JP2009518278A - ガラス作成工程における気泡の除去方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 title description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 176
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 claims abstract description 84
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 65
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 65
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 60
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 51
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 39
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 abstract description 38
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 33
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 33
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 33
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 20
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018967 Pt—Rh Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 229910002835 Pt–Ir Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKWTVSLWAPBBKU-UHFFFAOYSA-N a1010_sial Chemical compound O=[As]O[As]=O IKWTVSLWAPBBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000413 arsenic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002594 arsenic trioxide Drugs 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003258 bubble free glass Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003389 potentiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/163—Electrochemical treatments, e.g. to prevent bubbling or to create bubbles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/004—Refining agents
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
Description
pH2=2.39×10−4βOH 2−1.81×10−4βOH+3.52×10−5バール
によって計算された量以上であり、この溶融ガラスをガラス物品に形成する工程を含み、この場合、上記ガラス物品は、少なくとも約0.4mm−1のβOHと、約0.04モル%以下の還元された多価の化合物の全濃度とを有する。
Fe3+)、砒素(As3+またはAs5+)および錫(Sn2+またはSn4+)のような、しかしこれらに限定されない多価の元素のイオン化された形態を多価の陽イオンと呼ぶ。水分の濃度は、赤外分光によって測定した場合に、約3600cm−1におけるO−H基本延伸モードの横断面によって最も都合良く決定され、βOHmm−1として表される。ガラス中の還元された多価の化合物の存在は、気泡を形成する水素透過の傾向の少なくとも一部を妨げる。還元された多価の化合物の濃度が高いとき、またはガラス溶融体中の水分の濃度が低い(低βOH)ときには、ガス状含有物を抑圧するのに必要な、耐熱金属製の槽の外側の雰囲気におけるpH2は比較的低い。しかしながら、還元された多価の化合物の濃度が低いかまたはβOHが高いときには、ガス状含有物を抑圧するのに必要なpH2は比較的高い。ここで用いられているpH2は水素の分圧であり、特に、溶融ガラスを収容している耐熱金属製の槽のガラスが接触していない表面に接触している水素の分圧である。
(3)ここで、pH2は、ガラスの1ポンド(0.45kg)当たり0.2個以下の不純物レベルを得るための耐熱金属製の槽(例えばカプセル140内部の)を取り巻く雰囲気中の水素の最低分圧、βOHは以前に規定されている。等式(3)は、砒素およびアンチモンを実質的に含まず(約0.016モル%以下のAs2O3で表される全砒素含有量と、0.011モル%以下のSb2O3で表される全アンチモン含有量)、ガラス溶融体中のβOHが約0.4mm−1以上であるが、0.5mm−1を超える温度1550℃における仮想のガラス組成に関して図3にプロットされている。これに加えて、図3のプロットに関して想定されたガラス組成は、約0.112モル%以下のSnO2で表される全錫含有量と、約0.037モル%以下のFe2O3で表される全鉄含有量しか含まないことが想定される。ガラス溶融体を収容する槽の耐熱金属の厚さは、約1mm以下である。耐熱金属製の槽の壁の厚さが1mm以下に選ばれるのは、次の実際的な理由による。すなわち、より厚い耐熱金属は、水素の透過量を減少させるように作用する筈であり、大部分の耐熱金属が高価な貴金属を含みまたは主として高価な貴金属で構成されているので、厚い壁を備えた大型の耐熱金属製の槽を製造すると法外な価格になる点にある。反対に、上記壁の厚さは、槽が自立し得るのに十分な厚さに選ばれなければならない。次に図3に示された曲線は、気泡の発生を抑制するpH2の臨界値を表す。上述の仮説は控え目なpH2の評価を表す。すなわち、工程変数は、耐熱金属製の槽のガラスに接触しない表面に接触する雰囲気中に必要なpH2を増大させるように作用する。例えば、1550℃を超える温度に対しては、耐熱金属製の槽のガラスに接触しない表面に接触する雰囲気中の必要なpH2も増大する。もし、還元された多価の化合物の濃度が上限よりも低くなると、耐熱金属製の槽のガラスに接触しない表面に接触する雰囲気中の気泡を抑制するために必要なpH2は増大する。同様に、もしガラスのβOHが増大すると、耐熱金属製の槽のガラスに接触しない表面に接触する雰囲気中の気泡を抑制するために必要なpH2は増大する。
110 溶融槽
114 溶融ガラス
115 清澄化槽
120 混合槽
125 送出槽
135 成形槽(アイソパイプ)
137 ガラスシート
140 カプセル
141 溶融/送出システム
144 閉ループ・コントロールシステム
150 コントローラ
Claims (10)
- ガラス物品の作成方法であって、
溶融ガラスに接触する内表面を有する耐熱金属製の壁で構成された槽内に、少なくとも約1550℃の温度の溶融ガラスを流す工程であって、前記耐熱金属製の壁の外表面における水素の分圧が少なくとも約10−1パスカル(10−6バール)である工程、および
該溶融ガラスをガラス物品に形成する工程
を含み、
該ガラス物品が、約0.04モル%以下の還元された多価化合物の全濃度と、少なくとも約0.4mm−1のβOHと、ガラスの0.45kg(1ポンド)当たり0.2個以下のガス状含有物とを有することを特徴とする、ガラス物品の作成方法。 - 前記ガラス物品が、0.112モル%以下のSnO2およびSnOの全濃度をさらに有することを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記ガラス物品が、
約0.112モル%以下のSnO2で表される全錫含有量と、
約0.016モル%以下のAs2O3で表される全砒素含有量と、
0.011モル%以下のSb2O3で表される全アンチモン含有量と、
約0.037モル%以下のFe2O3で表される全鉄含有量と、
を有することを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記ガラス物品が、ディスプレー用のガラス基板の製造に用いられるのに適した帯状ガラスであることを特徴とする請求項1記載の方法。
- ガラス物品の作成方法であって、
溶融ガラスに接触する内表面を有する耐熱金属製の壁で構成された槽内に、少なくとも約1550℃の温度の溶融ガラスを流す工程であって、前記耐熱金属製の壁の外表面における水素の分圧が少なくとも約10−1パスカル(10−6バール)である工程、および
該溶融ガラスをガラス物品に形成する工程
を含み、
該ガラス物品が、少なくとも約0.4mm−1のβOHと、0.112モル%以下のSnOおよびSnO2の全濃度と、前記ガラス物品中における約0.04モル%以下の、錫を含まない他の多価の化合物の全濃度と、ガラス0.45kg(1ポンド)当たり0.2個以下のガス状含有物とを有することを特徴とする、ガラス物品の作成方法。 - 請求項5の方法によって作成されたガラス物品。
- 前記ガラス物品が、
約0.016モル%以下のAs2O3で表される全砒素含有量と、
0.011モル%以下のSb2O3で表される全アンチモン含有量と、
約0.037モル%以下のFe2O3で表される全鉄含有量と、
をさらに有することを特徴とする請求項5記載の方法。 - ガラス物品の作成方法であって、
溶融ガラスに接触する内表面を有する耐熱金属製の壁で構成された槽内に、少なくとも約1550℃の温度の溶融ガラスを流す工程であって、前記耐熱金属製の壁の外表面における水素の分圧(pH2)(バール)が、下記の式
pH2=2.39×10−4βOH 2−1.81×10−4βOH+3.52×10−5バール
によって計算された量以上である工程、および
該溶融ガラスをガラス物品に形成する工程
を含み、
該ガラス物品が、少なくとも約0.4mm−1のβOHと、約0.04モル%以下の還元された多価の化合物の全濃度と、ガラス0.45kg(1ポンド)当たり0.2個以下のガス状含有物とを有することを特徴とするガラス物品の作成方法。 - 前記ガラス物品が、ディスプレー用のガラス基板の製造に用いられるのに適した帯状ガラスであることを特徴とする請求項8記載の方法。
- 前記ガラス物品が、
約0.112モル%以下のSnO2で表される全錫含有量と、
約0.016モル%以下のAs2O3で表される全砒素含有量と、
0.011モル%以下のSb2O3で表される全アンチモン含有量と、
約0.037モル%以下のFe2O3で表される全鉄含有量と、
を有することを特徴とする請求項8記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US74902405P | 2005-12-08 | 2005-12-08 | |
US60/749,024 | 2005-12-08 | ||
PCT/US2006/047156 WO2007067799A2 (en) | 2005-12-08 | 2006-12-08 | Method of eliminating blisters in a glass making process |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012194787A Division JP5173058B2 (ja) | 2005-12-08 | 2012-09-05 | ガラス作成工程における気泡の除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009518278A true JP2009518278A (ja) | 2009-05-07 |
JP5172693B2 JP5172693B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=38007951
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008544575A Active JP5172693B2 (ja) | 2005-12-08 | 2006-12-08 | ガラス作成工程における気泡の除去方法 |
JP2012194787A Active JP5173058B2 (ja) | 2005-12-08 | 2012-09-05 | ガラス作成工程における気泡の除去方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012194787A Active JP5173058B2 (ja) | 2005-12-08 | 2012-09-05 | ガラス作成工程における気泡の除去方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20070149380A1 (ja) |
EP (2) | EP2311780A3 (ja) |
JP (2) | JP5172693B2 (ja) |
KR (2) | KR101327141B1 (ja) |
CN (1) | CN101326129B (ja) |
TW (1) | TWI327559B (ja) |
WO (1) | WO2007067799A2 (ja) |
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WO2009108285A2 (en) | 2008-02-26 | 2009-09-03 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
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CN111604097B (zh) | 2020-06-02 | 2021-12-03 | 苏州大学 | 基于摩擦纳米发电机的生化液滴反应装置及反应方法 |
-
2006
- 2006-12-07 TW TW095145907A patent/TWI327559B/zh active
- 2006-12-08 US US11/635,975 patent/US20070149380A1/en not_active Abandoned
- 2006-12-08 KR KR1020137015571A patent/KR101327141B1/ko active IP Right Grant
- 2006-12-08 EP EP11153802A patent/EP2311780A3/en not_active Withdrawn
- 2006-12-08 WO PCT/US2006/047156 patent/WO2007067799A2/en active Application Filing
- 2006-12-08 CN CN2006800464052A patent/CN101326129B/zh active Active
- 2006-12-08 EP EP06847548A patent/EP1966098B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-12-08 KR KR1020087016641A patent/KR20080077669A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-12-08 JP JP2008544575A patent/JP5172693B2/ja active Active
-
2011
- 2011-02-23 US US13/032,955 patent/US8127572B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-05 JP JP2012194787A patent/JP5173058B2/ja active Active
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JP7266044B2 (ja) | 2018-04-20 | 2023-04-27 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス製造プロセスにおける酸素含有雰囲気を制御するための装置及び方法 |
US11760678B2 (en) | 2018-04-20 | 2023-09-19 | Corning Incorporated | Apparatus and method for controlling an oxygen containing atmosphere in a glass manufacturing process |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110138858A1 (en) | 2011-06-16 |
KR20130086068A (ko) | 2013-07-30 |
JP2013006765A (ja) | 2013-01-10 |
TWI327559B (en) | 2010-07-21 |
WO2007067799A2 (en) | 2007-06-14 |
EP2311780A3 (en) | 2013-03-13 |
JP5173058B2 (ja) | 2013-03-27 |
EP2311780A2 (en) | 2011-04-20 |
CN101326129A (zh) | 2008-12-17 |
KR20080077669A (ko) | 2008-08-25 |
WO2007067799A3 (en) | 2008-01-31 |
US8127572B2 (en) | 2012-03-06 |
KR101327141B1 (ko) | 2013-11-20 |
TW200730456A (en) | 2007-08-16 |
EP1966098A2 (en) | 2008-09-10 |
JP5172693B2 (ja) | 2013-03-27 |
CN101326129B (zh) | 2011-06-22 |
EP1966098B1 (en) | 2012-08-08 |
US20070149380A1 (en) | 2007-06-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090918 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5172693 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |