JP2023024802A - スイッチング素子 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施例1のMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)10を示している。MOSFET10は、半導体基板12を有している。半導体基板12は、例えば、Si(シリコン)やSiC(炭化シリコン)といった半導体材料により構成されている。以下では、半導体基板12の上面12aに平行な一方向(図1の左右方向)をx方向といい、上面12aに平行でx方向に直交する方向(図1の紙面に対して垂直な方向)をy方向といい、半導体基板12の厚み方向をz方向という。図1に示すように、半導体基板12の上面12aには、複数のトレンチ22が設けられている。各トレンチ22は、y方向に長く伸びている。各トレンチ22は、x方向に間隔を空けて互いに平行に伸びている。各トレンチ22の内面は、ゲート絶縁膜24によって覆われている。各トレンチ22の内部には、ゲート電極26が配置されている。各ゲート電極26は、ゲート絶縁膜24によって半導体基板12から絶縁されている。各ゲート電極26の上面は、層間絶縁膜28によって覆われている。
図4~6は、実施例2のMOSFET100を示している。MOSFET100は、半導体基板112と、電極、絶縁膜等を備えている。半導体基板112は、例えば、Si(シリコン)やSiC(炭化シリコン)といった半導体材料により構成されている。なお、図4では、図の見易さのため、半導体基板112の上面112a上の電極、絶縁層等の図示を省略している。以下では、半導体基板112の上面112aと平行な一方向をx方向といい、上面112aに平行でx方向に直交する方向をy方向といい、半導体基板112の厚み方向をz方向という。
12:半導体基板
22:トレンチ
24:ゲート絶縁膜
26:ゲート電極
28:層間絶縁膜
30:ソース領域
32:ボディ領域
32a:コンタクト領域
32b:メインボディ領域
34:ドリフト領域
35:ドレイン領域
36:底部領域
38:緩和領域
70:上部電極
72:下部電極
100:MOSFET
112:半導体基板
122:トレンチ
123:側面
123a:第1側面
123b:第2側面
123c:第3側面
124:ゲート絶縁膜
126:ゲート電極
128:層間絶縁膜
130:ソース領域
132:ボディ領域
132a:コンタクト領域
132b:メインボディ領域
134:ドリフト領域
135:ドレイン領域
136:底部領域
138:接続領域
140:段差部
142:第1接続領域
144:第2接続領域
146:第3接続領域
148:第4接続領域
150:第5接続領域
152:第6接続領域
170:上部電極
172:下部電極
Claims (2)
- スイッチング素子であって、
半導体基板と、
ゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜によって前記半導体基板から絶縁されたゲート電極、
を備え、
前記半導体基板が、
前記ゲート絶縁膜に接しているn型のソース領域と、
前記ソース領域の隣で前記ゲート絶縁膜に接しているp型のボディ領域と、
前記ボディ領域の隣で前記ゲート絶縁膜に接しており、前記ボディ領域によって前記ソース領域から分離されているn型のドリフト領域と、
前記ドリフト領域に対して下側から接しており、前記半導体基板の下面に露出しており、前記ドリフト領域よりもn型不純物濃度が高いn型のドレイン領域と、
前記ドレイン領域に接しており、前記半導体基板の前記下面に露出しており、前記ドレイン領域によって前記ドリフト領域から分離されている複数のp型の緩和領域、
を有しており、
前記緩和領域のp型不純物濃度が、前記ドレイン領域のn型不純物濃度よりも低い、
スイッチング素子。 - スイッチング素子であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の上面に設けられたトレンチと、
前記トレンチ内に配置されたゲート絶縁膜と、
前記トレンチ内に配置されており、前記ゲート絶縁膜によって前記半導体基板から絶縁されたゲート電極、
を備え、
前記半導体基板が、
前記ゲート絶縁膜に接しているn型のソース領域と、
前記ソース領域の下側で前記ゲート絶縁膜に接しているp型のボディ領域と、
前記ボディ領域の下側で前記ゲート絶縁膜に接しているn型のドリフト領域と、
前記トレンチの底面において前記ゲート絶縁膜に接しているp型の底部領域と、
前記トレンチの側面において前記ゲート絶縁膜に接しており、前記ボディ領域と前記底部領域を接続しているp型の接続領域、
を有しており、
前記トレンチの前記側面が、前記ボディ領域よりも下側において、段差部を有しており、
前記段差部の下側では、前記段差部の上側よりも、前記トレンチの幅が狭く、
前記トレンチの前記側面が、前記段差部の上側に位置する第1側面と、前記段差部の下側に位置する第2側面を有しており、
前記第1側面で前記ゲート絶縁膜に接している前記接続領域が、第1接続領域と、前記第1接続領域の下側に配置されているとともに前記第1接続領域よりも狭い幅を有する第2接続領域を有しており、
前記第2側面で前記ゲート絶縁膜に接している前記接続領域が、前記第2接続領域に対して下側から接する第3接続領域と、前記第3接続領域の下側に配置されているとともに前記第3接続領域よりも狭い幅を有する第4接続領域を有しており、
前記第1接続領域及び前記第3接続領域には、ボロンが含まれており、
前記第2接続領域及び前記第4接続領域には、アルミニウムが含まれている、
スイッチング素子。
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