JP2023090083A - 半導体装置 - Google Patents

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康之 遠藤
Yasuyuki Endo
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Abstract

Figure 2023090083000001
【課題】高出力化、高効率化及びEMIノイズを抑制しつつ、コストを低減できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、第1の期間に容量素子の一端を第1の電位にして前記容量素子の他端から第1の電源電圧を出力し、第2の期間に前記容量素子の一端を前記第1の電位より高い第2の電位にして前記容量素子の他端から前記第1の電源電圧より高い第2の電源電圧を出力する電源回路と、パルス幅変調された信号を受け、前記第1の期間に前記第1の電源電圧を用いて前記信号に応じたスイッチング動作を行い、前記第2の期間に前記第2の電源電圧を用いて前記信号に応じたスイッチング動作を行う増幅回路とを有する。
【選択図】図1

Description

本明細書の実施形態は、半導体装置に関する。
オーディオアンプ等の半導体装置は、受けた信号に対してマルチレベルのD級増幅を行うことがある(例えば、特許文献1参照)。近年では、環境負荷を低減するべく、マルチレベルのD級増幅を行う半導体装置に対し、高出力化及び高効率化の要求がある。
米国特許出願公開第2020/0304080号明細書
半導体装置は、マルチレベルのD級増幅を行う場合、複数種類の電源電圧を用いる。その際、上記した高出力化の実現のため、半導体装置に昇圧電源回路を内蔵させる。例えば、半導体装置において、複数種類の電源電圧を生成するためにチャージポンプ型の電源回路を設けた場合、半導体装置を構成するために用いるパワートランジスタ数が増大し、半導体装置のコストが増大する可能性がある。また、チャージポンプ型の電源回路を設けた場合、D級増幅の出力段において、ハイレベル電圧が昇圧電源電位となり、ローレベル電圧がグランド電位となるため、スイッチングする電圧範囲が大きく輻射ノイズを放出するため輻射ノイズ対策も行う必要がある。
本発明の目的は、高出力化、高効率化及びEMI(ElectroMagnetic Interference)ノイズの抑制を行うとともにコストを低減できる半導体装置を提供することである。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の1つの側面にかかる半導体装置は、第1の期間に容量素子の一端を第1の電位にして前記容量素子の他端から第1の電源電圧を出力し、第2の期間に前記容量素子の一端を前記第1の電位より高い第2の電位にして前記容量素子の他端から前記第1の電源電圧より高い第2の電源電圧を出力する電源回路と、パルス幅変調された信号を受け、前記第1の期間に前記第1の電源電圧を用いて前記信号に応じたスイッチング動作を行い、前記第2の期間に前記第2の電源電圧を用いて前記信号に応じたスイッチング動作を行う増幅回路とを有する。
本発明によれば、高出力化、高効率化及びノイズ対策を実現しつつ半導体装置のコストを低減できる。
第1の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図。 第1の実施形態に係る半導体装置の動作を示す波形図。 第2の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図。 第2の実施形態に係る半導体装置の動作を示す波形図。 第3の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図。 第3の実施形態に係る半導体装置の動作を示す波形図。 第4の実施形態に係る半導体装置の構成を示す回路図。 第4の実施形態に係る半導体装置の動作を示す波形図。 チャージポンプ型電源回路を含む半導体装置の構成を示す回路図。
以下、図面を参照しながら、半導体装置の実施形態について詳細に説明する。以下の実施形態では、同一の参照符号を付した部分は同様の動作を行うものとして、重複する説明は適宜省略する。
(第1の実施形態)
第1の実施形態にかかる半導体装置は、例えばオーディオアンプであり、受けた信号に対してマルチレベルのD級増幅を行うが、そのための構成が高出力化、高効率化及びEMIノイズ抑制を行いつつ低コストで実現されるように工夫される。例えば、半導体装置X101は、図1に示すように構成される。図1は、半導体装置X101の構成を示す回路図である。
半導体装置X101は、信号源V102及びスピーカSPの間に接続される。信号源V102と半導体装置X101との間には、PWM(Pulse Width Modulation)変調回路X103が接続される。半導体装置X101とスピーカSPとの間には、フィルタX102が接続される。半導体装置X101には、電源V101が接続される。電源V101は、電源電圧VDDを発生させる。
信号源V102で発生したオーディオ信号は、PWM変調回路X103でPWM変調(パルス幅変調)され、PWM信号に変換される。半導体装置X101は、PWM信号を受け、PWM信号に応じてD級増幅動作を行い、増幅後の信号を出力する。半導体装置X101から出力された信号は、フィルタX102で平滑化されスピーカSPで音声に変換され出力される。
このとき、半導体装置X101は、電源V101の電圧を昇圧可能に構成されてもよい。PWM変調回路X103は、オーディオ信号をPWM変調して複数のPWM信号に変換するように構成されてもよい。これにより、半導体装置X101で遷移レベル幅を1レベル等に抑制しながらマルチレベル(例えば、5レベル)のD級増幅動作を行うことができる。第1の実施形態では、遷移レベル幅が半導体装置X101に供給される電源V101の電圧となるように構成している。すなわち、1レベルとは電源V101の電圧幅に相当する。このため、D級増幅動作で得られるトータルの信号振幅を大きくしながら遷移レベル幅を抑制できるので、半導体装置X101(例えばオーディオアンプ)を高出力化しながらEMIノイズを抑制できる。
半導体装置X101は、端子VDD、端子PWMP1、端子PWMN1、端子PWMP0、端子PWMN0、端子OUTP、端子OUTN、処理回路X111、電源回路X105、処理回路X110、増幅回路X104を有する。
ラインPWMP1は、端子PWMP1を介してPWM変調回路X103に接続される。ラインPWMN1は、端子PWMN1を介してPWM変調回路X103に接続される。ラインPWMP0は、端子PWMP0を介してPWM変調回路X103に接続される。ラインPWMN0は、端子PWMN0を介してPWM変調回路X103に接続される。
増幅回路X104は、端子OUTPを介してフィルタX102のP側の入力ノードに接続され、端子OUTNを介してフィルタX102のN側の入力ノードに接続される。
処理回路X111は、PWM変調回路X103で変換されたPWM信号PWMP1,PWMN1を受けて処理する。処理回路X111は、PWM信号PWMP1,PWMN1に応じたゲート信号GATEBSを生成する。処理回路X111は、NORゲートX109を含む。
NORゲートX109は、第1の入力ノードがラインPWMP1及び端子PWMP1を介してPWM変調回路X103に接続され、第2の入力ノードがラインPWMN1及び端子PWMN1を介してPWM変調回路X103に接続され、出力ノードがラインGATEBSを介して電源回路X105に接続される。NORゲートX109は、PWM信号PWMP1とPWM信号PWMN1との否定論理和を演算し、演算結果をゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。
処理回路X111は、ゲート信号GATEBSを電源回路X105へ供給する。
電源回路X105は、電源電圧Vs1を電源V101から受け、ゲート信号GATEBSを処理回路X111から受ける。電源回路X105は、受けた電源電圧Vs1を出力可能であるとともに、電源電圧Vs1を昇圧し、昇圧後の電源電圧Vs2を出力可能である。
電源回路X105は、ブートストラップ型の電源回路で構成されてもよい。電源回路X105は、容量素子C101の一端の電位を切り替えることで、容量素子C101の他端から増幅回路X104へ向けて出力させる電源電圧を切り替え可能であってもよい。
例えば、電源回路X105は、ある期間TP1に、ゲート信号GATEBSに応じて、容量素子C101の一端を電位Vにして容量素子C101の他端から電源電圧Vs1を出力する。電源回路X105は、別のある期間TP2に、ゲート信号GATEBSに応じて、容量素子C101の一端を電位V(>V)にして容量素子C101の他端から電源電圧Vs2(>Vs1)を出力する。例えば、電位V=グランド電位であり、電位V=VDDである。電源電圧Vs1=VDDであり、電源電圧Vs2=2×VDDである。
電源回路X105は、端子VDDを介して電源V101に接続される。電源回路X105は、端子CFL、端子BS、容量素子C101、ドライバ(第1のドライバ)10及びスイッチ40を有する。
容量素子C101は、一端が端子CFLを介してドライバ10に接続され、他端が端子BSを介して増幅回路X104に接続される。
ドライバ10は、入力ノード11が処理回路X111に接続され、電源ノード12が端子VDDを介して電源V101に接続され、基準ノード13が基準電位(例えば、グランド電位)に接続され、出力ノード14が端子CFLを介して容量素子C101の一端に接続される。容量素子C101の他端は、端子BSを介して増幅回路X104の電源ノード
に接続される。
ドライバ10は、パワートランジスタM101(第1のパワートランジスタ)及びパワートランジスタM102(第2のパワートランジスタ)を有する。パワートランジスタM101は、耐電流性が高められたPMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM101は、ゲートが処理回路X111に接続され、ソースが端子VDDを介して電源V101に接続され、ドレインがパワートランジスタM102に接続されるとともに端子CFLを介して容量素子C101の一端に接続される。パワートランジスタM101は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
パワートランジスタM102は、耐電流性が高められたNMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM102は、ゲートが処理回路X111に接続され、ソースが基準電位(例えば、グランド電位)に接続され、ドレインがパワートランジスタM101に接続されるとともに端子CFLを介して容量素子C101の一端に接続される。パワートランジスタM102は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
スイッチ40は、一端41が端子VDDを介して電源V101に接続され、他端42が端子BSを介して容量素子C101の他端に接続され、制御ノード43が処理回路X111に接続される。
スイッチ40は、インバータX106及びパワートランジスタM103(第3のパワートランジスタ)を有する。インバータX106は、入力ノードが処理回路X111に接続され、出力ノードがパワートランジスタM103に接続される。
パワートランジスタM103は、耐電流性が高められたPMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM103は、ゲートがインバータX106に接続され、ソースが端子BSを介して容量素子C101の他端に接続され、ドレインが端子VDDを介して電源V101に接続される。パワートランジスタM103は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
上述したように、電源回路X105は、3つのパワートランジスタM101~M103を用いて構成される。
処理回路X110は、PWM変調回路X103で変換されたPWM信号PWMP0,PWMN0を受け、PWM信号PWMP0,PWMN0に応じたゲート信号GATEP,GATENを生成して増幅回路X104へ供給する。
処理回路X110は、インバータX107,X108を含む。インバータX107は、入力ノードがラインPWMP0及び端子PWMP0を介してPWM変調回路X103に接続され、出力ノードが増幅回路X104に接続される。インバータX108は、入力ノードがラインPWMN0及び端子PWMN0を介してPWM変調回路X103に接続され、出力ノードが増幅回路X104に接続される。
増幅回路X104は、ゲート信号GATEP,GATENを受ける。増幅回路X104は、電源回路X105から受ける電源電圧を用いて、ゲート信号GATEP,GATENに応じたスイッチング動作を行うことが可能である。
例えば、増幅回路X104は、上述した期間TP1に、電源電圧Vs1を用いて、ゲート信号GATEP,GATENに応じたスイッチング動作を行う。増幅回路X104は、上述した期間TP2に、電源電圧Vs2を用いて、ゲート信号GATEP,GATENに応じたスイッチング動作を行う。
増幅回路X104は、ドライバ(第2のドライバ)20及びドライバ(第3のドライバ)30を有する。増幅回路X104は、BTL駆動回路を構成し、ドライバ20がP側のドライバを構成し、ドライバ30がN側のドライバを構成する。
ドライバ20は、入力ノード21が処理回路X110に接続され、電源ノード22が電源回路X105及び端子BSを介して容量素子C101の他端に接続され、基準ノード23が基準電位(例えば、グランド電位)に接続され、出力ノード24が端子OUTP(第1の出力端子)を介してフィルタX102に接続される。
ドライバ20は、パワートランジスタM104(第4のパワートランジスタ)及びパワートランジスタM105(第5のパワートランジスタ)を有する。パワートランジスタM104は、耐電流性が高められたPMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM104は、ゲートが処理回路X110に接続され、ソースが電源回路X105及び端子BSを介して容量素子C101の他端に接続され、ドレインがパワートランジスタM105に接続されるとともに端子OUTPを介してフィルタX102に接続される。パワートランジスタM104は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
パワートランジスタM105は、耐電流性が高められたNMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM105は、ゲートが処理回路X110に接続され、ソースが基準電位(例えば、グランド電位)に接続され、ドレインがパワートランジスタM104に接続されるとともに端子OUTPを介してフィルタX102に接続される。パワートランジスタM105は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
ドライバ30は、入力ノード31が処理回路X110に接続され、電源ノード32が電源回路X105及び端子BSを介して容量素子C101の他端に接続され、基準ノード33が基準電位(例えば、グランド電位)に接続され、出力ノード34が端子OUTN(第2の出力端子)を介してフィルタX102に接続される。
ドライバ30は、パワートランジスタM106(第6のパワートランジスタ)及びパワートランジスタM107(第7のパワートランジスタ)を有する。パワートランジスタM106は、耐電流性が高められたPMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM106は、ゲートが処理回路X110に接続され、ソースが電源回路X105及び端子BSを介して容量素子C101の他端に接続され、ドレインがパワートランジスタM107に接続されるとともに端子OUTNを介してフィルタX102に接続される。パワートランジスタM106は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
パワートランジスタM107は、耐電流性が高められたNMOSトランジスタであってもよい。パワートランジスタM107は、ゲートが処理回路X110に接続され、ソースが基準電位(例えば、グランド電位)に接続され、ドレインがパワートランジスタM106に接続されるとともに端子OUTNを介してフィルタX102に接続される。パワートランジスタM107は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。
増幅回路X104は、4つのパワートランジスタM104~M107を用いて構成される。すなわち、半導体装置X101は、7つのパワートランジスタM101~M107を用いて構成される。各パワートランジスタM101~M107は比較的回路面積が大きいが、半導体装置X101では、パワートランジスタ数が7つに抑制できている。
次に、半導体装置X101の動作について図2を用いて説明する。図2は、半導体装置X101の動作を示す波形図である。
期間TP11において、PWM信号PWMP1とPWM信号PWMN1とがともにLレベルに維持されることに応じて、処理回路X111は、ゲート信号GATEBSをHレベルに維持する。
電源回路X105において、パワートランジスタM101がオフ状態に維持されパワートランジスタM102がオン状態に維持されるので、容量素子C101の一端が端子CFL経由でグランド電位(第1の電位)に設定される。また、パワートランジスタM103がオン状態に維持されるので、端子VDDで受けた電源電圧VDDが端子BS経由で容量素子C101の他端に印加され、容量素子C101に電圧VDDが充電される。それとともに、端子VDDで受けた電源電圧VDD(第1の電源電圧)が増幅回路X104へ供給される。
一方、処理回路X110は、PWM信号PWMP0,PWMN0をそれぞれ論理反転させて、ゲート信号GATEP(第1の信号),GATEN(第2の信号)を生成する。
増幅回路X104では、電源回路X105から電源電圧VDDが供給されることに応じて、ドライバ20,30は、それぞれ、Lレベルとしてグランド電位を用い、Hレベルとして電源電位VDDを用いる。これにより、ドライバ20,30は、それぞれ、ゲート信号GATEP,GATENを論理反転させて、グランド電位と電源電位VDDとの間で遷移する信号OUTP,OUTNを生成する。
これに応じて、フィルタX102で生成される差分信号OUTP-OUTNはグランド電位と電源電位VDDとの間で遷移する信号となる。
期間TP12において、PWM信号PWMP1がHレベルに維持されることに応じて、処理回路X111は、ゲート信号GATEBSをLレベルに維持する。
電源回路X105において、パワートランジスタM101がオン状態に維持されパワートランジスタM102がオフ状態に維持されるので、容量素子C101の一端が端子CFL経由で電位VDD(第2の電位)に設定される。また、パワートランジスタM103がオフ状態に維持される。容量素子C101が電圧VDDを保持するので、容量素子C101の他端が電位2VDDに設定される。すなわち、電源電圧2VDD(第2の電源電圧)が増幅回路X104へ供給されるとともに、容量素子C101の電圧が放電される。
一方、PWM信号PWMP0がHレベルに維持されていることに応じて、処理回路X110は、ゲート信号GATEPをLレベルに維持する。PWM信号PWMN0がLレベルに維持されていることに応じて、処理回路X110は、ゲート信号GATEPをHレベルに維持する。
増幅回路X104では、電源回路X105から電源電圧2VDDが供給されることに応じて、ドライバ20,30は、それぞれ、Lレベルとしてグランド電位を用い、Hレベルとして電源電位2VDDを用いる。これにより、ドライバ20,30は、それぞれ、ゲート信号GATEP,GATENを論理反転させて、電位2VDDの信号OUTP、グランド電位の信号OUTNを生成する。
これに応じて、フィルタX102で生成される差分信号OUTP-OUTNは電位2VDDの信号となる。
期間TP13において、PWM信号PWMP1とPWM信号PWMN1とがともにLレベルに維持されることに応じて、処理回路X111は、ゲート信号GATEBSをHレベルに維持する。
電源回路X105において、パワートランジスタM101がオフ状態に維持されパワートランジスタM102がオン状態に維持されるので、容量素子C101の一端が端子CFL経由でグランド電位に設定される。また、パワートランジスタM103がオン状態に維持されるので、端子VDDで受けた電源電圧VDDが端子BS経由で容量素子C101の他端に印加され、容量素子C101に電圧VDDが充電される。それとともに、端子VDDで受けた電源電圧VDDが増幅回路X104へ供給される。
一方、PWM信号PWMP0がHレベルに維持されていることに応じて、処理回路X110は、ゲート信号GATEPをLレベルに維持する。PWM信号PWMN0がLレベルに維持されていることに応じて、処理回路X110は、ゲート信号GATENをHレベルに維持する。
増幅回路X104では、電源回路X105から電源電圧VDDが供給されることに応じて、ドライバ20,30は、それぞれ、Lレベルとしてグランド電位を用い、Hレベルとして電源電位VDDを用いる。これにより、ドライバ20,30は、それぞれ、ゲート信号GATEP,GATENを論理反転させて、電源電位VDDの信号OUTP、グランド電位の信号OUTNを生成する。
これに応じて、フィルタX102で生成される差分信号OUTP-OUTNは電位VDDの信号となる。
期間TP11,TP12,TP13について見ると、差分信号OUTP-OUTNは、グランド電位→電位VDD→2VDD→電位VDDと3レベルで変化する。期間TP14において、期間TP12と同様の動作が行われ、期間TP15において、期間TP13と同様の動作が行われ、期間TP16において、期間TP12と同様の動作が行われ、期間TP17において、期間TP11と同様の動作が行われる。すなわち、期間TP11~TP17において、差分信号OUTP-OUTNは、グランド電位⇔「VDD」⇔「2VDD」と遷移幅を1レベルに保ちながら3レベル間で変化する。
期間TP21~TP27では、期間TP11~TP17と比べて、PWM信号PWMP1の波形パターンとPWM信号PWMN1の波形パターンとが入れ替わっており、PWM信号PWMP0の波形パターンとPWM信号PWMN0の波形パターンとが入れ替わっている。これに応じて、増幅回路X104におけるP側のドライバ20の動作とN側のドライバ30の動作とが入れ替わり、ドライバ20の出力信号OUTPの波形パターンとドライバ30の出力信号OUTNの波形パターンとが入れ替わっている。
これにより、期間TP21~TP27において、差分信号OUTP-OUTNは、期間TP11~TP17と比べて、極性が反転した波形パターンとなる。すなわち、期間TP11~TP17において、差分信号OUTP-OUTNは、グランド電位⇔「-VDD」⇔「-2VDD」と遷移幅を1レベルに保ちながら3レベル間で変化する。
これを1周期に相当する期間TP11~TP27について見ると、差分信号OUTP-OUTNは、「2VDD」⇔「VDD」⇔グランド電位⇔「-VDD」⇔「-2VDD」と遷移幅を1レベルに保ちながら5レベル間で変化する。
すなわち、半導体装置X101で遷移レベル幅を1レベル等に抑制しながらマルチレベル(この場合、5レベル)のD級増幅動作を実現できていることが分かる。これに応じて、フィルタX102で平滑化される平滑化信号「OUTP-OUTN LPF後」の波形パターンを正弦波に近いパターンにすることができ、平滑化信号に応じてスピーカSPから適正な音声が出力されるようにすることができる。
なお、容量素子C101の充電は、ゲート信号GATEBSがHレベルであり、端子BSが電位VDDである期間(第1の期間)に行われる。容量素子C101の放電は、ゲート信号GATEBSがLレベルであり、端子BSが電位2VDDである期間(第2の期間)に行われる。
ここで、仮に、電源回路X905がチャージポンプ型である場合、半導体装置X901は、図9に示すように構成される。図9は、チャージポンプ型電源回路X905を含む半導体装置X901の構成を示す回路図である。
半導体装置X901において、増幅回路X904が5レベルのD級増幅動作を行う場合、2種類の電源電圧が用いられる。2種類の電源電圧を生成するために、電源回路X905に電源V901及び2個の容量素子C901,C902が外部接続される。容量素子C901に電圧Vs1(例えば、VDD)を充放電するために、電源V901と容量素子C901の一端との間にパワートランジスタM901及びパワートランジスタM902が接続される。容量素子C901の電圧を用いて容量素子C902に電圧Vs2(例えば、2VDD)を充放電するために、容量素子C901と容量素子C902との間にパワートランジスタM903及びパワートランジスタM904が接続される。
すなわち、電源回路X905は、4つのパワートランジスタM901~M904を用いて構成される。
増幅回路X904では、P側について、PWM信号PWMP1,PWMP0に応じて電圧Vs1を用いるために、電源V901及びパワートランジスタM904と端子OUTPとの間にパワートランジスタM905及びパワートランジスタM907が接続される。PWM信号PWMP1に応じて電圧Vs2を用いるために、容量素子C902と端子OUTPとの間にパワートランジスタM906が接続される。PWM信号PWMP0に応じてグランド電圧を用いるために、グランド電位と端子OUTPとの間にパワートランジスタM908が接続される。
増幅回路X904では、N側について、PWM信号PWMN1,PWMN0に応じて電圧Vs1を用いるために、電源V901及びパワートランジスタM904と端子OUTNとの間にパワートランジスタM909及びパワートランジスタM911が接続される。PWM信号PWMN1に応じて電圧Vs2を用いるために、容量素子C902と端子OUTNとの間にパワートランジスタM910が接続される。PWM信号PWMN0に応じてグランド電圧を用いるために、グランド電位と端子OUTNとの間にパワートランジスタM912が接続される。
すなわち、増幅回路X904は、8つのパワートランジスタM905~M912を用いて構成される。このため、半導体装置X901は、12個のパワートランジスタM901~M912を用いて構成されることになる。各パワートランジスタM901~M912は、要求される耐電流性に応じて、ゲート長に比べてゲート幅が大きく構成され、比較的回路面積が大きい。半導体装置X901におけるパワートランジスタ数が多いと、半導体装置X901の回路面積が増大し、半導体装置X901のコストが増大しやすい。
それに対して、第1の実施形態では、半導体装置X101において、電源回路X105がブートストラップ型である。これにより、1つの容量素子C101を2種類の電圧Vs1,Vs2の生成のための容量素子として兼用でき、容量素子C101に充放電するためのパワートランジスタ数を削減でき、増幅動作に用いる電源電圧を切り替えるためのパワートランジスタ数を削減できる。この結果、図9の構成に比べて、半導体装置X101の構成に用いるパワートランジスタ数を(例えば、12個から7個へ)低減できる。したがって、半導体装置X101の回路面積を縮小でき、半導体装置X101のコストを低減できる。
また、第1の実施形態では、半導体装置X101において、1つの容量素子C101を2種類の電圧Vs1,Vs2の生成のための容量素子として兼用できるので、電源生成のための容量素子数を低減できる。したがって、半導体装置X101をD級増幅回路として動作させるためのコストを低減できる。
さらに、第1の実施形態の半導体装置X101においても、BTL駆動構成であり、端子OUTP及び端子OUTNの遷移幅は1レベルを保ちながらマルチレベル(5レベル)のD級増幅動作を行うため、高出力及び高効率のD級増幅を行いつつ輻射ノイズ(EMIノイズ)の抑制が可能となる。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態にかかる半導体装置X101aについて説明する。以下では、第1の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
第2の実施形態では、半導体装置X101aの構成として、PWM変調回路X103aから受けるPWM信号の論理が第1の実施形態に比べて反転される場合の構成が例示される。
半導体装置X101aは、図3に示すように構成される。図3は、第2の実施形態にかかる半導体装置X101aの構成を示す回路図である。
半導体装置X101aは、処理回路111aの構成が異なり、処理回路X110(図1参照)が省略される。
処理回路X111aは、PWM変調回路X103aで変換されたPWM信号PWMP1a,PWMN1aを受けて処理し、PWM信号PWMP1a,PWMN1aに応じたゲート信号GATEBSを生成する。PWM信号PWMP1a,PWMN1aは、図4に示すように、第1の実施形態のPWM信号PWMP1,PWMN1(図2参照)と論理が反転しているが、ゲート信号GATEBSは、第1の実施形態と同様である。図4は、半導体装置X101aの動作を示す波形図である。
処理回路X111aは、NORゲートX109(図1参照)に代えて、ANDゲートX301を含む。
ANDゲートX301は、第1の入力ノードがラインPWMP1a及び端子PWMP1aを介してPWM変調回路X103aに接続され、第2の入力ノードがラインPWMN1a及び端子PWMN1aを介してPWM変調回路X103aに接続され、出力ノードがラインGATEBSを介して電源回路X105に接続される。ANDゲートX301は、PWM信号PWMP1aとPWM信号PWMN1aとの論理積を演算し、演算結果をゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。
PWM信号PWMP0a,PWMN0aは、図4に示すように、第1の実施形態のPWM信号PWMP1,PWMN1(図2参照)と論理が反転しており、そのまま、ゲート信号GATEP,GATENとして使用可能である。これに伴い、インバータX107,X108(図1参照)が不要になり、処理回路X110が省略される。
図4に示すように、PWM信号PWMP1a,PWMN1a,PWMP0a,PWMN0a以外の信号は、第1の実施形態と同様であり、半導体装置X101aの動作は、実質的に第1の実施形態と同様である。
以上のように、第2の実施形態では、半導体装置X101aにおいて、処理回路110が省略される。したがって、半導体装置X101aの回路面積をさらに縮小でき、半導体装置X101aのコストをさらに低減できる。
(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態にかかる半導体装置X101bについて説明する。以下では、第1の実施形態及び第2の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
第1の実施形態では、容量素子C101が充電される充電期間(第1の期間)は、ゲート信号GATEBSがHレベルである期間になっている。容量素子C101が放電される放電期間(第2の期間)は、ゲート信号GATEBSがLレベルである期間になっている。また、充電期間は、端子BSが電位Vs1(例えば、VDD)であり、電源回路X105から増幅回路X104へ電源電位Vs1が出力される期間である。放電期間は、端子BSが電位Vs2(例えば、2VDD)であり、電源回路X105から増幅回路X104へ電源電位Vs2(>Vs1)が出力される期間である。
図2では、充電期間は、PWM信号PWMP1がLレベルであるTP11,TP13,TP15,TP17に対応し、PWM信号PWMN1がLレベルであるTP21,TP23,TP25,TP27に対応する。放電期間は、PWM信号PWMP1がHレベルであるTP12,TP14,TP16に対応し、PWM信号PWMN1がHレベルであるTP22,TP24,TP26に対応する。
充電期間と放電期間との合計に対する放電期間の割合をデューティ比と呼ぶことにする。PWM信号PWMP1,PWMN1は、PWM変調回路X103でオーディオ信号の振幅絶対値に応じてHレベルのパルス幅が変調される。このため、振幅絶対値が大きい位相に対応する期間TP13~TP16,TP23~TP26では、PWM信号PWMP1,PWMN1のHレベルのパルス幅が比較的大きくなり、デューティ比が大きくなりやすい。例えば、期間TP11~TP16,TP21~TP26のデューティ比について、次の数式1~数式4が成り立つ。
TP14/(TP13+TP14)>TP12/(TP11+TP12)・・・数式1
TP16/(TP15+TP16)>TP12/(TP11+TP12)・・・数式2
TP24/(TP23+TP24)>TP22/(TP21+TP22)・・・数式3
TP26/(TP25+TP26)>TP22/(TP21+TP22)・・・数式4
すなわち、PWM変換前のオーディオ信号の振幅絶対値が大きい位相に対応する期間近傍では、充電期間と放電期間との合計に対する放電期間の割合が大きくなりやすい。これにより、容量素子C101への充電が不十分になり、電源回路X105から増幅回路X104へ供給される電源電圧が低下すると、半導体装置X101の出力信号レベルが劣化する可能性がある。
そこで、第3の実施形態では、図5に示すように、半導体装置X101b内に制限回路X112bを追加し、パルス源V303bを半導体装置X101bに追加接続する。
制限回路X112bは、処理回路X111と電源回路X105との間に接続され、端子MAXDUTYを介してパルス源V303bに接続される。制限回路X112bは、パルス源V303bからのパルスMAXDUTYを用いて、充電期間と放電期間との合計に対する放電期間の割合であるデューティ比を制限するように、ゲート信号GATEBSを調整する。すなわち、制限回路X112bは、スイッチ40のオン期間とオフ期間との合計に対するオフ期間の割合を制限するように、ゲート信号GATEBSを調整する。言い換えると、制限回路X112bは、パワートランジスタM103のオン期間とオフ期間との合計に対するオフ期間の割合を制限するように、ゲート信号GATEBSを調整する。これにより、容量素子C101の充電期間を確保でき、容量素子C101が十分に充電されるようにすることができる。
制限回路X112bは、ORゲートX510bを含む。ORゲートX510bは、第1の入力ノードがラインMAXDUTY及び端子MAXDUTYを介してパルス源V303bに接続され、第2の入力ノードがNORゲートX109の出力ノードに接続され、出力ノードがラインGATEBSを介して電源回路X105に接続される。ORゲートX510bは、パルス源V303bからのパルスMAXDUTYを論理反転させた信号とNORゲートX109の出力信号との論理和を演算し、演算結果をゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。
パルス源V303bは、図6に示すように、デューティ比の上限に対応するパルス幅PWmaxのパルスMAXDUTYを発生させORゲートX510bへ供給する。図6は、半導体装置X101bの動作を示す波形図である。ORゲートX510bは、パルスMAXDUTYを論理反転させた信号とNORゲートX109の出力信号(図2のゲート信号GATEBS)との論理和を演算し、演算結果をゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。
制限回路X112bのORゲートX510bは、図6に示すように、処理回路X111からのLレベルのパルス幅がパルス幅PWmax以下であれば、処理回路X111からの信号をそのまま通してゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。制限回路X112bのORゲートX510bは、処理回路X111からのLレベルのパルス幅がパルス幅PWmaxを超えれば、Lレベルのパルス幅をパルス幅PWmaxに調整し、調整後の信号をゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。
例えば、期間TP14に処理回路X111からのLレベルのパルス(図2のゲート信号GATEBS)がパルス幅PWmaxを超えるパルス幅で出力されるが、制限回路X112bでパルス幅をPWmaxに調整する。これにより、ゲート信号GATEBSのLレベルの期間がTP14b(<TP14)に短縮され、Hレベルの期間がTP13b(>TP13),TP15b(>TP15)にそれぞれ延長される。
同様に、期間TP24に処理回路X111からのLレベルのパルス(図2のゲート信号GATEBS)がパルス幅PWmaxを超えるパルス幅で出力されるが、制限回路X112bでパルス幅をPWmaxに調整する。これにより、ゲート信号GATEBSのLレベルの期間がTP24b(<TP24)に短縮され、Hレベルの期間がTP23b(>TP23),TP25b(>TP25)にそれぞれ延長される。
期間TP14b~TP16,TP24b~TP26のデューティ比について、次の数式5~8に示すように、第1の実施形態より小さくすることができる。
TP14b/(TP13b+TP14b)<TP14/(TP13+TP14)・・・数式5
TP16/(TP15b+TP16)<TP16/(TP15+TP16)・・・数式6
TP24b/(TP23b+TP24b)<TP24/(TP23+TP24)・・・数式7
TP26/(TP25b+TP26)<TP26/(TP25+TP26)・・・数式8
すなわち、充電期間と放電期間との合計に対する放電期間の割合を小さくすることができる。これにより、容量素子C101への充電が十分になるように調整することができる。
以上のように、第3の実施形態では、半導体装置X101bにおいて、充電期間と放電期間との合計に対する放電期間の割合であるデューティ比を制限回路X112bで制限する。これにより、容量素子C101への充電が十分になるようにすることができ、電源回路X105から増幅回路X104へ供給される電源電圧の低下を抑制でき、半導体装置X101bの出力信号レベルの劣化を抑制できる。
(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態にかかる半導体装置X101cについて説明する。以下では、第1の実施形態~第3の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
第4の実施形態では、半導体装置X101cの構成として、PWM変調回路X103aから受けるPWM信号の論理が第3の実施形態に比べて反転される場合の構成が例示される。
半導体装置X101cは、図7に示すように構成される。図7は、第4の実施形態にかかる半導体装置X101cの構成を示す回路図である。
半導体装置X101cは、処理回路111aの構成が異なり、処理回路X110(図5参照)が省略される。
処理回路X111aは、PWM変調回路X103aで変換されたPWM信号PWMP1a,PWMN1aを受けて処理し、PWM信号PWMP1a,PWMN1aに応じたゲート信号GATEBSを生成する。PWM信号PWMP1a,PWMN1aは、図8に示すように、第3の実施形態のPWM信号PWMP1,PWMN1(図6参照)と論理が反転しているが、ゲート信号GATEBSは、第3の実施形態と同様である。図8は、半導体装置X101cの動作を示す波形図である。
処理回路X111aは、NORゲートX109(図5参照)に代えて、ANDゲートX301を含む。
ANDゲートX301は、第1の入力ノードがラインPWMP1a及び端子PWMP1aを介してPWM変調回路X103aに接続され、第2の入力ノードがラインPWMN1a及び端子PWMN1aを介してPWM変調回路X103aに接続され、出力ノードがラインGATEBSを介して電源回路X105に接続される。ANDゲートX301は、PWM信号PWMP1aとPWM信号PWMN1aとの論理積を演算し、演算結果をゲート信号GATEBSとして電源回路X105へ供給する。
PWM信号PWMP0a,PWMN0aは、図8に示すように、第3の実施形態のPWM信号PWMP1,PWMN1(図6参照)と論理が反転しており、そのまま、ゲート信号GATEP,GATENとして使用可能である。これに伴い、インバータX107,X108(図5参照)が不要になり、処理回路X110が省略される。
図8に示すように、PWM信号PWMP1a,PWMN1a,PWMP0a,PWMN0a以外の信号は、第3の実施形態と同様であり、半導体装置X101cの動作は、実質的に第3の実施形態と同様である。
以上のように、第4の実施形態では、半導体装置X101cにおいて、処理回路110が省略される。したがって、半導体装置X101cの回路面積をさらに縮小でき、半導体装置X101cのコストをさらに低減できる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上記新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10,20,30 ドライバ
40 スイッチ
M101~M107,M901~M912 パワートランジスタ
X101,X101a,X101b,X101c,X901 半導体装置
X104 増幅回路
X105 電源回路
X110,X111,X111a 処理回路
X112b 制限回路

Claims (6)

  1. 第1の期間に容量素子の一端を第1の電位にして前記容量素子の他端から第1の電源電圧を出力し、第2の期間に前記容量素子の一端を前記第1の電位より高い第2の電位にして前記容量素子の他端から前記第1の電源電圧より高い第2の電源電圧を出力する電源回路と、
    パルス幅変調された信号を受け、前記第1の期間に前記第1の電源電圧を用いて前記信号に応じたスイッチング動作を行い、前記第2の期間に前記第2の電源電圧を用いて前記信号に応じたスイッチング動作を行う増幅回路と、
    を備えた半導体装置。
  2. 前記電源回路は、
    前記容量素子と、
    入力ノードと電源電位に接続される電源ノードと基準電位に接続される基準ノードと前記容量素子の一端に接続される出力ノードとを有する第1のドライバと、
    一端が前記電源電位に接続され他端が前記容量素子の他端に接続されるスイッチと、
    を有し、
    前記増幅回路は、
    第1の信号を受ける入力ノードと前記容量素子の他端に接続される電源ノードと基準電位に接続される基準ノードと出力ノードとを有する第2のドライバと、
    第2の信号を受ける入力ノードと前記容量素子の他端に接続される電源ノードと基準電位に接続される基準ノードと出力ノードとを有する第3のドライバと、
    を有する
    請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1のドライバは、
    ソースが前記電源電位に接続され、ドレインが前記容量素子の一端に接続された第1のパワートランジスタと、
    ソースが前記基準電位に接続され、ドレインが前記第1のパワートランジスタと前記容量素子の一端とに接続された第2のパワートランジスタと、
    を有し、
    前記スイッチは、
    ソースが前記容量素子の他端に接続され、ドレインが前記電源電位に接続された第3のパワートランジスタと、
    を含み、
    前記第2のドライバは、
    ソースが前記容量素子の他端に接続され、ドレインが第1の出力端子に接続された第4のパワートランジスタと、
    ソースが前記基準電位に接続され、ドレインが前記第4のパワートランジスタと前記第1の出力端子とに接続された第5のパワートランジスタと、
    を有し、
    前記第3のドライバは、
    ソースが前記容量素子の他端に接続され、ドレインが第2の出力端子に接続された第6のパワートランジスタと、
    ソースが前記基準電位に接続され、ドレインが前記第6のパワートランジスタと前記第2の出力端子とに接続された第7のパワートランジスタと、
    を有する
    請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記電源回路が前記第1の電源電圧を出力する第1の期間と前記第2の電源電圧を出力する第2の期間との合計に対する前記第2の期間の割合を制限する制限回路をさらに備えた
    請求項1に記載の半導体装置。
  5. 前記スイッチのオン期間とオフ期間との合計に対するオフ期間の割合を制限する制限回路をさらに備えた
    請求項2に記載の半導体装置。
  6. 前記第3のパワートランジスタのオン期間とオフ期間との合計に対するオフ期間の割合を制限する制限回路をさらに備えた
    請求項3に記載の半導体装置。
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