|
JP3181171B2
(ja)
*
|
1994-05-20 |
2001-07-03 |
シャープ株式会社 |
気相成長装置および気相成長方法
|
|
KR101015063B1
(ko)
*
|
2003-08-27 |
2011-02-16 |
주성엔지니어링(주) |
복수 기판 홀더 및 이를 장착한 챔버
|
|
US20060073276A1
(en)
*
|
2004-10-04 |
2006-04-06 |
Eric Antonissen |
Multi-zone atomic layer deposition apparatus and method
|
|
KR100936694B1
(ko)
*
|
2007-12-27 |
2010-01-13 |
주식회사 케이씨텍 |
플라즈마 발생부를 구비하는 원자층 증착 장치
|
|
US8465591B2
(en)
*
|
2008-06-27 |
2013-06-18 |
Tokyo Electron Limited |
Film deposition apparatus
|
|
KR101021372B1
(ko)
*
|
2008-12-29 |
2011-03-14 |
주식회사 케이씨텍 |
원자층 증착장치
|
|
EP2362001A1
(en)
*
|
2010-02-25 |
2011-08-31 |
Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO |
Method and device for layer deposition
|
|
KR20120014361A
(ko)
*
|
2010-08-09 |
2012-02-17 |
삼성엘이디 주식회사 |
서셉터 및 이를 포함하는 화학증착장치
|
|
CN103140914B
(zh)
*
|
2010-09-17 |
2015-10-14 |
圆益Ips股份有限公司 |
薄膜蒸镀装置
|
|
KR101928356B1
(ko)
*
|
2012-02-16 |
2018-12-12 |
엘지이노텍 주식회사 |
반도체 제조 장치
|
|
KR101834984B1
(ko)
*
|
2012-02-24 |
2018-04-19 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
|
|
KR102070400B1
(ko)
*
|
2012-06-29 |
2020-01-28 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
|
|
JP5947138B2
(ja)
*
|
2012-07-25 |
2016-07-06 |
東京エレクトロン株式会社 |
成膜装置
|
|
KR101929473B1
(ko)
*
|
2012-09-10 |
2019-03-12 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
|
|
KR102115337B1
(ko)
*
|
2013-07-31 |
2020-05-26 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리 장치
|
|
WO2015080900A1
(en)
*
|
2013-11-26 |
2015-06-04 |
Applied Materials, Inc. |
Tilted plate for batch processing and methods of use
|
|
KR20140032466A
(ko)
*
|
2014-02-20 |
2014-03-14 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리 장치
|
|
JP6362488B2
(ja)
*
|
2014-09-09 |
2018-07-25 |
東京エレクトロン株式会社 |
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
|
|
US9966270B2
(en)
*
|
2015-03-31 |
2018-05-08 |
Lam Research Corporation |
Gas reaction trajectory control through tunable plasma dissociation for wafer by-product distribution and etch feature profile uniformity
|
|
KR102446732B1
(ko)
*
|
2015-09-02 |
2022-09-26 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리장치 및 그 작동방법
|
|
JP6628634B2
(ja)
*
|
2016-02-22 |
2020-01-15 |
東京エレクトロン株式会社 |
成膜装置、成膜方法、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体
|
|
KR102483547B1
(ko)
*
|
2016-06-30 |
2023-01-02 |
삼성전자주식회사 |
가스 공급 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치
|
|
KR101895838B1
(ko)
*
|
2016-08-26 |
2018-09-07 |
주식회사 무한 |
기판 처리 장치
|
|
KR102665777B1
(ko)
*
|
2016-12-12 |
2024-05-14 |
주성엔지니어링(주) |
기판처리장치 및 기판처리방법
|
|
KR102700194B1
(ko)
*
|
2016-12-19 |
2024-08-28 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치
|
|
JP6809304B2
(ja)
*
|
2017-03-10 |
2021-01-06 |
東京エレクトロン株式会社 |
成膜装置
|
|
KR102540125B1
(ko)
*
|
2017-08-30 |
2023-06-05 |
주성엔지니어링(주) |
기판안치수단 및 기판처리장치
|
|
KR101931655B1
(ko)
*
|
2017-11-20 |
2018-12-21 |
주성엔지니어링(주) |
기판 처리 장치
|
|
KR102535194B1
(ko)
*
|
2018-04-03 |
2023-05-22 |
주성엔지니어링(주) |
기판처리장치
|
|
KR101995717B1
(ko)
*
|
2018-08-31 |
2019-07-03 |
주식회사 무한 |
기판 처리 장치
|