JP2023042598A - ハロエーテル及びその製造方法並びにビニルエーテル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
ビニルエーテル及びその簡便な製造方法、並びに、ビニルエーテルの製造方法に用いるハロエーテル及びその製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】当該課題は、式（１）：

［式中、Ｙ^＋はカチオンであり、Ｒ^１は有機基である。］で表される化合物を、ハロゲン化剤の存在下で、式（２ａ）：

［式中、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンである。］で表される化合物に作用させる工程１ａを含む方法により、ハロエーテルを製造することで解決することができる。
【選択図】なし

Description

本開示は、ハロエーテル及びその製造方法並びにビニルエーテル及びその製造方法等に関する。

フルオロビニルエーテルの従来の合成法は多工程を要する。具体的には、酸フルオリドにフッ化物塩を反応させてフルオロアルコキシドの塩を合成した後、１）ブロモフルオロ酢酸エチルによる置換反応、２）ＬｉＡｌＨ_４を用いた還元反応、３）塩化トシル及びピリジンを用いたトシル化反応、並びに４）リチウム（ビストリメチルシリル）アミド（ＬｉＨＭＤＳ）によるｐ－トルエンスルホン酸の脱離反応を経て、フルオロビニルエーテルが合成されている（非特許文献１）。

Yagupolskiiら, Journal of Fluorine Chemistry, 2015, Vol. 179, pp. 134-141

非特許文献１のフルオロビニルエーテルの合成法は多工程であり、合成法の簡便化の点で改善の余地がある。

本開示は、ビニルエーテル及びその簡便な製造方法、並びに、ビニルエーテルの製造方法に用いるハロエーテル及びその製造方法等を提供する。

本開示は、次の態様を包含する。
項１．
式（４ａ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、
Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンであり、
Ｘ^２はハロゲンである。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（１）：

［式中、
Ｙ^＋はカチオンであり、
Ｒ^１は前記と同意義である。］
で表される化合物を、ハロゲン化剤の存在下で、式（２ａ）：

［式中の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物に作用させる工程１ａを含む、製造方法。
項２．
前記ハロゲン化剤が、式（３ａ）：
Ｘ^２－Ｚ （３ａ）
［式中、
Ｘ^２はハロゲンであり、
Ｚはハロゲン又はＮＺ^１Ｚ^２であり、
Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、有機基である、又は、Ｚ^１及びＺ^２は互いに結合して環を形成している。］
又は式（３ａ’）：

［式中、
Ｘ^２はハロゲンであり、
Ｑ^１～Ｑ^４は、それぞれ独立して、Ｈ又は有機基であり、Ｑ^１～Ｑ^４の任意の２個は互いに結合して環を形成していてもよい。］
で表される化合物である、項１に記載の製造方法。
項３．
Ｙ^＋が金属イオン又は四級アンモニウムイオンである、項１又は２に記載の製造方法。
項４．
Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基であり、前記フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、項１～３のいずれか一項に記載の製造方法。
項５．
Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいＣ_１－１０フルオロアルキル基であり、前記Ｃ_１－１０フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、項１～４のいずれか一項に記載の製造方法。
項６．
Ｒ^４ａがＦ又はフルオロアルキル基である、項１～５のいずれか一項に記載の製造方法。項７．
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａが、それぞれ独立して、Ｈ又はＣ_１－３アルキル基である、項１～６のいずれか一項に記載の製造方法。
項８．
前記工程１ａが触媒の非存在下で行われる、項１～７のいずれか一項に記載の製造方法。項９．
式（４ｂ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基であり，
Ｘ^１ｂ及びＸ^２は、それぞれ独立して、ハロゲンである。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（１）：

［式中、
Ｙ^＋はカチオンであり、
Ｒ^１は前記と同意義である。］
で表される化合物を、ハロゲン化剤及び触媒の存在下で、式（２ｂ）：

［式中の記号は前記と同意義である。］
で表される化合物に作用させる工程１ｂを含む、製造方法。
項１０．
Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＦ以外のハロゲンである、項９に記載の製造方法。
項１１．
前記ハロゲン化剤が、式（３ａ）：
Ｘ^２－Ｚ （３ａ）
［式中、
Ｘ^２はハロゲンであり、
Ｚはハロゲン又はＮＺ^１Ｚ^２であり、
Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、有機基である、又は、Ｚ^１及びＺ^２は互いに結合して環を形成している。］
又は式（３ａ’）：

［式中、
Ｘ^２はハロゲンであり、
Ｑ^１～Ｑ^４は、それぞれ独立して、Ｈ又は有機基であり、Ｑ^１～Ｑ^４の任意の２個は互いに結合して環を形成していてもよい。］
で表される化合物である、項９又は１０に記載の製造方法。
項１２．
前記触媒がルイス塩基である、項９～１１のいずれか一項に記載の製造方法。
項１３．
前記触媒が、式（３ｂ）：
Ｌ^１－(Ｚ^３)_ｎ （３ｂ）
［式中、
Ｌ^１は、Ｏ、Ｎ、(Ｓ)_ｍ、Ｐ、又は(Ｓｅ)_ｋであり、
ｍ及びｋは、１又は２であり、
ｎは、Ｌ^１の価数に対応する数であり、
各Ｚ^３は、それぞれ独立して、有機基であり、ｎが２以上であるとき、任意の２個のＺ^３は互いに結合して環を形成していてもよい。］
又は式（３ｃ）：
Ｌ^２＝Ｚ^４ （３ｃ）
［式中、
Ｌ^２は、Ｏ、Ｓ、又はＳｅであり、
Ｚ^４はＰ(Ｚ^５)_３又はＣ(Ｚ^６)_２であり、各Ｚ^５は、それぞれ独立して、有機基であり、任意の２個のＺ^５は互いに結合して環を形成していてもよく、各Ｚ^６は、それぞれ独立して、有機基であり、任意の２個のＺ^６は互いに結合して環を形成していてもよい。］
で表されるルイス塩基である、項９～１２のいずれか一項に記載の製造方法。
項１４．
Ｙ^＋が金属イオン又は四級アンモニウムイオンである、項９～１３のいずれか一項に記載の製造方法。
項１５．
Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基であり、前記フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、項９～１４のいずれか一項に記載の製造方法。
項１６．
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂが、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、アルキル基、又はフルオロアルキル基である、項９～１５のいずれか一項に記載の製造方法。
項１７．
Ｒ^４ｂがハロゲン又はフルオロアルキル基である、項９～１６のいずれか一項に記載の製造方法。
項１８．
式（４ａ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、
Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンであり、
Ｘ^２はハロゲンである。］
で表される化合物。
項１９．
式（４ｂ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、
Ｘ^１ｂ及びＸ^２は、それぞれ独立して、ハロゲンである。］
で表される化合物、及びハロゲン化物イオンを含有する組成物。
項２０．
式（４ｂ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基であり，
Ｘ^１ｂ及びＸ^２は、それぞれ独立して、ハロゲンである。］
で表される化合物、及び水を含有する組成物。
項２１．
Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＦ以外のハロゲンである、項１９又は２０に記載の組成物。
項２２．
式（５ａ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（４ａ）：

［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、及びＲ^４ａは前記と同意義であり、
Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンであり、
Ｘ^２がハロゲンである。］
で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ａを含む、製造方法。
項２３．
Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基であり、前記フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、項２２に記載の製造方法。
項２４．
Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいＣ_１－１０フルオロアルキル基であり、前記Ｃ_１－１０フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、項２２又は２３に記載の製造方法。
項２５．
Ｒ^４ａがＦ又はフルオロアルキル基である、項２２～２４のいずれか一項に記載の製造方法。
項２６．
前記還元剤が有機金属試薬である、項２２～２５のいずれか一項に記載の製造方法。
項２７．
前記還元剤が、
（ｉ）遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属
（ｉｉ）遷移金属の金属対、及び
（ｉｉｉ）遷移金属と、酸又は金属塩との混合物
からなる群より選択される一種以上である、項２２～２５のいずれか一項に記載の製造方法。
項２８．
前記還元剤がリン含有化合物である、項２２～２５のいずれか一項に記載の製造方法。
項２９．
式（５ａ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（１）：

［式中、
Ｙ^＋はカチオンであり、
Ｒ^１は前記と同意義である。］
で表される化合物を、ハロゲン化剤の存在下で、式（２ａ）：

［式中、
Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、及びＲ^４ａは前記と同意義であり、
Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンである。］
で表される化合物に作用させる工程１ａを含む、式（４ａ）：

［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、Ｒ^４ａ、及びＸ^１ａは前記と同意義であり、
Ｘ^２がハロゲンである。］
で表される化合物を製造する工程、及び
式（４ａ）で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ａ
を含む、製造方法。
項３０．
式（５ｂ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
で表される化合物の製造方法であって、
式（１）：

［式中、
Ｙ^＋はカチオンであり、
Ｒ^１は前記と同意義である。］
で表される化合物を、ハロゲン化剤及び触媒の存在下で、式（２ｂ）：

［式中、
Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、及びＲ^４ｂは前記と同意義であり、
Ｘ^１ｂはハロゲンである。］
で表される化合物に作用させる工程１ｂを含む、式（４ｂ）：

［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、及びＸ^１ｂは前記と同意義であり、
Ｘ^２はハロゲンである。］
で表される化合物を製造する工程、及び
式（４ｂ）で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ｂ
を含む、製造方法。
項３１．
Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＦ以外のハロゲンである、項３０に記載の製造方法。
項３２．
式（５ｃ）：

［式中、
Ｒ^１ｃは、１個以上の置換基を有していてもよい、炭素数２以上のフルオロアルキル基又は炭素数１以上のフルオロアルコキシ基であり、前記フルオロアルキル基又はフルオロアルコキシ基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよく、
Ｒ^２ｃ及びＲ^３ｃは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
Ｒ^４ｃはＦである。］
で表される化合物。
項３３．
式（５ｂ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
で表される化合物、及びハロゲン化物イオンを含有する組成物。
項３４．
式（５ｂ）：

［式中、
Ｒ^１は有機基であり、
Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
で表される化合物、及び水を含有する組成物。

本開示によれば、ビニルエーテル及びその簡便な製造方法、並びに、ビニルエーテルの製造方法に用いるハロエーテル及びその製造方法等が提供される。

本開示の前記概要は、本開示の各々の開示された実施形態または全ての実装を記述することを意図するものではない。
本開示の後記説明は、実例の実施形態をより具体的に例示する。
本開示のいくつかの箇所では、例示を通してガイダンスが提供され、及びこの例示は、様々な組み合わせにおいて使用できる。
それぞれの場合において、例示の群は、非排他的な、及び代表的な群として機能できる。
本明細書で引用した全ての刊行物、特許及び特許出願はそのまま引用により本明細書に組み入れられる。

１．用語
本明細書中の記号及び略号は、特に限定のない限り、本明細書の文脈に沿い、本開示が属する技術分野において通常用いられる意味に理解できる。
本明細書中、語句「含有する」は、語句「から本質的になる」、及び語句「からなる」を包含することを意図して用いられる。
特に限定されない限り、本明細書中に記載されている工程、処理、又は操作は、室温で実施され得る。
本明細書中、室温は、１０～４０℃の範囲内の温度を意味することができる。
本明細書中、表記「Ｃ_ｎ－ｍ」（ここで、ｎ、及びｍは、それぞれ、数である。）は、当業者が通常理解する通り、炭素数がｎ以上、且つｍ以下であることを表す。
本明細書中、語句「式（Ｎ）で表される化合物」は、化合物（Ｎ）と称され得る。

本明細書中、「有機基」とは、１個以上の炭素原子を含有する基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
アルデヒド基、
Ｒ^ｒＯ－、
Ｒ^ｒＳ－、
Ｒ^ｒＮＨ－、
(Ｒ^ｒ)_２Ｎ－、
Ｒ^ｒＣＯ－、
Ｒ^ｒＣＯＯ－、
Ｒ^ｒＳＯ_２－、
Ｒ^ｒＯＣＯ－、及び
Ｒ^ｒＯＳＯ_２－
（これらの式中、Ｒ^ｒは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である。）
を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「炭化水素基」の例は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基、アリール基、アラルキル基、及びこれらの組合せである基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「アルキル基」の例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ-ブチル、ｔｅｒｔ-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、及びデシル等の、直鎖状又は分枝鎖状の、Ｃ_１－１２アルキル基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「アルケニル基」の例は、ビニル、１－プロペン－１－イル、２－プロペン－１－イル、イソプロペニル、２－ブテン－１－イル、４－ペンテン－１－イル、及び５－へキセン－１－イル等の、直鎖状又は分枝鎖状の、Ｃ_２－１０アルケニル基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「アルキニル基」の例は、エチニル、１－プロピン－１－イル、２－プロピン－１－イル、４－ペンチン－１－イル、５－へキシン－１－イル等の、直鎖状又は分枝鎖状の、Ｃ_２－１０アルキニル基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「シクロアルキル基」の例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等のＣ_３－７シクロアルキル基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「シクロアルケニル基」の例は、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル等のＣ_３－７シクロアルケニル基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「シクロアルカジエニル基」の例は、シクロブタジエニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキサジエニル、シクロヘプタジエニル、シクロオクタジエニル、シクロノナジエニル、シクロデカジエニル等のＣ_４－１０シクロアルカジエニル基を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「アリール基」は、単環性、２環性、３環性、又は４環性であることができる。
本明細書中、特に限定の無い限り、「アリール基」は、Ｃ_６－１８アリール基であることができる。
本明細書中、特に限定の無い限り、「アリール基」の例は、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、２－ビフェニル、３－ビフェニル、４－ビフェニル、及び２－アンスリルを包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「アラルキル基」の例は、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、１－ナフチルメチル、２－ナフチルメチル、２，２－ジフェニルエチル、３－フェニルプロピル、４－フェニルブチル、５－フェニルペンチル、２－ビフェニリルメチル、３－ビフェニリルメチル、及び４－ビフェニリルメチルを包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「非芳香族複素環基」は、単環性、２環性、３環性、又は４環性であることができる。
本明細書中、特に限定の無い限り、「非芳香族複素環基」は、例えば、環構成原子として、炭素原子に加えて酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子から選ばれる１～４個のヘテロ原子を含有する非芳香族複素環基であることができる。
本明細書中、特に限定の無い限り、「非芳香族複素環基」は、飽和、又は不飽和であることができる。
本明細書中、特に限定の無い限り、「非芳香族複素環基」の例は、テトラヒドロフリル、オキサゾリジニル、イミダゾリニル（例：１－イミダゾリニル、２－イミダゾリニル、４－イミダゾリニル）、アジリジニル（例：１－アジリジニル、２－アジリジニル）、アゼチジニル（例：１－アゼチジニル、２－アゼチジニル）、ピロリジニル（例：１－ピロリジニル、２－ピロリジニル、３－ピロリジニル）、ピペリジニル（例：１－ピペリジニル、２－ピペリジニル、３－ピペリジニル）、アゼパニル（例：１－アゼパニル、２－アゼパニル、３－アゼパニル、４－アゼパニル）、アゾカニル（例：１－アゾカニル、２－アゾカニル、３－アゾカニル、４－アゾカニル）、ピペラジニル（例：１，４－ピペラジン－１－イル、１，４－ピペラジン－２－イル）、ジアゼピニル（例：１，４－ジアゼピン－１－イル、１，４－ジアゼピン－２－イル、１，４－ジアゼピン－５－イル、１，４－ジアゼピン－６－イル）、ジアゾカニル（例：１，４－ジアゾカン－１－イル、１，４－ジアゾカン－２－イル、１，４－ジアゾカン－５－イル、１，４－ジアゾカン－６－イル、１，５－ジアゾカン－１－イル、１，５－ジアゾカン－２－イル、１，５－ジアゾカン－３－イル）、テトラヒドロピラニル（例：テトラヒドロピラン－４－イル）、モルホリニル（例：４－モルホリニル）、チオモルホリニル（例：４－チオモルホリニル）、２－オキサゾリジニル、ジヒドロフリル、ジヒドロピラニル、及びジヒドロキノリル等を包
含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「ヘテロアリール基」の例は、単環性芳香族複素環基（例：５又は６員の単環性芳香族複素環基）、及び芳香族縮合複素環基（例：５～１８員の芳香族縮合複素環基）を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「５又は６員の単環性芳香族複素環基」の例は、ピロリル（例：１－ピロリル、２－ピロリル、３－ピロリル）、フリル（例：２－フリル、３－フリル）、チエニル（例：２－チエニル、３－チエニル）、ピラゾリル（例：１－ピラゾリル、３－ピラゾリル、４－ピラゾリル）、イミダゾリル（例：１－イミダゾリル、２－イミダゾリル、４－イミダゾリル）、イソオキサゾリル（例：３－イソオキサゾリル、４－イソオキサゾリル、５－イソオキサゾリル）、オキサゾリル（例：２－オキサゾリル、４－オキサゾリル、５－オキサゾリル）、イソチアゾリル（例：３－イソチアゾリル、４－イソチアゾリル、５－イソチアゾリル）、チアゾリル（例：２－チアゾリル、４－チアゾリル、５－チアゾリル）、トリアゾリル（例：１，２，３－トリアゾール－４－イル、１，２，４－トリアゾール－３－イル）、オキサジアゾリル（例：１，２，４－オキサジアゾール－３－イル、１，２，４－オキサジアゾール－５－イル）、チアジアゾリル（例：１，２，４－チアジアゾール－３－イル、１，２，４－チアジアゾール－５－イル）、テトラゾリル、ピリジル（例：２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル）、ピリダジニル（例：３－ピリダジニル、４－ピリダジニル）、ピリミジニル（例：２－ピリミジニル、４－ピリミジニル、５－ピリミジニル）、ピラジニル等を包含できる。

本明細書中、特に限定の無い限り、「５～１８員の芳香族縮合複素環基」の例は、イソインドリル（例：１－イソインドリル、２－イソインドリル、３－イソインドリル、４－イソインドリル、５－イソインドリル、６－イソインドリル、７－イソインドリル）、インドリル（例：１－インドリル、２－インドリル、３－インドリル、４－インドリル、５－インドリル、６－インドリル、７－インドリル）、ベンゾ［ｂ］フラニル（例：２－ベンゾ［ｂ］フラニル、３－ベンゾ［ｂ］フラニル、４－ベンゾ［ｂ］フラニル、５－ベンゾ［ｂ］フラニル、６－ベンゾ［ｂ］フラニル、７－ベンゾ［ｂ］フラニル）、ベンゾ［ｃ］フラニル（例：１－ベンゾ［ｃ］フラニル、４－ベンゾ［ｃ］フラニル、５－ベンゾ［ｃ］フラニル）、ベンゾ［ｂ］チエニル、（例：２－ベンゾ［ｂ］チエニル、３－ベンゾ［ｂ］チエニル、４－ベンゾ［ｂ］チエニル、５－ベンゾ［ｂ］チエニル、６－ベンゾ［ｂ］チエニル、７－ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンゾ［ｃ］チエニル（例：１－ベンゾ［ｃ］チエニル、４－ベンゾ［ｃ］チエニル、５－ベンゾ［ｃ］チエニル）、インダゾリル（例：１－インダゾリル、２－インダゾリル、３－インダゾリル、４－インダゾリル、５－インダゾリル、６－インダゾリル、７－インダゾリル）、ベンゾイミダゾリル（例：１－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、４－ベンゾイミダゾリル、５－ベンゾイミダゾリル）、１，２－ベンゾイソオキサゾリル（例：１，２－ベンゾイソオキサゾール－３－イル、１，２－ベンゾイソオキサゾール－４－イル、１，２－ベンゾイソオキサゾール－５－イル、１，２－ベンゾイソオキサゾール－６－イル、１，２－ベンゾイソオキサゾール－７－イル）、ベンゾオキサゾリル（例：２－ベンゾオキサゾリル、４－ベンゾオキサゾリル、５－ベンゾオキサゾリル、６－ベンゾオキサゾリル、７－ベンゾオキサゾリル）、１，２－ベンゾイソチアゾリル（例：１，２－ベンゾイソチアゾール－３－イル、１，２－ベンゾイソチアゾール－４－イル、１，２－ベンゾイソチアゾール－５－イル、１，２－ベンゾイソチアゾール－６－イル、１，２－ベンゾイソチアゾール－７－イル）、ベンゾチアゾリル（例：２－ベンゾチアゾリル、４－ベンゾチアゾリル、５－ベンゾチアゾリル、６－ベンゾチアゾリル、７－ベンゾチアゾリル）、イソキノリル（例：１－イソキノリル、３－イソキノリル、４－イソキノリル、５－イソキノリル）、キノリル（例：２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、５－キノリル、８－キノリル）、シンノリニル（例：３－シンノリニル、４－シンノリニル、５－シンノリニル、６－シン
ノリニル、７－シンノリニル、８－シンノリニル）、フタラジニル（例：１－フタラジニル、４－フタラジニル、５－フタラジニル、６－フタラジニル、７－フタラジニル、８－フタラジニル）、キナゾリニル（例：２－キナゾリニル、４－キナゾリニル、５－キナゾリニル、６－キナゾリニル、７－キナゾリニル、８－キナゾリニル）、キノキサリニル（例：２－キノキサリニル、３－キノキサリニル、５－キノキサリニル、６－キノキサリニル、７－キノキサリニル、８－キノキサリニル）、ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジル（例：ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジン－２－イル、ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジン－３－イル、ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジン－４－イル、ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジン－５－イル、ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジン－６－イル、ピラゾロ［１，５－ａ］ピリジン－７－イル）、イミダゾ［１，２－ａ］ピリジル（例：イミダゾ［１，２－ａ］ピリジン－２－イル、イミダゾ［１，２－ａ］ピリジン－３－イル、イミダゾ［１，２－ａ］ピリジン－５－イル、イミダゾ［１，２－ａ］ピリジン－６－イル、イミダゾ［１，２－ａ］ピリジン－７－イル、イミダゾ［１，２－ａ］ピリジン－８－イル）等を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＯ－」の例は、アルコキシ（例：メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ_１－１０アルコキシ）、シクロアルコキシ（例：シクロペントキシ、シクロヘキソキシ等のＣ_３－７シクロアルコキシ）、アリールオキシ（例：フェノキシ、ナフトキシ等のＣ_６－１８アリールオキシ）、及びアラルキルオキシ（例：ベンジルオキシ、フェネチルオキシ等のＣ_７－１９アラルキルオキシ）を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＳ－」の例は、アルコキルチオ（例：メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等のＣ_１－１０アルキルチオ）、シクロアルキルチオ（例：シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ等のＣ_３－７シクロアルキルチオ）、アリールチオ（例：フェニルチオ、ナフチルチオ等のＣ_６－１８アリールチオ）、及びアラルキルチオ（例：ベンジルチオ、フェネチルチオ等のＣ_７－１９アラルキルチオ）を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＮＨ－」の例は、モノアルキルアミノ（例：モノメチルアミノ、モノエチルアミノ、モノプロピルアミノ等のモノＣ_１－１０アルキルアミノ）、モノシクロアルキルアミノ（例：モノシクロペンチルアミノ、モノシクロヘキシルアミノ等のモノＣ_３－７シクロアルキルアミノ）、モノアリールアミノ（例：モノフェニルアミノ、モノナフチルアミノ等のモノＣ_６－１８アリールアミノ）、及びモノアラルキルアミノ（例：モノベンジルアミノ、モノフェネチルアミノ等のモノＣ_７－１９アラルキルアミノ）を包含できる。

本明細書中、「(Ｒ^ｒ)_２Ｎ－」の例は、ジアルキルアミノ（例：ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ等のジＣ_１－１０アルキルアミノ）、Ｎ－アリール－Ｎ－アルキルアミノ（例：Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノ等のＮ－Ｃ_６－１８アリール－Ｎ－Ｃ_１－１０アルキルアミノ）、及びジアリールアミノ（例：ジフェニルアミノ等のジＣ_６－１８アリールアミノ）を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＣＯ－」の例は、アルキルカルボニル［例：アセチル、プロピオニル、ブチリル等の（Ｃ_１－１０アルキル）カルボニル］、シクロアルキルカルボニル［例：シクロペンタノイル、シクロヘキサノイル等の（Ｃ_３－７シクロアルキル）カルボニル］、アリールカルボニル［例：ベンゾイル、ナフトイル等の（Ｃ_６－１８アリール）カルボニル］、及びアラルキルカルボニル［例：ベンジルカルボニル、フェネチルカルボニル等の（Ｃ_７－１９アラルキル）カルボニル］を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＣＯＯ－」の例は、アルキルカルボニルオキシ［例：アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ等の（Ｃ_１－１０アルキル）カルボニルオキシ］、シクロアルキルカルボニルオキシ［例：シクロペンタノイル、シクロヘキサノイルオ
キシ等の（Ｃ_３－７シクロアルキル）カルボニルオキシ］、アリールカルボニルオキシ［例：ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ等の（Ｃ_６－１８アリール）カルボニルオキシ］、及びアラルキルカルボニルオキシ［例：ベンジルカルボニルオキシ、フェネチルカルボニルオキシ等の（Ｃ_７－１９アラルキル）カルボニルオキシ］を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＳＯ_２－」の例は、アルキルスルホニル（例：メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル等のＣ_１－１０アルキルスルホニル）、シクロアルキルスルホニル（例：シクロペンチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル等のＣ_４－８シクロアルキルスルホニル）、アリールスルホニル（例：フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等のＣ_６－１８アリールスルホニル）、及びアラルキルスルホニル（例：ベンジルスルホニル、フェネチルスルホニル等のＣ_７－１９アラルキルスルホニル）を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＯＣＯ－」の例は、アルコキシカルボニル［例：メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル等の（Ｃ_１－１０アルコキシ）カルボニル］、シクロアルコキシカルボニル［例：シクロペントキシカルボニル、シクロヘキソキシカルボニル等の（Ｃ_３－７シクロアルコキシ）カルボニル］、アリールオキシカルボニル［例：フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等の（Ｃ_６－１８アリールオキシ）カルボニル］、及びアラルキルオキシカルボニル［例：ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等の（Ｃ_７－１９アラルキルオキシ）カルボニル］を包含できる。

本明細書中、「Ｒ^ｒＯＳＯ_２－」の例は、アルコキシスルホニル（例：メトキシスルホニル、エトキシスルホニル、プロポキシスルホニル等のＣ_１－１０アルコキシスルホニル）、シクロアルコキシスルホニル（例：シクロペントキシスルホニル、シクロヘキソキシスルホニル等のＣ_３－７シクロアルコキシスルホニル）、アリールオキシスルホニル（例：フェノキシスルホニル、ナフトキシスルホニル等のＣ_６－１８アリールオキシスルホニル）、及びアラルキルオキシスルホニル（例：ベンジルオキシスルホニル、フェネチルオキシスルホニル等のＣ_７－１９アラルキルオキシスルホニル）を包含できる。

本明細書中、
「１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいアリール基」、
「１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基」、
「１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基」、及び
「１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基」
における「置換基」の例は、それぞれ、ハロ基、ニトロ基、シアノ基、オキソ基、チオキソ基、スルホ基、スルファモイル基、スルフィナモイル基、スルフェナモイル基、Ｒ^ｒＯ－、Ｒ^ｒＳ－、Ｒ^ｒＣＯ－、Ｒ^ｒＣＯＯ－、Ｒ^ｒＳＯ_２－、Ｒ^ｒＯＣＯ－、及びＲ^ｒＯＳＯ_２－（これらの式中、Ｒ^ｒは、前記と同意義である。）
を包含できる。

当該置換基のうち、「ハロ基」の例は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、及びヨード基を包含できる。

当該置換基の数は、１個から置換可能な最大個数の範囲内（例：１個、２個、３個、４個、５個、６個）であることができる。

２．式（４ａ）で表される化合物の製造方法
一実施態様において、式（４ａ）で表される化合物の製造方法は、式（１）で表される化合物を、ハロゲン化剤の存在下で、式（２ａ）で表される化合物に作用させる工程１ａを含む。

２－１．式（１）で表される化合物
式（１）において、Ｒ^１は、オキサイドを形成し得るものである限り、特に制限されない。Ｒ^１は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基（当該炭化水素基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基（当該アルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）である。前記炭化水素基及びアルキル基が有し得る「１個以上の置換基」は、ハロ基を含むことが好ましく、フルオロ基を含むことがさらに好ましい。すなわち、Ｒ^１は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいハロアルキル基（当該ハロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基（当該フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）である。前記フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であってもよい。前記ハロアルキル基及びフルオロアルキル基が有し得る「１個以上の置換基」は、ニトリル基、エステル基（例：Ｒ^ｒＯＣＯ－）、ホルミル基、スルホニル含有基（例：Ｒ^ｒＯＳＯ_２－）を含むことが好ましい。前記炭化水素基、アルキル基、ハロアルキル基、及びフルオロアルキル基の炭素原子間に含まれ得る「ヘテロ原子」としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられるが、これらに限定されない。前記炭化水素、アルキル基、ハロアルキル基、及びフルオロアルキル基の炭素原子数は、１以上である限り、特に制限されず、例えば１～１２の範囲内であり、好ましくは１～９の範囲内であり、さらに好ましくは１～６の範囲であり、最も好ましくは１～４の範囲内である。

上記「１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基（当該フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）」としては、例えば、
ＣＦ_３－、
ＣＨ_３－ＣＦ_２－、
ＣＨＦ_２－ＣＨ_２－、
ＣＦ_３－ＣＨ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＨ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
(ＣＦ_３)_２ＣＦ－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＦ(ＣＦ_３)－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＨ(ＣＦ_３)－ＣＨ_２－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
(ＣＦ_３ＣＦ_２)(ＣＦ_２)ＣＦ－、
(ＣＦ_３)_３Ｃ－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＨＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＨ_２－
ＣＦ_３－ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ(ＣＦ_３)－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－[ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－Ｏ－]_２－ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－
等のフルオロＣ_１－１０アルキル基、フルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルキル基、フルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルキル基、フルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルキル基等が挙げられる。

式（１）において、Ｙ^＋は、Ｒ^１Ｏ^－のカウンターイオンになり得るものであれば、特に制限されない。Ｙ^＋は、例えば、金属イオン又は式（１ａ）：

［式中、
Ｙ^１～Ｙ^４は、それぞれ独立して、Ｈ又は有機基であり、Ｙ^１～Ｙ^４の任意の２個又は３個は互いに結合して環を形成していてもよい。］
で表されるイオンである。式（１ａ）で表されるイオンとしては、例えばイミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、キノリニウムイオン、トリアジニウムイオン、アンモニウムイオン等が挙げられる。

金属イオンは、１価又は２価の金属イオンを包含し、及びその具体例としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、銀等が挙げられる。

式（１ａ）において、Ｙ^１～Ｙ^４は、含窒素イオンを形成し得るものである限り、特に制限されない。Ｙ^１～Ｙ^４の各々は、好ましくはＨ又は１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、より好ましくはＨ、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、特に好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいＣ_１－４アルキル基である。前記炭化水素基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が有し得る「置換基」としては、例えば、ハロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基等が挙げられるが、これらに限定されない。

Ｙ^１～Ｙ^４の任意の２個が互いに結合して形成される環としては、例えば、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の５又は６員環等が挙げられるが、これらに限定されない。

Ｙ^＋は、金属イオン、又は、式（１ａ）において、Ｙ^１～Ｙ^４が全てＨ以外であるイオン等の四級アンモニウムイオンであることが好ましい。前記金属イオンは、例えば１価又は２価の金属イオンであり、好ましくはアルカリ金属、アルカリ土類金属、及び遷移金属群からなる群より選ばれる１価又は２価の金属イオンであり、さらに好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、又は銀が好適に用いられる。

式（１）で表される化合物は、それ自体を直接使用してもよいが、式（１’）又は式（１’’）：
Ｒ^１－ＣＯＦ （１’）
Ｒ^１－Ｏ―ＣＨ_３ （１’’）
［式中、Ｒ^１は前記と同意義である。但し、式（１’’）においては、Ｒ^１はＲ^１’－ＣＦ_２であり、Ｒ^１’は有機基である。］
で表される化合物等から式（１）で表される化合物を反応系中で発生させてもよい。
具体的には、式（１）で表される化合物は、式（１’）で表される化合物をフッ素化剤と反応させることにより生成し得る。すなわち、工程１ａ及び１ｂの反応剤として、式（１）で表される化合物を直接使用する代わりに、式（１’）で表される化合物及びフッ素化剤を使用することができる。フッ素化剤は、例えばＦ^－Ｙ^＋（Ｙ^＋は前記と同意義である。）で表される化合物であり、好ましくはフッ化カリウム、フッ化ルビジウム、フッ化セシウムなどのアルカリ金属フッ化物、テトラメチルアンモニウムフロライド、テトラエチルアンモニウムフロライドなどのテトラＣ_１－４アルキルアンモニウムフロライドが挙げられる。
また、式（１）で表される化合物は、式（１’’）で表される化合物をアミンと反応させることにより生成し得る。すなわち、工程１ａ及び１ｂの反応剤として、式（１）で表される化合物を直接使用する代わりに、式（１’）で表される化合物及びアミンを使用することができる。アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルピペラジンなどが挙げられる。当該方法は、例えば、国際公開第２０１４／１１０３２９号公報などを参照することができる。

Ｒ^１’は、Ｒ^１と同様に、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基（当該炭化水素基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基（当該アルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）である。前記炭化水素基及びアルキル基が有し得る「１個以上の置換基」は、ハロ基を含むことが好ましく、フルオロ基を含むことがさらに好ましい。すなわち、Ｒ^１’は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいハロアルキル基（当該ハロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基（当該フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい。）である。前記フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であってもよい。前記ハロアルキル基及びフルオロアルキル基が有し得る「１個以上の置換基」は、ニトリル基、エステル基（例：Ｒ^ｒＯＣＯ－）、ホルミル基、スルホニル含有基（例：Ｒ^ｒＯＳＯ_２－）を含むことが好ましい。前記炭化水素基、アルキル基、ハロアルキル基、及びフルオロアルキル基の炭素原子間に含まれ得る「ヘテロ原子」としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられるが、これらに限定されない。前記炭化水素、アルキル基、ハロアルキル基、及びフルオロアルキル基の炭素原子数は、１以上である限り、特に制限されず、例えば１～１１の範囲内であり、好ましくは１～８の範囲内であり、さらに好ましくは１～５の範囲であり、最も好ましくは１～３の範囲内である。

式（１）で表される化合物は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

２－２．式（２ａ）で表される化合物
式（２ａ）において、Ｒ^２ａ及びＲ^３ａの各々は、好ましくはＨ又はＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはＨ又はＣ_１－４アルキル基であり、さらに好ましくはＨ又はＣ_１－３アルキル基である。一実施態様において、（I）Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは共にＨである
こと、（II）Ｒ^２ａがＨであり、Ｒ^３ａがＣ_１－３アルキル基であること、又は（III）
Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは共にＣ_１－３アルキル基であることが好ましい。

式（２ａ）において、Ｒ^４ａは、好ましくはハロゲン又は１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、より好ましくはハロゲン又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基である。前記炭化水素基及びアルキル基が有し得る「置換基」は、ハロ基を含むことが好ましく、フルオロ基を含むことがさらに好ましい。

Ｒ^４ａは、好ましくはハロゲン又はハロアルキル基であり、より好ましくはＦ又はフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＦ又はフルオロＣ_１－６アルキル基であり、さらにより好ましくはＦ又はフルオロＣ_１－４アルキル基であり、特に好ましくはＦ又はフルオロＣ_１－３アルキル基である。

Ｘ^１ａは、Ｆ以外のハロゲンであるが、工程１ａの反応を進行させることができる。Ｘ^１ａは、好ましくはＣｌ、Ｂｒ、又はＩであり、さらに好ましくはＣｌ又はＢｒである。

式（２ａ）で表される化合物は、１種単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。

式（２ａ）で表される化合物の使用量は、特に制限されない。当該使用量の下限は、式（１）で表される化合物１モルに対して、例えば０．５モル以上、好ましくは１モル以上、より好ましくは３モル以上、さらに好ましくは５モル以上である。当該使用量の上限は、式（１）で表される化合物１モルに対して、例えば５０モル以下、好ましくは４０モル以下、さらに好ましくは３０モル以下である。当該使用量は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。式（２ａ）で表される化合物を過剰に用いる際には未反応の式（２ａ）で表される化合物を回収してさらに用いることができる。

２－３．ハロゲン化剤
ハロゲン化剤は、式（２ａ）で表される化合物のＲ^２ａ及びＲ^３ａが置換する炭素原子にハロゲンを導入し得るものである限り、特に制限されない。ハロゲン化剤としては、例えば、式（３ａ）又は（３ａ’）で表される化合物等が挙げられる。

式（３ａ）において、Ｘ^２は、好ましくはＣｌ、Ｂｒ、又はＩである。

式（３ａ）において、Ｚがハロゲンであるとき、Ｘ^２と同一であっても異なっていてもよい。当該ハロゲンは、好ましくはＣｌ、Ｂｒ、又はＩである。式（３ａ）において、Ｚがハロゲンであるハロゲン化剤としては、例えば、Ｉ_２、Ｂｒ_２、ＩＣｌ、ＢｒＩ等が挙げられる。

ＺがＮＺ^１Ｚ^２であるとき、Ｚ^１及びＺ^２の各々は、好ましくはアルキル基、アルキルカルボニル基、又はアルキルスルホニル基である。

ＺがＮＺ^１Ｚ^２であるとき、当該ハロゲン化剤は、例えば、Ｎ－ハロアミド化合物であ
る。当該Ｎ－ハロアミド化合物は、好ましくは、第一級アミド、第二級アミド、又はこれらの組み合わせである。第一級アミド又は第二級アミドとしては、カルボキシアミド、スルホンアミド、ラクタム、カルバメート、イミド、ウレイド、又はこれらの組み合わせであることが好ましい。当該アミドとしては、例えば、ハロゲン化された５，５－ジメチルヒダントイン、３－ベンジル－５，５－ジメチルヒダントイン、５－メチル－５－フェニルヒダントイン、５，５－ジフェニルヒダントイン、５，５－ヘキサメチレンヒダントイン、５，５－ペンタメチレンヒダントイン、５，５－テトラメチレンヒダントイン、スクシンイミド、フタルイミド、サッカリン、イソシアヌル酸、５，５－ジメチルバルビツール酸、グリコールウリル、３ａ，６ａ－ジフェニルグリコールウリル、３ａ，６ａ－ジメチルグリコールウリル、４，４，５，５－テトラメチル－２－イミダゾリジノン、４，４－ジメチル－２－オキサゾリジノンなどが挙げられる。

前記第一級アミドは、例えば、カルボキシアミドである。当該第一級カルボキシアミドとしては、例えば、下記：
ラクタム又はペプチドなどのＺ^８Ｃ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｚ^９；
ｔ－ＢｕＸ^２ＮＢｏｃ、２－オキサゾリジノン誘導体（例：４，４－ジメチル－２－オキサゾリジノン）などのＺ^８ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）ＯＺ^９（カルバメート）；
２－イミダゾリジノン誘導体（例：４，４，５，５－テトラメチル－２－イミダゾリジノン）、グリコールウリル及びその誘導体（例：３ａ，６ａ－ジフェニルグリコールウリル、３ａ，６ａ－ジメチルグリコールウリル）などのＺ^８ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｚ^９（尿素の誘導体）
などが挙げられる。なお、Ｚ^８及びＺ^９は、それぞれ独立して、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｘ^２は前記と同意義であり、同一分子中に存在する２個のＸ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。

前記第一級アミドは、例えば、スルホンアミド、ホスホロアミド、又はニトラミドである。当該スルホンアミドとしては、例えば、Ｚ^８Ｓ（＝Ｏ）_２ＮＸ^２Ｚ^９、Ｚ^８ＮＸ^２Ｓ（＝Ｏ）_２ＮＸ^２Ｚ^９などが挙げられる。当該ホスホロアミドとしては、例えば、Ｚ^８ _２Ｐ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｚ^９などが挙げられる。当該ニトラミドとしては、例えば、Ｏ_２Ｎ－ＮＸ^２Ｚ^８などが挙げられる。なお、Ｚ^８、Ｚ^９、及びＸ^２は前記と同意義である。

前記第二級アミドは、例えば、イミド（［Ｃ（＝Ｏ）］_２ＮＸ^２）である。当該イミドとしては、例えば、スクシンイミド、フタルイミドなどが挙げられる。前記第二級アミドとしては、例えば、Ｚ^８Ｓ（＝Ｏ）_２ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）Ｚ^９、Ｚ^８Ｓ（＝Ｏ）_２ＮＸ^２Ｓ（＝Ｏ）_２Ｚ^９、Ｚ^８Ｘ^２ＮＣ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）Ｚ^９、Ｚ^８Ｃ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）Ｚ^９、Ｚ^８Ｓ（＝Ｏ）_２ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）Ｚ^９、Ｚ^８Ｓ（＝Ｏ）_２ＮＸ^２Ｃ（＝Ｏ）ＮＸ^２Ｓ（＝Ｏ）_２Ｚ^９（ウレイド）などが挙げられる。なお、Ｚ^８、Ｚ^９、及びＸ^２は前記と同意義である。ウレイドの非限定的な例としては、ハロゲン化されたヒダントイン誘導体（例：５，５－ジメチルヒダントイン、３－ベンジル－５，５－ジメチルヒダントイン、５－メチル－５－フェニルヒダントイン、５，５－ジフェニルヒダントイン、５，５－ペンタメチレンヒダントイン、５，５－ヘキサメチレンヒダントイン、５，５－テトラメチレンヒダントインなど）、イソシアヌル酸、バルビツール酸誘導体（例：５，５－ジエチルバルビツール酸、５，５－ジメチルバルビツール酸、５－エチル－５－イソアミルバルビツール酸など）が挙げられる。

前記アミドはスルホンアミド、ラクタム、カルバメート、イミド、又はウレイドであることが好ましい。前記アミドの好適な例としては、ハロゲン化された５－ジメチルヒダントイン、３－ベンジル－５，５－ジメチルヒダントイン、５－メチル－５－フェニルヒダントイン、５，５－ジフェニルヒダントイン、５，５－ヘキサメチレンヒダントイン、５，５－ペンタメチレンヒダントイン、５，５－テトラメチレンヒダントイン、スクシンイ
ミド、フタルイミド、サッカリン、イソシアヌル酸、５，５－ジメチルバルビツール酸、グリコールウリル、３ａ，６ａ－ジフェニルグリコールウリル、３ａ，６ａ－ジメチルグリコールウリル、４，４，５，５－テトラメチル－２－イミダゾリジノン又は４，４－ジメチル－２－オキサゾリジノンなどが挙げられる。

当該ハロゲン化剤は、例えば、モノハロ化又はポリハロ化されたアミド化合物である。

ＺがＮＺ^１Ｚ^２であり、Ｚ^１及びＺ^２が互いに結合して環を形成しているハロゲン化剤としては、例えば、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミドジクロロイソシアヌル酸、ジブロモイソシアヌル酸、ジヨードイソシアヌル酸、Ｎ－クロロフタルイミド、Ｎ－ブロモフタルイミド、Ｎ－ヨードフタルイミド、Ｎ－クロロサッカリン、Ｎ－ブロモサッカリン、Ｎ－ヨードサッカリン、１－ハロ－５，５－ジメチルヒダントイン、３－ハロ－５，５－ジメチルヒダントイン、２，４，６，８－テトラハログリコールウリル、これらの混合物等が挙げられる。

式（３ａ’）において、Ｑ^１～Ｑ^４は、含窒素イオンを形成し得るものである限り、特に制限されない。Ｑ^１～Ｑ^４の各々は、好ましくはＨ又は１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、より好ましくはＨ、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、特に好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいＣ_１－４アルキル基である。前記炭化水素基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が有し得る「置換基」としては、例えば、ハロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基等が挙げられるが、これらに限定されない。

Ｑ^１～Ｑ^４の任意の２個が互いに結合して形成される環としては、例えば、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等の５又は６員環等が挙げられるが、これらに限定されない。

ハロゲン化剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

ハロゲン化剤の使用量は、特に制限されない。当該使用量の下限は、式（１）で表される化合物１モルに対して、例えば０．０１モル以上、好ましくは０．０５モル以上、さらに好ましくは０．１モル以上である。当該使用量の上限は、式（１）で表される化合物１モルに対して、例えば１０モル以下、好ましくは７モル以下、さらに好ましくは５モル以下である。当該使用量は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

２－４．触媒
工程１ａは触媒の非存在下でも実施することができるが、触媒の存在下で実施してもよい。

触媒としては、反応を触媒するものであれば特に制限されない。触媒としては、例えば、ルイス塩基等が挙げられる。ルイス塩基としては、例えば、式（３ｂ）で表される化合物等が挙げられる。

式（３ｂ）において、Ｌ^１がＯ、(Ｓ)_ｍ、又は(Ｓｅ)_ｋである場合、ｎは２であり、各Ｚ^３は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、より好まし
くは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアリール基である。前記炭化水素基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が有し得る「置換基」としては、例えば、ハロ基、アルコキシ基等が挙げられる。

Ｌ^１がＮ又はＰである場合、ｎは３であり、各Ｚ^３は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基であり、より好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアリール基である。

式（３ｂ）で表される化合物としては、例えば、ジエチルエーテル等のジアルキルエーテル；ジフェニルエーテル等のジアリールスルフィド；ジメチルスルフィド等のジアルキルスルフィド；ジフェニルスルフィド等のジアリールスルフィド；ジメチルジスルフィド等のジアルキルジスルフィド；ジフェニルジスルフィド等のジアリールジスルフィド；ジメチルセレニド等のジアルキルセレニド；ジフェニルセレニド等のジアリールセレニド；ジメチルジセレニド等のジアルキルジセレニド；ジフェニルジセレニド等のジアリールジセレニド；トリエチルアミン等のトリアルキルアミン；トリフェニルアミン等のトリアリールアミン；トリエチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン；トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン等が挙げられるが、これらに限定されない。

式（３ｃ）において、Ｚ^４としては、例えば、
Ｐ(Ｚ^５)_３［各Ｚ^５は、それぞれ独立して、有機基であり、任意の２個のＺ^５は互いに結合して環を形成していてもよい。］、
Ｃ(Ｚ^６)_２［各Ｚ^６は、それぞれ独立して、有機基であり、２個のＺ^６は互いに結合して環を形成していてもよい。］
等が挙げられる。

各Ｚ^５は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基である。

各Ｚ^５は、
Ｎ(Ｚ^７)_２［各Ｚ^７は、それぞれ独立して、有機基であり、２個のＺ^７は互いに結合して環を形成していてもよい。］
であることも好ましい。

各Ｚ^７は、好ましくは１個以上の置換基を有していてもよい炭化水素基、より好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、又は１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基であり、さらに好ましくは１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基である。

触媒は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

触媒の使用量は、特に制限されない。当該使用量の下限は、式（１）で表される化合物
１モルに対して、例えば０．００１モル以上、好ましくは０．００５モル以上、さらに好ましくは０．０１モル以上である。当該使用量の上限は、式（１）で表される化合物１モルに対して、例えば３０モル以下、好ましくは２０モル以下、さらに好ましくは１０モル以下である。当該使用量は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

２－５．溶媒
工程１ａは、溶媒の存在下で実施することが好ましい。当該溶媒としては、特に制限されないが、例えば、次の溶媒が挙げられる。
・炭化水素溶媒［例：ｎ－ヘキサン等の鎖状炭化水素、ベンゼン、トルエン、ｐ－キシレン等の芳香族炭化水素］
・フッ素系溶媒、塩素系溶媒等のハロゲン系溶媒［例：ジクロロメタン、ジクロロエタン、パーフルオロヘキサン等のハロアルカン；クロロベンゼン等のハロアレーン；トリフルオロトルエン、ヘキサフルオロメタキシレン等のハロアルキルアレーン；ハロエーテル（例：３Ｍ社製３Ｍ^ＴＭＮｏｖｅｃ^ＴＭ７２００、３Ｍ社製３Ｍ^ＴＭＮｏｖｅｃ^ＴＭ７３００等のフルオロエーテル）］
・ニトリル系溶媒［例：アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等の鎖状ニトリル；ベンゾニトリル等の環状ニトリル］
・アミド系溶媒［例：カルボン酸アミド（例：ホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の鎖状アミド、Ｎ－メチルピロリドン等の環状アミド）、リン酸アミド（例：ヘキサメチルリン酸アミド）］
・エーテル系溶媒［例：ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の鎖状エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル］
・ウレア系溶媒［例：Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピレンウレア］
・エステル系溶媒［例：酢酸エステル］
・スルホキシド系溶媒［例：ジメチルスルホキシド］
・ニトロ系溶媒［例：ニトロメタン、ニトロベンゼン］
・ケトン系溶媒［例：アセトン、メチルエチルケトン］
・これら２種以上の混合溶媒

２－６．温度
工程１ａの温度は、反応が進行する限り特に制限されない。当該温度の下限は、例えば－２０℃以上、好ましくは０℃以上、さらに好ましくは１０℃以上である。当該温度の上限は、例えば１００℃以下、好ましくは８０℃以下、さらに好ましくは５０℃以下である。当該温度は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

２－７．時間
工程１ａの時間は、反応が進行する限り特に制限されない。当該時間の下限は、例えば３時間以上、好ましくは６時間以上、さらに好ましくは１０時間以上である。当該時間の上限は、例えば７２時間以下、好ましくは５０時間以下である。当該時間は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

工程１ａで得られる反応生成物は、慣用の方法、例えば、ろ過、蒸留、抽出、カラムクロマトグラフィー等により精製してもよい。

３．式（４ｂ）で表される化合物の製造方法
一実施態様において、式（４ｂ）で表される化合物の製造方法は、式（１）で表される化合物を、ハロゲン化剤及び触媒の存在下で、式（２ｂ）で表される化合物に作用させる工程１ｂを含む。

３－１．式（１）で表される化合物
式（１）で表される化合物は、上記２－１に記載した通りである。

３－２．式（２ｂ）で表される化合物
式（２ｂ）において、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂの各々は、好ましくはＨ、ハロゲン、又は置換基としてハロ基を有していてもよいアルキル基であり、より好ましくはＨ、ハロゲン、アルキル基、又はフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＨ、Ｆ、Ｃ_１－６アルキル基、又はフルオロＣ_１－６アルキル基であり、さらにより好ましくはＨ、Ｆ、Ｃ_１－４アルキル基、又はフルオロＣ_１－４アルキル基であり、特に好ましくはＨ、Ｆ、Ｃ_１－３アルキル基、又はフルオロＣ_１－３アルキル基である。一実施態様において、（I）Ｒ^２ｂ
及びＲ^３ｂは共にＨであること、（II）Ｒ^２ｂがＨであり、Ｒ^３ｂがＣ_１－３アルキル基であること、又は（III）Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは共にＣ_１－３アルキル基であることが好ま
しい。

一実施態様において、Ｒ^４ｂは、有機基であることが好ましい。他の実施態様において、Ｒ^４ｂは、例えばＨ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、好ましくはハロゲン、又は置換基としてハロ基を有していてもよいアルキル基であり、より好ましくはハロゲン又はフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＦ又はフルオロアルキル基であり、さらにより好ましくはＦ又はフルオロＣ_１－６アルキル基であり、特に好ましくはＦ又はフルオロＣ_１－４アルキル基であり、特により好ましくはＦ又はフルオロＣ_１－３アルキル基である。

Ｘ^１ｂは、Ｆであってもよく、Ｆ以外のハロゲンであってもよい。一実施態様において、Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＣｌ、Ｂｒ、又はIであるこ
とが好ましい。また、一実施態様において、Ｘ^１ｂは、Ｃｌ又はＢｒであることが好ましい。

３－３．ハロゲン化剤
ハロゲン化剤及びその使用量は、上記２－３に記載した通りである。

３－４．触媒
触媒及びその使用量は、上記２－４に記載した通りである。

３－５．溶媒
工程１ｂは、溶媒の存在下で実施することが好ましい。当該溶媒は、上記２－５に記載した通りである。

３－６．温度
工程１ｂの温度は、反応が進行する限り特に制限されない。当該温度の下限は、例えば－２０℃以上、好ましくは０℃以上、さらに好ましくは１０℃以上である。当該温度の上限は、例えば１００℃以下、好ましくは７０℃以下、さらに好ましくは５０℃以下である。当該温度は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

３－７．時間
工程１ｂの時間は、反応が進行する限り特に制限されない。当該時間の下限は、例えば３時間以上、好ましくは６時間以上、さらに好ましくは１０時間以上である。当該時間の上限は、例えば７０時間以下、好ましくは５０時間以下である。当該時間は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

工程１ｂで得られる反応生成物は、慣用の方法、例えば、ろ過、蒸留、抽出、カラムクロマトグラフィー等により精製してもよい。

４．式（４ａ）で表される化合物
式（４ａ）で表される化合物は、上記２に記載した通りである。

５．式（４ｂ）で表される化合物を含有する組成物
５－１．式（４ｂ）で表される化合物
式（４ｂ）で表される化合物は、上記３に記載した通りであり、例えば、式（４ａ）で表される化合物であってもよい。式（４ａ）で表される化合物は、上記２に記載した通りである。式（４ｂ）で表される化合物の含有量は、特に制限されないが、組成物１００質量％に対して、例えば、５０質量％以上、６０質量％以上、７０質量％以上、８０質量％以上、又は９０質量％以上であり、及び／又は、９９質量以下又は９５質量％以下であることができる。

５－２．他の成分
当該組成物は、式（４ｂ）で表される化合物を含有する限り、特に制限されず、さらに他の成分を含有することができる。他の成分としては、例えば、ハロゲン化物イオン、水、式（２ｂ）で表される化合物、溶媒、触媒、カルボン酸、式（２ｂ）で表される化合物のハロゲン付加物、式（１’）で表される化合物、Ｙ^＋で表されるカチオン、ハロゲン化剤、酸素等が挙げられる。他の成分は、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法における不純物等であることができる。他の成分は、１種単独であってもよく２種以上の組み合わせであってもよい。

５－３．式（４ｂ）で表される化合物、及びハロゲン化物イオンを含有する組成物
ハロゲン化物イオンとしては、特に制限されないが、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンが挙げられる。ハロゲン化物イオンは、好ましくは塩化物イオン、臭化物イオン、又はヨウ化物イオンである。ハロゲン化物イオンは、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法における不純物、具体的には、ハロゲン化剤に由来するものであることができる。

ハロゲン化物イオンの含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば３×１０^－８質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上、さらに好ましくは１０^－３質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、イオンクロマトグラフィー、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－３’．式（４ｂ）で表される化合物、ハロゲン化物イオン、及び触媒を含有する組成物
ハロゲン化物イオンとしては、上記５－３に記載のものが挙げられる。触媒としては、上記２－４又は３－４に記載のものが挙げられる。触媒は、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法に使用され得る触媒に由来するものであることができる。

ハロゲン化物イオンの含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり
、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば３×１０^－８質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上、さらに好ましくは１０^－３質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、イオンクロマトグラフィー、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

触媒の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－１１質量％以上、好ましくは１０^－９質量％以上、さらに好ましくは１０^－３質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、誘導結合プラズマ質量分析（ＩＰＣ－ＭＳ）、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－４．式（４ｂ）で表される化合物、及び水を含有する組成物
水の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１質量％以下、好ましくは０．５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－８質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、カールフィッシャー法、又は^１Ｈ－ＮＭＲにより測定することができる。

５－４’．式（４ｂ）で表される化合物、水、及び触媒を含有する組成物
触媒としては、上記２－４又は３－４に記載のものが挙げられる。触媒は、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法に使用され得る触媒に由来するものであることができる。

水の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１質量％以下、好ましくは０．５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－８質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、カールフィッシャー法、又は^１Ｈ－ＮＭＲにより測定することができる。

触媒の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－１１質量％以上、好ましくは１０^－９質量％以上、さらに好ましくは１０^－３質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、誘導結合プラズマ質量分析（ＩＰＣ－ＭＳ）、ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－５．式（４ｂ）で表される化合物、及び式（２ｂ）で表される化合物を含有する組成物
式（２ｂ）で表される化合物は、上記３－２に記載した通りであり、例えば、式（２ａ）で表される化合物であってもよい。式（２ａ）で表される化合物は、上記２－２に記載した通りである。式（２ｂ）で表される化合物は、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法における未反応原料であることができる。

式（２ｂ）で表される化合物の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－６．式（４ｂ）で表される化合物、及び溶媒を含有する組成物
溶媒としては、上記２－５又は３－５に記載のものが挙げられる。溶媒は、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法に使用され得る溶媒に由来するものであることができる。また、溶媒は、例えば、式（４ｂ）で表される化合物の製造後に任意に添加され得るものであることができる。

溶媒の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－７．式（４ｂ）で表される化合物、及び触媒を含有する組成物
触媒としては、上記２－４又は３－４に記載のものが挙げられる。触媒は、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法に使用され得る触媒に由来するものであることができる。

触媒の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－１１質量％以上、好ましくは１０^－９質量％以上、さらに好ましくは１０^－３質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、誘導結合プラズマ質量分析（ＩＰＣ－ＭＳ）、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－８．式（４ｂ）で表される化合物、及びカルボン酸を含有する組成物
カルボン酸としては、特に制限されないが、例えば、式（６）：
Ｒ^１－ＣＯＯＨ （６）
［式中、Ｒ^１は前記と同意義である。］
で表される化合物等が挙げられる。カルボン酸は、例えば、上記２又は３に記載の式（４ａ）又は（４ｂ）で表される化合物の製造方法において、式（１’）で表される化合物か
ら式（１）で表される化合物を反応系中で発生させる場合、式（１’）で表される化合物の加水分解物であることができる。

カルボン酸の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

５－９．式（４ｂ）で表される化合物、及び式（２ｂ）で表される化合物のハロゲン付加物を含有する組成物
式（２ｂ）で表される化合物のハロゲン付加物としては、特に制限されないが、例えば、式（７）：

［式中、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、Ｘ^１ｂ、及びＸ^２は前記と同意義である。］
で表される化合物等が挙げられる。

前記ハロゲン付加物の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（４ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば３×１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

６．式（５ａ）で表される化合物の製造方法
式（５ａ）で表される化合物の製造方法は、式（４ａ）で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ａを含む。当該製造方法は、さらに工程１ａを含むことが好ましい。

６－１．式（４ａ）で表される化合物
式（４ａ）で表される化合物は、上記２に記載した通りである。

６－２．還元剤
還元剤は、式（４ａ）で表される化合物を還元し得るものであれば、特に制限されない。

一実施態様において、還元剤は有機金属試薬であることが好ましい。有機金属試薬としては、例えば、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド等のアルキルマグネシウムブロミド；フェニルマグネシウムブロミド等のアリールマグネシウムブロミド等のグリニャール試薬が挙げられる。

一実施態様において、還元剤は、
（i）遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属
（ii）遷移金属の金属対、及び
（iii）遷移金属と、酸又は金属塩との混合物
からなる群なる群より選択される一種以上であることが好ましい。

還元剤（i）の遷移金属としては、例えば、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ等が挙げられる。
還元剤（i）のアルカリ金属としては、例えば、Ｎａ等が挙げられる。還元剤（i）のアルカリ土類金属としては、例えば、Ｍｇ等が挙げられる。

還元剤（ii）の遷移金属の対としては、還元剤（i）で例示した遷移金属を含有するこ
とができ、例えば、Ｚｎ／Ｃｕ等が挙げられる。

還元剤（iii）の混合物としては、還元剤（i）で例示した遷移金属を含有することができ、例えば、Ｚｎ／酢酸、Ｚｎ／ＺｎＣｌ_２等が挙げられる。

一実施態様において、還元剤はリン含有化合物であることが好ましい。リン含有化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン、１，２－ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン等の複数のリン原子がリンカー（例：アルキレン）を介して連結した化合物、トリブチルホスフィン等のトリアルキルホスフィンが挙げられ、アルキル基とアリール基が混在して置換されたホスフィンでもよい。さらに、リン含有化合物としては、トリエチルホスファイト等のトリアルキル亜リン酸エステル、トリ(ジエチル
アミノ)ホスフィン等のトリ(モノ又はジアルキルアミノ)ホスフィン等が挙げられる。

還元剤の使用量は、特に制限されない。当該使用量の下限は、式（４ａ）で表される化合物１モルに対して、例えば０．０１モル以上、好ましくは０．１モル以上、さらに好ましくは０．５モル以上である。当該使用量の上限は、式（４ａ）で表される化合物１モルに対して、例えば１０モル以下、好ましくは７モル以下、さらに好ましくは５モル以下である。当該使用量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

６－３．溶媒
工程２ａは、溶媒の存在下で実施することが好ましい。当該溶媒としては、特に制限されないが、例えば、次の溶媒が挙げられる。
・炭化水素溶媒［例：ｎ－ヘキサン等の鎖状炭化水素、ベンゼン、トルエン、ｐ－キシレン等の芳香族炭化水素］
・フッ素系溶媒、塩素系溶媒等のハロゲン系溶媒［例：ジクロロメタン、ジクロロエタン、パーフルオロヘキサン等のハロアルカン；クロロベンゼン等のハロアレーン；トリフルオロトルエン、ヘキサフルオロメタキシレン等のハロアルキルアレーン；ハロエーテル（例：３Ｍ社製３Ｍ^ＴＭＮｏｖｅｃ^ＴＭ７２００、３Ｍ社製３Ｍ^ＴＭＮｏｖｅｃ^ＴＭ７３００等のフルオロエーテル）］
・ニトリル系溶媒［例：アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等の鎖状ニトリル；ベンゾニトリル等の環状ニトリル］
・アミド系溶媒［例：カルボン酸アミド（例：ホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等の鎖状アミド、Ｎ－メチルピロリドン等の環状アミド）、リン酸アミド（例：ヘキサメチルリン酸アミド）］
・エーテル系溶媒［例：ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等の鎖状エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル］
・ウレア系溶媒［例：Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピレンウレア］
・エステル系溶媒［例：酢酸エステル］
・スルホキシド系溶媒［例：ジメチルスルホキシド］
・ニトロ系溶媒［例：ニトロメタン、ニトロベンゼン］
・ケトン系溶媒［例：アセトン、メチルエチルケトン］
・アルコール系溶媒［例：メタノール、エタノール］
・酸［例：酢酸］
・これら２種以上の混合溶媒

６－４．温度
工程２ａの温度は、反応が進行する限り特に制限されない。当該温度の下限は、例えば－７０℃以上、好ましくは－５０℃以上、さらに好ましくは－３０℃以上である。当該温度の上限は、例えば２００℃以下、好ましくは１５０℃以下、さらに好ましくは１００℃以下である。当該温度は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

６－５．時間
工程２ａの時間は、反応が進行する限り特に制限されない。当該時間の下限は、還元剤の種類等にもよるが、例えば５分以上、好ましくは１０分以上である。当該時間の上限は、例えば１２時間以下、好ましくは６時間以下である。当該時間は、前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。

工程２ａで得られる反応生成物は、慣用の方法、例えば、ろ過、蒸留、抽出、カラムクロマトグラフィー等により精製してもよい。

７．式（５ｂ）で表される化合物の製造方法
式（５ｂ）で表される化合物の製造方法は、工程１ｂ、及び、式（４ｂ）で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ｂを含む。

７－１．工程１ｂ
工程１ｂは、上記３に記載した通りである。

７－２．式（４ｂ）で表される化合物
式（４ｂ）で表される化合物は、上記３に記載した通りである。

７－３．還元剤
還元剤及びその使用量は、上記６－２に記載した通りである。

７－４．溶媒
工程２ｂは、溶媒の存在下で実施することが好ましい。当該溶媒は、上記６－３に記載した通りである。

７－５．温度及び時間
工程２ｂの温度及び時間は、それぞれ、上記６－４及び６－５に記載した、工程２ａの温度及び時間と同じ範囲から選択することができる。

工程２ｂで得られる反応生成物は、慣用の方法、例えば、ろ過、蒸留、抽出、カラムクロマトグラフィー等により精製してもよい。

８．式（５ｃ）で表される化合物
式（５ｃ）において、Ｒ^１ｃが、１個以上の置換基を有していてもよい、炭素数２以上のフルオロアルキル基又は炭素数１以上のフルオロアルコキシ基であるとき、前記置換基
としては、例えば、ニトリル基、エステル基（例：Ｒ^ｒＯＣＯ－）、ホルミル基、スルホニル含有基（例：Ｒ^ｒＯＳＯ_２－）等が挙げられる。前記フルオロアルキル又はフルオロアルコキシ基は、パーフルオロアルキル又はパーフルオロアルコキシ基であってもよい。前記フルオロアルキル又はフルオロアルコキシ基の炭素数は、例えば１１以下、好ましくは１０以下、さらに好ましくは９以下である。前記フルオロアルキル基又はフルオロアルコキシ基の炭素原子間に含まれ得る「ヘテロ原子」としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられるが、これらに限定されない。

Ｒ^１ｃとしては、例えば、
ＣＦ_３－Ｏ－
ＣＦ_３－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ(ＣＦ_３)－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－Ｏ－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－Ｏ－ＣＦ_２－Ｏ－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＨ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－ＣＦ_２－、
ＣＦ_３－ＣＦ(ＣＦ_３)－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ（ＣＦ_３）－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－Ｏ－ＣＦ(ＣＦ_３)－、
ＣＦ_３－ＣＦ_２－ＣＦ_２－Ｏ－[ＣＦ(ＣＦ_３)－ＣＦ_２－Ｏ－]_２－ＣＦ(ＣＦ_３)－等のフルオロＣ_２－１１アルキル基、フルオロＣ_１－３アルコキシ基、フルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルコキシ基、フルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルコキシフルオロＣ_１－３アルコキシ基等が挙げられる。

式（５ｃ）において、Ｒ^２ｃ及びＲ^３ｃの各々は、好ましくはＨ又はＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはＨ又はＣ_１－４アルキル基であり、さらに好ましくはＨ又はＣ_１－３アルキル基である。一実施態様において、（I）Ｒ^２ｃ及びＲ^３ｃは共にＨである
こと、（II）Ｒ^２ｃがＨであり、Ｒ^３ｃがＣ_１－３アルキル基であること、又は（III）
Ｒ^２ｃ及びＲ^３ｃは共にＣ_１－３アルキル基であることが好ましい。

９．式（５ｂ）で表される化合物を含有する組成物
９－１．式（５ｂ）で表される化合物
式（５ｂ）で表される化合物は、上記７に記載した通りであり、例えば、式（５ａ）又は（５ｃ）で表される化合物であってもよい。式（５ａ）及び（５ｃ）で表される化合物は、それぞれ、上記６及び８に記載した通りである。式（５ｂ）で表される化合物の含有量は、特に制限されないが、組成物１００質量％に対して、例えば、５０質量％以上、６０質量％以上、７０質量％以上、８０質量％以上、又は９０質量％以上であり、及び／又は、９９質量以下又は９５質量％以下であることができる。

９－２．他の成分
当該組成物は、式（５ｂ）で表される化合物を含有する限り、特に制限されず、さらに他の成分を含有することができる。他の成分としては、例えば、ハロゲン化物イオン、水、式（２ｂ）で表される化合物、溶媒、触媒、カルボン酸、式（２ｂ）で表される化合物
のハロゲン付加物、式（４ｂ）で表される化合物、還元剤、酸素等が挙げられる。他の成分は、上記６又は７に記載の式（５ａ）又は（５ｂ）で表される化合物の製造方法における不純物等であることができる。他の成分は、１種単独であってもよく２種以上の組み合わせであってもよい。

９－３．式（５ｂ）で表される化合物、及びハロゲン化物イオンを含有する組成物
ハロゲン化物イオンとしては、特に制限されないが、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンが挙げられる。ハロゲン化物イオンは、好ましくは塩化物イオン、臭化物イオン、又はヨウ化物イオンである。また、ハロゲン化物イオンは、例えば、上記６又は７に記載の式（５ａ）又は（５ｂ）で表される化合物の製造方法における不純物、具体的には、ハロゲン化剤に由来するものであることができる。

ハロゲン化物イオンの含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１５質量％以下、好ましくは１０質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば３×１０^－８質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上、さらに好ましくは１０^－３質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、イオンクロマトグラフィー、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

９－４．式（５ｂ）で表される化合物、及び水を含有する組成物
水の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば２質量％以下、好ましくは１質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－８質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、カールフィッシャー法、又は^１Ｈ－ＮＭＲにより測定することができる。

９－５．式（５ｂ）で表される化合物、及び式（２ｂ）で表される化合物を含有する組成物
式（２ｂ）で表される化合物は、上記３－２に記載した通りであり、例えば、式（２ａ）で表される化合物であってもよい。式（２ａ）で表される化合物は、上記２－２に記載した通りである。式（２ｂ）で表される化合物は、例えば、上記６又は７に記載の工程１ａ又は１ｂの原料に由来するものであることができる。

式（２ｂ）で表される化合物の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

９－６．式（５ｂ）で表される化合物、及び溶媒を含有する組成物
溶媒としては、上記２－５又は３－５に記載したものが挙げられる。溶媒は、例えば、上記６又は７に記載の式（５ａ）又は（５ｂ）で表される化合物の製造方法に使用され得る溶媒に由来するものであることができる。また、溶媒は、例えば、式（５ｂ）で表され
る化合物の製造後に任意に添加され得るものであることができる。

溶媒の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

９－７．式（５ｂ）で表される化合物、及びカルボン酸を含有する組成物
カルボン酸としては、特に制限されないが、例えば、式（６）で表される化合物等が挙げられる。カルボン酸は、例えば、上記６又は７に記載の工程１ａ又は１ｂにおいて、式（１’）で表される化合物から式（１）で表される化合物を反応系中で発生させる場合、式（１’）で表される化合物の加水分解物であることができる。

カルボン酸の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは６質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

９－８．式（５ｂ）で表される化合物、及び式（４ｂ）で表される化合物を含有する組成物
式（４ｂ）で表される化合物は、上記３に記載した通りであり、例えば、式（４ａ）で表される化合物であってもよい。式（４ａ）で表される化合物は、上記２に記載した通りである。式（４ｂ）で表される化合物は、例えば、上記６又は７に記載の工程２ａ又は工程２ｂにおける未反応原料であることができる。

式（４ｂ）で表される化合物の含有量は、特に制限されない。当該含有量の上限は、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。当該含有量の下限は、例えば検出限界以上であり、式（５ｂ）で表される化合物１００質量％（又は組成物１００質量％）に対して、例えば１０^－９質量％以上、好ましくは１０^－６質量％以上である。当該含有量は前記下限及び前記上限を任意に組み合わせた範囲にすることができる。当該含有量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、又はガスクロマトグラフィー－質量分析（ＧＣ－ＭＳ）により測定することができる。

以下、実施例によって本開示の一実施態様を更に詳細に説明するが、本開示はこれに限定されるものではない。

実施例１ １－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロヘキサンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、フッ化カリウム(フッ素化剤) ５８．１ｍｇと、トリグライム １ｍｌを加えた。当該容器にパーフルオロヘキサノイルフルオライ
ド ３１６ｍｇと、トリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器に一塩化ヨウ素(ハ
ロゲン化剤) １６２ｍｇとトリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器を０℃以下
に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタンを１．５９ｇ加えた。当該容器を３０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが２１％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －５９．９～－６０．０（ｍ、１Ｆ
），－８０．６（ｔ，３Ｆ），－８２．０～－８５．７（ｍ，２Ｆ），－１２１．８（ｓ，２Ｆ），－１２２．７（ｓ，２Ｆ），１２５．３（ｓ，２Ｆ），－１２５．９～－１２６．０（ｔ，２Ｆ），
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ３．９４～３．８８（ｍ，２Ｈ）.

フッ素化剤及びハロゲン化剤の種類を表１に示す化合物に変更した以外は実施例１で記載の方法と同様に操作し、実施例１と同じフルオロエーテルを合成した。

実施例９ １－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロヘキサンの合成における反応延長
実施例１で反応を実施した後に、当該容器に一塩化ヨウ素 １６２ｍｇをさらに加えた。再度、当該容器を０℃以下に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタンを１．６２ｇ加えた。当該容器を３０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが３９％の収率で生成していた。

実施例１０ １－（２－ブロモ－１－クロロ－１－フルオロエトキシ）パーフルオロヘキサンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、フッ化カリウム ６９．７ｍｇと、トリグライム １ｍＬを加えた。当該容器にパーフルオロヘキサノイルフルオライド ３１６ｍｇと、トリグライム １ｍｌを加えた。当該容器に１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン(DBDMH)（２８６ｍｇ）とトリフェニルフォスフィンスルフィド(触媒)（２
９．４ｍｇ）を加えた。当該容器を０℃以下に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタンを１．６０ｇ加えた。当該容器を４０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが３１％の収率で生成していた。なお、未反応のパーフルオロヘキサノイルフルオライドは５７％であった。未反応の酸フロリドを考慮した転化収率は７２％であった。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －６５．６～－６５．７（ｍ、１Ｆ
），－８２．４（ｔ，３Ｆ），－８２．８～－８３．２（ｍ，１Ｆ），－８６．０～－８６．４（ｍ，１Ｆ），－１２３．３（ｓ，２Ｆ），－１２４．１（ｓ，２Ｆ），１２６．８（ｓ，２Ｆ），－１２７．５（ｓ，２Ｆ），
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ３．９５～３．９１（ｍ，２Ｈ）.

触媒を表２に記載の通り変更した以外は実施例１０で記載の方法と同様に操作し、実施例１０と同じフルオロエーテルを合成した。

実施例１６ 臭素を用いた１－（２－ブロモ－１－クロロ－１－フルオロエトキシ）パーフルオロヘキサンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、フッ化カリウム ６９．７ｍｇと、トリグライム １ｍＬを加えた。当該容器にパーフルオロヘキサノイルフルオライド ３１６ｍｇと、トリグライム １ｍｌを加えた。当該容器に臭素（１５６ｍｇ）を加えた。当該容器を０℃以下に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタンを１．６０ｇ加えた。当該容器を４０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが４３％の収率で生成していた。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製し、４０％の収率で表題のフルオロエーテルを得た。

イオンクロマトグラフィーを用いて得られたフルオロエーテルのハロゲン化物イオンの濃度を測定した。その結果、フッ化物イオン濃度は２．１×１０^－３質量％、塩化物イオン濃度は５．３×１０^－３質量％、臭化物イオン濃度は０．４質量％、ヨウ化物イオン濃度は３．７×１０^－３質量％であった。また、カールフィッシャー水分計により測定した水の濃度は８．５×１０^－２質量％であった。

実施例１７ １－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロヘキサンからの１－（（１－フルオロビニル）オキシ）パーフルオロヘキサンの合成
１０ｍＬ容の硝子容器に、１－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロヘキサン(基質) ５４．２ｍｇを加え、当該容器内を窒素で置換した。当該容器にジグライム(溶媒) ０．２５ｍｌを加えた。当該容器にトリスジエチルアミノフォスフィン(還元剤) ３５．９ｍｇを加えた。－２０℃で１時間攪拌し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが９９％超の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －８１．７～－８１．９（ｄｔ、１
Ｆ），－８２．９～－８２．９（ｔ，３Ｆ），－８６．９（ｂｒ，２Ｆ），－１２４．５（ｓ，２Ｆ），－１２５．０（ｓ，２Ｆ），１２７．４～１２７．５（ｔ，２Ｆ），－１２８．２～－１２８．３（ｔ，２Ｆ），
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ４．４７～４．２８（ｍ，２Ｈ）.

還元剤、溶媒、基質濃度、反応温度、及び時間を表３に記載の通り変更した以外は実施例１７で記載の方法と同様に操作し、実施例１７と同じビニルエーテルを合成した。

実施例２７ （２－ブロモ－１－クロロ－１－フルオロエトキシ）パーフルオロヘキサンからの１－（（１－フルオロビニル）オキシ）パーフルオロヘキサンの合成
１０ｍＬ容の硝子容器に、（２－ブロモ－１－クロロ－１－フルオロエトキシ）パーフルオロヘキサン ７５．８ｍｇを加え、当該容器内を窒素で置換した。当該容器にアセトニトリル ０．１５ｍＬを加えた。当該容器にトリスジエチルアミノホスフィン ４９．９ｍｇを加えた。－２０℃で３時間攪拌し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが６１％の収率で生成していた。

実施例２８ １－（２－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロプロポキシ）パ―フルオロプロパンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、フッ化カリウム ５８．１ｍｇと、トリグライム １ｍｌを加えた。当該容器に２－（パーフルオロプロポキシ）パーフルオロプロパノイルフロリド ３３２ｍｇと、トリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器に一塩化ヨウ素 １６２ｍｇとトリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器を０℃以下に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタンを１．２６ｇ加えた。当該容器を３０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが２２％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －５９．４～－５９．７（ｍ、１Ｆ
），－７９．４～－７９．５（ｔ、３Ｆ），－８０．４～－８０．５（ｍ、２Ｆ），－８１．０（ｍ、３Ｆ），－８５．４～－８６．４（ｄｄ、１Ｆ），－１２９．３（ｓ、２Ｆ），－１４５．２（ｓ、１Ｆ）.
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ３．９２～３．８５（２Ｈ）

組成性物にパーフルオロヘキサン及びメタノールを加え、分液を行った。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが１９％の収率で得られた。

^１Ｈ ＮＭＲにより測定した水の濃度は５．７質量％、トリグライムの濃度は２．４質量％であった。

実施例２９ １－（２－（（１－フルオロビニル）オキシ）パーフルオロプロポキシ）パーフルオロプロパンの合成
１０ｍＬ容の硝子容器に、１－（２－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロプロポキシ）パ―フルオロプロパン ４２．８ｍｇを加え、当該容器内を窒素で置換した。当該容器にアセトニトリル ０．０８ｍｌを加えた。当該容器にトリスジエチルアミノホスフィン ２７．５ｍｇを加えた。－２０℃で１時間攪拌し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが６５％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －８３．８０（ｂｒ）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ４．４６～４．２６（２Ｈ）

実施例３０ １－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、フッ化カリウム ５８．１ｍｇと、トリグライム １ｍｌを加えた。当該容器に３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパノイルフロライド ２３２ｍｇと、トリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器に一塩化ヨウ素 １６２ｍｇとトリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器を０℃以下に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタンを ０．９８ｇ加えた。当該容器を３０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが３６％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －５９．４～－５９．５（ｍ、１Ｆ
）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ３．９２～３．８８（２Ｈ）.

得られたフルオロエーテルを^１Ｈ ＮＭＲにより分析した。結果、得られたフルオロエーテルは水を４．４質量％、トリグライムを３．６質量％含有していた。

実施例３１ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの合成
１０ｍＬ容の硝子容器に、１－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ３５．８ｍｇを加え、当該容器内を窒素で置換した。当該容器にアセトニトリル ０．１８ｍｌを加えた。当該容器にトリスジエチルアミノホスフィン ２８ｍｇを加えた。－２０℃で１時間攪拌し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが３０％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －８５．１～－８５．２（ｄｔ、１
Ｆ）
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ４．４６～４．２４（２Ｈ）.

実施例３２ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの組成物１
実施例３１で得られた１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ２９．６ｍｇにトリグライム １ｍｌを加え１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ２．９質量％を含むトリグライム溶液を調製した。当該溶液を５０℃で２時間加熱し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンが２質量％減少した。

実施例３３ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの組成物２
実施例３１で得られた１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン １４．８ｍｇにトリグライム ０．５ｍｌ及び水 ９０μｌを加え１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ２．５質量％及び水 １５質量％を含むトリグライム溶液を調製した。当該溶液を５０℃で２時間加熱し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンが２３質量％減少した。

実施例３４ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの組成物３
実施例３１で得られた１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン １４．８ｍｇにトリグライム ０．５ｍｌ、水 ９０μｌ、及びフッ化カリウム ２９ｍｇを加え、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ２．４質量％、水 １４質量％、及びフッ化カリウム ５質量％を含むトリグライム液を調製したところ、溶液が分離した。当該溶液を５０℃で２時間加熱し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンが９質量％減少した。

実施例３５ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの組成物４
実施例３１で得られた１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ２９．６ｍｇにテトラヒドロフラン １ｍｌを加え、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ３．２質量％を含むテトラヒドロフラン溶液を調製した。当該溶液を５０℃で２０時間加熱し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンが１６質量％減少した。

実施例３６ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンの組成物５
実施例３１で得られた１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ２９．６ｍｇにフッ化テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムの１Ｍテトラヒドロフラン溶液 １ｍｌを加え、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパン ３．２質量％及びフッ化テトラ－ｎ－ブチルアンモニウム ２８質量％を含むテトラヒドロフラン溶液を調製した。当該溶液を５０℃で２０時間加熱し、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、１－（（１－フルオロビニル）オキシ）－３－（パーフルオロメトキシ）パーフルオロプロパンが４１質量％減少した。

実施例３５ １－（１－ブロモ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロヘキサンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、フッ化カリウム ５８．１ｍｇと、トリグライム １ｍｌを加えた。当該容器にパーフルオロヘキサノイルフルオライド ３１６ｍｇと、トリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器に一塩化ヨウ素 １６２ｍｇとトリグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器を０℃以下に冷却し、１－ブロモ－１－フルオロエタン １．４８ｇを加えた。当該容器を３０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが２４％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ －４８．５～－４８．６（ｍ、１Ｆ
），－８１．９～－８２．０（ｍ，５Ｆ），－１１９．５（ｔ，２Ｆ），－１２３．３（ｓ，２Ｆ），１２３．９（ｓ，２Ｆ），－１２７．１（ｔ，２Ｆ）.

実施例３６ １－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロオクタンの合成
窒素雰囲気下で、２０ｍＬ容の耐圧容器に、テトラメチルアンモニウムフロライド １８６ｍｇと、トリグライム ３．５ｍｌを加えた。当該容器にパーフルオロオクタノイルフルオライド ８３２ｍｇと、トリグライム ０．５ｍｌを加えた。当該容器にＮ－ヨー
ドサッカリン ６１８ｍｇを加えた。当該容器を０℃以下に冷却し、１－クロロ－１－フルオロエタン １．３７ｇを加えた。当該容器を３０℃で２４時間攪拌した。得られた反応混合物を炭酸カリウム水溶液と亜硫酸ナトリウム水溶液の混合液に滴下し、酢酸エチルで抽出した。^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが２１％の収率で生成していた。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３）：δ －５９．３～－５９．５（ｍ
、１Ｆ），－８１．５（ｔ，Ｊ ＝ １８．４Ｈｚ，３Ｆ），－８２．４～８２．５（ｍ、１Ｆ），－８５．８～－８６．２（ｍ，１Ｆ），－１２１．８～－１２２．４（ｍ，６Ｆ），－１２２．９～－１２３．２（ｍ，２Ｆ），－１２５．９～－１２６．０（ｍ，２Ｆ），－１２６．５～－１２６．７（ｍ，２Ｆ）．
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３）：δ ４．３５（ｓ、１Ｈ）、４．３
１（ｄｄ、Ｊ＝１２．８、１６．０Ｈｚ、１Ｈ）.

実施例３７ １－（（１－フルオロビニル）オキシ）パーフルオロオクタンの合成
１０ｍＬ容の硝子容器に、１－（１－クロロ－１－フルオロ－２－ヨードエトキシ）パーフルオロオクタン ６４ｍｇを加え、当該容器内を窒素で置換した。当該容器にジグライム ０．２５ｍｌを加えた。当該容器に３Ｍ フェニルマグネシウムブロミドエーテル溶液 ３５μＬを加えた。５０℃で３時間攪拌した。１ＭＨＣｌに滴下し、エーテルで抽出後、^１９ＦＮＭＲで解析したところ、表題のフルオロエーテルが５５％の収率で生成していた。溶媒を留去後、表題のビニルエーテルを３５％で得た。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ, ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３）：δ －８１．５～－８１．６（ｍ
、１Ｆ）、－８１．９（ｔ、Ｊ＝１２．０Ｈｚ、３Ｆ），－８５．６（ｔ、Ｊ＝９．８Ｈｚ、２Ｆ）、－１２２．４～－１２２．５（ｍ、６Ｆ）、－１２３．３～－１２３．５（ｍ、２Ｆ）、－１２６．０～－１２６．１（ｍ、２Ｆ）、－１２６．８～－１２７．０（ｍ、２Ｆ）．
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ, ＣＤＣｌ_３）：δ ４．４７（ｄｄ、Ｊ＝５．２、６．４
Ｈｚ、１Ｈ）、４．３７（ｄｄ、Ｊ＝４．４、５．６Ｈｚ、１Ｈ）.

イオンクロマトグラフィーを用いて、得られたビニルエーテルのハロゲン化物イオンの濃度を測定した。その結果、塩化物イオン濃度は８．７×１０^－３質量％、フッ化物イオン濃度、ヨウ化物イオン濃度は検出限界以下であった。また、カールフィッシャー水分計により測定した水の濃度は８．５×１０^－２質量％であった。

Claims (34)

1. 式（４ａ）：
   

   

   ［式中、
   Ｒ^１は有機基であり、
   Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
   Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、
   Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンであり、
   Ｘ^２はハロゲンである。］
   で表される化合物の製造方法であって、
   式（１）：
   

   

   ［式中、
   Ｙ^＋はカチオンであり、
   Ｒ^１は前記と同意義である。］
   で表される化合物を、ハロゲン化剤の存在下で、式（２ａ）：
   

   

   ［式中の記号は前記と同意義である。］
   で表される化合物に作用させる工程１ａを含む、製造方法。
2. 前記ハロゲン化剤が、式（３ａ）：
   Ｘ^２－Ｚ （３ａ）
   ［式中、
   Ｘ^２はハロゲンであり、
   Ｚはハロゲン又はＮＺ^１Ｚ^２であり、
   Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、有機基である、又は、Ｚ^１及びＺ^２は互いに結合して環を形成している。］
   又は式（３ａ’）：
   

   

   ［式中、
   Ｘ^２はハロゲンであり、
   Ｑ^１～Ｑ^４は、それぞれ独立して、Ｈ又は有機基であり、Ｑ^１～Ｑ^４の任意の２個は互い
   に結合して環を形成していてもよい。］
   で表される化合物である、請求項１に記載の製造方法。
3. Ｙ^＋が金属イオン又は四級アンモニウムイオンである、請求項１又は２に記載の製造方法。
4. Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基であり、前記フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、請求項１～３のいずれか一項に記載の製造方法。
5. Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいＣ_１－１０フルオロアルキル基であり、前記Ｃ_１－１０フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、請求項１～４のいずれか一項に記載の製造方法。
6. Ｒ^４ａがＦ又はフルオロアルキル基である、請求項１～５のいずれか一項に記載の製造方法。
7. Ｒ^２ａ及びＲ^３ａが、それぞれ独立して、Ｈ又はＣ_１－３アルキル基である、請求項１～６のいずれか一項に記載の製造方法。
8. 前記工程１ａが触媒の非存在下で行われる、請求項１～７のいずれか一項に記載の製造方法。
9. 式（４ｂ）：
   

   

   ［式中、
   Ｒ^１は有機基であり、
   Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
   Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基であり，
   Ｘ^１ｂ及びＸ^２は、それぞれ独立して、ハロゲンである。］
   で表される化合物の製造方法であって、
   式（１）：
   

   

   ［式中、
   Ｙ^＋はカチオンであり、
   Ｒ^１は前記と同意義である。］
   で表される化合物を、ハロゲン化剤及び触媒の存在下で、式（２ｂ）：
   

   

   ［式中の記号は前記と同意義である。］
   で表される化合物に作用させる工程１ｂを含む、製造方法。
10. Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＦ以外のハロゲンである、請求項９に記載の製造方法。
11. 前記ハロゲン化剤が、式（３ａ）：
    Ｘ^２－Ｚ （３ａ）
    ［式中、
    Ｘ^２はハロゲンであり、
    Ｚはハロゲン又はＮＺ^１Ｚ^２であり、
    Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、有機基である、又は、Ｚ^１及びＺ^２は互いに結合して環を形成している。］
    又は式（３ａ’）：
    

    

    ［式中、
    Ｘ^２はハロゲンであり、
    Ｑ^１～Ｑ^４は、それぞれ独立して、Ｈ又は有機基であり、Ｑ^１～Ｑ^４の任意の２個は互いに結合して環を形成していてもよい。］
    で表される化合物である、請求項９又は１０に記載の製造方法。
12. 前記触媒がルイス塩基である、請求項９～１１のいずれか一項に記載の製造方法。
13. 前記触媒が、式（３ｂ）：
    Ｌ^１－(Ｚ^３)_ｎ （３ｂ）
    ［式中、
    Ｌ^１は、Ｏ、Ｎ、(Ｓ)_ｍ、Ｐ、又は(Ｓｅ)_ｋであり、
    ｍ及びｋは、１又は２であり、
    ｎは、Ｌ^１の価数に対応する数であり、
    各Ｚ^３は、それぞれ独立して、有機基であり、ｎが２以上であるとき、任意の２個のＺ^３は互いに結合して環を形成していてもよい。］
    又は式（３ｃ）：
    Ｌ^２＝Ｚ^４ （３ｃ）
    ［式中、
    Ｌ^２は、Ｏ、Ｓ、又はＳｅであり、
    Ｚ^４はＰ(Ｚ^５)_３又はＣ(Ｚ^６)_２であり、各Ｚ^５は、それぞれ独立して、有機基であり、任意の２個のＺ^５は互いに結合して環を形成していてもよく、各Ｚ^６は、それぞれ独立して、有機基であり、任意の２個のＺ^６は互いに結合して環を形成していてもよい。］
    で表されるルイス塩基である、請求項９～１２のいずれか一項に記載の製造方法。
14. Ｙ^＋が金属イオン又は四級アンモニウムイオンである、請求項９～１３のいずれか一項に
    記載の製造方法。
15. Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基であり、前記フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、請求項９～１４のいずれか一項に記載の製造方法。
16. Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂが、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、アルキル基、又はフルオロアルキル基である、請求項９～１５のいずれか一項に記載の製造方法。
17. Ｒ^４ｂがハロゲン又はフルオロアルキル基である、請求項９～１６のいずれか一項に記載の製造方法。
18. 式（４ａ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
    Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、
    Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンであり、
    Ｘ^２はハロゲンである。］
    で表される化合物。
19. 式（４ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
    Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基であり、
    Ｘ^１ｂ及びＸ^２は、それぞれ独立して、ハロゲンである。］
    で表される化合物、及びハロゲン化物イオンを含有する組成物。
20. 式（４ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
    Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基であり，
    Ｘ^１ｂ及びＸ^２は、それぞれ独立して、ハロゲンである。］
    で表される化合物、及び水を含有する組成物。
21. Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＦ以外のハロゲンである、請求項１９又は２０に記載の組成物。
22. 式（５ａ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
    Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
    で表される化合物の製造方法であって、
    式（４ａ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、及びＲ^４ａは前記と同意義であり、
    Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンであり、
    Ｘ^２がハロゲンである。］
    で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ａを含む、製造方法。
23. Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいフルオロアルキル基であり、前記フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、請求項２２に記載の製造方法。
24. Ｒ^１が、１個以上の置換基を有していてもよいＣ_１－１０フルオロアルキル基であり、前記Ｃ_１－１０フルオロアルキル基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよい、請求項２２又は２３に記載の製造方法。
25. Ｒ^４ａがＦ又はフルオロアルキル基である、請求項２２～２４のいずれか一項に記載の製造方法。
26. 前記還元剤が有機金属試薬である、請求項２２～２５のいずれか一項に記載の製造方法。
27. 前記還元剤が、
    （ｉ）遷移金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属
    （ｉｉ）遷移金属の金属対、及び
    （ｉｉｉ）遷移金属と、酸又は金属塩との混合物
    からなる群より選択される一種以上である、請求項２２～２５のいずれか一項に記載の製造方法。
28. 前記還元剤がリン含有化合物である、請求項２２～２５のいずれか一項に記載の製造方法。
29. 式（５ａ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ａ及びＲ^３ａは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
    Ｒ^４ａはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
    で表される化合物の製造方法であって、
    式（１）：
    

    

    ［式中、
    Ｙ^＋はカチオンであり、
    Ｒ^１は前記と同意義である。］
    で表される化合物を、ハロゲン化剤の存在下で、式（２ａ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、及びＲ^４ａは前記と同意義であり、
    Ｘ^１ａはＦ以外のハロゲンである。］
    で表される化合物に作用させる工程１ａを含む、式（４ａ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１、Ｒ^２ａ、Ｒ^３ａ、Ｒ^４ａ、及びＸ^１ａは前記と同意義であり、
    Ｘ^２がハロゲンである。］
    で表される化合物を製造する工程、及び
    式（４ａ）で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ａ
    を含む、製造方法。
30. 式（５ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
    Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
    で表される化合物の製造方法であって、
    式（１）：
    

    

    ［式中、
    Ｙ^＋はカチオンであり、
    Ｒ^１は前記と同意義である。］
    で表される化合物を、ハロゲン化剤及び触媒の存在下で、式（２ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、及びＲ^４ｂは前記と同意義であり、
    Ｘ^１ｂはハロゲンである。］
    で表される化合物に作用させる工程１ｂを含む、式（４ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^４ｂ、及びＸ^１ｂは前記と同意義であり、
    Ｘ^２はハロゲンである。］
    で表される化合物を製造する工程、及び
    式（４ｂ）で表される化合物に、還元剤を作用させる工程２ｂ
    を含む、製造方法。
31. Ｒ^４ｂがＦ又はフルオロアルキル基であるとき、Ｘ^１ｂはＦ以外のハロゲンである、請求項３０に記載の製造方法。
32. 式（５ｃ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１ｃは、１個以上の置換基を有していてもよい、炭素数２以上のフルオロアルキル基又は炭素数１以上のフルオロアルコキシ基であり、前記フルオロアルキル又はフルオロアルコキシ基は炭素原子間にヘテロ原子を含んでいてもよく、
    Ｒ^２ｃ及びＲ^３ｃは、それぞれ独立して、Ｈ又はアルキル基であり、
    Ｒ^４ｃはＦである。］
    で表される化合物。
33. 式（５ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
    Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
    で表される化合物、及びハロゲン化物イオンを含有する組成物。
34. 式（５ｂ）：
    

    

    ［式中、
    Ｒ^１は有機基であり、
    Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂは、それぞれ独立して、Ｈ、ハロゲン、又は１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基であり、
    Ｒ^４ｂはＨ、ハロゲン、又は有機基である。］
    で表される化合物、及び水を含有する組成物。