JP2023101963A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄装置において、被洗浄物の洗浄面とノズルとの距離を一定にして洗浄を行う。【解決手段】保持面２８２で被洗浄物９０を保持するテーブル２８と、保持面２８２の中心を中心にテーブル２８を回転させる回転機構２９と、保持面２８２に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズル１０と、を備え、保持面２８２を洗浄する洗浄装置１であって、ノズル１０を保持面２８２に垂直方向に移動させる昇降機構１１と、昇降機構１１によってノズル１０を下降させ保持面２８２に対してノズル１０を適切な高さ位置に位置づける位置決め部１２と、を備える、洗浄装置１。【選択図】図１

Description

本発明は、テーブルの保持面を洗浄する洗浄装置に関する。

例えば、特許文献１、特許文献２、又は特許文献３に開示されているように、ウェーハを研削する研削装置は、チャックテーブルの保持面に保持されたウェーハの上面に水とエアとを混合させた二流体を噴射して、ウェーハの上面を洗浄する洗浄装置を備えている。

特開２０１１－２００７８５号公報 特開２０１５－１３３３９９号公報 特開２０２０－０７７７２８号公報

上記のような洗浄装置は、二流体を噴射するノズルの先端とウェーハの上面との距離を一定にすることで、ノズルから噴射された二流体によって良好な洗浄を実施できる。しかし、研削されたウェーハの上面に対してノズルの高さを治具等を用いて調整する必要があり、ノズルの先端とウェーハの上面との距離をその都度同一にすることが難しい。

また、ノズルから噴射させた二流体によって、チャックテーブルの保持面の洗浄も行っている。よって、チャックテーブルの保持面高さに対応してノズルの高さを変える必要がある。また、保持面を洗浄するときのノズルの高さ位置とウェーハの上面を洗浄するときのノズルの高さ位置と、を変える必要がある。

したがって、洗浄装置においては、被洗浄物の洗浄面とノズルとの距離を一定にして洗浄を行うという課題がある。

上記課題を解決するための本発明は、保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面を洗浄する洗浄装置であって、該ノズルを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該昇降機構によって該ノズルを下降させ該保持面に対して該ノズルを適切な高さ位置に位置づける位置決め部と、を備える、洗浄装置である。
本発明に係る洗浄装置において、例えば、前記位置決め部は、前記ノズルに連結され、前記保持面、又は該保持面に対して環状に配置される基準面に接触するローラである。
本発明に係る洗浄装置において、例えば、前記位置決め部は、前記ノズルを昇降自在に支持するガイドレールと、該ノズルに連結され該ガイドレールによって昇降自在で前記保持面に対向した噴射口を有する背圧ノズルと、を備え、該噴射口から該保持面に二流体を噴射し、該二流体の背圧によって該ノズルを適切な高さ位置に位置づけると好ましい。

また、上記課題を解決する本発明は、保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面に保持された被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、該ノズルを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該ノズルを昇降自在に支持するガイドレールと、該保持面に対向した噴射口を有する背圧ノズルと、を備え、該噴射口から該保持面が保持した被洗浄物の上面に流体を噴射し、該流体の背圧によって昇降自在な該ノズルを、該保持面が保持した被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置に位置づけ被洗浄物を洗浄する、洗浄装置である。

また、上記課題を解決する本発明は、保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面または該保持面が保持した被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置であって、該ノズルを収容し下面を開口したボックスと、該ボックスを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該ボックスを昇降自在に支持する昇降自在機構と、を備え、該昇降機構によって該ボックスを下降させ、該ノズルから該ボックス内に流体を噴出させ、該流体の背圧によって該ボックスの下面と該保持面との間、または、該ボックスの下面と該保持面に保持された被洗浄物の上面との間に隙間を形成させ、該保持面または該保持面に保持された被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置に該ノズルを位置づけ、該保持面または該保持面に保持された被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置である。

また、上記課題を解決するための本発明は、保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面または該保持面が保持した被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置であって、該ノズルを収容し下面を開口したボックスと、該ボックスを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該ボックスを昇降自在に支持する昇降自在機構と、該保持面に対向した噴射口と、を備え、該昇降機構によって該ボックスを下降させ、該噴射口から該保持面に流体を噴出させ、該流体の背圧によって該ボックスの下面と該保持面との間、または、該ボックスの下面と被洗浄物の上面との間に隙間を形成させ、該保持面または被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置に該ノズルを位置づけ、該保持面または被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置である。
そして、本発明に係る洗浄装置において、前記噴射口は、前記ボックスの下面に環状に形成されると好ましい。

本発明に係る洗浄装置は、ノズルを保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、昇降機構によってノズルを下降させ保持面に対してノズルを適切な高さ位置に位置づける位置決め部と、を備えることで、保持面と二流体を噴射するノズルとの距離を一定に保つことが可能となるため、例えば、研削装置のチャックテーブルの保持面のように、定期的に保持面を研削砥石で研削（セルフグラインド）して保持面の高さが変わっても、保持面の洗浄を良好に行うことができる。また、被加工物の上面に対して一定の距離で二流体ノズルを位置づけることができるので、被加工物の上面を良好に洗浄できる。
例えば、位置決め部が、ノズルに連結され、保持面、又は保持面に対して環状に配置される基準面（例えば、保持面と同一高さ面）に接触するローラである場合や、位置決め部が、ノズルを昇降自在に支持するガイドレールと、ノズルに連結されガイドレールによって昇降自在で保持面に対向した噴射口を有する背圧ノズルと、を備え、噴射口から保持面に流体を噴射し、流体の背圧によってノズルを適切な高さ位置に位置づける構成となっている場合には、被洗浄面の高さが変化したとしても二流体ノズルの高さを調整する複雑な制御を行う制御部を備える必要がないので、洗浄装置を小型化できる。

本発明に係る洗浄装置は、背圧ノズルの噴射口からテーブルの保持面が保持した被洗浄物の上面に流体を噴射し、流体の背圧によって昇降自在なノズルを、保持面が保持した被洗浄物の上面に対し適切な高さ位置に位置づけ、ノズルから被洗浄物の上面に対して一定の距離で二流体を噴射することができるので、被洗浄物の上面を良好に洗浄できる。

本発明に係る洗浄装置は、昇降機構によってボックスを下降させ、ノズルからボックス内に流体を噴出させ、ボックスの開口から噴出させた流体の背圧によってボックスの下面と保持面との間、または、ボックスの下面と保持面に保持された被洗浄物の上面との間に隙間を形成させ、保持面または保持面に保持された被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置にノズルを位置づけ、ノズルから保持面または被洗浄物の上面に対して一定の距離で二流体を噴射することができるので、保持面または被洗浄物の上面を良好に洗浄できる。

本発明に係る洗浄装置は、昇降機構によってボックスを下降させ、保持面に対向するように例えばボックスの下面に環状に形成された噴射口から保持面に流体を噴出させ、流体の背圧によってボックスの下面と保持面との間、または、ボックスの下面と被洗浄物の上面との間に隙間を形成させ、保持面または被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置にノズルを位置づけ、ノズルから保持面または被洗浄物の上面に対して一定の距離で二流体を噴射することができるので、保持面または被洗浄物の上面を良好に洗浄できる。

本発明に係る実施形態１の洗浄装置を備える研削装置の斜視図である。 位置決め部がローラである実施形態１の洗浄装置によって、保持面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 本発明に係る実施形態２の洗浄装置を備える研削装置の斜視図である。 実施形態２の洗浄装置によって、セルフグラインド前の保持面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 実施形態２の洗浄装置によって、セルフグラインドがされたことでセルフグラインド前に比べて高さが低くなった保持面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 実施形態２の洗浄装置によって、セルフグラインドがされた後の保持面で吸引保持された被加工物の上面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 本発明に係る実施形態３の洗浄装置を備える研削装置の斜視図である。 実施形態３の洗浄装置によって、テーブルの保持面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 実施形態３の洗浄装置によって、テーブルの保持面に吸引保持された被加工物の上面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 実施形態３の洗浄装置によって、テーブルの保持面に吸引保持された被加工物の上面を二流体洗浄している状態を説明する斜視図である。 本発明に係る実施形態４の洗浄装置を備える研削装置の斜視図である。 実施形態４の洗浄装置によって、テーブルの保持面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。 実施形態４の洗浄装置のボックスの下面に環状に形成された噴射口を説明する斜視図である。 実施形態４の洗浄装置によって、テーブルの保持面に吸引保持された被加工物の上面を二流体洗浄している状態を説明する側面図である。

図１に示す研削装置２は、テーブル２８上に保持された被加工物９０（研削後には被洗浄物９０となる）を研削機構２３によって研削する装置である。研削装置２のベース２０上の前方（－Ｙ方向側）は、テーブル２８に対して被加工物９０の搬入出が行われる搬入出領域となっており、また、ベース２０上の後方（＋Ｙ方向側）は、研削機構２３によってテーブル２８上に保持された被加工物９０の研削加工が行われる加工領域となっている。そして、研削装置２は、本発明に係る洗浄装置１（以下実施形態１の洗浄装置１とする）を備えている。なお、研削装置２は、粗研削機構と仕上げ研削機構とを備え、回転するターンテーブルで被加工物９０を粗研削機構、又は仕上げ研削機構の下方に位置づけ可能な２軸以上の研削装置等であってもよい。

被加工物９０は、例えば、シリコン母材等からなる円形の半導体ウェーハであり、図１においては下方を向いている被加工物９０の表面９００（以下、下面９００とする）は、複数のデバイスが形成されており、図示しない保護テープが貼着されて保護されている。被加工物９０の上側を向いている裏面９０３（以下、上面９０３とする）は、研削加工が施される被加工面となる。

図１に示す外形が平面視円形状のテーブル２８は、例えば、円形板状のポーラス部材２８０と、ポーラス部材２８０を支持する枠体２８１とを備える。ポーラス部材２８０は、エジェクター機構又は真空発生装置等の吸引源２８９に連通し、吸引源が吸引することで生み出された吸引力が、ポーラス部材２８０の上面である保持面２８２に伝達されることで、テーブル２８は保持面２８２上で被加工物９０を吸引保持できる。ポーラス部材２８０の保持面２８２と枠体２８１の上面２８３とは面一になっており、同一の高さとなっている。

図１に示すように、テーブル２８は、カバー２８４によって周囲を囲まれつつ、軸方向がＺ軸方向（鉛直方向）であり保持面２８２の中心を通る回転軸を軸に回転機構２９によって回転可能であり、カバー２８４及びカバー２８４に連結されＹ軸方向に伸縮する蛇腹カバー２８５の下方に配設された電動スライダー等の図示しないＹ軸送りユニットによって、ベース２０上をＹ軸方向に往復移動可能である。

ベース２０上の後方側には、コラム２１が立設されており、コラム２１の－Ｙ方向側の前面には、研削機構２３をテーブル２８の保持面２８２に垂直な上下方向（Ｚ軸方向）に移動させる研削送りユニット２４が配設されている。
研削送りユニット２４は、軸方向がＺ軸方向であるボールネジ２４０と、ボールネジ２４０と平行に延在する一対のガイドレール２４１と、ボールネジ２４０に連結しボールネジ２４０を回動させるモータ２４２と、内部のナットがボールネジ２４０に螺合し側部が一対のガイドレール２４１に摺接する昇降板２４３とから構成され、モータ２４２がボールネジ２４０を回動させることに伴い、昇降板２４３がガイドレール２４１にガイドされてＺ軸方向に移動し、昇降板２４３に取り付けられた研削機構２３もＺ軸方向に移動する。

テーブル２８の保持面２８２が保持した被加工物９０を研削する研削機構２３は、軸方向がＺ軸方向である回転軸２３０と、内部に形成したエアベアリング等によって回転軸２３０を回転可能に支持するハウジング２３１と、回転軸２３０を回転駆動するモータ２３２と、回転軸２３０の下端に接続された円板状のマウント２３３と、マウント２３３の下面に着脱可能に装着された研削ホイール２３４と、ハウジング２３１を支持し昇降板２４３に接続されたホルダ２３５と、を備える。

研削ホイール２３４は、ホイール基台２３６と、ホイール基台２３６の底面に環状に配置された略直方体形状の複数のセグメント砥石とを備える。セグメント砥石は、例えば、レジンボンドやビトリファイドボンド等でダイヤモンド砥粒等が固着されて成形されている。そして、複数の環状に並んだセグメント砥石によって、環状の研削砥石２３７が形成される。なお、セグメント砥石を隙間の無い円環状に配列した研削砥石、即ち、いわゆるコンティニュアス配列の研削砥石をホイール基台２３６の下面に配置してもよい。

回転軸２３０の内部には、研削水供給源に連通し研削水の通り道となる図示しない流路が、回転軸２３０の軸方向に貫通して設けられており、該図示しない流路は、さらにマウント２３３を通り、ホイール基台２３６の底面において環状の研削砥石２３７に向かって研削水を噴出できるように開口している。

本発明に係る洗浄装置１は、上記保持面２８２で被洗浄物９０を保持するテーブル２８と、保持面２８２の中心を中心にテーブル２８を回転させる回転機構２９と、保持面２８２に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズル１０と、ノズル１０を保持面２８２に垂直方向（Ｚ軸方向）に移動させる昇降機構１１と、昇降機構１１によってノズル１０を下降させ保持面２８２に対してノズル１０を適切な高さ位置に位置づける位置決め部１２とを備えている。

昇降機構１１は、例えばベース２０上にテーブル２８の移動経路をＸ軸方向に跨ぐように立設された図示しない門型コラムの前面に配設されており、Ｚ軸方向に延在するロッド１１１をシリンダケース１１０からＺ軸方向に昇降させるエアシリンダ、又は電動シリンダ等であり、ロッド１１１の下端には、例えばノズル１０を収容し下面に開口１１２（図２参照）を備えるボックス１１３が接続されている。

図２に示すように、ボックス１１３の下面には矩形状の開口１１２が形成されており、開口１１２の下方にテーブル３０の移動経路が位置している。
ボックス１１３内に配設されたノズル１０は、例えば、スリットノズルであり、少なくとも保持面２８２の半径以上の長さでＸ軸方向に延在しており、その下面にスリット状の噴射口１００が形成されており、帯状に二流体を噴射できる。

ノズル１０の上部側には、継手等及び樹脂チューブ等の水配管を介して、ポンプ等からなり洗浄水として例えば純水を送出可能な洗浄水源１０８が連通している。また、ノズル１０の上部側には、継手等及び樹脂チューブ等の配管を介して、コンプレッサー等からなり圧縮エアを送出可能なエア供給源１０９が連通している。

ボックス１１３内に収容されるノズル１０は、上記のようなスリットノズルに限定されるものではない。例えば、ボックス１１３内に、保持面２８２の中心から外周縁までの半径内に均等間隔を空けて複数のノズルが配設されていてもよい。この場合のノズルは、例えばＺ軸方向に延在する直線状の外形を備えており、その下端に形成された噴射口から噴射する二流体が扇状に広がる扇形扁平噴射のパターンが得られるフラットパターンノズル、又は円錐形噴射のパターンが得られるフルコーンパターンノズルであってもよい。また、複数のノズルが、保持面２８２の円周方向にずらして配置されており、相対的に回転する保持面２８２の中心に近い円環状領域、保持面２８２の中部の円環状領域、及び保持面２８２の外周側の円環状領域をそれぞれのノズルから噴射された二流体が洗浄してもよい。

実施形態１の洗浄装置１の位置決め部１２は、ノズル１０に例えばボックス１１３を介して連結され、保持面２８２、又は保持面２８２と本実施形態においては同一高さ面であり保持面２８２に対して環状に配置された枠体２８１の上面２８３に接触するローラ１２である。ローラ１２は、例えば、ボックス１１３の外側面に回転軸を介して回転自在に支持されている。ローラ１２の下部分は、図２に示すように、ボックス１１３の下面よりも所定の距離下に突出している。なお、ローラ１２は、ボックス１１３内においてノズル１０の側面に直に連結されていてもよい。

テーブル２８に保持された被加工物９０を研削する場合の研削装置２の動作について説明する。まず、着脱領域内において、被加工物９０がテーブル２８の保持面２８２上に互いの中心を略合致させた状態で載置される。吸引源２８９により生み出される吸引力が保持面２８２に伝達され、テーブル２８が保持面２８２上で被加工物９０を吸引保持する。

次いで、被加工物９０を保持したテーブル２８が、図示しないＹ軸送りユニットにより、研削機構２３の下まで＋Ｙ方向へ移動する。そして、研削機構２３の研削砥石２３７の回転中心が被加工物９０の回転中心に対して所定距離だけ水平方向にずれ、研削砥石２３７の回転軌跡が被加工物９０の回転中心を通るように位置づけされる。

モータ２３２が研削ホイール２３４を回転させ、研削機構２３が研削送りユニット２４によって降下して、回転する研削砥石２３７が被加工物９０の上面９０３に当接して研削が行われる。研削中は、テーブル２８が適切な回転速度で回転して保持面２８２上に保持された被加工物９０も回転するので、研削砥石２３７が被加工物９０の上面９０３の全面の研削加工を行う。また、図示しない流路を通る研削水が研削砥石２３７と被加工物９０との接触部位に対して供給され、接触部位が冷却される。

そして、被加工物９０を所望の厚み（予定されていた仕上げ厚み）まで研削後に、研削機構２３が上昇して、研削砥石２３７が被加工物９０から離間して研削が終了する。例えば、複数枚の被加工物９０に対してこのような研削加工が１枚ずつ連続的に行われることで、図１に示すテーブル２８の保持面２８２に研削屑が付着してしまい被加工物９０の研削不良を起こしてしまう場合がある。そこで、ある被加工物９０の研削が終了して、次の新しい被加工物９０をテーブル２８で吸引保持する前の適宜のタイミング等において、実施形態１の洗浄装置１によって保持面２８２を洗浄する。

被加工物９０を吸引保持していないテーブル２８が、Ｙ軸方向に移動し、図２に示すように、保持面２８２の回転中心から外周縁までの半径に沿って、その上方にノズル１０が位置付けられる。

次いで、昇降機構１１によってノズル１０がボックス１１３とともに降下し、ボックス１１３の下面よりも所定距離下方に突出しているローラ１２が保持面２８２に接触する。高さ位置決め部であるローラ１２が保持面２８２に接触した後、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス１１３、及びローラ１２の下降が停止する。なお、ローラ１２が保持面２８２に接触したことの認識は、昇降機構１１に例えば荷重を測定する荷重センサが配設されていれば、該荷重センサの値の変化によって認識されてもよい。または、昇降機構１１が電動シリンダである場合には、ロッド１１１を降下させる図示しないモータの負荷電流値の増加によって認識されてもよい。また、昇降機構１１がエアシリンダである場合には、図１に示すシリンダケース１１０の内圧の増加によって認識されてもよい。また、昇降機構１１がエアシリンダである場合には、昇降するピストンの高さ位置を近接センサなどで検知して、ピストンに連結するロッド１１１が降下したことを認識させてもよい。
なお、ローラ１２は、保持面２８２の代わりに保持面２８２に対して環状に配置され例えば保持面２８２と同一高さに位置する枠体２８１の基準面となる上面２８３に接触させてもよい。

これによって、図２に示すように、保持面２８２に対してノズル１０の噴射口１００を適切な高さ位置に位置づけることで、保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付けることが可能となる。所定距離Ｌは、実験的、経験的、又は理論的に選択された値であり、スリットノズルであるノズル１０の噴射口１００から噴射する二流体によって、保持面２８２を適切に洗浄できる距離である。

例えば、ボックス１１３内に配設されているノズルが、複数のノズルであり、フラットパターンノズル、又はフルコーンパターンノズルである場合には、複数のノズルから噴射した各二流体が保持面２８２に噴き付けられた各エリアにおいて、互いに洗浄力を打ち消さないようにできる距離が、各ノズルの噴射口と保持面２８２との所定距離Ｌとなる。この場合に、所定距離Ｌは、各エリアが重なり合わないようになっている値でもよい。なお、所定距離Ｌは、距離を変更して洗浄を行い、洗浄後の保持面２８２をカメラで撮像して、その撮像画から、円形または円環状の汚れ残りが無くなったときの距離としてもよい。

この状態で、図２に示す洗浄水源１０８から洗浄水がノズル１０に供給され、かつ、エア供給源１０９から高圧エアがノズル１０に供給される。ノズル１０内で、洗浄水とエアとが混合されて二流体Ｔになり、ノズル１０の噴射口１００から二流体Ｔが保持面２８２に向かって帯状に噴射される。また、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって保持面２８２全面が洗浄され、保持面２８２に付着している細かい研削屑等の付着物が洗い落とされる。なお、ローラ１２は、保持面２８２の回転に従動して回転し、保持面２８２を傷つけてしまうことはない。

ここで、仮に、図２に示す保持面２８２からノズル１０の噴射口１００までの距離が、予め決められた適切な所定距離Ｌよりも短くなっている場合には、噴射口１００から噴射された帯状の二流体Ｔが適切な勢いよりも強い勢いで、回転する保持面２８２に到達するため、二流体Ｔが保持面２８２ではね返ってしまう箇所が発生してしまい、保持面２８２全面の洗浄が不十分となる場合がある。また、仮に、保持面２８２からノズル１０の噴射口１００までの距離が、予め決められた適切な所定距離Ｌよりも長くなっている場合には、噴射口１００から噴射された帯状の二流体Ｔが適切な勢いよりも弱い勢いで、回転する保持面２８２に到達するため、保持面２８２全面の洗浄が不十分となる場合がある。しかし、本発明に係る洗浄装置１は、位置決め部であるローラ１２により、保持面２８２とノズル１０の噴射口１００との距離を予め決められた所定距離Ｌにしているため、保持面２８２の二流体洗浄を適切に行うことが可能となる。

付着物を洗い落とした二流体Ｔに含まれる洗浄水は、ボックス１１３と保持面２８２との隙間を通りテーブル２８上から流下して、例えば、図１に示すカバー２８４及び蛇腹カバー２８５のサイドに形成された排水口から図示しないウォーターケースに流下する。そして、所定時間保持面２８２の二流体洗浄が実施される。

ノズル１０が、本実施形態のようなスリットノズルではなく、ボックス１１３内に、保持面２８２の中心から外周縁までの半径内に均等間隔を空けて複数のノズルが配設されており、複数配設されたノズル各々が、下方に向かって扇状に広がる二流体を噴射する場合においても、ローラ１２によって、持面２８２と複数のノズルの噴射口との距離を予め決められた所定距離Ｌにすることで、保持面２８２の二流体洗浄を適切に行うことが可能となる。ここで、仮に保持面２８２から複数ノズルの噴射口までの距離が、予め決められた適切な所定距離Ｌよりも短くなっている場合には、各ノズルの噴射口から噴射された二流体の扇状の広がりが十分でない状態で、二流体が回転する保持面２８２に到達するため、保持面２８２に二流体が到達しにくい箇所が発生してしまい、洗浄が不十分となるが、このような事態を生じさせることが無い。また、仮に、保持面２８２から複数ノズルの噴射口までの距離が、予め決められた適切な所定距離Ｌよりも長くなっている場合には、複数のノズルの噴射口から噴射された各二流体が扇状に広がりすぎて、二流体が回転する保持面２８２に到達する前に、空中で互いに衝突して干渉してしまう。その結果、保持面２８２中に二流体が到達しにくい箇所が発生してしまい、保持面２８２の洗浄が不十分となるが、このような事態を生じさせることが無い。

例えば、複数枚の被加工物９０に対して先に説明したような研削加工が１枚ずつ連続的に行われることで、図１に示すテーブル２８の保持面２８２に研削屑が付着することで被加工物９０の研削不良を起こしてしまう場合がある。そこで、保持面２８２を研削砥石２３７で研削して、保持面２８２を研削砥石２３７の下面に平行にする。セルフグラインド後の保持面２８２の高さは、セルフグラインド前の高さよりも低くなる。

このように、低くなった保持面２８２を、洗浄装置１で洗浄する場合において、昇降機構１１によってノズル１０がボックス１１３とともに降下していき、ボックス１１３の下面よりも所定の距離下に突出しているローラ１２の下部分が保持面２８２に接触する。高さ位置決め部であるローラ１２が保持面２８２に接触して、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス１１３、及びローラ１２の下降が停止する。これによって、セルフグラインドで高さが低くなった保持面２８２から所定距離Ｌ（図２参照）だけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付けることが可能となり、セルフグラインド後の保持面２８２の二流体洗浄を適切に行うことが可能となる。

上記のように、本発明に係る実施形態１の図１、図２に示す洗浄装置１は、昇降機構１１によってノズル１０を下降させ保持面２８２に対してノズル１０を適切な高さ位置に位置づける位置決め部１２（ローラ１２）を備えることで、保持面２８２とノズル１０との距離を一定（所定距離Ｌ）に保つことが可能となるため、保持面２８２を適切に二流体洗浄可能である。また、保持面２８２の高さが変化したとしても、ローラ１２を保持面２８２に接触させるまで昇降機構１１によってノズル１０を降下させるだけで、保持面２８２とノズル１０との距離を所定距離Ｌとすることでき、ノズル１０の高さを調整する複雑な制御を行う制御部を備える必要がないので、洗浄装置１を小型化できる。

研削装置２は、図１に示す実施形態１の洗浄装置１に代えて、図３に示す実施形態２の洗浄装置３を備えていてもよい。実施形態２の洗浄装置３と実施形態１の洗浄装置１とは、一部構成が略同一の構成となっており、図３では、図１の洗浄装置１と同様に構成される部位には図１と同一の符号を付している。以下に、実施形態２の洗浄装置３の実施形態１の洗浄装置１と相違する構成について重点的に説明していく。

洗浄装置３の備える位置決め部３２は、ノズル１０を昇降自在に支持するガイドレール３２０と、ノズル１０に連結されガイドレール３２０によって昇降自在でテーブル２８の保持面２８２に対向した噴射口３３０（図４参照）を有する背圧ノズル３３と、を備えている。なお、図３では、ガイドレール３２０の構造を簡略化して示している。

例えば直進ノズルであり図３、図４に示す背圧ノズル３３は、ノズル１０の外側面に取り付けられており、ボックス１１３内において例えばスリットノズルであるノズル１０とともにＺ軸方向に昇降自在である。また、ノズル１０、背圧ノズル３３、ガイドレール３２０、及びボックス１１３は一体となって、昇降機構１１によってＺ軸方向に昇降可能である。背圧ノズル３３には、エア供給源１０９が連通している。

図４に具体的に示すガイドレール３２０は、ボックス１１３の内側面に固定されＺ軸方向に延在するガイドケース３２１と、ガイドケース３２１内をガイドケース３２１の内壁に沿って摺動し下端がノズル１０の上面に接続されたピストン３２２とを備えている。ガイドケース３２１の上部には、ピストン３２２のガイドケース３２１内での上下動を許容するためのエア排気口３２４が形成されている。なお、図示していない状態であるが、背圧ノズル３３からエアの噴射がされていない状態において、位置決め部３２のピストン３２２は、ガイドケース３２１の内部底面に接触して支持された状態になる。

以下に、図３に示す実施形態２の洗浄装置３を用いてテーブル２８の保持面２８２を洗浄する場合について説明する。被加工物９０を吸引保持していないテーブル２８が、Ｙ軸方向に移動し、図４に示すように、保持面２８２の回転中心から外周縁までの半径に沿って、その上方にノズル１０が位置付けられる。図４に示す洗浄水源１０８から洗浄水が、またエア供給源１０９から高圧エアがノズル１０に供給され、噴射口１００から二流体Ｔが保持面２８２に向かって帯状に噴射される。

並行して、昇降機構１１によりノズル１０がボックス１１３、及び位置決め部３２とともに降下していき、ノズル１０、ボックス１１３、及び位置決め部３２が所定の高さＺ１（所謂、原点高さＺ１）に位置付けされ、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス１１３、及び位置決め部３２の下降が停止する。なお、この状態においては、位置決め部３２のピストン３２２は、ガイドケース３２１の内部底面に接触して支持された状態（持ち上げられていない状態）になっている。

次に、図４に示すエア供給源１０９から背圧ノズル３３に毎分一定量のエアＢ（流体Ｂ）を供給し、噴射口３３０から下方にエアＢを噴射させる。この背圧ノズル３３に対するエアＢの供給量は、背圧ノズル３３から噴射され保持面２８２に吹き付けられたエアＢの背圧によって、例えば高さＺ２である保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付けることを可能とする量である。所定距離Ｌとは、実験的、経験的、又は理論的に選択され、ノズル１０の噴射口１００から噴射する二流体Ｔにより、保持面２８２を適切に洗浄するための値である。
なお、背圧ノズル３３の噴射口３３０から所定の量のエアＢを噴射した状態で、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス１１３、及び位置決め部３２を下降させてもよい。また、噴射口３３０から噴射する流体は、水であってもよい。また、噴射口３３０から噴射するエアまたは水の流量を変更して、所定距離Ｌにしてもよい。

背圧ノズル３３の噴射口３３０から保持面２８２に向かって噴射されたエアＢの背圧によって、図４に示すように、背圧ノズル３３、ノズル１０、及びノズル１０に接続されガイドケース３２１にガイドされるピストン３２２が、保持面２８２から離れるように＋Ｚ方向にボックス１１３内で上昇していく。そして、ノズル１０の噴射口１００が、保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方の位置である高さＺ３に位置付けされた状態となる。エア供給源１０９から背圧ノズル３３に毎分一定量のエアＢが供給され続けることで、この状態が維持され、また、テーブル２８が回転され、二流体Ｔにより保持面２８２全面が適切に洗浄される。

次に、図４に示すテーブル２８の高さＺ２である保持面２８２がセルフグラインドされ、図５に示す高さがセルフグラインド前に比べて低い高さＺ４となった保持面２８２を、洗浄装置３で洗浄する場合について説明する。

昇降機構１１によってノズル１０がボックス１１３及び位置決め部３２とともに降下していき所定の高さＺ１に位置付けされて、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス１１３及び位置決め部３２の下降が停止する。なお、この状態においては、位置決め部３２のピストン３２２は、ガイドケース３２１の内部底面に接触して支持された状態（持ち上げられていない状態）になっている。

そして、図５に示すように、ノズル１０の噴射口１００から二流体Ｔがセルフグラインド後の保持面２８２に向かって帯状に噴射される。また、エア供給源１０９から背圧ノズル３３に毎分一定量（図４に示す場合と同量）のエアＢを供給し、噴射口３３０から下方にエアＢを噴射させる。噴射口３３０から保持面２８２に向かって噴射されたエアＢの背圧によって、図５に示すように、背圧ノズル３３、ノズル１０、及びガイドケース３２１にガイドされるピストン３２２が、保持面２８２から離れるようにボックス１１３内で＋Ｚ方向に上昇していく。ここで、エア供給源１０９から背圧ノズル３３に供給するエアＢの毎分の供給量は、図４に示す場合と図５に示す場合とで同量であるため、背圧ノズル３３等の上昇距離が図４に示す場合よりも図５に示す場合の小さい段階で、ノズル１０の噴射口１００が、保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方の位置である高さＺ５に位置付けされた状態となる。エア供給源１０９から背圧ノズル３３に毎分一定量のエアＢが供給され続けることで、この状態が維持される。なお、背圧ノズル３３から毎分一定量の水を供給し続けてもよい。また、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって保持面２８２全面が所定時間洗浄された後、背圧ノズル３３から噴射した水によって保持面２８２の乾燥が防止される。

このように、本発明に係る実施形態２の洗浄装置３は、昇降機構１１によって複雑な高さ制御を行うことなくノズル１０、及び背圧ノズル３３等を所定の高さＺ１まで下降させてから、位置決め部３２を構成する背圧ノズル３３の噴射口３３０から保持面２８２に一定量の流体（エアＢまたは水）を噴射させるだけで、ノズル１０の噴射口１００と保持面２８２との距離を所定距離Ｌに保つことが可能となるため、保持面２８２を適切に二流体洗浄可能である。また、図４から図５に示すように保持面２８２の高さが変化したとしても、背圧ノズル３３から噴射する流体の背圧によって、保持面２８２と二流体Ｔを噴射するノズル１０の噴射口１００との距離を所定距離Ｌとする自動調整がなされるため、ノズル１０の高さを調整する複雑な制御を行う制御部を備える必要がないので、洗浄装置３を小型化できる。

本発明に係る図３に示す実施形態２の洗浄装置３は、上記のようなテーブル２８の保持面２８２の洗浄以外にも、保持面２８２に吸引保持された被加工物９０の上面９０３の洗浄にも使用できる。複数枚の被加工物９０に対して研削加工が１枚ずつ連続的に行われることで、研削が終了した一枚目の被加工物９０の仕上げ厚みよりも、研削が終了した二枚目の被加工物９０の仕上げ厚みが例えば薄くなっている場合がある。この場合においても、上記テーブル２８の保持面２８２がセルフグラインド前後で変わった場合と同様に、二枚目の被加工物９０の上面９０３からノズル１０の噴射口１００までの距離を適切にして二流体洗浄できる。即ち、背圧ノズル３３から噴射されるエアＢの背圧により、一枚目の被加工物９０の上面９０３よりも高さが低くなった二枚目の被加工物９０の上面９０３からノズル１０の噴射口１００までの距離が、一枚目の被加工物９０の上面９０３を二流体洗浄した際の距離と同値に調整されるためである。

例えば、図５に示したセルフグラインド後の保持面２８２が洗浄されたテーブル２８で、新たな被加工物９０を吸引保持してから、被加工物９０の研削を行い、その後に、保持面２８２で吸引保持された被加工物９０の上面９０３を二流体洗浄する場合を説明する。

図６に示す昇降機構１１によって、ノズル１０がボックス１１３及び位置決め部３２とともに降下していき、所定の高さＺ１（保持面２８２洗浄時と同様の原点高さＺ１）に位置付けされる。昇降機構１１による該位置付けは、原点高さＺ１までノズル１０、ボックス１１３及び位置決め部３２の下降が停止する。なお、この状態においては、位置決め部３２のピストン３２２は、ガイドケース３２１の内部底面に接触して支持された状態（持ち上げられていない状態）になっている。

そして、エア供給源１０９から背圧ノズル３３に毎分一定量（例えば、図５に示す場合と同量）のエアＢを供給し、噴射口３３０から下方にエアＢを噴射させる。上面９０３に向かって噴射されたエアＢの背圧によって、図６に示すように、背圧ノズル３３、ノズル１０、及びガイドケース３２１にガイドされるピストン３２２が、上面９０３から離れるように上昇していく。ここで、エア供給源１０９から背圧ノズル３３に供給するエアＢの毎分の供給量は、図５に示す場合と図６に示す場合とで同量であるため、背圧ノズル３３等の上昇距離が図５に示す場合よりも図６に示す場合の方が大きくなった段階（被加工物９０の厚み分大きくなった段階）で、ノズル１０の噴射口１００が、上面９０３から所定距離Ｌだけ上方の位置である高さＺ６に位置付けされた状態となる。エア供給源１０９から背圧ノズル３３に毎分一定量のエアＢが供給され続けてこの状態が維持される。なお、背圧ノズル３３から毎分一定量の水を供給し続けてもよい。
また、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって被加工物９０の上面９０３全面が洗浄された後、背圧ノズル３３から噴射した水によって被加工物９０の上面の乾燥が防止される。

このように、本発明に係る実施形態２の洗浄装置３は、昇降機構１１によって複雑な高さ制御を行うことなくノズル１０、及び背圧ノズル３３等を所定の高さＺ１まで下降させてから、位置決め部３２を構成する背圧ノズル３３の噴射口３３０から保持面２８２に一定量の流体（エアＢまたは水）を噴射させるだけで、ノズル１０の噴射口１００と保持面２８２が保持している被加工物９０の上面９０３との距離を所定距離Ｌに保つことが可能となるため、被加工物９０の上面９０３を適切に二流体洗浄可能である。また、被加工物９０の上面９０３の高さが変化したとしても、背圧ノズル３３から噴射する流体の背圧によって、上面９０３と二流体Ｔを噴射するノズル１０の噴射口１００との距離を所定距離Ｌとする自動調整がなされるため、ノズル１０の高さを調整する複雑な制御を行う制御部を備える必要がないので、洗浄装置３を小型化できる。

研削装置２は、図１に示す実施形態１の洗浄装置１に代えて、図７に示す実施形態３の洗浄装置５を備えていてもよい。なお、図１の洗浄装置１と同様に構成される部位には図１と同一の符号を付している。以下に、実施形態３の洗浄装置５について説明していく。

テーブル２８の保持面２８２、または保持面２８２が保持した被洗浄物９０（被加工物９０）の上面９０３を洗浄する洗浄装置５は、ノズル１０を収容し下面を開口したボックス５０と、ボックス５０を保持面２８２に垂直方向に移動させる昇降機構１１と、ボックス５０を昇降自在に支持する昇降自在機構５１と、を備えている。

図８に示すように、ボックス５０の下面には矩形状の開口５００が形成されており、開口５００の下方にテーブル２８の移動経路が位置している。ボックス５０の内側面に、ノズル１０が噴射口１００を下方の開口５００に向けた状態で固定されている。ボックス５０の上面には、ボックス５０内に通ずるエア流入口５０２が貫通形成されており、エア流入口５０２に継手及び配管を介してエア供給源１０９が連通している。

図７、図８に示すように、昇降自在機構５１は、昇降機構１１のＺ軸方向に上下動するロッド１１１の下端に固定されたベース５１０と、ベース５１０の－Ｙ方向側の前面に配設されＺ軸方向に延在する一対のガイドレール５１１と、側部が一対のガイドレール５１１に摺接する昇降板５１２と、を備えている。昇降板５１２の前面にはボックス５０が固定されている。また、昇降板５１２の上部側には左右に張り出す張り出し部５１３が形成されており、通常時（持ち上げられていない状態）は張り出し部５１３がベース５１０の上面に接触した状態で、昇降板５１２及びボックス５０がベース５１０に昇降自在に支持された状態になっている。なお、図８においては、昇降自在機構５１の構成の一部を簡略化して示している。

以下に、実施形態３の洗浄装置５を用いてテーブル２８の保持面２８２を洗浄する場合について説明する。図８に示すように、被加工物９０を吸引保持していないテーブル２８が、Ｙ軸方向に移動し、保持面２８２の回転中心から外周縁までの半径に沿って、その上方にノズル１０が位置付けられる。

次いで、昇降機構１１によってノズル１０がボックス５０及び昇降自在機構５１とともに降下していき、ノズル１０、ボックス５０、及び昇降自在機構５１が所定の高さＺ１に位置付けされて、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス５０、及び昇降自在機構５１の下降が停止する。

例えば、本実施形態においては、ノズル１０、ボックス５０、及び昇降自在機構５１が所定の高さＺ１に位置付けされた時点で、ノズル１０の噴射口１００が、保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方の位置である高さＺ３に位置付けされる。そして、ボックス５０内にはエア流入口５０２からエアを供給せずに、エア供給源１０９からノズル１０にのみエアが供給され、かつ、洗浄水源１０８から洗浄水がノズル１０に供給され、ノズル１０の噴射口１００から二流体Ｔが保持面２８２に向かって帯状に噴射される。

これによって、図８に示すノズル１０の噴射口１００と保持面２８２との距離が保持面２８２を適切に洗浄するため所定距離Ｌとなっている状態で、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって保持面２８２全面が二流体洗浄される。そして、所定時間保持面２８２の二流体洗浄が実施された後、保持面２８２が乾燥される。なお、二流体Ｔは、保持面２８２とボックス５０の下面との隙間からボックス５０外に出ていく。

次に、実施形態３の洗浄装置５を用いて、図９に示すテーブル２８の洗浄された保持面２８２に被加工物９０を吸引保持して、吸引保持された被加工物９０の上面９０３を二流体洗浄する場合について説明する。被加工物９０を吸引保持したテーブル２８が、Ｙ軸方向に移動し、被加工物９０の上面９０３の回転中心から外周縁までの半径に沿って、その上方にノズル１０が位置付けられる。

昇降機構１１によって、ノズル１０がボックス５０及び昇降自在機構５１とともに降下していき、ノズル１０、ボックス５０、及び昇降自在機構５１が所定の高さＺ１に位置付けされて、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス５０、及び昇降自在機構５１の下降が停止する。

図９に示すノズル１０の噴射口１００から二流体Ｔが上面９０３に向かって帯状に噴射される。また、エア供給源１０９からボックス５０内に対してエア流入口５０２を通して毎分一定量のエアＢを供給し、ボックス５０内にエアＢを噴出させる。さらに、ボックス５０の開口５００から上面９０３に噴射されたエアＢの背圧によって、ボックス５０の下面と保持面２８２に保持された被加工物９０の上面９０３との間に隙間を形成させる。ボックス５０内に対するエアＢの供給量は、開口５００から上面９０３に噴射されたエアＢの背圧によって、上面９０３から所定距離Ｌだけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付けることを可能とする量であり、一対のガイドレール５１１に摺接する昇降板５１２、昇降板５１２に接続されたボックス５０、及びボックス５０の内側面に固定されたノズル１０が、図７、図８に示す状態から、図９、図１０に示すように＋Ｚ方向に上昇していく。そして、図９に示すように、ノズル１０の噴射口１００が、上面９０３から所定距離Ｌだけ上方の高さＺ７（図８に示す高さＺ３よりも被加工物９０の厚み分だけ高い高さＺ７）に位置付けされた状態となり、エア供給源１０９からボックス５０に毎分一定量のエアＢが供給され続けてこの状態が維持される。

また、図９に示すように、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって被加工物９０の上面９０３全面が適切に洗浄される。そして、所定時間上面９０３の二流体洗浄が実施された後、ノズル１０を上昇退避させる。なお、ノズル１０の噴射口１００から水のみを噴出させ、上面９０３が乾燥されるのを防止してもよい。

このように、本発明に係る洗浄装置５は、昇降機構１１によってボックス５０を下降させ、ノズル１０からボックス５０内に流体であるエアＢを噴出させ、ボックス５０の開口５００から噴出させたエアＢの背圧によってボックス５０の下面と保持面２８２との間、または、ボックス５０の下面と保持面２８２に保持された被加工物９０の上面９０３との間に隙間を形成させ、保持面２８２または保持面２８２に保持された被加工物９０の上面９０３に対して適切な高さ位置にノズル１０を位置づけ、ノズル１０から保持面２８２または被加工物９０の上面９０３に対して一定の距離（所定距離Ｌ）で二流体Ｔを噴射することができるので、保持面２８２または被加工物９０の上面９０３を良好に洗浄できる。

図１１に示すように、研削装置２は、図７に示す実施形態３の洗浄装置５に代えて、実施形態４の洗浄装置６を備えていてもよい。なお、図７の洗浄装置５と同様に構成される部位には図１１においても同一の符号を付している。以下に、実施形態４の洗浄装置６について説明していく。

テーブル２８の保持面２８２または保持面２８２が保持した被洗浄物である被加工物９０の上面９０３を洗浄する洗浄装置６は、ノズル１０を収容し下面を開口したボックス６０と、ボックス６０を保持面２８２に垂直方向に移動させる昇降機構１１と、ボックス６０を昇降自在に支持する昇降自在機構５１と、保持面２８２に対向した噴射口６１０（図１２参照）と、を備えている。

図１２に示すボックス６０の下面には矩形状の開口６００が形成されており、開口６００の下方にテーブル２８の移動経路が位置している。ボックス６０の内側面にノズル１０が噴射口１００を下方の開口６００に向けて固定されている。

例えば、図１１，図１２に示すボックス６０の外側壁６０８の外面には、テーブル２８の保持面２８２に対向した噴射口６１０を有する背圧ノズル６１が配設されている。そして、背圧ノズル６１には、継手及び配管を介してエア供給源１０９が連通している。

なお、洗浄装置６は、噴射口６１０に代えて、図１２、図１３に示すように、ボックス６０の下面に環状に形成された噴射口６０９を備えていてもよい。即ち、この場合には、例えば、図１２、図１３に示すボックス６０は、内側壁６０７と、外側壁６０８とを備えており、内側壁６０７と外側壁６０８との間に所定の隙間（空間）を備えた二重構造であり、該隙間の下端が噴射口６０９となる。この場合においては、図１２に示すボックス６０の上面には、噴射口６０９に通ずる流入口６０２が形成されており、流入口６０２に継手及び配管を介してエア供給源１０９が連通している。

以下に、実施形態４の洗浄装置６を用いて図１２に示すテーブル２８の保持面２８２を洗浄する場合について説明する。被加工物９０を吸引保持していないテーブル２８が、Ｙ軸方向に移動し、保持面２８２の回転中心から外周縁までの半径に沿って、その上方にノズル１０が位置付けられる。次いで、図１２に示す昇降機構１１によってノズル１０がボックス６０及び昇降自在機構５１とともに降下していき、ノズル１０、ボックス６０、及び昇降自在機構５１が所定の高さＺ１に位置付けされて、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス６０及び昇降自在機構５１の下降が停止する。

例えば、本実施形態においては、ノズル１０、ボックス６０、及び昇降自在機構５１が所定の高さＺ１に位置付けされた時点で、ノズル１０の噴射口１００が、保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方の位置である高さＺ３に位置付けされる。エア供給源１０９からノズル１０にのみエアが供給され、かつ、洗浄水源１０８から洗浄水がノズル１０に供給され、ノズル１０の噴射口１００から二流体Ｔが保持面２８２に帯状に噴射される。

これによって、ノズル１０の噴射口１００と保持面２８２との距離が保持面２８２を適切に洗浄するため所定距離Ｌである状態で、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって保持面２８２全面が洗浄される。そして、所定時間保持面２８２の二流体洗浄が実施された後、保持面２８２が乾燥される。なお、二流体Ｔは、保持面２８２とボックス６０の下面との隙間からボックス６０外に出ていく。

次に、実施形態４の洗浄装置６を用いて、図１４に示すテーブル２８の洗浄された保持面２８２に被加工物９０を吸引保持して、吸引保持された被加工物９０の上面９０３を二流体洗浄する場合について説明する。被加工物９０を吸引保持したテーブル２８が、被加工物９０の上面９０３の回転中心から外周縁までの半径に沿って、上方にノズル１０が位置付けられる。

昇降機構１１によってノズル１０がボックス６０及び昇降自在機構５１とともに降下していき、ノズル１０、ボックス６０及び昇降自在機構５１が所定の高さＺ１に位置付けされて、昇降機構１１によるノズル１０、ボックス６０及び昇降自在機構５１の下降が停止する。

ノズル１０の噴射口１００から二流体Ｔが上面９０３に向かって帯状に噴射される。また、エア供給源１０９から背圧ノズル６１に毎分一定量のエアＢ（流体Ｂ）を供給し、背圧ノズル６１の噴射口６１０からエアＢを噴出させ、噴射口６１０から上面９０３に噴射されたエアＢの背圧によって、ボックス６０の下面と保持面２８２に保持された被加工物９０の上面９０３との間に隙間を形成させる。ボックス６０内に対するエアＢの供給量は、開口６００から上面９０３に噴射されたエアＢの背圧によって、上面９０３から所定距離Ｌだけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付けることを可能とする量であり、一対のガイドレール５１１に摺接する昇降板５１２、昇降板５１２に接続されたボックス６０、及びボックス６０の内側面に固定されたノズル１０が＋Ｚ方向に上昇していく。そして、ノズル１０の噴射口１００が、保持面２８２から所定距離Ｌだけ上方の位置である高さＺ７に位置付けされた状態となり、エア供給源１０９から背圧ノズル６１に毎分一定量のエアＢが供給され続けることで、この状態が維持される。

上記背圧ノズル６１にエアＢを供給するのではなく、ボックス６０の流入口６０２にエアＢを供給して、ボックス６０の下面の矩形環状の噴射口６０９から上面９０３に噴射されたエアＢの背圧によって、ボックス６０の下面と保持面２８２に保持された被加工物９０の上面９０３との間に隙間を形成させ、噴射されたエアＢの背圧によって、上面９０３から所定距離Ｌだけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付け、エア供給源１０９からボックス６０の噴射口６０９に毎分一定量のエアＢが供給し続けることで、この状態を維持してもよい。
なお、ボックス６０の下面の矩形環状の噴射口６０９から毎分一定量の水を噴射して上面９０３から所定距離Ｌだけ上方にノズル１０の噴射口１００を位置付けてもよい。
そして、テーブル２８が回転するのに伴って、二流体Ｔによって上面９０３全面が適切に洗浄される。

なお、本発明に係る洗浄装置は実施形態１から実施形態４に限定されず、また、被加工物９０の研削工程、被加工物９０の上面９０３の洗浄工程、又はテーブル２８の保持面２８２の洗浄工程についても、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
図１４に示すボックス６０内をダクトファンなどの吸気源にダクト配管で連通してボックス６０内を負圧にして、ボックス６０内の噴霧を吸気してもよい。そして、保持面２８２、又は保持面２８２に保持された被加工物９０の上面９０３に対して所定距離Ｌ離してノズル１０が位置づけられているボックス６０の下端と、保持面２８２と、又は保持面２８２が保持する被加工物９０の上面９０３との間に水シールを形成してボックス６０の下端から噴霧が噴出するのを防止するようにしてもよい。また、水シールは、ノズル１０から噴出した二流体Ｔによって形成してもよいし、背圧ノズル６１から噴射した水、または、ボックス６０の下端の環状の噴射口６０９から噴射した水で形成してもよい。

１：実施形態１の洗浄装置
１０：ノズル １００：噴射口 １０８：洗浄水源 １０９：エア供給源
１１：昇降機構 １１０：ロッド １１１：シリンダケース １１３：ボックス
１２：ローラ（位置決め部）
２：研削装置 ２０：ベース ２１：コラム
２３：研削機構 ２４：研削送りユニット
２８：テーブル ２８２：保持面 ２８１：枠体 ２８３：枠体の上面 ２９：回転機構
３：実施形態２の洗浄装置
３２：位置決め部 ３２０：ガイドレール ３２１：ガイドケース ３２２：ピストン
３３：背圧ノズル ３３０：噴射口
５：実施形態３の洗浄装置
５０：ボックス ５００：開口 ５０２：エア流入口
５１：昇降自在機構 ５１０：ベース ５１１：ガイドレール ５１２：昇降板
６：実施形態４の洗浄装置
６０：ボックス ６００：開口 ６０２：流入口 ６０７：内側壁 ６０８：外側壁 ６０９：噴射口 ６１：背圧ノズル ６１０：噴射口
９０：被加工物 ９０３：被加工物の上面

Claims (7)

1. 保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面を洗浄する洗浄装置であって、
   該ノズルを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該昇降機構によって該ノズルを下降させ該保持面に対して該ノズルを適切な高さ位置に位置づける位置決め部と、を備える、洗浄装置。
2. 前記位置決め部は、前記ノズルに連結され、前記保持面、又は該保持面に対して環状に配置される基準面に接触するローラである請求項１記載の洗浄装置。
3. 前記位置決め部は、前記ノズルを昇降自在に支持するガイドレールと、該ノズルに連結され該ガイドレールによって昇降自在で前記保持面に対向した噴射口を有する背圧ノズルと、を備え、
   該噴射口から該保持面に流体を噴射し、該流体の背圧によって該ノズルを適切な高さ位置に位置づける、請求項１記載の洗浄装置。
4. 保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面に保持された被洗浄物を洗浄する洗浄装置であって、
   該ノズルを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該ノズルを昇降自在に支持するガイドレールと、該保持面に対向した噴射口を有する背圧ノズルと、を備え、
   該噴射口から該保持面が保持した被洗浄物の上面に流体を噴射し、該流体の背圧によって昇降自在な該ノズルを、該保持面が保持した被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置に位置づけ被洗浄物を洗浄する、洗浄装置。
5. 保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面または該保持面が保持した被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置であって、
   該ノズルを収容し下面を開口したボックスと、該ボックスを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該ボックスを昇降自在に支持する昇降自在機構と、を備え、
   該昇降機構によって該ボックスを下降させ、該ノズルから該ボックス内に流体を噴出させ、該流体の背圧によって該ボックスの下面と該保持面との間、または、該ボックスの下面と該保持面に保持された被洗浄物の上面との間に隙間を形成させ、該保持面または該保持面に保持された被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置に該ノズルを位置づけ、該保持面または該保持面に保持された被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置。
6. 保持面で被洗浄物を保持するテーブルと、該保持面の中心を中心に該テーブルを回転させる回転機構と、該保持面に向かって水とエアとを混合させた二流体を噴射するノズルと、を備え、該保持面または該保持面が保持した被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置であって、
   該ノズルを収容し下面を開口したボックスと、該ボックスを該保持面に垂直方向に移動させる昇降機構と、該ボックスを昇降自在に支持する昇降自在機構と、該保持面に対向した噴射口と、を備え、
   該昇降機構によって該ボックスを下降させ、該噴射口から該保持面に流体を噴出させ、該流体の背圧によって該ボックスの下面と該保持面との間、または、該ボックスの下面と被洗浄物の上面との間に隙間を形成させ、該保持面または被洗浄物の上面に対して適切な高さ位置に該ノズルを位置づけ、該保持面または被洗浄物の上面を洗浄する洗浄装置。
7. 前記噴射口は、前記ボックスの下面に環状に形成される請求項６記載の洗浄装置。

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