JP2022532283A - 触媒組成物、それを含む洗浄液組成物、およびそれを用いた重合装置の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、触媒組成物、前記触媒組成物を含む洗浄液組成物、および前記洗浄液組成物を用いて高分子量の重合体が蓄積された重合装置を洗浄する方法に関する。
Mは、ルテニウム、またはオスミウムであり、Aは、酸素(O)、窒素(N)、または硫黄(S)であるが、Aが酸素(O)または硫黄(S)である場合、R10およびR11のうち何れか1つは存在せず、X1およびX2は、それぞれ独立して、ハロゲンであり、R1、R2、R3、R4、R5、およびR6は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1~10のアルキル基であり、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素、または電子求引基(electron withdrawing group)であり、R9は、直接結合、または炭素数1~10のアルキレン基であり、R10およびR11は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルキル基、または下記化学式2で表される置換基であり、
Yは、酸素(O)、窒素(N)、または硫黄(S)であるが、Yが酸素(O)または硫黄(S)である場合、R13およびR14のうち何れか1つは存在せず、R12は、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数3~10のシクロアルキレン基、または炭素数6~10のアリーレン基であり、R13およびR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数3~10のシクロアルキル基であり、*は、Aとの結合位置を示す。
Mは、ルテニウム、またはオスミウムであり、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、または下記化学式4で表される置換基であるが、少なくとも1つ以上は、下記化学式4で表される置換基であり、X1およびX2は、それぞれ独立して、ハロゲンであり、Phは、フェニル基であり、
R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルキル基であるか;またはR3およびR4は、互いに連結され、飽和または不飽和の5原子環を形成する。
本発明は、高分子量の重合体(例えば、ジエン系重合体)を化学的に分解可能な触媒組成物を提供する。具体的に、本発明の触媒組成物は、下記化学式1で表される遷移金属化合物および下記化学式3で表される遷移金属化合物からなる群から選択された1種以上と、ジアルキルL-タルトレート(Dialkyl L-tartrate)と、を含んでもよい。
Mは、ルテニウム、またはオスミウムであり、Aは、酸素(O)、窒素(N)、または硫黄(S)であるが、Aが酸素(O)または硫黄(S)である場合、R10およびR11のうち何れか1つは存在せず、X1およびX2は、それぞれ独立して、ハロゲンであり、R1、R2、R3、R4、R5、およびR6は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1~10のアルキル基であり、R7およびR8は、それぞれ独立して、水素、または電子求引基(electron withdrawing group)であり、R9は、直接結合、または炭素数1~10のアルキレン基であり、R10およびR11は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルキル基、または下記化学式2で表される置換基であり、
Yは、酸素(O)、窒素(N)、または硫黄(S)であるが、Yが酸素(O)または硫黄(S)である場合、R13およびR14のうち何れか1つは存在せず、R12は、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数3~10のシクロアルキレン基、または炭素数6~10のアリーレン基であり、R13およびR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数3~10のシクロアルキル基であり、*は、Aとの結合位置を示す。
Mは、ルテニウム、またはオスミウムであり、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、または下記化学式4で表される置換基であるが、少なくとも1つ以上は、下記化学式4で表される置換基であり、X1およびX2は、それぞれ独立して、ハロゲンであり、Phは、フェニル基であり、
R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルキル基であるか;またはR3およびR4は、互いに連結され、飽和または不飽和の5原子環を形成する。
前記「水素」は、水素原子、または共有結合をなす水素ラジカルを意味する。
前記直接結合は、当該位置に如何なる原子または原子団も存在せず、結合線で連結されることを意味する。
一方、前記化学式1~化学式4の定義に記載された官能基または置換基は、炭素数1~10の炭化水素基で置換または非置換されてもよい。
MおよびR7は、それぞれ先に定義した通りである。
M、R1、およびR2は、それぞれ先に定義した通りである。
R3およびR4は、それぞれ先に定義した通りである。
Mは、ルテニウムである。
このような本発明の洗浄液組成物は、本発明に係る触媒組成物を製造した後、炭化水素系溶媒と混合する過程を経て製造されてもよい。
製造例1
窒素充填されたグローブボックスにおいて、下記化学式7で表される化合物10gおよびCuCl 1.16gを500mlの丸底フラスコに入れ、マグネチックバー(magnetic bar)を入れた。フラスコをゴムセプタム(septum)で密封し、グローブボックス外へ取り出した後、窒素気体下で、シリンジ(syringe)を用いて、精製されたCH2Cl2 195mlを入れた。20mlのバイアルにN,N’-ジメチル-1-(2-ビニルフェニル)メタンアミン(N,N’-dimethyl-1-(2-vinylphenyl)mathaneamine)2.06gを入れ、シリコンセプタム(silicon septum)で密封した後、窒素気体下で、シリンジを用いて、精製されたCH2Cl2を入れて溶かした溶液を先に準備した混合物に添加した。添加後、バイアルに残っているN,N’-ジメチル-1-(2-ビニルフェニル)メタンアミン(N,N’-dimethyl-1-(2-vinylphenyl)mathaneamine)を、それぞれ2×1mlのCH2Cl2を用いて、残さず触媒反応容器に添加した。500mlの丸底フラスコ反応容器に還流冷却器を設け、温度を40℃に昇温した後、窒素気体下で3時間撹拌させた。反応後、温度を常温に下げた後、マグネチックバーを除去し、減圧蒸留により溶媒を除去した。減圧蒸留により溶媒を除去した後、フラスコに残った反応混合物が溶けられる少量のCH2Cl2を入れ、固体を完全に溶かした後、CH2Cl2の1.5倍程度のノルマルヘキサンを添加した。ノルマルヘキサンを用いて、反応混合物をセライト(celite)濾過により白色の固体沈殿物を除去して明るい緑色の濾過液を得た。この緑色の濾過液を減圧乾燥して黒緑色の固体を得ると、シリカカラムで精製して、緑色の下記化学式5-1で表される化合物を75%の収率で得た。合成された化合物に対する1H NMRは、499.85MHzのVarian Mercury 500を用いてCDCl3に溶解させて測定した。
Mは、ルテニウムである。
250mlのフラスコに下記化学式8で表される化合物11.8gをトルエン100mlに入れた後、1時間撹拌させた。前記撹拌中の溶液上に下記化学式7で表される化合物20gを投入し、常温で3時間撹拌させた。撹拌後、フラスコ内の反応溶液が赤色から淡い緑色に変わると、ノルマルヘキサンを投入して、淡い緑色の化合物を沈殿させた。沈殿した化合物を濾過した後に減圧乾燥させ、92%の収率で、下記化学式8で表される化合物が下記化学式7のルテニウムに配位された下記化学式6-1で表される遷移金属化合物を得た。合成された化合物に対する1H NMRは、499.85MHzのVarian Mercury 500を用いてCDCl3に溶解させて測定した。
Mは、ルテニウムであり、前記phは、フェニル基である。
Mは、ルテニウムである。
250mlのアンドリューガラス(Andrew glass)に自然硬化したポリブタジエンゴム5g(MV:123MU)およびノルマルヘキサン100gをそれぞれ投入して、ブタジエンゴムを膨潤させた。グローブボックス(glove box)内で、エチルベンゼンに溶かした前記製造例1の化学式5-1で表される遷移金属化合物0.2mg(質量濃度2ppm)、0.45μMのネオジムおよび有機アルミニウム化合物を含む重合用触媒0.75ml、スチレン単量体1.0ml、および前記遷移金属化合物1当量に対して有機アルミニウムスカベンジャ(scavenger)としてジエチルL-タルトレート(Diethyl L-tartrate)20当量を前記それぞれのアンドリューガラスに順次投入した。次いで、アンドリューガラスを80℃の恒温組においてそれぞれ一定時間撹拌した。その後、アンドリューガラス内の圧力を除去し、アンドリューガラス内の溶液をメッシュに濾過してゴムを回収した。
前記実施例1において、前記ジエチルL-タルトレート20当量の代わりに10当量を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、前記ジエチルL-タルトレート20当量の代わりに5当量を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、前記ジエチルL-タルトレート20当量の代わりに3当量を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、有機アルミニウムスカベンジャとしてジエチルL-タルトレートの代わりに、ジブチルL-タルトレート(Dibutyl L-tartrate)を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例5において、ジブチルL-タルトレート20当量の代わりに10当量を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例5において、ジブチルL-タルトレート20当量の代わりに5当量を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、有機アルミニウムスカベンジャとしてジエチルL-タルトレートの代わりに、ジプロピルL-タルトレート(Dipropyl L-tartrate)を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例8において、ジプロピルL-タルトレート20当量の代わりに10当量を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、前記化学式5-1で表される遷移金属化合物の代わりに、前記化学式6-1で表される遷移金属化合物を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、ネオジムおよび有機アルミニウム化合物を含む重合用触媒、および有機アルミニウムスカベンジャであるジエチルL-タルトレートを投入していないことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、有機アルミニウムスカベンジャであるジエチルL-タルトレートを投入していないことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記比較例2において、前記化学式5-1で表される遷移金属化合物を2ppmの代わりに20ppm投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、有機アルミニウムスカベンジャとしてジエチルL-タルトレートの代わりに、前記製造例1で用いられた化学式7で表される遷移金属化合物を20ppm投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、有機アルミニウムスカベンジャとしてジエチルL-タルトレートの代わりに、前記化学式6-1で表される遷移金属化合物を20ppm投入したことを除いては、実施例1と同様の方法により行った。
前記実施例1において、有機アルミニウムスカベンジャとしてジエチルL-タルトレートの代わりに、アクリル酸(acrylic acid)を投入したことを除いては、前記実施例1と同様の方法により行った。
実験例1
前記実施例および比較例から回収されたブタジエンゴムを80℃の真空オーブンで12時間減圧乾燥させた後、ブタジエンゴムの重さを測定し、最初投入されたブタジエンゴムの重さと対比してゴム除去率(%)を計算することにより、洗浄効率(cleaning rate)を確認した。この際、洗浄(除去)されたブタジエンゴムの量が多いほど、すなわち、メッシュにより濾過されたブタジエンゴムの量が少ないほど、高いゴム除去率(%)を示すと見ることができる。
Claims (13)
- 下記化学式1で表される遷移金属化合物および下記化学式3で表される遷移金属化合物からなる群から選択された1種以上と、ジアルキルL-タルトレート(Dialkyl L-tartrate)と、を含む、触媒組成物。
Mは、ルテニウム、またはオスミウムであり、
Aは、酸素(O)、窒素(N)、または硫黄(S)であるが、Aが酸素(O)または硫黄(S)である場合、R10およびR11のうち何れか1つは存在せず、
X1およびX2は、それぞれ独立して、ハロゲンであり、
R1、R2、R3、R4、R5、およびR6は、それぞれ独立して、水素、または炭素数1~10のアルキル基であり、
R7およびR8は、それぞれ独立して、水素、または電子求引基(electron withdrawing group)であり、
R9は、直接結合、または炭素数1~10のアルキレン基であり、
R10およびR11は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルキル基、または下記化学式2で表される置換基であり、
Yは、酸素(O)、窒素(N)、または硫黄(S)であるが、Yが酸素(O)または硫黄(S)である場合、R13およびR14のうち何れか1つは存在せず、
R12は、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数3~10のシクロアルキレン基、または炭素数6~10のアリーレン基であり、
R13およびR14は、それぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、または炭素数3~10のシクロアルキル基であり、
*は、Aとの結合位置を示す。
Mは、ルテニウム、またはオスミウムであり、
R1およびR2は、それぞれ独立して、水素、または下記化学式4で表される置換基であるが、少なくとも1つ以上は、下記化学式4で表される置換基であり、
X1およびX2は、それぞれ独立して、ハロゲンであり、
Phは、フェニル基であり、
R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルキル基であるか;または
R3およびR4は、互いに連結され、飽和または不飽和の5原子環を形成する。 - 前記ジアルキルL-タルトレートは、ジエチルL-タルトレートおよびジブチルL-タルトレートからなる群から選択された1種以上である、請求項1に記載の触媒組成物。
- 前記ジアルキルL-タルトレートは、前記化学式1で表される遷移金属化合物および前記化学式3で表される遷移金属化合物からなる群から選択された1種以上の1当量に対して1~25当量で含まれる、請求項1に記載の触媒組成物。
- ジエン系重合体が含まれた重合装置内に、請求項1から7の何れか一項に記載の触媒組成物を投入して、前記ジエン系重合体をオリゴマー化させるステップ(S30)を含む、重合装置の洗浄方法。
- 前記(S30)ステップの以前に、前記重合装置内のジエン系重合体を炭化水素系溶媒で膨潤させるステップ(S20)をさらに含む、請求項8に記載の重合装置の洗浄方法。
- 前記(S20)ステップまたは前記(S30)ステップの以前に、前記重合装置内で、希土類金属化合物および有機アルミニウム化合物を含む重合用触媒系の存在下で前記ジエン系重合体を重合するステップ(S10)をさらに含む、請求項9に記載の重合装置の洗浄方法。
- 前記(S30)ステップにおいて、オレフィン系単量体、共役ジエン系単量体、および芳香族ビニル系単量体からなる群から選択された1種以上の単量体がさらに投入されて、前記ジエン系重合体のオリゴマー化が行われる、請求項8に記載の重合装置の洗浄方法。
- 前記(S30)ステップにおいて、前記ジエン系重合体のオリゴマー化は60℃以上の温度で行われる、請求項8に記載の重合装置の洗浄方法。
- 前記ジエン系重合体は、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、およびスチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体からなる群から選択された1種である、請求項8に記載の重合装置の洗浄方法。
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