JP2023083819A - 排ガス浄化触媒装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記1又は2以上の触媒コート層は、
銅イオン交換ゼオライト、及び
アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上を含む、アルカリ含有ゼオライト
を含み、
下記の条件(A)及び(B)のいずれか一方を満足する、排ガス浄化触媒装置:
(A)前記触媒コート層のうちの1つの触媒コート層に、前記銅イオン交換ゼオライト及び前記アルカリ含有ゼオライトの双方が含まれていること、並びに
(B)前記触媒コート層が、前記銅イオン交換ゼオライトを含む第1の触媒コート層、及び前記アルカリ含有ゼオライトを含む第2の触媒コート層を含み、前記第1の触媒コート層と第2の触媒コート層とが直接接するように積層されていること。
《態様2》前記条件(A)を満足する、態様1に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様3》前記条件(B)を満足する、態様1に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様4》前記銅イオン交換ゼオライトのSARが15.0以下である、態様1~3のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様5》前記銅イオン交換ゼオライト中のCu量が、前記銅イオン交換ゼオライト中のAl原子1モルに対して、0.10mol以上0.50mol以下である、態様1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様6》前記銅イオン交換ゼオライトが、Cu-CHA型ゼオライトである、態様1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様7》前記アルカリ含有ゼオライトが、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上を含む、LTA型、FER型、MWW型、MFI型、MOR型、LTL型、FAU型、BEA型、AEI型、AFX型、又はCHA型のゼオライトである、態様1~6のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様8》前記アルカリ含有ゼオライト中の、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上の合計含有量が、前記アルカリ含有ゼオライト中のAl原子1モルに対して、0.05mol以上1.50mol以下である、態様1~7のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様9》前記銅イオン交換ゼオライトの骨格構造と、前記アルカリ含有ゼオライトの骨格構造とが同じである、態様1~8のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様10》前記銅イオン交換ゼオライト100質量部に対する前記アルカリ含有ゼオライトの量が、20質量部以上である、態様1~9のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様11》前記基材容量1L当たりの前記銅イオン交換ゼオライトの量が、50g/L以上である、態様1~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様12》アンモニア又はアンモニア源を用いる窒素酸化物の選択還元用である、態様1~11のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様13》窒素酸化物を含む排ガスに、アンモニア又はアンモニア源を添加すること、及び
前記排ガスを、態様1~12のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置と接触させて、前記窒素酸化物を窒素に還元すること
を含む、排ガス浄化方法。
本発明の排ガス浄化触媒装置は、
基材、及び前記基材上の1又は2以上の触媒コート層を有する排ガス浄化触媒装置であって、
上記の1又は2以上の触媒コート層は、
銅イオン交換ゼオライト、及び
アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上を含む、アルカリ含有ゼオライト
を含み、
下記の条件(A)及び(B)のいずれか一方を満足する、排ガス浄化触媒装置である:
(A)触媒コート層のうちの1つの触媒コート層に、銅イオン交換ゼオライト及びアルカリ含有ゼオライトの双方が含まれていること、並びに
(B)触媒コート層が、銅イオン交換ゼオライトを含む第1の触媒コート層、及びアルカリ含有ゼオライトを含む第2の触媒コート層を含み、これら第1の触媒コート層と第2の触媒コート層とが直接接するように積層されていること。
4NO+4NH3+O2→4N2+6H2O (1)
2NO2+2NO+4NH3→4N2+6H2O (2)
2NO2+2NH3→NH4NO3+N2+H2O (3)
NH4NO3→N2O+2H2O (4)
本発明の排ガス浄化触媒装置における基材は、隔壁によって区画された複数の排ガス流路を有するハニカム基材である。基材の隔壁は、隣接する排ガス流路間を流体的に連通する細孔を有していてよい。
本発明の排ガス浄化触媒装置は、上記のような基材上に、1又は2以上の触媒コート層を有する。
銅イオン交換ゼオライト、及び
アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上を含む、アルカリ含有ゼオライト
を含む。
本発明の排ガス浄化触媒装置における銅イオン交換ゼオライトとは、銅イオンでイオン交換されたゼオライトである。
本発明の排ガス浄化触媒装置におけるアルカリ含有ゼオライトは、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上のアルカリ成分を含むゼオライトである。
所望のSAR及び結晶形態を有する原料ゼオライトと、アルカリ源とを混合して混合汚物を得ること、及び
得られた混合物を焼成すること
を含む、方法によって製造されてよい。
本発明の排ガス浄化触媒装置における条件(A)は、基材上の1又は2以上の触媒コート層のうちの1つの触媒コート層に、銅イオン交換ゼオライト及びアルカリ含有ゼオライトの双方が含まれていること、である。
本発明の排ガス浄化触媒装置における条件(B)は、触媒コート層が、銅イオン交換ゼオライトを含む第1の触媒コート層、及びアルカリ含有ゼオライトを含む第2の触媒コート層を含み、これら第1の触媒コート層と第2の触媒コート層とが直接接するように積層されていること、である。
本発明の排ガス浄化触媒装置は、任意の方法で製造されてよい。
基材上に、特定触媒コート層を形成することを含む方法、又は
基材上に、第1の触媒コート層及び第2の触媒コート層を所望の順で形成することを含む方法
によって製造されてよい。
本発明の排ガス浄化触媒装置は、アンモニア又はアンモニア源を用いる窒素酸化物の選択還元用の触媒装置として好適である。
窒素酸化物を含む排ガスに、アンモニア又はアンモニア源を添加すること、及び
排ガスを、本発明の排ガス浄化触媒装置と接触させて、窒素酸化物を窒素に還元すること
を含む、排ガス浄化方法が提供される。
(1)Ba-CHA型ゼオライトの合成
プロトンでイオン交換されている、シリカアルミナ比(SAR)15のCHA型ゼオライト(H-CHA)、及びバリウム源としての酢酸バリウムを、乳鉢中で30分間混合した。得られた混合物を、空気中、500℃にて3時間焼成して、バリウムでイオン交換されているCHA型ゼオライト(Ba-CHA)を得た。酢酸バリウムの使用量は、CHA型ゼオライト中のAl原子1モルに対するバリウム原子の量が、Ba-Al=0.5(mol/mol)となる量とした。
ゼオライトの種類、並びにアルカリ源の種類及び使用量(ゼオライト中のAl原子1モルに対する、アルカリ金属又はアルカリ土類金属原子(M)の量、M/Al比(mol/mol))を、それぞれ、表1のとおりに変更した他は、Ba-CHAの合成と同様にして、各種のアルカリ含有ゼオライトを合成した。
H-CHA:プロトンでイオン交換されているCHA型ゼオライト、SAR15
H-MFI:プロトンでイオン交換されているMFI型ゼオライト、SAR20
H-BEA:プロトンでイオン交換されているBEA型ゼオライト、SAR20
Cu-CHA:銅イオンでイオン交換されているCHA型ゼオライト、Cu/Al=0.22mol/mol、SAR7.5
《比較例1:Cu-CHA単層(基準)》
SAR7.5、Al原子当たりのCu量(Cu/Al)0.22mol/molのCu-CHA、シリコーン系バインダー、及び水を混合して、Cu-CHAコート層塗工用スラリーを得た。
比較例1と同様にして、Cu-CHAコート層塗工用スラリーを調製した。また、上記で得られたBa-CHA、シリコーン系バインダー、及び水を混合して、Ba-CHAコート層塗工用スラリーを得た。
Cu-CHAコート層及びBa-CHAコート層を、逆の順序で形成した他は、実施例1と同様にして、基材上に、Ba-CHAコート層及びCu-CHAコート層を、この順に有する排ガス浄化触媒装置を製造した。
SAR7.5、Al原子当たりのCu量(Cu/Al)0.22mol/molのCu-CHA、上記で得られたBa-CHA、シリコーン系バインダー、及び水を混合して、Cu-CHA+Ba-CHA混合コート層塗工用スラリーを得た。ここで、Cu-CHAとBa-CHAとの質量割合は、Cu-CHA:Ba-CHA=7:3とした。
Ba-CHAに代えて、上記で得られたBa-MFI(実施例4)、Ba-BEA(実施例5)、Sr-CHA(実施例6)、Ca-CHA(実施例7)、又はCs-CHA(実施例8)を用いた他は、実施例3と同様にして、基材上に、Cu-CHA及び各種アルカリ含有ゼオライトを含む単層のコート層を有する、排ガス浄化触媒装置をそれぞれ製造した。
Cu-CHAの代わりに、上記で得られたBa-Cu-CHAを用いた他は、比較例1と同様にして、基材上に、Ba-Cu-CHAを含む単層のコート層を有する、排ガス浄化触媒装置を製造した。
実施例1と同様にして、Ba-CHAコート層塗工用スラリーを調製した。また、比較例1と同様にして、Cu-CHAコート層塗工用スラリーを調製した。
Cu-CHAコート層の形成位置を上流側とし、Ba-CHAコート層の形成位置を下流側とした他は、比較例3と同様にして、基材の上流側にCu-CHAを含む単層のコート層、下流側にBa-CHAを含む単層のコート層を有する、排ガス浄化触媒装置を製造した。
Cu-CHAの代わりに、上記で得られた炭酸Ba-Cu-CHAを用いた他は、比較例1と同様にして、基材上に、炭酸Ba-Cu-CHAを含む単層のコート層を有する、排ガス浄化触媒装置を製造した。
した。
Ba-CHAに代えて、SAR15のNH4-CHAを用いた他は、実施例3と同様にして、基材上に、Cu-CHA及びNH4-CHAを含む単層のコート層を有する、排ガス浄化触媒装置を製造した。
Cu-CHAの代わりに、上記で得られたSr-Cu-CHA(比較例7)、Ca-Cu-CHA(比較例8)、又はCs-Cu-CHA(比較例9)を用いた他は、比較例1と同様にして、基材上に、Ba-Cu-CHAを含む単層のコート層を有する、排ガス浄化触媒装置を製造した。
上述の各実施例及び比較例で得られた排ガス浄化触媒装置に、水蒸気10質量%を含む空気を流通させながら、触媒層温度650℃にて、50時間の水熱耐久を行った。
N2O排出量:組成が安定した後の排出ガス中のN2O濃度(ppm)
NOx浄化率(%):{1-(排出ガス中のNOx濃度(ppm)/供給ガス中のNOx濃度(ppm)}×100
Claims (13)
- 基材、及び前記基材上の1又は2以上の触媒コート層を有する排ガス浄化触媒装置であって、
前記1又は2以上の触媒コート層は、
銅イオン交換ゼオライト、及び
アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上を含む、アルカリ含有ゼオライト
を含み、
下記の条件(A)及び(B)のいずれか一方を満足する、排ガス浄化触媒装置:
(A)前記触媒コート層のうちの1つの触媒コート層に、前記銅イオン交換ゼオライト及び前記アルカリ含有ゼオライトの双方が含まれていること、並びに
(B)前記触媒コート層が、前記銅イオン交換ゼオライトを含む第1の触媒コート層、及び前記アルカリ含有ゼオライトを含む第2の触媒コート層を含み、前記第1の触媒コート層と第2の触媒コート層とが直接接するように積層されていること。 - 前記条件(A)を満足する、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記条件(B)を満足する、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記銅イオン交換ゼオライトのSARが15.0以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記銅イオン交換ゼオライト中のCu量が、前記銅イオン交換ゼオライト中のAl原子1モルに対して、0.10mol以上0.50mol以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記銅イオン交換ゼオライトが、Cu-CHA型ゼオライトである、請求項1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記アルカリ含有ゼオライトが、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上を含む、LTA型、FER型、MWW型、MFI型、MOR型、LTL型、FAU型、BEA型、AEI型、AFX型、又はCHA型のゼオライトである、請求項1~6のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記アルカリ含有ゼオライト中の、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される1種又は2種以上の合計含有量が、前記アルカリ含有ゼオライト中のAl原子1モルに対して、0.05mol以上1.50mol以下である、請求項1~7のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記銅イオン交換ゼオライトの骨格構造と、前記アルカリ含有ゼオライトの骨格構造とが同じである、請求項1~8のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記銅イオン交換ゼオライト100質量部に対する前記アルカリ含有ゼオライトの量が、20質量部以上である、請求項1~9のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 前記基材容量1L当たりの前記銅イオン交換ゼオライトの量が、50g/L以上である、請求項1~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- アンモニア又はアンモニア源を用いる窒素酸化物の選択還元用である、請求項1~11のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
- 窒素酸化物を含む排ガスに、アンモニア又はアンモニア源を添加すること、及び
前記排ガスを、請求項1~12のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置と接触させて、前記窒素酸化物を窒素に還元すること
を含む、排ガス浄化方法。
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