JP2023133425A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 導波路ディスプレイ基板であって、該導波路ディスプレイ基板は、
   直径および平面を有する円柱部分であって、該平面の面積および形状は、該導波路ディスプレイ基板の厚み方向から見た場合、該導波路ディスプレイ基板の面積および形状である、円柱部分と、
   該基板にわたる厚みの非線形変化を定義する、該平面と逆側の曲がった部分と、
   該基板にわたる厚みの線形変化を定義する、該円柱部分と該曲がった部分との間のウェッジ部分と
   を備え、
   該曲がった部分の標的最大高さＤ _ｔ は、該直径の１０ ^－７ から１０ ^－６ 倍である、導波路ディスプレイ基板。
2. Ｗは、前記円柱部分に対する前記ウェッジ部分の最大高さであり、Ｗは、Ｄ _ｔ の３０％より低い、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
3. Ｄは、前記円柱部分に対する前記曲がった部分の最大高さであり、Ｄは、Ｄ _ｔ の７０％と１３０％との間にある、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
4. 前記厚みの非線形変化は、厚みの二次の変化である、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
5. 前記曲がった部分は、ドームの形態にある、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
6. 前記ドームは、球面状である、請求項５に記載の導波路ディスプレイ基板。
7. 前記導波路ディスプレイ基板のアベレージ厚みは、約２００ミクロンと約２０００ミクロンとの間にある、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
8. 前記導波路ディスプレイ基板のアベレージ直径は、約２センチメートルと約５０センチメートルとの間にある、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
9. 前記導波路ディスプレイ基板は、成形されたポリマーを備える、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
10. 前記導波路ディスプレイ基板は、研磨されたガラス、シリコン、または金属の基板のうちの少なくとも１つを備える、請求項１に記載の導波路ディスプレイ基板。
11. 方法であって、該方法は、
    導波路ディスプレイ基板を作製することであって、該ディスプレイ基板が、
    直径および平面を有する円柱部分であって、該平面の面積および形状は、該導波路ディスプレイ基板の厚み方向から見た場合、該導波路ディスプレイ基板の面積および形状である、円柱部分と、
    該平面と逆側にあり、該基板にわたる厚みの非線形変化を定義する曲がった部分と、
    該円柱部分と該曲がった部分との間にあり、該基板にわたる厚みの線形変化を定義するウェッジ部分と
    を備えるようにする、こと
    を含み、
    該導波路ディスプレイ基板は、該曲がった部分の標的最大高さＤ _ｔ が該直径の１０ ^－７ から１０ ^－６ 倍であるように作製される、方法。
12. Ｗは、前記円柱部分に対する前記ウェッジ部分の最大高さであり、前記導波路ディスプレイ基板は、ＷがＤ _ｔ の３０％より低くなるように、作製される、請求項１１に記載の方法。
13. Ｄは、前記円柱部分に対する前記曲がった部分の最大高さであり、前記導波路ディスプレイ基板は、ＤがＤ _ｔ の７０％と１３０％との間にあるように、作製される、請求項１１に記載の方法。
14. 前記導波路ディスプレイ基板は、前記厚みの非線形変化が厚みの二次の変化であるように、作製される、請求項１１に記載の方法。
15. 前記導波路ディスプレイ基板は、前記曲がった部分がドームの形態にあるように、作製される、請求項１１に記載の方法。
16. 前記導波路ディスプレイ基板は、前記ドームが球面状であるように、作製される、請求項１５に記載の方法。
17. 前記導波路ディスプレイ基板は、前記導波路ディスプレイ基板のアベレージ厚みが約２００ミクロンと約２０００ミクロンとの間にあるように、作製される、請求項１１に記載の方法。
18. 前記導波路ディスプレイ基板は、前記導波路ディスプレイ基板のアベレージ直径が約２センチメートルと約５０センチメートルとの間にあるように、作製される、請求項１１に記載の方法。
19. 前記導波路ディスプレイ基板は、成形されたポリマーを使用して作製される、請求項１１に記載の方法。
20. 前記導波路ディスプレイ基板は、研磨されたガラス、シリコン、または金属の基板のうちの少なくとも１つを使用して作製される、請求項１１に記載の方法。