部を有するスピンドルと、該スピンドルの該先端部以外の少なくとも一部を囲繞し、かつ、エアベアリングを形成するために該スピンドルに向かってエアを噴射するためのエア噴出口が形成されているケーシングと、隙間を介して該スピンドルの該先端部を囲繞するように該ケーシングに装着されているカバーと、を備え、該スピンドルの該先端部の側面のうち該隙間を介して該カバーの内側面と対向する領域には、該スピンドルの周方向に沿って該スピンドルの周りを１周するように少なくとも１つの溝が形成されている、スピンドルユニットが提供される。
さらに、本発明の一側面においては、該少なくとも１つの溝が複数の溝であることが好ましい。
本発明の別の側面によれば、加工具を装着するためのマウントが連結されている先端部を有するスピンドルと、該スピンドルの該先端部以外の少なくとも一部を囲繞し、かつ、エアベアリングを形成するために該スピンドルに向かってエアを噴射するためのエア噴出口が形成されているケーシングと、隙間を介して該スピンドルの該先端部を囲繞するように該ケーシングに装着されているカバーと、を備え、該スピンドルの該先端部の側面のうち該隙間を介して該カバーの内側面と対向する領域には、該スピンドルの周方向に対して傾斜する方向に沿って該スピンドルの周りを少なくとも１周するように螺旋状の溝が形成され、該スピンドルは、該螺旋状の溝の内側に留まるエアが該マウント側に運ばれるように回転する、スピンドルユニットが提供される。
さらに、本発明の別の側面においては、該スピンドルの周りを少なくとも２周するように該螺旋状の溝が形成されていることが好ましい。
本発明のスピンドルユニットにおいては、スピンドルの先端部の側面のうち隙間を介してカバーの内側面と対向する領域にスピンドルの周りを１周する溝が形成されている。そして、溝が形成されている箇所においては、スピンドルの先端部とカバーとの隙間の断面積が大きくなる。
そのため、スピンドルの先端部とカバーとの隙間は、断面積が小さい空間（流路）と断面積が大きい空間（膨張室）とが交互に配置されている空間であると表現できる。ここで、断面積が大きい空間から断面積が小さい空間に流体が移動すると大きな圧力損失が生じる。
そのため、スピンドルの先端部とカバーとの隙間に加工屑を含んだ加工液が進入する場合であっても、膨張室の奥に設けられている流路まで加工液が進入しにくくなる。これにより、本発明のスピンドルユニットにおいては、加工屑を含んだ加工液のスピンドルの先端部への付着が抑制され、当該先端部の洗浄の頻度を低減させることが可能である。
図１は、研削装置の一例を模式的に示す斜視図である。 図２は、研削装置に含まれるスピンドルユニットの一例を模式的に示す一部断面側面図である。 図３は、図２に示されるスピンドルの一例の先端部とカバーの一例との隙間を示す部分拡大図である。 図４は、スピンドルの別の例の先端部を模式的に示す正面図である。
添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図１は、研削装置の一例を模式的に示す斜視図である。なお、図１に示されるＸ軸方向（前後方向）及びＹ軸方向（左右方向）は、水平面上において互いに直交する方向であり、また、Ｚ軸方向（上下方向）は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する方向（鉛直方向）である。
図１に示される研削装置２は、各構成要素を支持する基台４を有する。この基台４の上面には、Ｘ軸方向に沿って延在する直方体状の溝４ａが形成されている。そして、この溝４ａの上方には、チャックテーブル６が設けられている。また、溝４ａの内側には、チャックテーブル６に連結されているＸ軸方向移動機構（不図示）、回転駆動源（不図示）及び吸引源（不図示）が設けられている。
Ｘ軸方向移動機構は、例えば、モータ及びボールねじ等を含み、チャックテーブル６をＸ軸方向に沿って移動させる。また、回転駆動源は、例えば、モータ及びプーリ等を含み、チャックテーブル６の上面（保持面）の中心を通る直線を回転軸としてチャックテーブル６を回転させる。
また、吸引源は、エジェクタ等を含み、チャックテーブル６の保持面近傍の空間に吸引力を作用させる。そのため、被加工物１１がチャックテーブル６の保持面に置かれた状態で吸引源を動作させれば、被加工物１１がチャックテーブル６に保持される。
この被加工物１１は、例えば、シリコン等の半導体材料からなり、その表面１１ａ側に複数のデバイスが形成されているウェーハである。また、被加工物１１の表面１１ａには、例えば、樹脂からなり、被加工物１１の裏面１１ｂ側を研削する際のデバイスの破損を防止する保護テープ１３が貼着されている。
さらに、チャックテーブル６の周囲には、その保持面６ａが露出するようにチャックテーブル６を囲む直方体状のテーブルカバー８が設けられている。このテーブルカバー８の幅（Ｙ軸方向に沿った長さ）は基台４の上面に形成されている溝４ａの幅と概ね等しい。また、テーブルカバー８の前後には、Ｘ軸方向に沿って伸縮可能な防塵防滴カバー１０が設けられている。
また、基台４の上面のうち溝４ａの後方に位置する領域には、四角柱状の支持構造１２が設けられている。この支持構造１２の前面には、Ｚ軸方向移動機構１４が設けられている。このＺ軸方向移動機構１４は、それぞれがＺ軸方向に沿って延在する一対のガイドレール１６を有する。そして、一対のガイドレール１６のそれぞれの前側には、Ｚ軸方向に沿ってスライド可能な態様でスライダ（不図示）が設けられている。
また、このスライダの前端部は、直方体状のＺ軸移動プレート１８の後面側に固定されている。さらに、一対のガイドレール１６の間には、Ｚ軸方向に沿って延在するねじ軸２０が配置されている。そして、ねじ軸２０の上端部には、ねじ軸２０を回転させるためのパルスモータ２２が連結されている。
また、ねじ軸２０のねじ山が形成された外周面上には、ねじ軸２０の回転に応じて循環するボールを収容するナット（不図示）が設けられ、ボールねじが構成されている。また、このナットは、Ｚ軸移動プレート１８の後面側に固定されている。そのため、パルスモータ２２でねじ軸２０を回転させれば、ナットとともにＺ軸移動プレート１８がＺ軸方向に沿って移動する。
さらに、Ｚ軸移動プレート１８の前側には、研削ユニット２４が設けられている。この研削ユニット２４は、Ｚ軸移動プレート１８の前面に固定されている円筒状の保持部材２６を有する。そして、保持部材２６は、スピンドルユニット２８を保持する。図２は、スピンドルユニット２８を模式的に示す一部断面側面図である。なお、図２においては、スピンドルユニット２８の一部の構成要素がブロックで示されている。
スピンドルユニット２８は、円筒状のケーシング３０を有する。このケーシング３０の底壁３０ａの中央には、円柱状の貫通孔３０ｂが形成されている。また、ケーシング３０の底壁３０ａには、エア供給源３２と連通するエア供給路３０ｃが形成されている。そして、このエア供給路３０ｃは、底壁３０ａの上面において開口する複数のエア噴出口３０ｄと、底壁３０ａの内側面において開口する複数のエア噴出口３０ｅと、底壁３０ａの下面において開口する複数のエア噴出口３０ｆとに連通する。
また、ケーシング３０は、スピンドル３４の先端部以外の少なくとも一部を囲繞する。このスピンドル３４は、Ｚ軸方向に沿って延在する円柱状の軸部３４ａと、軸部３４ａの径方向に沿って軸部３４ａから突出するようにそれぞれが設けられている一対のフランジ部３４ｂ，３４ｃとを有する。具体的には、フランジ部３４ｂは軸部３４ａの先端部（下端部）に設けられており、また、フランジ部３４ｃは軸部３４ａの基端部（上端部）と先端部（下端部）との間に設けられている。
さらに、一対のフランジ部３４ｂ，３４ｃのそれぞれの径は、ケーシング３０の内径よりも僅かに小さい。また、一対のフランジ部３４ｂ，３４ｃの間隔は、ケーシング３０の底壁３０ａの厚さよりも僅かに大きい。そして、スピンドル３４の軸部３４ａのうち一対のフランジ部３４ｂ，３４ｃの間に位置する部分がケーシング３０の貫通孔３０ｂに通されている。
また、スピンドル３４の基端部、具体的には、軸部３４ａの基端部の周囲には、モータ３６が設けられている。このモータ３６は、スピンドル３４の基端部に固定されているロータ３６ａと、隙間を介してロータ３６ａを取り囲むステータ３６ｂとを有する。また、ステータ３６ｂは、冷却ジャケット３８を介してケーシング３０に固定されている。そして、冷却ジャケット３８には、モータ３６を冷却するための冷却水が供給される冷却水路３８ａが形成されている。
また、スピンドル３４の先端部、具体的には、フランジ部３４ｂには、フランジ部３４ｂの外径と概ね等しい径を有する円板状のマウント４０が連結されている。そして、マウント４０には、マウント４０と概ね等しい径を有する研削ホイール（加工具）４２が装着されている。さらに、スピンドル３４の先端部の周囲には、例えば、ポリ塩化ビニル等の樹脂からなる円筒状のカバー４４が設けられている。このカバー４４は、隙間を介してスピンドル３４の先端部を囲繞するようにケーシング３０に装着されている。
図３は、図２に示されるスピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間を示す部分拡大図である。スピンドル３４の先端部の側面のうち隙間を介してカバー４４の内側面と対向する領域には、２つの溝４６ａ，４６ｂが形成されている。２つの溝４６ａ，４６ｂのそれぞれは、スピンドル３４の周方向に沿ってスピンドル３４の周りを１周するように形成されている。
また、溝４６ａの断面形状は、溝４６ａの底面に近付くほど幅が狭くなる台形状である。具体的には、溝４６ａのマウント４０側の側面は、スピンドル３４の周方向に対して傾斜する。例えば、この側面とＸ軸方向及びＹ軸方向に平行な平面とがなす角は、１０°以上５０°以下、代表的には３０°である。また、溝４６ａのケーシング３０側の側面は、スピンドル３４の周方向に対して概ね平行である。
また、溝４６ｂの断面形状は、幅が概ね一定な長方形状である。具体的には、溝４６ａを構成する一対の側面のそれぞれがスピンドル３４の周方向に対して概ね平行である。さらに、２つの溝４６ａ，４６ｂの深さ（Ｚ軸方向に直交する方向に沿った長さ）は、同じでもよいし、異なってもよい。同様に、２つの溝４６ａ，４６ｂのそれぞれの底面の幅（Ｚ軸方向に沿った長さ）も同じでもよいし、異なってもよい。
また、カバー４４の内側面にも溝４８が形成されている。この溝４８は、カバー４４の内側面を１周し、かつ、スピンドル３４の先端部の側面のうち溝４６ｂよりも上に位置する領域と対向する。また、溝４６の断面形状は、直角三角形状である。具体的には、溝４８は、スピンドル３４の周方向に対して傾斜するマウント４０側の側面と、スピンドル３４の周方向に対して概ね平行なケーシング３０側の側面とによって構成される。
なお、溝４６ａの断面形状は、溝４６ｂのように長方形状でもよいし、溝４８のように直角三角形状でもよい。また、溝４６ｂの断面形状は、溝４６ａのように台形状でもよいし、溝４８のように直角三角形状でもよい。また、溝４８の断面形状は、溝４６ａのように台形状でもよいし、溝４６ｂのように長方形状でもよい。
そして、溝４６ａ，４６ｂ又は溝４８が形成されている箇所においては、スピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間の断面積（具体的には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に平行な断面の面積）が大きくなる。そのため、スピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間は、マウント４０側から断面積が小さい空間（流路）５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄと断面積が大きい空間（膨張室）５２ａ，５２ｂ，５２ｃとが交互に配置されている空間であると表現できる。
なお、各流路５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄの幅（Ｚ軸方向に直交する方向に沿った長さ）は、例えば、０．１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である。また、膨張室５２ａ，５２ｂの幅（溝４６ａ，４６ｂの底面とカバー４４の内側面との間隔）は、例えば、２．０ｍｍ～５．０ｍｍである。また、膨張室５２ｃの最大幅（スピンドル３４の側面と溝４８の最も深い箇所との間隔）は、例えば、２．０ｍｍ～５．０ｍｍである。
また、図１及び図２に示される研削ホイール４２は、複数の研削砥石４２ａと、複数の研削砥石４２ａが環状に離散して配置されている下面を有するホイール基台４２ｂとを有する。なお、複数の研削砥石４２ａは、ビトリファイドボンド又はレジンボンド等の結合材に分散されたダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素（ｃＢＮ：ｃｕｂｉｃ Ｂｏｒｏｎ Ｎｉｔｒｉｄｅ）等の砥粒を有する。
また、ホイール基台４２ｂは、例えば、ステンレス鋼又はアルミニウム等の金属材料からなる。さらに、研削ホイール４２の近傍には、複数の研削砥石４２ａによって被加工物１１を研削する際に純水等の液体（加工液）を加工点に供給する加工液供給ノズル（不図示）が設けられている。
上述した研削装置２において被加工物１１を研削する際には、まず、保護テープ１３を介して被加工物１１がチャックテーブル６の保持面６ａに置かれた状態で、チャックテーブル６に連結されている吸引源を動作させる。これにより、被加工物１１の裏面１１ｂを露出した状態で被加工物１１がチャックテーブル６に保持される。
次いで、スピンドル３４とともに研削ホイール４２を回転させた時の複数の研削砥石の軌跡がチャックテーブル６の保持面６ａの中心と重なるように、チャックテーブル６に連結されているＸ軸方向移動機構を動作させる。
次いで、エア供給路３０ｃを介してエア供給源３２から供給されるエアをケーシング３０のエア噴出口３０ｄ，３０ｅ，３０ｆからスピンドル３４に向かって噴出する。これにより、ケーシング３０とスピンドル３４との間にエアベアリングが形成される。なお、エア噴出口３０ｄ，３０ｅ，３０ｆから噴射されたエアは、スピンドル３４とカバー４４との隙間等からスピンドルユニット２８の外部へと排気される。
次いで、チャックテーブル６を回転させるようにチャックテーブル６に連結されている回転駆動源を動作させ、かつ、スピンドル３４とともに研削ホイール４２を回転させるようにモータ３６を動作させる。
次いで、複数の研削砥石４２ａを被加工物１１に接触させるように、Ｚ軸方向移動機構１４を動作させる。具体的には、Ｚ軸移動プレート１８を下降させるようにパルスモータ２２を動作させる。また、複数の研削砥石４２ａと被加工物１１との接触界面に加工液供給ノズルから加工液を供給する。
これにより、被加工物１１の裏面１１ｂ側が研削される。この時、研削によって生じた加工屑を含んだ加工液がミスト状に飛散する。そして、飛散した加工液は、スピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間に進入することがある。
ここで、スピンドルユニット２８においては、スピンドル３４の先端部の側面のうち隙間を介してカバー４４の内側面と対向する領域にスピンドル３４の周りを１周する溝４６ａ，４６ｂが形成されている。すなわち、スピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間は、交互に配置されている流路５０ａ，５０ｂ，５０ｃと膨張室５２ａ，５２ｂとを含む。
そのため、スピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間に加工屑を含んだ加工液が進入する場合であっても、膨張室５２ａ，５２ｂの奥に設けられている流路５０ｂ，５０ｃまで加工液が進入しにくくなる。これにより、スピンドルユニット２８においては、加工屑を含んだ加工液のスピンドル３４の先端部への付着が抑制され、当該先端部の洗浄の頻度を低減させることが可能である。
さらに、スピンドルユニット２８においては、カバー４４の内側面を１周し、かつ、スピンドル３４の先端部の側面のうち溝４６ｂよりも上に位置する領域と対向する溝４８がカバー４４に形成されている。そのため、流路５０ｃまで加工液が進入する場合であっても、ケーシング３０の底壁に形成されているエア噴出口３０ｄ，３０ｅ，３０ｆ近傍の領域に加工液が付着することを抑制できる。
また、スピンドルユニット２８においては、流路５０ｂに進入できなかった加工液が溝４６ａの底面及び／又は側面に付着し、また、流路５０ｃに進入できなかった加工液が溝４６ｂの底面及び／又は側面に付着しやすい。ただし、溝４６ａ，４６ｂの底面及び／又は側面に付着した加工液は、スピンドル３４の回転に伴って作用する遠心力によって溝４６ａ，４６ｂから排出されやすい。
そして、溝４６ａ，４６ｂから排出された加工液は、カバー４４の内側面を伝いながらスピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間の外部に排出されやすい。すなわち、スピンドルユニット２８においては、加工液が溝４６ａ，４６ｂの底面及び／又は側面に付着する場合であっても、この加工液の排出を促進することができる。
さらに、溝４６ａのマウント４０側の側面は、スピンドル３４の周方向に対して傾斜している。そのため、溝４６ａの底面及び／又は側面に付着した加工液は、スピンドル３４の回転に伴って作用する遠心力によって溝４６ａのマウント４０側の側面に沿って流れやすい。
そして、溝４６ａのマウント４０側の側面を流れた加工液は、流路５０ａを通ってスピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間の外部に排出されやすい。すなわち、スピンドルユニット２８においては、加工液が溝４６ａの底面及び／又は側面に付着する場合であっても、この加工液の排出を促進することができる。
なお、上述した内容は本発明の一態様であって、本発明の内容は上述した内容に限定されない。例えば、本発明のスピンドルユニットは、研削装置２に設けられるスピンドルユニットに限定されず、切削装置に設けられるスピンドルユニットでもよい。
また、本発明のスピンドルユニットにおいては、スピンドル３４の先端部の側面に形成される溝の数は２つに限定されない。例えば、この溝の数は、１つでもよいし、３つ以上でもよい。ただし、スピンドル３４の先端部とカバー４４との隙間への加工屑を含む加工液の進入を防ぐという観点では、スピンドル３４の先端部の側面に複数の溝が形成されることが好ましい。
また、本発明のスピンドルユニットにおいては、スピンドルの先端部の側面に螺旋状の溝が形成されてもよい。図４は、先端部、すなわち、図２及び３に示されるフランジ部３４ｂに対応する部分に螺旋状の溝が形成されたスピンドルの先端部を模式的に示す正面図である。
図４に示されるスピンドル５４の先端部の側面に形成されている螺旋状の溝５６は、スピンドル５４の周方向に対して傾斜する方向に沿ってスピンドル５４の周りを２周するように形成されている。
また、溝５６の断面形状は、図３に示される溝４６ａと同様の台形状である。なお、溝５６の断面形状は、図３に示される溝４６ｂのように長方形状でもよいし、図３に示される溝４８のように直角三角形状でもよい。
さらに、スピンドルユニットにスピンドル５４が含まれる場合には、被加工物１１を研削する際にスピンドル５４が図４に示される方向に沿って回転することが好ましい。この場合、溝５６の内側に留まる流体がマウント側に運ばれる。これにより、加工液が溝５６の底面及び／又は側面に付着する場合であっても、この加工液の排出を促進することができる。
なお、スピンドル５４の周りに延在する溝５６の巻き数は２周に限定されない。例えば、この巻き数は、１周でもよいし、３周以上でもよい。ただし、スピンドル５４の先端部とカバーとの隙間への加工屑を含む加工液の進入を防ぐという観点では、スピンドル５４の周りを少なくとも２周するように螺旋状の溝５６が形成されていることが好ましい。
また、本発明のスピンドルユニットにおいては、カバー４４の内側面に溝が形成されていなくてよい。また、本発明のスピンドルユニットにおいては、カバー４４の内側面に複数の溝が形成されていてもよい。
その他、上述した実施形態にかかる構造及び方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
２ ：研削装置
４ ：基台（４ａ：溝）
６ ：チャックテーブル（６ａ：保持面）
８ ：テーブルカバー
１０：防塵防滴カバー
１１：被加工物（１３ａ：表面、１３ｂ：裏面）
１２：支持構造
１３：保護テープ
１４：Ｚ軸方向移動機構
１６：ガイドレール
１８：Ｚ軸移動プレート
２０：ねじ軸
２２：パルスモータ
２４：研削ユニット
２６：保持部材
２８：スピンドルユニット
３０：ケーシング（３０ａ：底壁、３０ｂ：貫通孔、３０ｃ：エア供給路）
（３０ｄ，３０ｅ，３０ｆ：エア噴出口）
３２：エア供給源
３４：スピンドル（３４ａ：軸部、３４ｂ，３４ｃ：フランジ部）
３６：モータ（３６ａ：ロータ、３６ｂ：ステータ）
３８：冷却ジャケット（３８ａ：冷却水路）
４０：マウント
４２：研削ホイール（４２ａ：研削砥石、４２ｂ：ホイール基台）
４４：カバー
４６ａ，４６ｂ，４８：溝
５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ：流路
５２ａ，５２ｂ，５２ｃ：膨張室
５４：スピンドル
５６：溝

Claims (4)

  1. 加工具を装着するためのマウントが連結されている先端部を有するスピンドルと、
    該スピンドルの該先端部以外の少なくとも一部を囲繞し、かつ、エアベアリングを形成するために該スピンドルに向かってエアを噴射するためのエア噴出口が形成されているケーシングと、
    隙間を介して該スピンドルの該先端部を囲繞するように該ケーシングに装着されているカバーと、を備え、
    該スピンドルの該先端部の側面のうち該隙間を介して該カバーの内側面と対向する領域には、該スピンドルの周方向に沿って該スピンドルの周りを１周するように少なくとも１つの溝が形成されている、スピンドルユニット。
  2. 該少なくとも１つの溝が複数の溝である、請求項１に記載のスピンドルユニット。
  3. 加工具を装着するためのマウントが連結されている先端部を有するスピンドルと、
    該スピンドルの該先端部以外の少なくとも一部を囲繞し、かつ、エアベアリングを形成するために該スピンドルに向かってエアを噴射するためのエア噴出口が形成されているケーシングと、
    隙間を介して該スピンドルの該先端部を囲繞するように該ケーシングに装着されているカバーと、を備え、
    該スピンドルの該先端部の側面のうち該隙間を介して該カバーの内側面と対向する領域には、該スピンドルの周方向に対して傾斜する方向に沿って該スピンドルの周りを少なくとも１周するように螺旋状の溝が形成され、
    該スピンドルは、該螺旋状の溝の内側に留まる流体が該マウント側に運ばれるように回転する、スピンドルユニット。
  4. 該スピンドルの周りを少なくとも２周するように該螺旋状の溝が形成されている、請求項３に記載のスピンドルユニット。
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