JP2023003153A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2023003153A5
JP2023003153A5 JP2021104157A JP2021104157A JP2023003153A5 JP 2023003153 A5 JP2023003153 A5 JP 2023003153A5 JP 2021104157 A JP2021104157 A JP 2021104157A JP 2021104157 A JP2021104157 A JP 2021104157A JP 2023003153 A5 JP2023003153 A5 JP 2023003153A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
illumination light
optical system
exposure apparatus
wavelength
original
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021104157A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2023003153A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2021104157A priority Critical patent/JP2023003153A/ja
Priority claimed from JP2021104157A external-priority patent/JP2023003153A/ja
Priority to TW111121379A priority patent/TWI873429B/zh
Priority to KR1020220072669A priority patent/KR20220170754A/ko
Priority to EP22179902.6A priority patent/EP4109179A3/en
Priority to US17/847,037 priority patent/US11835863B2/en
Priority to CN202210717284.0A priority patent/CN115509091A/zh
Publication of JP2023003153A publication Critical patent/JP2023003153A/ja
Priority to US18/499,883 priority patent/US12105430B2/en
Publication of JP2023003153A5 publication Critical patent/JP2023003153A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2021104157A 2021-06-23 2021-06-23 露光装置、露光方法および物品の製造方法 Pending JP2023003153A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021104157A JP2023003153A (ja) 2021-06-23 2021-06-23 露光装置、露光方法および物品の製造方法
TW111121379A TWI873429B (zh) 2021-06-23 2022-06-09 曝光設備、曝光方法和產品的製造方法
KR1020220072669A KR20220170754A (ko) 2021-06-23 2022-06-15 노광 장치, 노광 방법 및 물품의 제조 방법
EP22179902.6A EP4109179A3 (en) 2021-06-23 2022-06-20 Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product
US17/847,037 US11835863B2 (en) 2021-06-23 2022-06-22 Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product
CN202210717284.0A CN115509091A (zh) 2021-06-23 2022-06-23 曝光装置、曝光方法和产品的制造方法
US18/499,883 US12105430B2 (en) 2021-06-23 2023-11-01 Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021104157A JP2023003153A (ja) 2021-06-23 2021-06-23 露光装置、露光方法および物品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023003153A JP2023003153A (ja) 2023-01-11
JP2023003153A5 true JP2023003153A5 (enExample) 2024-06-19

Family

ID=82117158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021104157A Pending JP2023003153A (ja) 2021-06-23 2021-06-23 露光装置、露光方法および物品の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US11835863B2 (enExample)
EP (1) EP4109179A3 (enExample)
JP (1) JP2023003153A (enExample)
KR (1) KR20220170754A (enExample)
CN (1) CN115509091A (enExample)
TW (1) TWI873429B (enExample)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI855513B (zh) * 2023-01-18 2024-09-11 南亞科技股份有限公司 曝光設備及其操作方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0669014B2 (ja) * 1986-02-24 1994-08-31 株式会社ニコン 露光装置
JP2619473B2 (ja) 1987-06-17 1997-06-11 株式会社日立製作所 縮小投影露光方法
JP2940553B2 (ja) * 1988-12-21 1999-08-25 株式会社ニコン 露光方法
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6078380A (en) * 1991-10-08 2000-06-20 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method involving variation and correction of light intensity distributions, detection and control of imaging characteristics, and control of exposure
JP3325350B2 (ja) * 1993-08-16 2002-09-17 株式会社東芝 レーザ露光装置及び半導体装置の製造方法
JP4066085B2 (ja) * 1997-10-07 2008-03-26 株式会社ニコン 投影露光装置、該装置を用いた半導体デバイスの製造方法、及び露光方法
US6833904B1 (en) * 1998-02-27 2004-12-21 Nikon Corporation Exposure apparatus and method of fabricating a micro-device using the exposure apparatus
JP3347692B2 (ja) * 1998-10-06 2002-11-20 キヤノン株式会社 光学特性調整方法及びデバイス製造方法
JP2001217174A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Nikon Corp 位置検出方法、位置検出装置、露光方法、及び露光装置
EP1422562B1 (en) * 2001-08-31 2013-04-17 Canon Kabushiki Kaisha Reticle and optical characteristic measuring method
JP4046961B2 (ja) * 2001-09-03 2008-02-13 キヤノン株式会社 位置検出方法、位置検出装置、露光装置及び露光方法
JP2003151884A (ja) * 2001-11-14 2003-05-23 Nikon Corp 合焦方法、位置計測方法および露光方法並びにデバイス製造方法
JP3984950B2 (ja) * 2003-11-12 2007-10-03 キヤノン株式会社 照明光学系及びそれを有する露光装置
US7262110B2 (en) * 2004-08-23 2007-08-28 Micron Technology, Inc. Trench isolation structure and method of formation
EP2109143B1 (en) * 2008-04-09 2013-05-29 Sony Corporation Solid-state imaging device, production method thereof, and electronic device
JP2014179446A (ja) * 2013-03-14 2014-09-25 Sharp Corp 半導体撮像素子およびその製造方法
JP6980443B2 (ja) * 2017-07-28 2021-12-15 キヤノン株式会社 露光装置及び物品製造方法
JP6567005B2 (ja) * 2017-08-31 2019-08-28 キヤノン株式会社 露光装置、調整方法、および、物品製造方法
CN111656284B (zh) * 2018-01-24 2024-04-12 株式会社尼康 曝光装置及曝光方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI556064B (zh) A method of manufacturing an illumination optical device, a lighting method, an exposure method, and an element manufacturing method
TW201403133A (zh) 光學投影陣列曝光系統
JPWO2008007632A1 (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
KR20130005241A (ko) 결정 방법, 기억 매체 및 정보 처리 장치
JP6651124B2 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5392454B2 (ja) オプティカルインテグレータ系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2009055044A (ja) 露光装置及び半導体基板の露光方法
TW200839460A (en) Exposure apparatus and semiconductor device fabrication method
JP2023003153A5 (enExample)
JP5105316B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
US20110117503A1 (en) Exposure apparatus and device fabrication method
US20240402610A1 (en) Illumination optical system, exposure apparatus, irradiation method, and component manufacturing method
CN109307988B (zh) 照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法
JPH04329623A (ja) 露光装置及びそれを用いた素子製造方法
KR20120097264A (ko) 디지털 노광 장치 및 그 방법
JP6771997B2 (ja) 露光装置、露光方法、および物品製造方法
JP5086580B2 (ja) 照明装置
JP2009071011A (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
TWI805936B (zh) 曝光裝置及物品之製造方法
JP2023048535A5 (enExample)
TWI587097B (zh) 照明裝置、曝光設備、調整方法及製造物品的方法
JP3339593B2 (ja) 投影露光装置、及び該装置を用いた素子製造方法
US20070013884A1 (en) Method for exposing an object to light and exposure apparatus for performing the same
EP4109179A3 (en) Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method for product
KR102731783B1 (ko) 노광 장치, 및 물품제조 방법