JP2023093544A - 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ - Google Patents
着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023093544A JP2023093544A JP2023061600A JP2023061600A JP2023093544A JP 2023093544 A JP2023093544 A JP 2023093544A JP 2023061600 A JP2023061600 A JP 2023061600A JP 2023061600 A JP2023061600 A JP 2023061600A JP 2023093544 A JP2023093544 A JP 2023093544A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- meth
- resin composition
- photosensitive resin
- colored photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 title claims abstract description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 117
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 55
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 40
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 155
- -1 3, 4-epoxybutyl Chemical group 0.000 claims description 86
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 51
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 32
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 23
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 22
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 22
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 13
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate;2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1CO1.OCCCCOC(=O)C=C NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 5
- JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1COCC1OC1 JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(COCC2OC2)=C1 OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1COCC1OC1 ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 4
- HPRNPSLJNKWKCO-UHFFFAOYSA-N 1-(oxiran-2-yl)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CC)C1CO1 HPRNPSLJNKWKCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 claims description 3
- KXAFIXYQEIQJBN-UHFFFAOYSA-N n-[3-[3,5-dimethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC1=CC(CCCNC(=O)C=C)=CC(C)=C1OCC1OC1 KXAFIXYQEIQJBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OHBCEHHJPNBVME-UHFFFAOYSA-N n-[[3,5-dimethyl-4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC1=CC(CNC(=O)C=C)=CC(C)=C1OCC1OC1 OHBCEHHJPNBVME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZCCAOOJIWMTVGN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanatohexane;[2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O.C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C ZCCAOOJIWMTVGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PZRGEJIHZBMDCX-UHFFFAOYSA-N 1-(oxiran-2-yl)butyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CCC)C1CO1 PZRGEJIHZBMDCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RPHSBLVDRLDPTE-UHFFFAOYSA-N 1-(oxiran-2-yl)pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCC(OC(=O)C=C)C1CO1 RPHSBLVDRLDPTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 abstract description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 24
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 24
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000011161 development Methods 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 15
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical group CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 13
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 9
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 8
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 4
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 3
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XVXKXOPCFWAOLN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=C(C=C)C=C1 XVXKXOPCFWAOLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005915 C6-C14 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 3
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(1-hydroxypropan-2-yloxy)propan-2-yloxy]-3-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(O)COC(C)COC(C)CO XUIXZBXRQFZHIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylperoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOOCCCCCCCCCCCC LGJCFVYMIJLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTRZMLZNHGCYLK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=CC=C1C=C VTRZMLZNHGCYLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDEWQSUXJCDXIX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-(methoxymethyl)benzene Chemical compound COCC1=CC=CC(C=C)=C1 HDEWQSUXJCDXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWMGONWXQSKRMH-VOTSOKGWSA-N 2-[4-[(e)-2-phenylethenyl]phenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC(\C=C\C=3C=CC=CC=3)=CC=2)=N1 TWMGONWXQSKRMH-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethenylbenzene Chemical compound CCOC=CC1=CC=CC=C1 FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CCC(CC)=CC1=CC=CC=C1 DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethenylbenzene Chemical compound IC=CC1=CC=CC=C1 OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILYSKJPEZAABAA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethenylbenzene Chemical compound CCCOC=CC1=CC=CC=C1 ILYSKJPEZAABAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFZDMXAOSDDDRT-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylmorpholine Chemical compound C=CN1CCOCC1 CFZDMXAOSDDDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAXPDWVRLUOOBJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethylhex-3-en-3-ylbenzene Chemical compound CCC(CC)=C(CC)C1=CC=CC=C1 YAXPDWVRLUOOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical group C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- VUGKXJFTPZXBTJ-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[4-[9-[4-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)phenyl]fluoren-9-yl]phenoxy]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCC(COC(=O)C=C)O)=CC=C1C1(C=2C=CC(OCC(O)COC(=O)C=C)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 VUGKXJFTPZXBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSURRKWOANERMF-UHFFFAOYSA-N butyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(=C)CO LSURRKWOANERMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 2
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CO SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- RFUCOAQWQVDBEU-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(=C)CO RFUCOAQWQVDBEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000037230 mobility Effects 0.000 description 2
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- KNZIIQMSCLCSGZ-UHFFFAOYSA-N non-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 KNZIIQMSCLCSGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N pent-1-enylbenzene Chemical compound CCCC=CC1=CC=CC=C1 KHMYONNPZWOTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Chemical class 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Chemical class 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(CC)COC1 RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride Chemical compound C1C=CCC2C(=O)OC(=O)C21 KMOUUZVZFBCRAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propoxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QWQFVUQPHUKAMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical group CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPNAQFYNLSXBZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-[2-[2-(3-ethenylphenyl)ethoxy]ethyl]benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(CCOCCC=2C=C(C=C)C=CC=2)=C1 WUPNAQFYNLSXBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC(C=C)=C1 PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)C#N COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQKDMKKMCVJJTC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropoxymethyl)oxirane Chemical compound CC(C)COCC1CO1 AQKDMKKMCVJJTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)oxirane Chemical compound COCC1CO1 LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWLUZGJDEZBBRH-UHFFFAOYSA-N 2-(propan-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CC(C)OCC1CO1 NWLUZGJDEZBBRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWNOEVURTVLUNV-UHFFFAOYSA-N 2-(propoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCOCC1CO1 CWNOEVURTVLUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroacrylic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)=C SZTBMYHIYNGYIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 3a,4,4a,7a,8,8a-hexahydrofuro[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1C2C(=O)OC(=O)C2CC2C(=O)OC(=O)C21 LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-phenyldiazenylnaphthalen-1-yl)diazenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBEAJGUCDQJJOV-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3-methyl-3-phenyl-4-(1,3,5-triazin-2-ylamino)-4h-chromen-2-one Chemical class C12=C(N)C=CC=C2OC(=O)C(C)(C=2C=CC=CC=2)C1NC1=NC=NC=N1 QBEAJGUCDQJJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USJDOLXCPFASNV-UHFFFAOYSA-N 9-bromononan-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCBr USJDOLXCPFASNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical class C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000752241 Homo sapiens Rho guanine nucleotide exchange factor 4 Proteins 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LIMFPAAAIVQRRD-BCGVJQADSA-N N-[2-[(3S,4R)-3-fluoro-4-methoxypiperidin-1-yl]pyrimidin-4-yl]-8-[(2R,3S)-2-methyl-3-(methylsulfonylmethyl)azetidin-1-yl]-5-propan-2-ylisoquinolin-3-amine Chemical compound F[C@H]1CN(CC[C@H]1OC)C1=NC=CC(=N1)NC=1N=CC2=C(C=CC(=C2C=1)C(C)C)N1[C@@H]([C@H](C1)CS(=O)(=O)C)C LIMFPAAAIVQRRD-BCGVJQADSA-N 0.000 description 1
- PSBPNWBGNOWCCU-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.S.S.S Chemical class OB(O)O.S.S.S PSBPNWBGNOWCCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Chemical class 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 102100021709 Rho guanine nucleotide exchange factor 4 Human genes 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Chemical class 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N [(e)-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(\C)=N\OC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N 0.000 description 1
- FARWYUGFTNOIPS-UHFFFAOYSA-N [2-(trifluoromethyl)oxetan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1C(F)(F)F FARWYUGFTNOIPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDNJLJOPWXDNJW-UHFFFAOYSA-N [4-(trifluoromethyl)oxetan-2-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CC(C(F)(F)F)O1 IDNJLJOPWXDNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000005571 adamantylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910000152 cobalt phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 125000004976 cyclobutylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004980 cyclopropylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005754 decalinylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N o-Vinylanisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=C SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRGGVEDZUSPSAC-UHFFFAOYSA-N oxetan-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCO1 KRGGVEDZUSPSAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMUUFLNQHMIHRP-UHFFFAOYSA-N oxetan-3-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1 AMUUFLNQHMIHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Chemical class 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000005476 size effect Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- ADXGNEYLLLSOAR-UHFFFAOYSA-N tasosartan Chemical compound C12=NC(C)=NC(C)=C2CCC(=O)N1CC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1C=1N=NNN=1 ADXGNEYLLLSOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQKAPARXKPTKBK-UHFFFAOYSA-N tert-butylazanium;bromide Chemical compound Br.CC(C)(C)N CQKAPARXKPTKBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8428—Vertical spacers, e.g. arranged between the sealing arrangement and the OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
- H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13398—Spacer materials; Spacer properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/08—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 light absorbing layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
【課題】形成時に表面上に不規則なしわを発生しない硬化膜を形成することができる着色感光性樹脂組成物及びそれから生成される遮光スペーサを提供する。【解決手段】本発明は、(A)エポキシ基を含むコポリマーと、(B)二重結合を含む光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)着色剤と、を含む着色感光性樹脂組成物を提供し、さらに、本発明は、着色感光性樹脂組成物を硬化させることによって生成され、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどのために使用される遮光スペーサを提供する。【選択図】図1
Description
本発明は、硬化膜を形成することができる着色感光性樹脂組成物であって、この硬化膜が、その形成時にその表面上に不規則なしわを発生しない、着色感光性樹脂組成物、ならびにそれから生成され、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイなどのために使用される遮光スペーサに関する。
近年、感光性樹脂組成物から調製されるスペーサは、液晶ディスプレイ(LCD)の液晶セル中の上部透明基板と下部透明基板との間に一定距離を維持するために用いられる。2つの透明基板間の一定のギャップに注入される液晶材料に印加される電圧によって駆動される電気光学装置であるLCDにおいて、2つの基板間のギャップを一定に維持することは、非常に重要である。透明基板間のギャップが一定ではない場合、それに印加される電圧及びこの領域を透過する光の透過率が変化することがあり、空間的に不均一な輝度の欠陥をもたらす。大型LCDパネルに対する近年の需要により、LCD中の2つの透明基板間の一定のギャップを維持することがよりいっそう重要である。
このようなスペーサは、基板上へ感光性樹脂組成物をコーティングし、マスクを使用してコーティングされた基板を紫外線などに露光して、その後、それを現像することによって調製されてもよい。近年、スペーサに遮光材料を使用する努力がなされており、それに応じて、種々の着色感光性樹脂組成物が精力的に開発されている。
近年、カラムスペーサ及び黒色マトリックスが、着色感光性樹脂組成物を使用して単一モジュールに集積される黒色カラムスペーサ(BCS)は、工程段階を単純化することを目指している。このような黒色カラムスペーサの生成において使用される着色感光性樹脂組成物は、段差を容易に形成するばかりでなく、同時に感度及び現像マージン特性を満たすことも要求される。特に、着色感光性樹脂組成物から形成される硬化膜がその表面上に不規則なしわを有する場合、注入された液晶の量が、その組立て中に上部プレートと下部プレートとの間のギャップにおける欠陥により均一になり得ず、またはスポットが、電気信号の不十分な伝送によりディスプレイに発生し得る重大な欠点を引き起こすことがある。
その結果、硬化膜の表面上のしわの発生を抑制するために、しわ発生阻害剤としてアクリル樹脂を含む感光性樹脂組成物が提案されている(韓国特許第1291480号)。しかしながら、韓国特許第1291480号において、このように用いられるアクリル樹脂は、60~85モル%と大量に(メタ)アクリル酸単位を含むため、アクリル結合剤のこのような高い酸価により、遮光スペーサを形成するためのパターンの段差を形成することが困難である。
したがって、本発明の目的は、形成時に表面上に不規則なしわを発生しない硬化膜を形成することができる着色感光性樹脂組成物及びそれから生成される遮光スペーサを提供することである。
上記目的を達成するために、本発明は、
(A)エポキシ基を含むコポリマーと、
(B)二重結合を含む光重合性化合物と、
(C)光重合開始剤と、
(D)着色剤と、を含む着色感光性樹脂組成物を提供し、
光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比が、以下の関係:
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35
を満たし、着色感光性樹脂組成物から形成される硬化膜が、1.0/μm~3.0/μ mの光学密度を有する。
(A)エポキシ基を含むコポリマーと、
(B)二重結合を含む光重合性化合物と、
(C)光重合開始剤と、
(D)着色剤と、を含む着色感光性樹脂組成物を提供し、
光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比が、以下の関係:
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35
を満たし、着色感光性樹脂組成物から形成される硬化膜が、1.0/μm~3.0/μ mの光学密度を有する。
さらに、本発明は、着色感光性樹脂組成物を硬化させることによって生成される遮光スペーサを提供する。
本発明の着色感光性樹脂組成物は、表面上に不規則なしわがない硬化膜を形成することができ、これにより、その組立て中の上部プレートと下部プレートとの間のギャップにおける欠陥により、ディスプレイに発生し得るスポットを最小限にし、製造プロセスの条件における変動にもかかわらず、製品の安定な製造によって高いプロセス収率を提供する。
本発明の着色感光性樹脂組成物は、(A)エポキシ基を含むコポリマーと、(B)二重結合を含む光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)着色剤とを含み、光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比が、以下の関係:
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35
を満たし、着色感光性樹脂組成物から形成される硬化フィルムが、1.0/μm~3.0/μmの光学密度を有する。
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35
を満たし、着色感光性樹脂組成物から形成される硬化フィルムが、1.0/μm~3.0/μmの光学密度を有する。
本開示において、「(メタ)アクリル」は、「アクリル」及び/または「メタクリル」を意味し、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレート」及び/または「メタクリレート」を意味する。
以下、着色感光性樹脂組成物の各構成成分を詳細に説明する。
(A)エポキシ基を含むコポリマー
本発明において使用されるコポリマーは、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される(a-1)構造単位と、芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-2)構造単位と、エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-3)構造単位とを含んでもよく、(a-1)、(a-2)、及び(a-3)と異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-4)構造単位をさらに含んでもよい。
本発明において使用されるコポリマーは、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される(a-1)構造単位と、芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-2)構造単位と、エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-3)構造単位とを含んでもよく、(a-1)、(a-2)、及び(a-3)と異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-4)構造単位をさらに含んでもよい。
コポリマーは、現像ステップにおいて現像性を有するためのアルカリ可溶性樹脂であり、コーティング時に膜を形成するためのベース及び最終パターン構造を形成するための構造の役割もし得る。
エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される(a-1)構造単位
本発明において、構造単位(a-1)は、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される。エチレン系不飽和カルボン酸またはエチレン系不飽和カルボン酸無水物は、分子中に少なくとも1つのカルボキシル基を含有する重合性不飽和モノマーである。それらの特定の例としては、不飽和モノカルボン酸、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、アルファ-クロロアクリル酸、及びケイ皮酸、不飽和ジカルボン酸及びその無水物、例えばマレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、イタコン酸無水物、シトラコン酸、シトラコン酸無水物、及びメサコン酸、三価以上の不飽和ポリカルボン酸及びその無水物、ならびに二価以上のポリカルボン酸のモノ[(メタ)アクリロイルオキシアルキル]エステル、例えばモノ[2-(メタ)アクリロイルオキシエチル]スクシネート、モノ[2-(メタ)アクリロイルオキシエチル]フタレートなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。
本発明において、構造単位(a-1)は、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される。エチレン系不飽和カルボン酸またはエチレン系不飽和カルボン酸無水物は、分子中に少なくとも1つのカルボキシル基を含有する重合性不飽和モノマーである。それらの特定の例としては、不飽和モノカルボン酸、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、アルファ-クロロアクリル酸、及びケイ皮酸、不飽和ジカルボン酸及びその無水物、例えばマレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、イタコン酸無水物、シトラコン酸、シトラコン酸無水物、及びメサコン酸、三価以上の不飽和ポリカルボン酸及びその無水物、ならびに二価以上のポリカルボン酸のモノ[(メタ)アクリロイルオキシアルキル]エステル、例えばモノ[2-(メタ)アクリロイルオキシエチル]スクシネート、モノ[2-(メタ)アクリロイルオキシエチル]フタレートなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。
構造単位(a-1)の量は、コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて、5~65モル%または10~50モル%であってもよい。この量の範囲内において、現像性は、好ましくなり得る。
芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-2)構造単位
構造単位(a-2)は、芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される。芳香環を含有するエチレン不飽和化合物の特定の例としては、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、p-ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、p-ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、スチレン、アルキル置換基を含有するスチレン、例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、及びオクチルスチレン、ハロゲンを含有するスチレン、例えばフルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、及びヨードスチレン、アルコキシ置換基を含有するスチレン、例えばメトキシスチレン、エトキシスチレン、及びプロポキシスチレン、4-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン、アセチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルフェノール、o-ビニルベンジルジメチルエーテル、m-ビニルベンジルメチルエーテル、p-ビニルベンジルメチルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。上記化合物のなかでも、スチレン系化合物が、重合性を考慮して好ましく使用されてもよい。
構造単位(a-2)は、芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される。芳香環を含有するエチレン不飽和化合物の特定の例としては、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、p-ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、p-ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、スチレン、アルキル置換基を含有するスチレン、例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、及びオクチルスチレン、ハロゲンを含有するスチレン、例えばフルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、及びヨードスチレン、アルコキシ置換基を含有するスチレン、例えばメトキシスチレン、エトキシスチレン、及びプロポキシスチレン、4-ヒドロキシスチレン、p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン、アセチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルフェノール、o-ビニルベンジルジメチルエーテル、m-ビニルベンジルメチルエーテル、p-ビニルベンジルメチルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。上記化合物のなかでも、スチレン系化合物が、重合性を考慮して好ましく使用されてもよい。
構造単位(a-2)の量は、コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて、2~70モル%または3~60モル%であってもよい。この量の範囲内において、耐化学性は、より好ましくなり得る。
エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-3)構造単位
構造単位(a-3)は、エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される。エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物の特定の例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシブチル(メタ)アクリレート、4,5-エポキシペンチル(メタ)アクリレート、5,6-エポキシヘキシル(メタ)アクリレート、6,7-エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、2,3-エポキシシクロペンチル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、α-エチルグリシジルアクリレート、α-n-プロピルグリシジルアクリレート、α-n-ブチルグリシジルアクリレート、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルベンジル)アクリルアミド、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルフェニルプロピル)アクリルアミド、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテルなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。これらのなかでも、グリシジル(メタ)アクリレート、及び/または4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテルから誘導される構造単位は、共重合性及び絶縁膜の強度における改善の観点から、より好ましくなり得る。
構造単位(a-3)は、エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される。エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物の特定の例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシブチル(メタ)アクリレート、4,5-エポキシペンチル(メタ)アクリレート、5,6-エポキシヘキシル(メタ)アクリレート、6,7-エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、2,3-エポキシシクロペンチル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、α-エチルグリシジルアクリレート、α-n-プロピルグリシジルアクリレート、α-n-ブチルグリシジルアクリレート、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルベンジル)アクリルアミド、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルフェニルプロピル)アクリルアミド、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテルなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。これらのなかでも、グリシジル(メタ)アクリレート、及び/または4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテルから誘導される構造単位は、共重合性及び絶縁膜の強度における改善の観点から、より好ましくなり得る。
構造単位(a-3)の量は、コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて、1~40モル%または5~20モル%であってもよい。この量の範囲内において、プロセス中の残留物及びプリベーク時のマージンは、より好ましくなり得る。
(a-1)、(a-2)、及び(a-3)と異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される(a-4)構造単位
本発明において使用されるコポリマーは、(a-1)、(a-2)、及び(a-3)に加えて、(a-1)、(a-2)、及び(a-3)とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構成単位をさらに含んでもよい。
本発明において使用されるコポリマーは、(a-1)、(a-2)、及び(a-3)に加えて、(a-1)、(a-2)、及び(a-3)とは異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構成単位をさらに含んでもよい。
(a-1)、(a-2)、及び(a-3)と異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位の特定の例としては、不飽和カルボン酸エステル、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-クロロプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、メチルα-ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα-ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα-ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα-ヒドロキシメチルアクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、N-ビニル基、例えばN-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、及びN-ビニルモルホリンを含有する三級アミン、不飽和エーテル、例えばビニルメチルエーテル及びビニルエチルエーテル、不飽和イミド、例えばN-フェニルマレイミド、N-(4-クロロフェニル)マレイミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミド、N-シクロヘキシルマレイミドなどが挙げられ得る。上記の例示された化合物から誘導される構造単位は、単独で、または2つ以上の組み合わせでコポリマー中に含まれてもよい。これらのなかでも、不飽和イミド、具体的には、N-置換マレイミドから誘導される構造単位は、共重合性及び絶縁膜の強度における改善の観点から、より好ましくなり得る。
構造単位(a-4)の量は、コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて、0~80モル%または10~75モル%であってもよい。この量の範囲内において、着色感光性樹脂組成物の貯蔵安定性は、維持され得、膜保持率は、より有利に改善され得る。
構造単位(a-1)~(a-4)を有するコポリマーの例としては、(メタ)アクリル酸/スチレン/メチル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレートのコポリマー、(メタ)アクリル酸/スチレン/メチル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレート/N-フェニルマレイミドのコポリマー、(メタ)アクリル酸/スチレン/メチル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレート/N-シクロヘキシルマレイミドのコポリマー、(メタ)アクリル酸/スチレン/n-ブチル(メタ)アクリレート/グリシジル(メタ)アクリレート/N-フェニルマレイミドのコポリマー、(メタ)アクリル酸/スチレン/グリシジル(メタ)アクリレート/N-フェニルマレイミドのコポリマー、(メタ)アクリル酸/スチレン/4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル/N-フェニルマレイミドのコポリマーなどが挙げられ得る。
コポリマーのうちの1つ、2つ、またはそれ以上は、着色感光性樹脂組成物中に含まれてもよい。
コポリマーの重量平均分子量(Mw)が、ポリスチレンを基準としてゲル浸透クロマトグラフィ(溶出液:テトラヒドロフラン)で決定されるとき、5,000~30,000または10,000~20,000の範囲であってもよい。この量の範囲内において、基板に対する接着性、物理的/化学的特性、及び粘度は、より好ましくなり得る。
コポリマーは、着色感光性樹脂組成物の固形分(すなわち、溶媒を除いた重量)の総重量に基づいて、5~60重量%、または8~45重量%の量で用いられてもよい。この量の範囲内において、現像後のパターンプロファイルは、好ましくなり得、膜保持率及び耐化学性のような特性は、改善され得る。
コポリマーは、ラジカル重合開始剤、溶媒及び構造単位(a-1)~(a-4)、ならびに窒素を反応器に装入し、その後、重合のための混合物をゆっくりと撹拌することによって調製されてもよい。
ラジカル重合開始剤は、アゾ化合物、例えば2,2´-アゾビスイソブチロニトリル、2,2´-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、及び2,2´-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、またはベンゾイルペルオキシド、ラウリルペルオキシド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1-ビス(t-ブチルペルオキシ)シクロヘキサンなどであってもよいが、それらに限定されるものではない。ラジカル重合開始剤は、単独で、または2つ以上の組み合わせで使用されてもよい。
溶媒は、コポリマーの調製に一般的に使用される任意の従来の溶媒であってもよく、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を含んでもよい。
(B)二重結合を含む光重合性化合物
本発明において使用される光重合性化合物は、二重結合を有する任意の化合物であってもよく、重合開始剤の作用によって重合されてもよい。具体的には、光重合性化合物としては、少なくとも1つのエチレン系不飽和二重結合を有する単官能性または多官能性エステル化合物が挙げられ得、好ましくは、耐化学性の観点から、少なくとも2つの官能基を有する多官能性化合物が挙げられ得る。
本発明において使用される光重合性化合物は、二重結合を有する任意の化合物であってもよく、重合開始剤の作用によって重合されてもよい。具体的には、光重合性化合物としては、少なくとも1つのエチレン系不飽和二重結合を有する単官能性または多官能性エステル化合物が挙げられ得、好ましくは、耐化学性の観点から、少なくとも2つの官能基を有する多官能性化合物が挙げられ得る。
光重合性化合物は、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びコハク酸のモノエステル、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びコハク酸のモノエステル、ペンタエリスリトールトリアクリレート-ヘキサメチレンジイソシアネート(ペンタエリスリトールトリアクリレート及びヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物)、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシアクリレート、及びエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート、ならびにそれらの混合物からなる群から選択されてもよいが、それらに限定されるものではない。
市販の光重合性化合物の例としては、(i)単官能性(メタ)アクリレート、例えばToagosei Co.,Ltd.製のAronix M-101、M-111、及びM-114、Nippon Kayaku Co.,Ltd.製のKAYARAD T4-110S及びT4-120S、ならびにOsaka Yuki Kayaku Kogyo Co.,Ltd.製のV-158及びV-2311、(ii)二官能性(メタ)アクリレート、例えばToagosei Co.,Ltd.製のAronix M-210、M-240、及びM-6200、Nippon Kayaku Co.,Ltd.製のKAYARAD HDDA、HX-220、及びR-604、ならびにOsaka Yuki Kayaku Kogyo Co.,Ltd.製のV-260、V-312、及びV-335 HP、ならびに(iii)三官能性以上の(メタ)アクリレート、例えばToagosei Co.,Ltd.製のAronix M-309、M-400、M-403、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060、及びTO-1382、Nippon Kayaku Co.,Ltd.製のKAYARAD TMPTA、DPHA、及びDPHA-40H、ならびにOsaka Yuki Kayaku Kogyo Co.,Ltd.製のV-295、V-300、V-360、V-GPT、V-3PA、V-400、及びV-802が挙げられ得る。
光重合性化合物の量は、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、10~50重量%、15~40重量%、または20~30重量%であってもよい。この量の範囲内において、パターンは、容易に現像され得、耐化学性及び弾性復元力のような特性は、改善され得る。
光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たす:
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
具体的には、光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たす:
11≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
11≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
ディスプレイベゼルのための硬化膜が、その表面上に不規則なしわを有する場合、注入された液晶の量が、その組立て中に上部プレートと下部プレートとの間のギャップにおける欠陥により均一になり得ず、またはスポットが、電気信号の不十分な伝送によりディスプレイに発生し得る重大な欠点を引き起こすことがある。上記の範囲において、硬化膜が本発明の着色感光性樹脂組成物から形成されるとき、硬化膜の表面上の不規則なしわの発生は、最小限になり、段差を容易に形成し、高解像度においてパターンを形成することができる。
モル比が35を超える場合、露光中のコーティングされた膜の表面の硬化が、激しく行われるが、未反応の二重結合を有する材料は、その内部中に残存したままであり、それは、後続の熱硬化ステップにおいてこのような未反応の材料の流動性(すなわち、移動性)を上げる。その結果、表面付近のポリマー及びパターン内部のポリマーは、熱硬化中、異なる移動性を有し、硬化膜の表面上に不規則なしわをもたらす。さらに、モル比が4未満である場合、エポキシ基のモル数が二重結合のモル数よりも相対的に高いので、温度の変化による架橋度を制御することが困難であり、それは、プロセス中の温度変化による現像マージンを不十分にし、解像度を低下させる。
(C)光重合開始剤
本発明において使用される光重合開始剤は、任意の既知の重合開始剤であってもよい。
本発明において使用される光重合開始剤は、任意の既知の重合開始剤であってもよい。
光重合開始剤は、アセトフェノン化合物、非イミダゾール化合物、トリアジン化合物、オニウム塩化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、多核キノン化合物、チオキサントン化合物、ジアゾ化合物、イミドスルホネート化合物、オキシム化合物、カルバゾール化合物、スルホニウムボレート化合物、ケトン化合物、及びそれらの混合物からなる群から選択されてもよい。具体的には、光重合開始剤は、オキシム化合物、トリアジン化合物、及びケトン化合物からなる群から選択される少なくとも1つであってもよい。また、オキシム化合物、トリアジン化合物、及びケトン化合物の組み合わせを使用してもよい。
光重合開始剤の特定の例としては、2,2-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2´-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、ベンゾイルペルオキシド、ラウリルペルオキシド、t-ブチルペルオキシピバレート、1,1-ビス(t-ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、2-ベンジル-2-(ジメチルアミノ)-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ジエチルチオキサントン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-p-メトキシフェニル-s-トリアジン、2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキソジアゾール、9-フェニルアクリジン、3-メチル-5-アミノ-((s-トリアジン-2-イル)アミノ)-3-フェニルクマリン、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾリルダイマー、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-オクタン-1,2-ジオン-2-(o-ベンゾイルオキシム)、o-ベンゾイル-4´-(ベンズメルカプト)ベンゾイル-ヘキシル-ケトキシム、2,4,6-トリメチルフェニルカルボニル-ジフェニルホスホニルオキシド、ヘキサフルオロホスホロ-トリアルキルフェニルスルホニウム塩、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2,2´-ベンゾチアゾリルジスルフィド、(E)-2-(4-スチリルフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イルフェニル)-ブタノン、及びそれらの混合物が挙げられ得るが、それらに限定されるものではない。
市販のオキシム系光重合開始剤の例としては、OXE-01(BASF)、OXE-02(BASF)、OXE-03(BASF)、N-1919(ADEKA)、NCI-930(ADEKA)、及びNCI-831(ADEKA)が挙げられる。
光重合開始剤は、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、0.1~15重量%、または0.1~10重量%の量で使用されてもよい。具体的には、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、0.1~2重量%のオキシム化合物、0.1~2重量%のトリアジン化合物、及び0.1~2重量%のケトン化合物が、光重合開始剤として使用されてもよい。より具体的には、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、0.5~1.5重量%のオキシム化合物、0.5~1.5重量%のトリアジン化合物、及び0.5~1.5重量%のケトン化合物が、光重合開始剤として使用されてもよい。
オキシム化合物のこの範囲内において、現像及びコーティング特性は、高感度で改善され得る。トリアジン化合物のこの範囲内において、パターンの形成時の優れた耐化学性及びテーパ角度を有するコーティングされた膜が得られ得る。さらに、ケトン化合物のこの範囲内において、このように調製された着色感光性樹脂組成物は、コーティングされた膜の内部を硬化することによって優れた耐化学性を有するコーティングされた膜を形成することができる。
(D)着色剤
本発明の着色感光性樹脂組成物は、それに遮光性を付与するための着色剤を含む。本発明において使用される着色剤は、2つ以上の無機または有機着色剤の混合物であってもよい。着色剤は、高い色原性及び高耐熱性を有することが好ましい。
本発明の着色感光性樹脂組成物は、それに遮光性を付与するための着色剤を含む。本発明において使用される着色剤は、2つ以上の無機または有機着色剤の混合物であってもよい。着色剤は、高い色原性及び高耐熱性を有することが好ましい。
着色剤は、黒色有機着色剤、黒色無機着色剤、及び黒色着色剤以外の着色剤からなる群から選択される少なくとも1つであってもよい。
任意の黒色無機着色剤、任意の黒色有機着色剤、及び当技術分野において既知の黒色着色剤以外の任意の着色剤が使用されてもよい。例えば、Color Index(The Society of Dyers and Colouristsによって発行)において顔料及び当技術分野において既知の任意の染料として分類される化合物が使用されてもよい。
黒色無機着色剤の特定の例としては、カーボンブラック、チタンブラック、金属酸化物、例えばCu-Fe-Μn系酸化物及び合成鉄黒などが挙げられ得る。これらのなかでも、所望のパターン性及び耐化学性のためのカーボンブラックが好ましい。
黒色有機着色剤の特定の例としては、アニリンブラック、ラクタムブラック、ペリレンブラックなどが挙げられ得る。これらのなかでも、望ましい光学密度、誘電性などのためのラクタムブラック(例えば、BASFからのBlack 582)が好ましい。
黒色着色剤以外の着色剤の特定の例としては、C.I.Pigment Yellow20、24、31、53、83、86、93、94、109、110、117、125、137、138、139、147、148、150、153、154、166、173、180、及び185、C.I.Pigment Orange13、31、36、38、40、42、43、51、55、59、61、64、65、及び71、C.I.Pigment Red9、97、105、122、123、144、149、166、168、176、177、179、180、192、215、216、224、242、254、255、及び264、C.I.Pigment Violet14、19、23、29、32、33、36、37、及び38、C.I.Pigment Blue15(15:3、15:4、15:6など)、16、21、28、60、64、及び76、C.I.Pigment Green7、10、15、25、36、47、及び58、C.I.Pigment Brown28などが挙げられ得る。これらのなかでも、光漏れを防止するためのC.I.Pigment Blue15:6が好ましい。
着色剤の量は、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、10~60重量%、または20~50重量%であってもよい。この量の範囲内において、現像後のパターンプロファイルは、好ましくなり得、耐化学性及び弾性復元力のような特性は、改善され得る。
一方、本発明において使用される着色剤は、分散型樹脂、溶媒などと混合された練り顔料の形態で、着色感光性樹脂組成物に添加されてもよい。
分散型樹脂は、溶媒中に顔料を均一に分散させる働きをし、具体的には、分散剤及び分散結合剤からなる群から選択される少なくとも1つであってもよい。
分散剤の例としては、着色剤のための任意の既知の分散剤が挙げられ得る。それらの特定の例としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、双性イオン性界面活性剤、シリコン界面活性剤、フッ素界面活性剤、ポリエステル化合物、ポリカルボン酸エステル化合物、不飽和ポリアミド化合物、ポリカルボン酸化合物、ポリカルボン酸アルキル塩化合物、ポリアクリル酸化合物、ポリエチレンイミン化合物、ポリウレタン化合物、ポリウレタン、ポリアクリレートで表されるポリカルボキシル酸性エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸のアミン塩、ポリカルボン酸のアンモニウム塩、ポリカルボン酸のアルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアミドリン酸塩、ヒドロキシル基が置換されるポリカルボン酸及びその改質生成物のエステル、遊離カルボキシル基を有するポリエステルとポリ(低級アルキレンイミン)またはその塩との反応によって形成されるアミド、(メタ)アクリル酸-スチレンコポリマー、(メタ)アクリル酸-(メタ)アクリレートエステルコポリマー、スチレン-マレイン酸コポリマー、ポリビニルアルコール、水溶性樹脂または水溶性ポリマー化合物、例えばポリビニルピロリドン、改質ポリアクリレート、エチレンオキシド/プロピレンオキシドの付加物、リン酸エステルなどが挙げられる。市販の分散剤としては、BYK CoからのDisperbyk-182、Disperbyk-183、Disperbyk-184、Disperbyk-185、Disperbyk-2000、Disperbyk-2150、Disperbyk-2155、Disperbyk-2163、またはDisperbyk-2164が挙げられ得る。これらの化合物は、単独で、または2つ以上の組み合わせで使用されてもよい。分散剤は、顔料親和性基としてアミン基及び/または酸基を有してもよく、任意選択で、アンモニウム塩型であってもよい。
分散剤は、それによって着色剤を表面処理することによって、予め着色剤に添加されてもよく、または着色感光性樹脂組成物を調製するときに、着色剤とともに添加されてもよい。
分散剤のアミン価は、10~200mgKOH/g、40~200mgKOH/g、または50~150mgKOH/gであってもよい。分散剤のアミン価が上記の範囲内であるとき、着色剤の分散性及び貯蔵安定性は、優秀であり、樹脂組成物から形成される硬化膜の表面の粗さは、改善される。
分散体は、着色分散体の総重量に基づいて、1~20重量%、または2~15重量%の量であってもよい。分散剤の含有量が上記の範囲内である場合、着色剤は、効果的に分散され、分散安定性を改善し、光学的、物理的、及び化学的特性は、それが使用されるときに適切な粘度を維持することによって改善される。このため、それは、分散安定性と粘度との間の優れたバランスの観点から望ましい。
さらに、着色剤は、5mgKOH/g以下のアミン値を有し、成分の総モル数に基づいて、30モル%以下のマレイミドモノマーを含んでもよい。このとき、分散型樹脂は、分散結合剤であってもよい。
分散結合剤が酸価を有する場合、それは、カルボキシル基及び不飽和結合を有するモノマーを含有してもよい。カルボキシル基及び不飽和結合を有するモノマーの特定の例としては、モノカルボン酸、例えばアクリル酸、メタアクリル酸及びクロトン酸、ジカルボン酸、例えばフマル酸、メサコン酸、及びイタコン酸、ならびにジカルボン酸の無水物、両端でカルボキシル基及びヒドロキシル基を有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート、例えばω-カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。アクリル酸及びメタクリル酸が好ましい。
さらに、分散結合剤は、カルボキシル基及び不飽和結合を有するモノマーと共重合可能な不飽和結合を有するモノマーを含んでもよい。共重合性不飽和結合を有するモノマーの例としては、例えば、芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、p-クロロスチレン、o-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-メトキシスチレン、o-ビニルベンジルメチルエーテル、m-ビニルベンジルメチルエーテル、p-ビニルベンジルメチルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びp-ビニルベンジルグリシジルエーテル、アルキル(メタ)アクリレート、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、i-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、sec-ブチル(メタ)アクリレート、及びt-ブチル(メタ)アクリレート)、脂環式(メタ)アクリレート、例えばシクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.0 2,6]デカン-8-イル(メタ)アクリレート、2-ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、及びイソボルニル(メタ)アクリレート)、アリール(メタ)アクリレート、例えばフェニル(メタ)アクリレート及びベンジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、例えば2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート及び2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート)、N-置換マレイミド化合物、例えばN-シクロヘキシルマレイミド、N-ベンジルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-o-ヒドロキシフェニルマレイミド、N-m-ヒドロキシフェニルマレイミド、N-p-ヒドロキシフェニルマレイミド、N-o-メチルフェニルマレイミド、N-m-メチルフェニルマレイミド、N-p-メチルフェニルマレイミド、N-o-メトキシフェニルマレイミド、N-m-メトキシフェニルマレイミド、及びN-p-メトキシフェニルマレイミド、不飽和アミド化合物、例えば(メタ)アクリルアミド及びN,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、ならびに不飽和オキセタン化合物、例えば3-(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、3-(メタクリロイルオキシメチル)-3-エチルオキセタン、3-(メタクリロイルオキシメチル)-2-トリフルオロメチルオキセタン、3-(メタクリロイルオキシメチル)-2-フェニルオキセタン、2-(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、及び2-(メタクリロイルオキシメチル)-4-トリフルオロメチルオキセタンが挙げられ得、それらは、単独で、または2つ以上の組み合わせで使用されてもよい。
分散結合剤は、成分の総モル数に基づいて、30モル%以下のマレイミドモノマーを含んでもよい。
分散結合剤は、30~200mgKOH/gの酸価を有してもよい。具体的には、分散結合剤は、50~150mgKOH/gの酸価を有してもよい。分散結合剤の酸価が上記の範囲内であるとき、顔料を取り囲む分散剤のアミン価に対する影響は、低減され、それによって、着色分散体の優れた安定性及び均一な粒度の効果が生じる。
さらに、分散結合剤のアミン価が3mgKOH/g超である場合、顔料を取り囲む分散剤の安定性は、悪影響を受けることがあり、それにより樹脂組成物全体の貯蔵安定性に悪影響を受けることがある。このため、分散結合剤のアミン価は、3mgKOH/g以下であることが好ましい。分散結合剤のアミン価が上記の範囲内である場合、非露光部は、現像ステップにおいて容易に現像することができ、残留物生成のような課題は、改善することができる。
分散結合剤は、着色分散体の総重量に基づいて、1~20重量%、または2~15重量%の量であってもよい。分散結合剤が上記の範囲の量で含まれる場合、樹脂組成物は、適切な粘度レベルを維持することができ、それは分散安定性及び現像性の観点から好ましい。
着色分散体は、本発明の着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて、10~80重量%または20~60重量%の量であってもよい。
(E)エポキシ樹脂から誘導され、かつ二重結合を有する化合物
本発明の着色感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂から誘導され、かつ二重結合を有する化合物をさらに含んでもよい。エポキシ樹脂から誘導される化合物は、少なくとも1つの二重結合を有し、カルド主鎖構造を有してもよく、ノボラック系樹脂であってもよく、またはその側鎖中に二重結合を含有するアクリル酸樹脂であってもよい。
本発明の着色感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂から誘導され、かつ二重結合を有する化合物をさらに含んでもよい。エポキシ樹脂から誘導される化合物は、少なくとも1つの二重結合を有し、カルド主鎖構造を有してもよく、ノボラック系樹脂であってもよく、またはその側鎖中に二重結合を含有するアクリル酸樹脂であってもよい。
エポキシ樹脂から誘導される化合物の重量平均分子量(Mw)が、ポリスチレンを基準としてゲル浸透クロマトグラフィによって決定されるとき、3,000~18,000または5,000~10,000の範囲であってもよい。この範囲内において、下部パターンによる段差は、有利に改善され得、現像後のパターンプロファイルは、好ましくなり得る。
具体的には、エポキシ樹脂は、下記の式1によって表されるカルド主鎖構造を有する化合物であってもよい。
上記の式1において、Xは、それぞれ独立して、
であり、L1は、それぞれ独立してC1-10アルキレン基、C3-20シクロアルキレン基、またはC1-10アルキレンオキシ基であり、R1~R7は、それぞれ独立してH、C1-10アルキル基、C1-10アルコキシ基、C2-10アルケニル基、またはC6-14アリール基であり、R8は、H、メチル、エチル、CH3CH(Cl)-、CH3CH(OH)-、CH2=CHCH2-、またはフェニルであり、nは、0~10の整数である。
C1-10アルキレン基の特定の例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレン、イソブチレン、sec-ブチレン、t-ブチレン、ペンチレン、イソペンチレン、t-ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、イソオクチレン、t-オクチレン、2-エチルヘキシレン、ノニレン、イソノニレン、デシレン、イソデシレンなどが挙げられ得る。
C3-20シクロアルキレン基の特定の例としては、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、デカリニレン、アダマンチレンなどが挙げられ得る。
C1-10アルキレンオキシ基の特定の例としては、メチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、sec-ブチレンオキシ、t-ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、ヘキシレンオキシ、ヘプチレンオキシ、オクチレンオキシ、2-エチル-ヘキシレンオキシなどが挙げられ得る。
C1-10アルキル基の特定の例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ペンチル、イソペンチル、t-ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、t-オクチル、2-エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシルなどが挙げられ得る。
C1-10アルコキシ基の特定の例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブチルオキシ、sec-ブトキシ、t-ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシ、ヘプトキシ、オクチルオキシ、2-エチル-ヘキシルオキシなどが挙げられ得る。
C2-10アルケニル基の特定の例としては、ビニル、アリル、ブテニル、プロペニルなどが挙げられ得る。
C6-14アリール基の特定の例としては、フェニル、トリル、キシリル、ナフチルなどが挙げられ得る。
好ましい例において、カルド主鎖構造を有するエポキシ樹脂化合物は、下記の合成ルートによって調製されてもよい。
反応スキーム1において、Halは、ハロゲンであり、X、R1、R2、及びL1は、式1において定義したように同じである。
カルド主鎖構造を有するエポキシ樹脂から誘導される化合物は、カルド主鎖構造を有するエポキシ樹脂を不飽和塩基酸と反応させて、エポキシ付加物を生成し、その後、このように得られたエポキシ付加物を多塩基酸無水物と反応させることによって、またはこのように得られた生成物を単官能性または多官能性エポキシ化合物とさらに反応させることによって得られてもよい。当技術分野において既知の任意の不飽和塩基酸、例えば、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、ソルビン酸などが使用されてもよい。当技術分野において既知の任意の多塩基酸無水物、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水トリメリト酸、無水ピロメリト酸、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物などが使用されてもよい。当技術分野において既知の任意の単官能性または多官能性エポキシ化合物、例えば、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールZグリシジルエーテルなどが使用されてもよい。
好ましい例において、カルド主鎖構造を有するエポキシ樹脂から誘導される化合物は、下記の合成ルートによって調製されてもよい。
反応スキーム2において、R9は、それぞれ独立してH、C1-10アルキル基、C1-10アルコキシ基、C2-10アルケニル基、またはC6-14アリール基であり、R10及びR11は、それぞれ独立して飽和または不飽和C6脂肪族環またはベンゼン環であり、nは、1~10の整数であり、X、R1、R2、及びL1は、式1において定義されるように同じである。
カルド主鎖構造を有するエポキシ樹脂化合物から誘導される化合物が使用される場合、カルド主鎖構造は、基板に対する硬化材料の接着性、耐アルカリ性、加工性、強度などを改善し得る。さらに、微細解像度を有する画像は、現像時に未硬化部が除去されると、パターンにおいて形成されてもよい。
ノボラック樹脂の例としては、例えば、フェノールノボラックエポキシ化合物、ビフェニルノボラックエポキシ化合物、クレゾールノボラックエポキシ化合物、ビスフェノールAノボラックエポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラックエポキシ化合物などが挙げられる。
エポキシ樹脂化合物から誘導される化合物の量は、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、0~40重量%または0~30重量%であってもよい。範囲内において、現像後のパターンプロファイルは、好ましくなり得、耐化学性及び弾性復元力のような特性は、改善され得る。
本発明の着色感光性樹脂組成物において、光重合性化合物(B)中の二重結合及びエポキシ樹脂から誘導される化合物(E)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たす:
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
具体的には、光重合性化合物(B)中の二重結合及びエポキシ樹脂から誘導される化合物(E)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たす:
11≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
11≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
(F)エポキシ化合物
本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂の内部密度を上昇させ、それによって、それから調製される硬化膜の耐化学性を改善するためにエポキシ化合物をさらに含んでもよい。
本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂の内部密度を上昇させ、それによって、それから調製される硬化膜の耐化学性を改善するためにエポキシ化合物をさらに含んでもよい。
エポキシ化合物は、少なくとも1つのエポキシ基、またはそのホモオリゴマーもしくはヘテロオリゴマーを含有する不飽和モノマーであってもよい。少なくとも1つのエポキシ基を含有する不飽和モノマーの例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、3,4-エポキシブチル(メタ)アクリレート、4,5-エポキシペンチル(メタ)アクリレート、5,6-エポキシヘキシル(メタ)アクリレート、6,7-エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、2,3-エポキシシクロペンチル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、α-エチルグリシジルアクリレート、α-n-プロピルグリシジルアクリレート、α-n-ブチルグリシジルアクリレート、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルベンジル)アクリルアミド、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルフェニルプロピル)アクリルアミド、アリルグリシジルエーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、またはそれらの混合物が挙げられ得る。好ましくは、グリシジル(メタ)アクリレートを使用してもよい。
少なくとも1つのエポキシ基を含有する不飽和モノマーの市販のホモオリゴマーの例としては、GHP03(グリシジルメタクリレート、Miwon Commercial Co.,Ltd.)が挙げられ得る。
エポキシ化合物は、当技術分野において周知の任意の従来法によって合成されてもよい。
エポキシ化合物(F)は、以下の構造単位をさらに含んでもよい。
特定の例としては、スチレンから誘導される任意の構造単位、アルキル置換基を有するスチレン、例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、及びオクチルスチレン、ハロゲンを有するスチレン、例えばフルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、及びヨードスチレン、アルコキシ置換基を有するスチレン、例えばメトキシスチレン、エトキシスチレン、及びプロポキシスチレン、p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン、アセチルスチレン、芳香環を有するエチレン系不飽和化合物、例えばジビニルベンゼン、ビニルフェノール、o-ビニルベンジルメチルエーテル、m-ビニルベンジルメチルエーテル、及びp-ビニルベンジルメチルエーテル、不飽和カルボン酸エステル、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-クロロプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、メチルα-ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα-ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα-ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα-ヒドロキシメチルアクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、p-ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート)、p-ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、N-ビニル基、例えばN-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、及びN-ビニルモルホリンを有する三級アミン、不飽和エーテル、例えばビニルメチルエーテル及びビニルエチルエーテル、不飽和イミド、例えばN-フェニルマレイミド、N-(4-クロロフェニル)マレイミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミド、及びN-シクロヘキシルマレイミドが挙げられ得る。上記の例示的な化合物から誘導される構造単位は、単独で、またはその2つ以上の組み合わせでエポキシ化合物(F)中に含有されてもよい。
エポキシ化合物(F)は、100~30,000または1,000~15,000の重量平均分子量を有してもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量が100以上である場合、薄膜の硬度はより優秀であり得る。エポキシ化合物の重量平均分子量が30,000以下である場合、薄膜の厚さは、より小さい段差によって均一になり、それは平坦化のためにより好適である。重量平均分子量は、ポリスチレンを基準とするゲル浸透クロマトグラフィ(溶出液:テトラヒドロフラン)によって、決定される。
エポキシ化合物の量は、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、0~7重量%、または1~5重量%であってもよい。範囲内において、現像後のパターンプロファイルは、好ましくなり得、耐化学性及び弾性復元力のような特性は、改善され得る。
本発明の着色感光性樹脂組成物において、光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基及びエポキシ化合物(F)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たしてもよい:
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35
4≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35
本発明の着色感光性樹脂組成物において、光重合性化合物(B)中の二重結合及びエポキシ樹脂から誘導される化合物(E)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基及びエポキシ化合物(F)中のエポキシ基のモル比は、上記の関係を満たしてもよい。
具体的には、光重合性化合物(B)中の二重結合対コポリマー(A)中及びエポキシ化合物(F)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たしてもよい。さらに、光重合性化合物(B)中の二重結合及びエポキシ樹脂から誘導される化合物(E)中の二重結合対コポリマー(A)中のエポキシ基及びエポキシ化合物(F)中のエポキシ基のモル比は、以下の関係を満たしてもよい:
11≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
11≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦35。
(G)界面活性剤
本発明の着色感光性樹脂組成物は、コーティング性を改善して、欠陥の発生を防止するために界面活性剤をさらに含んでもよい。
本発明の着色感光性樹脂組成物は、コーティング性を改善して、欠陥の発生を防止するために界面活性剤をさらに含んでもよい。
界面活性剤の種類は、特に限定されないが、例えば、フッ素系界面活性剤またはシリコン系界面活性剤が使用されてもよい。
市販のシリコン系界面活性剤としては、Dow Corning Toray SiliconからのDC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PA、及びSH8400、GE Toshiba SiliconeからのTSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、及びTSF-4452、BYKからのBYK-333、BYK-307、BYK-3560、BYK UV-3535、BYK-361N、BYK-354、及びBYK-399などが挙げられ得る。界面活性剤は、単独で、または2つ以上の組み合わせで使用されてもよい。
市販のフッ素系界面活性剤としては、DIC(Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.)からのMegaface F-470、F-471、F-475、F-482、F-489、及びF-563が挙げられ得る。そのなかでも、好ましい界面活性剤は、コーティング性の観点でBYKからのBYK-333及びBYK-30
7、ならびにDICからのF-563であってもよい。
7、ならびにDICからのF-563であってもよい。
界面活性剤の量は、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量(すなわち、溶媒を除いた重量)に基づいて、0.01~3重量%、または0.08~1重量%であってもよい。この範囲内において、着色感光性樹脂組成物は、滑らかにコーティングされ得る。
(H)溶媒
本発明の着色感光性樹脂組成物は、好ましくは、上記の構成成分及び溶媒が混合される液体組成物として、調製されてもよい。着色感光性樹脂組成物中の構成成分と相溶性であるが、反応性ではない、当技術分野において既知の任意の溶媒は、着色感光性樹脂組成物の調製において使用されてもよい。
本発明の着色感光性樹脂組成物は、好ましくは、上記の構成成分及び溶媒が混合される液体組成物として、調製されてもよい。着色感光性樹脂組成物中の構成成分と相溶性であるが、反応性ではない、当技術分野において既知の任意の溶媒は、着色感光性樹脂組成物の調製において使用されてもよい。
溶媒の例としては、グリコールエーテル、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、例えばエチルセロソルブアセテート、エステル、例えばエチル2-ヒドロキシプロピオネート、ジエチレングリコール、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、ならびにアルコキシアルキルアセテート、例えば3-メトキシブチルアセテートが挙げられ得る。溶媒は、単独で、または2つ以上の組み合わせで使用されてもよい。
溶媒の量は、特に限定されないが、最終的に得られる着色感光性樹脂組成物のコーティング性及び安定性の観点から着色感光性樹脂組成物の総重量に基づいて、50~90重量%または70~85重量%であってもよい。
加えて、本発明の着色感光性樹脂組成物は、着色感光性樹脂組成物の物理的特性が悪影響を受けない限り、他の添加剤、例えば抗酸化剤及び安定剤を含んでもよい。
上述のように、本発明の着色感光性樹脂組成物は、優れた表面平滑性を有し、その表面上のしわの発生を最小限にする硬化膜を形成することができる。このため、それは、遮光スペーサ、例えばLCD及びOLEDディスプレイパネルを含む種々の電子部品のために使用される黒色カラムスペーサを調製するために有用であり得る。
上述の構成成分を含む本発明の着色感光性樹脂組成物は、一般的な方法によって、例えば、以下の方法によって調製されてもよい。
最初に、着色剤は、着色剤の平均粒径が所望の値に達するまで、ビーズミルを使用して予め溶媒と混合され、その中に分散させる。このとき、界面活性剤が使用されてもよく、またはコポリマーの一部または全体が混合されてもよい。このように得られた分散体に、コポリマー及び界面活性剤の残部、エポキシ樹脂から誘導される化合物、光重合性化合物、ならびに光重合開始剤が添加される。添加剤、例えばエポキシ化合物または追加の溶媒は、必要に応じて、ある特定の濃度にさらに混合され、その後、それらを十分に撹拌して所望の着色感光性樹脂組成物を得る。
本発明は、着色感光性樹脂組成物から製造される遮光スペーサも提供する。
具体的には、着色感光性樹脂組成物を使用して製造される黒色カラムスペーサ(BCS)が本発明において提供され、カラムスペーサ及び黒色マトリックスは、1つのモジュールに集積される。黒色カラムスペーサのパターンの実施形態は、図1に例証される。
遮光スペーサは、コーティング形成ステップ、露光ステップ、現像ステップ、及び加熱ステップによって製造されてもよい。
コーティング形成ステップにおいて、本発明による着色感光性樹脂組成物は、所望の厚さ、例えば、1~25μmでスピンコーティング法、スリットコーティング法、ロールコーティング方法、スクリーン印刷方法、アプリケータ法などによって、前処理された基板上にコーティングされ、その後、70~100℃の温度で1~10分間予備硬化され、溶媒をそれから除去することによって、コーティングを形成する。
コーティングされた膜上にパターンを形成するために、所定の形状を有するマスクがその上に配置され、200~500nmを有する活性光線で照射される。この時点で、集積型黒色カラムスペーサを製造するために、透過率が異なるパターンを有するマスクを使用して、カラムスペーサ及び黒色マトリックスを同時に実現してもよい。照射のために使用される光源として、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、アルゴンガスレーザなどが使用されてもよく、必要に応じて、X線、電子線なども使用されてもよい。露光量は、組成物の構成成分の種類及び組成比、ならびに乾燥コーティングの厚さに応じて変化してもよい。高圧水銀ランプが使用される場合、露光量の量は500mJ/cm2以下(365nmの波長)であってもよい。
露光ステップ後、アルカリ水溶液、例えば炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウムなどを現像溶媒として使用する現像ステップは、不必要な部分を溶解し、除去するために実行され、ここで、露出部のみが残り、パターンを形成する。現像によって得られたイメージパターンは、室温に冷却され、180~250℃の温度で10~60分間熱風循環型乾燥炉中でポストベークされ、それによって、最終的なパターンを得る。
このように生成された遮光スペーサは、その優れた物理的特性のために、LCD、OLEDディスプレイなどの電子部品の製造において使用されてもよい。このため、本発明は、遮光スペーサを含む電子部品を提供する。
LCD、OLEDディスプレイなどは、本発明による遮光スペーサを除いて、当業者に既知の任意の要素を含んでもよい。すなわち、本発明は、あらゆるLCD、あらゆるOLEDディスプレイなどを包含し、その中で本発明の遮光スペーサが用いられてもよい。
以下、本発明は、以下の実施例を参照しながらさらに詳細に説明する。しかしながら、これらの実施例は、本発明を例証するために記載され、本発明の範囲は、それらに限定されない。
調製例1:コポリマーの調製
還流コンデンサ及び撹拌機を装着した500mlの丸底フラスコに、溶媒としての300gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)及びラジカル重合開始剤としての2gの2,2´-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)に加えて、51モル%のN-フェニルマレイミド(PMI)、4モル%のスチレン(Sty)、10モル%の4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル(4-HBAGE)、及び35モル%のメタアクリル酸(MAA)からなる100gの混合物を装入した。次いで、混合物を70℃に加熱し、5時間撹拌して、31重量%の固形分を有するコポリマー溶液(A)を得た。このように調製されたコポリマーは、100mgKOH/gの酸価及びゲル浸透クロマトグラフィによって測定された、20,000のポリスチレン基準の重量平均分子量(Mw)を有した。
還流コンデンサ及び撹拌機を装着した500mlの丸底フラスコに、溶媒としての300gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)及びラジカル重合開始剤としての2gの2,2´-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)に加えて、51モル%のN-フェニルマレイミド(PMI)、4モル%のスチレン(Sty)、10モル%の4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル(4-HBAGE)、及び35モル%のメタアクリル酸(MAA)からなる100gの混合物を装入した。次いで、混合物を70℃に加熱し、5時間撹拌して、31重量%の固形分を有するコポリマー溶液(A)を得た。このように調製されたコポリマーは、100mgKOH/gの酸価及びゲル浸透クロマトグラフィによって測定された、20,000のポリスチレン基準の重量平均分子量(Mw)を有した。
調製例2:エポキシ樹脂から誘導され、かつカルド主鎖構造を有する化合物の調製
ステップ(1):9,9-ビス[4-(グリシジルオキシ)フェニル]フルオレンの調製
3,000mlの3つ口丸底フラスコに、200gのトルエン、125.4gの4,4´-(9-フルオレニリデン)ジフェノール、及び78.6gのエピクロロヒドリンを添加し、撹拌しながら40℃に加熱し、溶液を得た。0.1386gのt-ブチルアンモニウムブロミド及び50%のNaOH水溶液(3当量)を容器中に混合し、得られた溶液に撹拌しながら混合物をゆっくりと添加した。
3,000mlの3つ口丸底フラスコに、200gのトルエン、125.4gの4,4´-(9-フルオレニリデン)ジフェノール、及び78.6gのエピクロロヒドリンを添加し、撹拌しながら40℃に加熱し、溶液を得た。0.1386gのt-ブチルアンモニウムブロミド及び50%のNaOH水溶液(3当量)を容器中に混合し、得られた溶液に撹拌しながら混合物をゆっくりと添加した。
このように得られた反応混合物を90℃に1時間加熱し、4,4´-(9-フルオレニリデン)ジフェノールを完全に除去し、HPLCまたはTLCによって確認した。反応混合物を30℃に冷却し、400mlのジクロロメタン及び300mlの1N HClを撹拌しながらそれに添加した。次いで、有機層を分離し、300mlの蒸留水で2回または3回洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で蒸留して、ジクロロメタンを除去した。ジクロロメタン及びメタノールの混合物を使用して、合成物を再結晶させ、表題化合物であるエポキシ樹脂化合物を得た。
ステップ(2):(((9H-フルオレン-9,9-ジイル)ビス(4,1-フェニレン))ビス(オキシ))ビス(2-ヒドロキシプロパン-3,1-ジイル)ジアクリレート(CAS番号143182-97-2)の調製
1,000mlの3つ口フラスコに、ステップ(1)で得られた115gの化合物、50mgのテトラメチルアンモニウムクロライド、50mgの2,6-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-メチルフェノール、及び35gのアクリル酸を添加した。25ml/分の流速での送風とともに、混合物を90~100℃に加熱し、さらに120℃に加熱して、溶液を得た。得られた溶液は、その酸価が1.0mgKOH/g未満に下がり、室温に冷却されるまで、約12時間撹拌した。300mlのジクロロメタン及び300mlの蒸留水を撹拌しながら反応混合物に添加した。次いで、有機層を分離し、300mlの蒸留水で2回または3回洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で蒸留して、ジクロロメタンを除去し、それにより、表題化合物を得た。
1,000mlの3つ口フラスコに、ステップ(1)で得られた115gの化合物、50mgのテトラメチルアンモニウムクロライド、50mgの2,6-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-メチルフェノール、及び35gのアクリル酸を添加した。25ml/分の流速での送風とともに、混合物を90~100℃に加熱し、さらに120℃に加熱して、溶液を得た。得られた溶液は、その酸価が1.0mgKOH/g未満に下がり、室温に冷却されるまで、約12時間撹拌した。300mlのジクロロメタン及び300mlの蒸留水を撹拌しながら反応混合物に添加した。次いで、有機層を分離し、300mlの蒸留水で2回または3回洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で蒸留して、ジクロロメタンを除去し、それにより、表題化合物を得た。
ステップ(3):エポキシ樹脂から誘導され、かつカルド主鎖構造を有する化合物の調製
PGMEA中のステップ(2)で得られた化合物を1,000mlの3つ口フラスコに入れ、1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物(0.75当量)、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物(0.5当量)、及びトリフェニルホスフィン(0.01当量)をそれにさらに添加した。反応混合物を撹拌しながら120~130℃に2時間加熱して、次いで、80~90℃に冷却後、6時間撹拌した。室温に冷却後、6,000の重量平均分子量(Mw)及び107mgKOH/g(固形分に基づく)の酸価を有するポリマーの溶液(49重量%の固形分)を得た。
PGMEA中のステップ(2)で得られた化合物を1,000mlの3つ口フラスコに入れ、1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物(0.75当量)、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物(0.5当量)、及びトリフェニルホスフィン(0.01当量)をそれにさらに添加した。反応混合物を撹拌しながら120~130℃に2時間加熱して、次いで、80~90℃に冷却後、6時間撹拌した。室温に冷却後、6,000の重量平均分子量(Mw)及び107mgKOH/g(固形分に基づく)の酸価を有するポリマーの溶液(49重量%の固形分)を得た。
調製例3:着色分散体の調製-(1)
着色分散体(D-1)は、Tokushiki Co.,Ltdから供給され、分散体は以下の通りに調製された。
着色分散体(D-1)は、Tokushiki Co.,Ltdから供給され、分散体は以下の通りに調製された。
12,000~20,000g/モルの重量平均分子量及び80~150mgKOH/gの酸価を有する8gのアクリル酸コポリマー溶液(ベンジルメタクリレート、スチレン、及びメタクリル酸のコポリマー)(Tokushiki Co.,Ltd.)、100~140mgKOH/gのアミン価を有する8gのアクリルポリマー分散剤(Tokushiki Co.,Ltd.)、12gのカーボンブラック、有機ブラックとしての53gのラクタムブラック(Black582、BASF)、16gのC.I.Pigment Blue15:6、ならびに溶媒としての384gのPGMEAを25℃で6時間ペイントシェーカを使用して分散させた。この分散ステップは、0.3mmのジルコニアビーズを用いて実行した。分散ステップ終了後、フィルタを使用してビーズを分散体から除去し、それによって、23重量%の固形分を有する着色分散体を得た。
調製例4:着色分散体の調製-(2)
着色分散体(D-2)は、Tokushiki Co.,Ltd.から供給され、分散体は、着色分散体のための着色剤として、有機ブラックのみを使用したことを除いて、調製例3と同様に調製された。
着色分散体(D-2)は、Tokushiki Co.,Ltd.から供給され、分散体は、着色分散体のための着色剤として、有機ブラックのみを使用したことを除いて、調製例3と同様に調製された。
調製例5:着色分散体の調製-(3)
着色分散体(D-3)は、Tokushiki Co.,Ltd.から供給され、分散体は、着色分散体のための着色剤として、無機ブラックであるカーボンブラックのみを使用したことを除いて、調製例3と同様に調製された。
着色分散体(D-3)は、Tokushiki Co.,Ltd.から供給され、分散体は、着色分散体のための着色剤として、無機ブラックであるカーボンブラックのみを使用したことを除いて、調製例3と同様に調製された。
調製例6:着色分散体の調製-(4)
着色分散体(D-4)は、Tokushiki Co.,Ltd.から供給され、分散体は、着色分散体のための着色剤として、C.I.Pigment Blue15:6のみを使用したことを除いて、調製例3と同様に調製された。
着色分散体(D-4)は、Tokushiki Co.,Ltd.から供給され、分散体は、着色分散体のための着色剤として、C.I.Pigment Blue15:6のみを使用したことを除いて、調製例3と同様に調製された。
調製例7:エポキシ化合物の調製
150gのグリシジルメタクリレート、2gの2,2´-アゾビスイソブチロニトリル、及び450gのPGMEAをフラスコ中に入れ、30分間窒素でパージした。その後、フラスコを撹拌しながら油浴中に浸漬し、反応温度を80℃に維持しながら、重合を5時間行い、それによって、22重量%の固形分及び12,000の重量平均分子量(Mw)を有するエポキシ化合物溶液(F)を得た。
150gのグリシジルメタクリレート、2gの2,2´-アゾビスイソブチロニトリル、及び450gのPGMEAをフラスコ中に入れ、30分間窒素でパージした。その後、フラスコを撹拌しながら油浴中に浸漬し、反応温度を80℃に維持しながら、重合を5時間行い、それによって、22重量%の固形分及び12,000の重量平均分子量(Mw)を有するエポキシ化合物溶液(F)を得た。
上記の調製例において調製された化合物を使用して、下記の実施例及び調製例において感光性樹脂組成物を調製した。
以下の追加の構成成分を使用した。
光重合性化合物(B):ヘキサ官能性ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート(DPHA、Nippon Kayaku製)
オキシム系光重合開始剤(C-1):ADEKA製のN-1919
トリアジン系光重合開始剤(C-2):(E)-2-(4-スチリルフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン(製造業者:PHARMASYNTHESE、商標名:TRIAZINE-Y)
ケトン系光重合開始剤(C-3):2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イルフェニル)-ブタノン(製造業者:Ciba、商標名:I-379)
ノボラック系エポキシ化合物(E-2):Nippon Kayaku製のCCR-1307H
界面活性剤(G):BYK製のBYK-307
溶媒(H):Chemtronics製のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)。
光重合性化合物(B):ヘキサ官能性ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート(DPHA、Nippon Kayaku製)
オキシム系光重合開始剤(C-1):ADEKA製のN-1919
トリアジン系光重合開始剤(C-2):(E)-2-(4-スチリルフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン(製造業者:PHARMASYNTHESE、商標名:TRIAZINE-Y)
ケトン系光重合開始剤(C-3):2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イルフェニル)-ブタノン(製造業者:Ciba、商標名:I-379)
ノボラック系エポキシ化合物(E-2):Nippon Kayaku製のCCR-1307H
界面活性剤(G):BYK製のBYK-307
溶媒(H):Chemtronics製のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)。
実施例1:着色感光性樹脂組成物の調製
コポリマーとして調製例1において得られた100重量部のコポリマー(A)(31重量%の固形分)、100重量部の光重合性化合物(B)、光重合開始剤としての4.6重量部のオキシム系光重合開始剤(C-1)、3.8重量部のトリアジン系光重合開始剤(C-2)、及び4.8重量部のケトン系光重合開始剤(C-3)、調製例3において調製された152.1重量部の着色分散体(D-1)、調製例7において調製された15.3重量部のエポキシ化合物溶液(F)、ならびに0.4重量部の界面活性剤(G)を混合し、その後、固形分が19重量%に達するように、溶媒(H)をそれに添加した。2時間振盪機を使用して、合成物を混合し、液相着色感光性樹脂組成物を調製した。
コポリマーとして調製例1において得られた100重量部のコポリマー(A)(31重量%の固形分)、100重量部の光重合性化合物(B)、光重合開始剤としての4.6重量部のオキシム系光重合開始剤(C-1)、3.8重量部のトリアジン系光重合開始剤(C-2)、及び4.8重量部のケトン系光重合開始剤(C-3)、調製例3において調製された152.1重量部の着色分散体(D-1)、調製例7において調製された15.3重量部のエポキシ化合物溶液(F)、ならびに0.4重量部の界面活性剤(G)を混合し、その後、固形分が19重量%に達するように、溶媒(H)をそれに添加した。2時間振盪機を使用して、合成物を混合し、液相着色感光性樹脂組成物を調製した。
実施例2~11及び比較例1~5:着色感光性樹脂組成物の調製
着色感光性樹脂組成物は、光重合性化合物の量及び光重合開始剤の量を下記の表1に記載したように変化させ、分散剤(着色分散体)の種類及び量を下記の表2に記載したように変化させ、エポキシ樹脂から誘導される化合物の種類及び量、ならびにエポキシ化合物の量及び界面活性剤の量を下記の表3に記載したように変化させたことを除いて、実施例1と同様に調製した(下記の表1~3の量は、固形分に基づく重量部である)。
着色感光性樹脂組成物は、光重合性化合物の量及び光重合開始剤の量を下記の表1に記載したように変化させ、分散剤(着色分散体)の種類及び量を下記の表2に記載したように変化させ、エポキシ樹脂から誘導される化合物の種類及び量、ならびにエポキシ化合物の量及び界面活性剤の量を下記の表3に記載したように変化させたことを除いて、実施例1と同様に調製した(下記の表1~3の量は、固形分に基づく重量部である)。
試験例1:着色感光性樹脂組成物から硬化膜の調製
実施例及び比較例において得られた着色感光性樹脂組成物をそれぞれ、スピンコータを使用してガラス基板上にコーティングし、95℃で150秒間プリベークして、4.8μmの厚さのコーティングされた膜を形成した。このように形成されたコーティングされた膜上に、コーティングされた膜の5cm×5cmの面積が100%露光され、基板とのギャップが50μmに維持されるように、マスクを配置した。その後、200nm~450nmの波長を有する光を発する露光装置(モデル名:MA6)を使用して、ある特定期間の間365nmの波長に基づいて、66mJ/cm2の照射線量率で光をコーティングされた膜に照射した。次いで、非露光部が完全に洗い流されるまで、23℃で水酸化カリウムの0.04重量%水溶液で現像した。このように形成されたパターンを230℃で30分間、オーブン中でポストベークし、4.0μm(±0.1μm)の厚さで硬化膜(遮光スペーサ)を得た。
実施例及び比較例において得られた着色感光性樹脂組成物をそれぞれ、スピンコータを使用してガラス基板上にコーティングし、95℃で150秒間プリベークして、4.8μmの厚さのコーティングされた膜を形成した。このように形成されたコーティングされた膜上に、コーティングされた膜の5cm×5cmの面積が100%露光され、基板とのギャップが50μmに維持されるように、マスクを配置した。その後、200nm~450nmの波長を有する光を発する露光装置(モデル名:MA6)を使用して、ある特定期間の間365nmの波長に基づいて、66mJ/cm2の照射線量率で光をコーティングされた膜に照射した。次いで、非露光部が完全に洗い流されるまで、23℃で水酸化カリウムの0.04重量%水溶液で現像した。このように形成されたパターンを230℃で30分間、オーブン中でポストベークし、4.0μm(±0.1μm)の厚さで硬化膜(遮光スペーサ)を得た。
1-1:プリベーク温度に対する現像時間の変化の測定
プリベーク温度は、硬化膜を調製するための上記プロセス中、80℃及び100℃に変化させ、上記と同じ条件下で評価を行った。次いで、23℃で水酸化カリウムの0.04重量%水溶液によって、非露光部が完全に洗い流された時間(現像装置のステージOリング部が基板の後部に完全に見えるまで)を測定した。さらに、プリベーク温度の変化に対する現像時間の変化を変換し記録した。
プリベーク温度は、硬化膜を調製するための上記プロセス中、80℃及び100℃に変化させ、上記と同じ条件下で評価を行った。次いで、23℃で水酸化カリウムの0.04重量%水溶液によって、非露光部が完全に洗い流された時間(現像装置のステージOリング部が基板の後部に完全に見えるまで)を測定した。さらに、プリベーク温度の変化に対する現像時間の変化を変換し記録した。
1-2:表面特性の測定
このように得られた硬化膜の表面をα-ステップ機器(アルファ-ステップ粗面計)であるSCAN PLUSを使用して機器プローブチップの上下動の振動値を記録することによって測定し、硬化膜の表面を20倍の倍率で、光学顕微鏡(STM6、Olympus)で撮影した。
このように得られた硬化膜の表面をα-ステップ機器(アルファ-ステップ粗面計)であるSCAN PLUSを使用して機器プローブチップの上下動の振動値を記録することによって測定し、硬化膜の表面を20倍の倍率で、光学顕微鏡(STM6、Olympus)で撮影した。
1-3:光学密度の測定
ポストベーク後、マスクを用いなかったことを除いて、硬化膜を調製するための上記のプロセスにおいて、3.0μmの厚さを有する硬化膜を得た。550nmでの硬化膜の透過率を、光学密度計(361T、Xlite製)を使用して測定し、1μmの厚さに基づく光学密度を決定した。
ポストベーク後、マスクを用いなかったことを除いて、硬化膜を調製するための上記のプロセスにおいて、3.0μmの厚さを有する硬化膜を得た。550nmでの硬化膜の透過率を、光学密度計(361T、Xlite製)を使用して測定し、1μmの厚さに基づく光学密度を決定した。
上記の試験例において得られた結果を下記の表4に要約し、二重結合のモル数/エポキシ基のモル数に対する現像時間の変化を図2に例証し、硬化膜の表面の写真を図3~7に示す。
表4及び図3~9に示すように、本発明の範囲内である実施例の組成は、表面上の不規則なしわが最小限である硬化膜を提供するだけでなく、短期間での現像も可能にした。対照的に、本発明の範囲内ではない比較例による組成物は、少なくとも1つの不都合な結果を示した。
[図面の参照番号]
A:カラムスペーサ部の厚さ
B:黒色マットレス部の厚さ
C:カラムスペーサ部の限界寸法(CD)
A:カラムスペーサ部の厚さ
B:黒色マットレス部の厚さ
C:カラムスペーサ部の限界寸法(CD)
Claims (3)
- (A)着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて8~45重量%の、エポキシ基を含むコポリマーであって、(a-1)前記コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて10~50モル%の、エチレン系不飽和カルボン酸、エチレン系不飽和カルボン酸無水物、またはそれらの組み合わせから誘導される構造単位、(a-2)前記コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて3~60モル%の、芳香環を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位、(a-3)前記コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて5~20モル%の、エポキシ基を含有するエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位、並びに(a-4)前記コポリマーを構成する構造単位の総モルに基づいて0~80モル%の、(a-1)、(a-2)及び(a-3)と異なるエチレン系不飽和化合物から誘導される構造単位を含む前記コポリマーと、
(B)着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて20~30重量%の、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びコハク酸のモノエステル、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びコハク酸のモノエステル、ペンタエリスリトールトリアクリレート-ヘキサメチレンジイソシアネート(ペンタエリスリトールトリアクリレート及びヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物)、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエポキシアクリレート及びエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレート並びにそれらの混合物からなる群から選択される二重結合を含む光重合性化合物と、
(C)着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて0.1~10重量%の光重合開始剤と、
(D)着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて20~50重量%の着色剤と、
(E)任意選択で、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて0~30重量%の、エポキシ樹脂から誘導され、かつ二重結合を有する化合物と、
(F)任意選択で、着色感光性樹脂組成物の固形分の総重量に基づいて0~7重量%のエポキシ化合物であって、グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、3,4-エポキシブチル(メタ)アクリレート、4,5-エポキシペンチル(メタ)アクリレート、5,6-エポキシヘキシル(メタ)アクリレート、6,7-エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、2,3-エポキシシクロペンチル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、α-エチルグリシジルアクリレート、α-n-プロピルグリシジルアクリレート、α-n-ブチルグリシジルアクリレート、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルベンジル)アクリルアミド、N-(4-(2,3-エポキシプロポキシ)-3,5-ジメチルフェニルプロピル)アクリルアミド、アリルグリシジルエーテル、2-メチルアリルグリシジルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル及びそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1つのエポキシ基を含有する不飽和モノマーのホモオリゴマーもしくはヘテロオリゴマーであるエポキシ化合物と、を含む、着色感光性樹脂組成物であって、
前記光重合性化合物(B)及び前記エポキシ樹脂から誘導される化合物(E)中の前記二重結合対前記コポリマー(A)及び前記エポキシ化合物(F)中の前記エポキシ基のモル比が、以下の関係:
6.0≦二重結合のモル数/エポキシ基のモル数≦33.9
を満たし、並びに、
前記着色感光性樹脂組成物を、スピンコータを使用してガラス基板上にコーティングし、95℃で150秒間プリベークしてコーティングされた膜を形成し、前記コーティングされた膜に365nmの波長に基づいて、66mJ/cm2の照射線量率で光を照射し、前記照射された膜を23℃で水酸化カリウムの0.04重量%水溶液で現像し、前記現像された膜を230℃で30分間、オーブン中でポストベークし、3.0μmの厚さの硬化膜を得る工程によって硬化膜を形成した場合の、前記着色感光性樹脂組成物から形成された前記硬化膜が、550nmで1.0/μm~3.0/μmの光学密度を有する、着色感光性樹脂組成物。 - 前記着色剤が、分散型樹脂を含み、前記分散型樹脂が、3mgKOH/g以下のアミン値を有し、前記成分の総モル数に基づいて、30モル%以下のマレイミドモノマーを含む、請求項1に記載の着色感光性樹脂組成物。
- 請求項1または2に記載の着色感光性樹脂組成物から製造される遮光スペーサ。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2016-0143604 | 2016-10-31 | ||
KR20160143604 | 2016-10-31 | ||
KR1020170073371A KR101832097B1 (ko) | 2016-10-31 | 2017-06-12 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서 |
KR10-2017-0073371 | 2017-06-12 | ||
JP2017208784A JP2018072834A (ja) | 2016-10-31 | 2017-10-30 | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017208784A Division JP2018072834A (ja) | 2016-10-31 | 2017-10-30 | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023093544A true JP2023093544A (ja) | 2023-07-04 |
Family
ID=61387241
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017208784A Pending JP2018072834A (ja) | 2016-10-31 | 2017-10-30 | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ |
JP2023061600A Pending JP2023093544A (ja) | 2016-10-31 | 2023-04-05 | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017208784A Pending JP2018072834A (ja) | 2016-10-31 | 2017-10-30 | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10534261B2 (ja) |
JP (2) | JP2018072834A (ja) |
KR (1) | KR101832097B1 (ja) |
CN (1) | CN108008601B (ja) |
TW (1) | TWI771330B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102216075B1 (ko) * | 2017-12-27 | 2021-02-15 | 주식회사 엘지화학 | 자외선 경화형 잉크 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴 |
CN111722471B (zh) * | 2019-03-20 | 2024-04-09 | 东友精细化工有限公司 | 感光性树脂组合物、显示器隔壁结构物及显示装置 |
US11493847B2 (en) * | 2019-05-24 | 2022-11-08 | Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. | Structure for a quantum dot barrier rib and process for preparing the same |
US20220163887A1 (en) * | 2020-11-24 | 2022-05-26 | Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. | Colored photosensitive resin composition and multilayer cured film prepared therefrom |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001154206A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Jsr Corp | スペーサー用感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよび液晶表示素子 |
JP3705132B2 (ja) * | 2000-12-27 | 2005-10-12 | チッソ株式会社 | 感光性樹脂組成物、スペーサーおよび液晶表示素子 |
JP4745110B2 (ja) | 2006-04-19 | 2011-08-10 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物及びこの感光性組成物により形成されたカラーフィルタ |
JP4949810B2 (ja) | 2006-11-14 | 2012-06-13 | 東京応化工業株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2011170334A (ja) * | 2010-01-20 | 2011-09-01 | Fujifilm Corp | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及びウエハレベルレンズ |
KR20130021128A (ko) | 2011-08-22 | 2013-03-05 | 성균관대학교산학협력단 | 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 구비한 화상표시장치 |
KR101658374B1 (ko) * | 2013-01-25 | 2016-09-22 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 컬럼 스페이서 및 블랙 매트릭스를 동시에 구현할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물 |
KR20140098483A (ko) * | 2013-01-31 | 2014-08-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
KR102066281B1 (ko) | 2013-02-15 | 2020-01-15 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광성 스페이서 |
KR20140147062A (ko) * | 2013-06-18 | 2014-12-29 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터, 이를 이용하여 제조된 스페이서 및 이를 이용하여 제조된 액정 디스플레이 장치 |
TWI485516B (zh) * | 2013-08-28 | 2015-05-21 | Chi Mei Corp | 黑色矩陣用感光性樹脂組成物及其應用 |
KR20150055417A (ko) | 2013-11-13 | 2015-05-21 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
KR20150134989A (ko) | 2014-05-23 | 2015-12-02 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 컬럼 스페이서 및 블랙 매트릭스를 동시에 구현할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물 |
KR101784049B1 (ko) * | 2014-11-14 | 2017-10-10 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 차광성 스페이서 |
KR102437844B1 (ko) | 2015-04-02 | 2022-08-31 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 |
-
2017
- 2017-06-12 KR KR1020170073371A patent/KR101832097B1/ko active IP Right Grant
- 2017-10-12 US US15/782,171 patent/US10534261B2/en active Active
- 2017-10-19 TW TW106135985A patent/TWI771330B/zh active
- 2017-10-23 CN CN201710991496.7A patent/CN108008601B/zh active Active
- 2017-10-30 JP JP2017208784A patent/JP2018072834A/ja active Pending
-
2023
- 2023-04-05 JP JP2023061600A patent/JP2023093544A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108008601B (zh) | 2023-07-07 |
TW201818159A (zh) | 2018-05-16 |
JP2018072834A (ja) | 2018-05-10 |
US20180120699A1 (en) | 2018-05-03 |
CN108008601A (zh) | 2018-05-08 |
KR101832097B1 (ko) | 2018-02-23 |
US10534261B2 (en) | 2020-01-14 |
TWI771330B (zh) | 2022-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2020144396A (ja) | カラムスペーサーとブラックマトリックスの両方に適した着色感光性樹脂組成物 | |
JP2023093544A (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
JP7240807B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
JP2022028693A (ja) | カラムスペーサを調製するための方法 | |
US20200299236A1 (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom | |
US20180356722A1 (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom | |
JP7079198B2 (ja) | 黒色感光性樹脂組成物及びそれから調製される黒色カラムスペーサ | |
JP7228340B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ | |
US10747109B2 (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom | |
KR20160118666A (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 | |
US10747110B2 (en) | Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230425 |