JP2022525640A - 錫浴の監視および制御方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2019年3月20日に出願された米国仮特許出願第62/821,363号の優先権を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (22)
- 錫浴炉で製造されるガラス製品の欠陥を制御する方法であって、
前記錫浴炉に関連付けられた雰囲気の少なくとも1つのパラメータを測定することであって、前記パラメータが、前記雰囲気の露点および前記雰囲気の密度からなる群から選択される、測定することと、
前記測定されたパラメータを前記ガラス製品の欠陥と相関させることと、
前記炉に対するプロセスガスの流量を制御することによって、前記測定されたパラメータを、前記ガラス製品の欠陥の減少に対応する方向に制御することであって、前記プロセスガスが、水素および窒素のうちの1つ以上を含む、制御することと、を含む、方法。 - 前記少なくとも1つのパラメータが、前記雰囲気の露点であり、前記露点が、前記雰囲気中の水蒸気濃度に対応する、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのパラメータが、前記雰囲気の密度であり、前記密度が、前記雰囲気中の水素濃度に対応する、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのパラメータが、前記雰囲気の密度であり、前記密度が、前記炉内への酸素漏出を示す、前記雰囲気中のガス組成物に対応する、請求項1に記載の方法。
- 前記炉に関連付けられた前記雰囲気の密度を測定することであって、前記測定された密度が、前記雰囲気中の水素濃度に対応する、測定することと、
前記露点を制御することに加えて、前記炉に対する前記プロセスガスの前記流量を制御することによって、前記雰囲気中の水素濃度と水蒸気濃度との比率を、前記ガラス製品の欠陥の減少に対応する方向に制御することと、をさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記炉に関連付けられた前記雰囲気の密度を測定することであって、前記測定された密度が、前記炉内への酸素漏出を示す、前記雰囲気中のガス組成物に対応する、測定することと、
前記露点を制御することに加えて、前記炉に対する前記プロセスガスの前記流量を制御することによって、前記雰囲気中のガス組成物を、前記ガラス製品の欠陥の減少に対応する方向に制御することと、をさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記プロセスガスの前記流量を制御することが、前記雰囲気の前記露点の低下を引き起こす、請求項1、2、5、および6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記プロセスガスの前記流量を制御することが、前記雰囲気中の前記水素濃度の増加を引き起こす、請求項1、3、および5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記プロセスガスの前記流量を制御することが、前記雰囲気中の前記酸素濃度の低下を引き起こす、請求項1、4、および6のいずれか一項に記載の方法。
- ガラス製造のライン速度を前記ガラス製品の欠陥と相関させることと、
前記プロセスガスの前記流量を、前記ガラス製品の欠陥の減少に対応する方向に制御することと、をさらに含む、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。 - 前記錫浴炉で製造されている前記ガラス製品のリボン幅を定期的に変更することをさらに含む、請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記リボン幅を変更することが、前記リボン幅を減少させることによって達成される、請求項11に記載の方法。
- 前記制御された流量が、前記炉内へのプロセスガスの流量および前記炉から排出されたガスの流量から選択される、請求項1~12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記雰囲気が、前記炉内にある、請求項1~13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記雰囲気が、前記炉からの排出流からなる、請求項1~14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記雰囲気が、前記炉から排出され、前記炉内に再循環された再循環ガスからなる、請求項1~15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記雰囲気が、前記炉内へのガス流からなる、請求項1~16のいずれか一項に記載の方法。
- 入口ガス、炉ガス、および排出ガスの1つ以上の条件間の差を考慮することによって、炉ガスの使用量を最適化することをさらに含む、請求項1~17のいずれか一項に記載の方法。
- 前記炉ガスと前記排出ガスとの間の成分濃度の差を決定することと、
前記差が大きいとき、ガス入口流を増加させることと、をさらに含む、請求項18に記載の方法。 - 未浄化再循環ガスを前記炉から抽出することと、
浄化再循環ガスを作成するために、前記未浄化再循環ガスを浄化することと、
前記浄化再循環ガスを入口ガスと混合することと、
前記入口ガスと前記浄化再循環ガスとの前記混合物を前記炉内に流すことと、
前記未浄化再循環ガスと前記浄化再循環ガスとの間の成分濃度の差を決定することと、
前記差が大きいとき、ガス入口流を増加させることと、をさらに含む、請求項18に記載の方法。 - 前記炉内の圧力差を測定することと、
前記測定された圧力差に基づいて、炉の流れ方向を決定することと、をさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 前記排出流内の圧力差および温度差を測定することと、
前記測定された圧力差および前記測定された温度差に基づいて、排出流方向および排出流量を決定することと、をさらに含む、請求項15に記載の方法。
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