JP2022519867A - 光学素子の支持 - Google Patents

光学素子の支持 Download PDF

Info

Publication number
JP2022519867A
JP2022519867A JP2021545835A JP2021545835A JP2022519867A JP 2022519867 A JP2022519867 A JP 2022519867A JP 2021545835 A JP2021545835 A JP 2021545835A JP 2021545835 A JP2021545835 A JP 2021545835A JP 2022519867 A JP2022519867 A JP 2022519867A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
clamp
connection
arrangement configuration
holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021545835A
Other languages
English (en)
Inventor
アンセルム ユーゲン
フェンクル カール
ミューラー クリストフ
モーザー ラルフ
Original Assignee
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー filed Critical カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
Publication of JP2022519867A publication Critical patent/JP2022519867A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/021Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses for more than one lens
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/7015Details of optical elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70316Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

本発明は、特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の結像装置の光学配置構成であって、光学素子(109)と、光学素子(109)を保持する保持装置(110)とを備えた光学配置構成に関する。光学素子(109)は、光学面(109.1)を含み且つ主延在平面を規定し、主延在平面で径方向及び周方向を規定する。保持装置(110)は、ベース要素(110.1)及び4つ以上の別個の保持ユニット(110.2)を含み、保持ユニット(110.2)は、ベース要素(110.1)に接続され、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置される。保持ユニット(110.2)は、ベース要素(110.1)に対して光学素子(109)を保持する。ここで、保持ユニット(110.2)のそれぞれは、光学素子(109)とベース要素(110.1)との間に他の保持ユニット(110.2)のクランプ接続とは別個のクランプ接続を成立させる。

Description

[関連出願の相互参照]
本願は、米国特許法第119条の下で、2019年2月6日に出願された独国特許出願第10 2019 201 509.3号及び2020年2月3日に出願された米国特許出願第16/780,446号の優先権を主張し、上記出願それぞれの全内容を参照により本明細書に援用する。
本発明は、UV露光光、特に極紫外(EUV)域の光の利用に適したマイクロリソグラフィ光学配置構成に関する。さらに、本発明は、当該配置構成を備えた光学結像装置に関する。本発明は、任意の所望の光学結像方法と共に用いることができる。本発明は、超小型電子回路の製造又は検査と、こうしたプロセスで用いられる光学コンポーネント(例えば光学マスク)の製造及び検査とで特に有利に用いることができる。
超小型電子回路の製造と共に用いられる光学装置は、通常は複数の光学素子ユニットを備え、光学素子ユニットは、結像光路に配置されたレンズ素子、ミラー、又は光学格子等の1つ又は複数の光学素子を含む。当該光学素子は、物体(例えば、マスクに形成されたパターン)の像を基板(例えば、いわゆるウェーハ)に転写するために通常は結像プロセスで協働する。光学素子は、通常は1つ又は複数の機能群に組み合わせられ、これらは場合によっては別個の結像ユニットに保持される。特に、主にいわゆる真空紫外域(VUV、例えば波長193nm)の波長で動作する屈折系の場合、このような結像ユニットは、1つ又は複数の光学素子を保持する光学モジュールのスタックから形成されることが多い。上記光学モジュールは、1つ又は複数の光学素子ホルダを支持する実質的にリング状の外側支持ユニットを有する支持構造を通常は含み、光学素子ホルダはさらに光学素子を保持する。
半導体コンポーネントの小型化が進歩し続けることで、その製造に用いられる光学系の高分解能化が常に要求されている。この高分解能化の要求により、光学系の開口数(NA)の増大及び結像精度の向上が必要である。
高い光学分解能を得るための1つの手法は、撮像プロセスで用いられる光の短波長化にある。最近では、通常は5nm~20nmの波長、大抵の場合は約13nmの波長のいわゆる極紫外(EUV)域の光を用いるシステムの開発が促進される傾向にある。このEUV域では、従来の屈折光学系の使用ができなくなっている。その理由は、このEUV域では、利用可能な光パワーで許容可能な結像結果を達成するには屈折光学系に用いる材料の吸光度が高すぎるからである。したがって、このEUV域では、反射光学系を結像プロセスに用いる必要がある。
EUV域で高開口数(例えばNA>0.4~0.5)を有する純粋な反射光学系へのこの移行は、結像装置の設計に関して大きな課題をもたらす。
上述の要因は、所望の結像精度を達成するための、結像プロセスに関与する光学素子の相互間の位置及び/又は向きに関して、且つ個々の光学素子の変形に関しても非常に厳しい要件につながる。さらに、最終的にシステムの寿命期間中に動作全体でこの高い結像精度を維持する必要がある。
結果として、結像プロセス中に協働する光学結像装置のコンポーネント(すなわち、例えば照明装置の光学素子、マスク、投影装置の光学素子、及び基板)は、これらのコンポーネント間の所定の明確な空間関係を維持し且つこれらのコンポーネントの望ましくない変形を最小化して、最終的に最大限の結像品質を達成するために、明確な形で支持されなければならない。
ここで、特に上記EUVシステムにおいて起こる問題は、体系的な要件から、照明装置及び投影装置並びに光学素子の少なくとも1つ1つが比較的大きく重い光学ユニットであることである。しかしながら、精度に関して要件を満たすために、これらの重いユニットは、交換可能且つ対応して調整可能とすべきである。さらに、これらのユニットは、それらのマウントの設計の結果として、望ましくない又は正確に定義されていない変形が起きなくなっているべきである。こうした理由から、例えば特許文献1(Scherle他、その全開示を参照により本明細書に援用する)から既知のように、これらの光学ユニット又は素子を支持する目的で、周囲に沿って均等に分配された(且つ通常はいわゆるヘキサポッドキネマティックを形成するよう構成された)3つの着脱可能な保持ユニットにより、いわゆる3点支持が通常は利用される。
支持構造の製造誤差又は変形により起こり得るような光学ユニットにおける望ましくない寄生応力及びそれに起因する変形を回避するために、このような3点支持により、静定マウントを得るか又は過静定(statically overdetermined)マウントを回避することができる。
このような静定3点支持の欠点は、例えば結像装置の輸送時に起こり得るような衝撃荷重の場合、特定の荷重方向を有する最も不利な荷重の場合に、2つの他の保持ユニットがこの荷重方向で実質的にコンプライアンスがあり、したがって本質的にはその荷重方向にいかなる荷重も支えることができないので、主な荷重を3つの保持ユニットのうちの1つだけで支えなければならないことである。したがって、保持ユニットは、光学素子の確実な支持を確保するために、比較的堅牢且つ複雑な設計を有しなければならない。したがって、光学素子への着脱可能な接続は、特に、可能な限り寄生応力(及びそれから生じる寄生変形)の導入を回避又は低減するために複雑な設計を有する。
特許文献2(Heintel他、その全開示を参照により本明細書に援用する)は、光学素子の外周に接着結合された複数の保持ユニットにより光学素子をその外周で保持することを開示している。これにより、接着結合で動作荷重の分配が改善され且つ構成が小型化される。しかしながら、生じる問題は、接着結合により光学素子の単純な交換が容易にできないことである。
米国特許第7,760,327号明細書 米国特許第8,441,747号明細書
したがって、本発明は、上記欠点がないか又は少なくとも上記欠点が少なく、特に、衝撃荷重に対してできる限り堅牢であり且つ小さなサイズを有しつつ光学素子の単純な交換性を促進する光学素子の支持を得る、マイクロリソグラフィ光学配置構成及び当該配置構成を備えた対応する光学結像装置と、光学素子を支持する方法とを提供するという目的に基づく。
本発明は、独立請求項の特徴によりこの目的を達成する。
本発明は、それぞれが別個のクランプ接続により光学素子を保持する4つ以上の保持ユニットが設けられる場合に、衝撃荷重に対して堅牢であり且つ小さなサイズを有しつつ、光学素子の単純な交換性を促進する光学素子の支持が得られるという技術的教示に基づく。ここで、各クランプ接続により、接続の単純な解放性、したがって光学素子の単純な交換性が確保される。結像装置の製造、輸送、及び動作中に光学素子において生じる荷重、特に衝撃荷重が4つ以上の保持ユニット間に分割されるので、最悪の場合は単一の保持ユニットに作用する最大荷重の低減をさらに達成することができる。この結果として、各クランプ接続は、より単純な、したがってより省スペースの設計を有することができ、これによりさらに、保持ユニットの数をさらに増やすことが容易になる。最終的に、これにより、有利な多数の保持ユニットを実現することができる。
さらに、クランプは、そこから得られる保持力(すなわち、クランプ面間の摩擦)をクランプ面での接触力により比較的高精度に設定できるので有利である。したがって、保持ユニットにおいて最も不利な場合に予想される衝撃荷重が上記保持ユニットの保持力を超えるリスクを、保持ユニットの安全率を大きくする必要なく、したがって保持ユニットの寸法を大きめにする必要なく確実に減らすことができる。したがって、保持ユニットの単純化にもかかわらず、衝撃荷重下のシステムの衝撃安全性又は故障安全性を高めることができるのが有利である。
したがって、一態様によれば、本発明は、特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の結像装置の光学配置構成であって、光学素子と、光学素子を保持する保持装置とを備えた光学配置構成に関する。ここで、光学素子は、光学面を含み、さらに主延在平面(plane of main extension)を規定し、主延在平面で径方向及び周方向を規定する。保持装置は、ベース要素と4つ以上の別個の保持ユニットとを含み、保持ユニットは、ベース要素に接続され、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置される。保持ユニットは、ベース要素に対して事前決定可能な位置及び向きで光学素子を保持する。ここで、各保持ユニットは、光学素子とベース要素との間に他の保持ユニットのクランプ接続とは別個のクランプ接続を成立させる。
原理上、各保持ユニットと光学素子との間のクランプ接続は、任意の適当な方法で成立させることができる。特に、クランプに必要な保持ユニット及び光学素子の1つ又は複数の各接触面間の摩擦係合を、任意の適当な方法でもたらすことができる。したがって、単一のクランプ要素を保持ユニット毎に設けることができ、上記クランプ要素は、クランプの摩擦係合を得るために適当なテンション装置により光学素子の対応する接触面に押し当てられる。ここで、クランプ要素は、例えば、ベース要素上での各自の支持により光学素子に対してプレテンションされ得る。その場合、組立状態で光学素子に作用する接触力が部分毎に、但し少なくとも全体的に相互に打ち消し合い、光学素子の規定の位置及び向きが得られるように、1つ又は複数の隣接する保持ユニットにより対応する反力を加えることができる。
保持ユニットの少なくとも1つが第1クランプ要素及び第2クランプ要素を含む場合に、特に単純な設計が達成される。その場合、第1クランプ要素及び第2クランプ要素は、クランプ接続を成立させるために相互に対して単純に引き締められ、光学素子の境界部が第1クランプ要素と第2クランプ要素との間に特に容易にクランプされる。好ましくは、このような構成の場合に特に単純な全体設計が達成されるので、複数の保持ユニットで、最終的には各保持ユニットでこのような構成が選択される。
第1クランプ要素及び第2クランプ要素が、クランプ接続を成立させるために、単純なテンション要素により相互に対して引き締められる場合に、光学素子に寄生応力が導入されるリスクが低い特に有利な変形形態が達成される。ここで、テンション要素は、クランプブラケットの形態又はタイロッド若しくはテンションアンカーの形態で設計され得る。好ましくは、テンション要素が境界部の凹部を貫通するようになっている結果として、特に局所的に、クランプ力の特に均等な分布を得ることができる。ここで、テンション要素は、回避しなければ光学素子における寄生応力につながる可能性があるテンション要素と光学素子の境界部との間の接触を回避するために、遊びを持って境界部の凹部を貫通することが好ましい。
原理上、テンション要素は、クランプ要素の相互に対する引締め、したがって境界部のクランプを成立させるのに適した任意の設計を有し得る。言及したように、テンション要素は、2つのクランプ要素を取り囲み支えるクランプブラケットであり得る。テンション要素が、引締めを成立させるためにクランプ要素の一方に螺入されるねじ部を含む場合に、特に単純で小型の構成が達成される。ここで、クランプ要素の少なくとも一方が接続部によりベース要素に接続されれば特に有利であり、その場合、接続部は、ねじ部の長手方向軸と実質的に平行に延びる軸周りの回転自由度を制限するように構成される。これにより、光学素子に導入される寄生応力が全くないか又はごくわずかにしかないように、接続部がねじ接続の締付トルクの少なくとも大部分を吸収することが、単純な方法で確実になり得る。
原理上、クランプ要素をベース要素に任意の適当な方法で接続できることが理解されよう。特に、クランプ要素の一方は、上記テンション要素及び他方のクランプ要素を介してベース要素に間接的に接続されるだけであり得る。好ましくは、第1クランプ要素は接続部を介してベース要素に接続され、且つ/又は第2クランプ要素は接続部を介してベース要素に接続される。
例として、接続部は、少なくとも部分毎に板ばね式に構成され得る。これにより、特に単純で小型の費用効果的な変形形態が得られる。追加として又は代替として、接続部は、(光学素子の)径方向にコンプライアンスがあるよう構成され得る。特に、光学素子及び保持装置の熱膨張率が異なる場合にこれは有利である。その場合、径方向のコンプライアンスにより、光学素子と保持装置との間で良好な熱変形分離を得ることができる。追加として又は代替として、接続部は、少なくとも部分毎に径方向に対して垂直な平面内に実質的に延び得る。これによっても、特に費用効果的で小型の設計を得ることができる。
特定の変形形態において、第1クランプ要素及び第2クランプ要素は、共通の接続部を介してベース要素に接続され得ることが理解されよう。しかしながら、さらに他の変形形態において、第1クランプ要素は第1接続部を介してベース要素に接続され、第2クランプ要素は(別個の)第2接続部を介してベース要素に接続される。これら2つの変形形態のいずれも、単独で又は組み合わせて、好ましくは保持装置の4つ以上の別個の保持ユニットに、より好ましくは保持ユニットの全部の別個の保持ユニットに当てはまる。特に後者の変形形態において、第1接続部及び第2接続部が相互に実質的に平行に延びる場合、製造及び組立てが特に容易であるにもかかわらず、動力学的側面から特定の自由度で有利な剛性を有する構成となるので有利である。追加として又は代替として、第1接続部及び第2接続部は、相互に対して引き締められるクランプ要素を径方向と実質的に平行に案内するよう構成された平行ガイド式に構成され得る。これら両方の変形形態で、残りの自由度では動力学的に有利な高い剛性を有したまま(熱変形分離のための)上記径方向のコンプライアンスを得ることができる。
特定の実施形態では、第1接続部及び第2接続部を径方向に相互にオフセット又は離間させることが好ましいことが理解されよう。追加として又は代替として、第1接続部及び第2接続部を周方向に相互にオフセットさせることができる。しかしながら、好ましくは、第1接続部及び第2接続部は、少なくとも本質的に径方向に相互に整列する(したがって、周方向に相互にオフセットしない)。こうした場合、第1接続部及び第2接続部の一方が(径方向)内側接続部を形成する一方で、他方が(径方向)外側接続部を形成する。これらの変形形態の全てが、上述のように他の自由度で(動力学的に有利な)剛性支持を得ながら特定の自由度でコンプライアンスを与える適切な支持を提供する。
原理上、光学素子は、保持ユニットへの各クランプ接続を成立させるために任意の設計を有し得る。したがって、光学素子は、例えば保持ユニットに対するクランプのために設けられる単一の境界部を含み得る。特定の変形形態において、光学素子は、各保持ユニットでの各クランプ接続を成立させるための別個の境界部を含み、当該境界部は、各保持ユニットでクランプされるよう働く。ここで、上述のように、光学素子の境界部は、各保持ユニットの2つのクランプ要素間にクランプされることが好ましい。
境界部及び保持ユニットは、所望に応じて相互に組み合わせ可能であり得る。すなわち、境界部と保持ユニットとの間に特定の対偶が与えられない(したがって、例えば、光学素子と保持ユニットを有するベース要素とを周方向に沿って相互に対して任意に回転させることができる)。他の変形形態において、このような特定の対偶は、コンポーネントの適宜異なる設計及び/又は配置により実現される。ここで、境界部は、第1保持ユニットと組み合わせ可能だが第2保持ユニットとは組み合わせ可能でないよう構成され得る。そのためには、例えば、境界部と関連の保持ユニット、特にそのクランプ要素との対偶が、例えばクランプ方向に沿った寸法及び/又はクランプ面の構造若しくは構成について他の対偶とは著しく異なり得る。さらに、周囲に沿って保持ユニットが不均等に分配された特定の設計では、この不均等な分配を用いて、回転アライメントの1つのみ又は規定の一部分が全てのクランプ接続の成立に可能であることを確実にすることができる。特に、適切なクランプのための光学素子と保持装置との間の(周方向Uに沿った)単一の可能な回転アライメントを正確に規定するには、均等な分配から逸脱した境界部と関連の保持ユニットとの単一の対で十分であり得る。
原理上、光学素子の境界部は、光学素子において任意の適当な方法で実現することができる。光学素子の各境界部が光学素子の突出部により形成される場合に、特に小型で単純な設計が達成される。ここで、複数の境界部が光学素子の共通の突出部に形成され得る。さらに、複数の又はさらに全部の境界部が光学素子のリング状突出部に形成され得る。光学素子の突出部は、周方向に且つ/又は周方向及び径方向により規定される平面に対して垂直な方向に延び得る。
原理上、各境界部は、所望される任意の適当な方法で設計され得る。例として、これは光学素子の本体に直接形成され得る。容易且つ高精度に実行することができるので好ましい変形形態において、各境界部は、光学素子に接続された境界要素により形成することができる。ここで、境界要素は、光学素子の凹部に挿入され得るものであり、当該境界要素は、特に光学素子の突出部の凹部に挿入され得る。このような構成は特に容易に製造することができる。境界要素は、例えばコネクタブッシュを含み得る。このコネクタブッシュは、単純で正確な製造及び組立てを容易にするカラーを含み得る。
原理上、光学素子は、一部品又は多部品式に任意の適当な材料から製造することができる。好ましくは、光学素子は、少なくとも突出部の領域が、特にSiSiCを含むセラミック材料から製造され、且つ/又はZerodurを含む材料及び/又はレンズ材料から製造される。境界要素を有する変形形態において、境界要素は、インバー及び/又はステンレス鋼及び/又はモリブデンを含む材料から製造できることが好ましい。
原理上、光学面は、任意の屈折及び/又は反射及び/又は回折光学面であり得る。本明細書に記載の利点は、光学面が反射光学面である場合に特によく奏功する。その場合、光学面は、光学素子の本体に配置されることが好ましい。本体は、その場合、光学面とは反対側に少なくとも1つの突出部を含むことが好ましく、当該突出部は、保持ユニットの少なくとも1つに対する境界部を形成する。
原理上、ベース要素も同様に任意の設計を有し得る。したがって、例えば、板状のベース要素が設けられ得る。好ましい小型変形形態において、ベース要素はリング状の構成を有する。特に有利な設計では、ベース要素は、ベース要素の主延在平面を規定し、保持ユニットの少なくとも1つは、ベース要素の主延在平面に対して実質的に垂直にベース要素から突出する。好ましくは、これは、複数の又はさらに全部の保持ユニットに当てはまり、当該保持ユニットの全部がベース要素の主延在平面に対して実質的に垂直にベース要素から突出する。リング状のベース要素を有する変形形態において、これにより冠状の設計が得られ、保持ユニットは、冠の爪(tines)のようにリング状のベース要素から突出する。
原理上、保持装置は、いわゆる差動構成の複数の別個のコンポーネントから任意の適当な方法で構成され得る。特に堅牢で高精度に製造された特定の変形形態の場合、ベース要素は、保持ユニットの少なくとも1つと(好ましくは複数の又はさらに全部の保持ユニットと)モノリシックである。
既に上述したように、できる限り多くの保持ユニットがあることが好ましく、その数は、光学素子のサイズに応じた利用可能な設置空間により制限される。好ましくは、6個以上、好ましくは9個以上、さらに好ましくは18個~36個の保持ユニットが設けられる。保持ユニットは任意の分配で配置することができる。特に、分配は、光学素子の質量分布及び/又は(特に衝撃荷重の)予想荷重方向に適合させることができる。特定の変形形態において、保持ユニットは、周方向に沿って実質的に均等な分配で配置される。特に、これは、荷重がいかなる方向にも生じ得る状況を考慮できる。
本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、第1光学素子群を含む照明装置と、物体を収容する物体装置と、第2光学素子群を有する投影装置と、画像装置とを備え、照明装置は物体を照明するよう構成され、投影装置は物体の像を画像装置に投影するよう構成される光学結像装置にも関する。照明装置及び/又は投影装置は、本発明による光学配置構成を少なくとも1つ含む。これにより、上述した変形形態及び利点を同程度に実現することができるので、この点で上記説明を参照されたい。
本発明はさらに、特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の光学素子を支持する方法であって、光学素子は保持装置により保持され、光学素子は、光学面を含み且つ主延在平面を規定し、主延在平面で径方向及び周方向を規定する方法に関する。ここで、光学素子は、保持装置の4つ以上の別個の保持ユニットにより保持装置のベース要素に対して保持され、上記保持ユニットは、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置される。各保持ユニットは、光学素子とベース要素との間に他の保持ユニットのクランプ接続とは別個であるクランプ接続を成立させる。これにより、上述した変形形態及び利点を同程度に実現することができるので、この点で上記説明を参照されたい。
プレストレスなしの又は規定の組立て(光学素子の寄生応力の発生が少なくとも主に回避されている)を考えると、保持装置の3つの保持ユニットと光学素子との間の各クランプ接続が、光学素子がベース要素に対して空間的に固定されるように第1ステップで成立する場合に、ここでは特に有利である。したがって、結果として従来の3点支持のような支持を最初に実現することができる。これは、光学素子のこの初期固定のために特に設計され且つ残りの保持ユニットとは異なる3つの(第1)保持ユニットにより達成され得る。特に、これら3つの(第1)保持ユニットは、残りの(第2)保持ユニットよりも剛性設計を有し得る。その場合、保持装置の残りの(第2)保持ユニットと光学素子との間の各クランプ接続は、第1ステップの次の第2ステップで成立する。ここで、特にクランプのために必要な運動方向で、残りの(第2)保持ユニットは、3つの(第1)保持ユニットよりも大幅に低い剛性を有することで、著しい復元力、したがって寄生応力を発生させることなく製造誤差を補償することができるようになり得る。
したがって、さらに別の態様によれば、本発明は、特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の結像装置の光学配置構成であって、光学素子と光学素子を保持する保持装置とを備えた光学配置構成に関する。ここで、光学素子は、光学面を含み且つ主延在平面を規定し、主延在平面で径方向及び周方向を規定する。保持装置は、ベース要素と4つ以上の別個の保持ユニットとを含み、保持ユニットは、ベース要素に接続され、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置される。保持ユニットは、ベース要素に対して事前決定可能な位置及び向きで光学素子を保持する。ここで、各保持ユニットは、光学素子とベース要素との間に他の保持ユニットのクランプ接続とは別個であるクランプ接続を成立させる。保持ユニットの少なくとも1つ、好ましくは各保持ユニットは、第1クランプユニットと、第1クランプユニットとは別個の第2クランプユニットとを含む。第1クランプユニット及び第2クランプユニットは、ベース要素にそれぞれ別個の場所で接続される。第1クランプユニット及び第2クランプユニットは、クランプ接続を成立させるように相互に対して引き締められ、光学素子の境界部が、第1クランプユニットと第2クランプユニットとの間にクランプされる。これにより、上述した変形形態及び利点を同程度に実現することができるので、この点で上記説明を参照されたい。
好ましくは、第1クランプユニットは第1クランプ要素及び第1接続部を含み、第2クランプユニットは第2クランプ要素及び第2接続部を含む。第1クランプ要素は第1接続部を介してベース要素に接続され、第2クランプ要素は第2接続部を介してベース要素に接続される。第1クランプ要素及び第2クランプ要素は、クランプ接続を成立させるように相互に対して引き締められ、光学素子の境界部は、第1クランプ要素と第2クランプ要素との間にクランプされる。
本発明のさらに他の態様及び例示的な実施形態は、従属請求項及び添付図面に関する以下の好ましい例示的な実施形態の説明から明らかである。開示される特徴の全ての組み合わせが、請求項の主題であるか否かに関係なく本発明の範囲内にある。
本発明による光学配置構成の好ましい実施形態を含む、本発明による投影露光装置の好ましい実施形態の概略図である。 図1からの本発明による配置構成の保持装置の概略平面図である。 図2からの本発明による配置構成の一部(細部D)の(図2の線III-IIIに沿った)概略断面図である。 図3Aからの(図3Aの径方向Rに見た)配置構成の部分の概略図である。 図2からの本発明による配置構成の変形形態の一部の(図3Aの図と同様の)概略断面図である。 図2からの本発明による配置構成のさらに別の変形形態の一部の(図3Aの図と同様の)概略断面図である。 図2からの本発明による配置構成のさらに別の変形形態の一部の(図3Aの図と同様の)概略断面図である。
本発明による光学配置構成の好ましい例示的な実施形態を備えた、本発明によるマイクロリソグラフィ投影露光装置101の好ましい実施形態を、例として図1~図4を参照して以下で説明する。以下の説明を単純化するために、xyz座標系を図示し、z方向が重力方向に相当する。言うまでもなく、さらに他の構成でxyz座標系の任意所望の他の向きを選択することが可能である。
図1は、半導体コンポーネントを製造するマイクロリソグラフィプロセスで用いられる投影露光装置101の概略的な一定の縮尺でない図である。投影露光装置101は、照明装置102及び投影装置103を備える。投影装置103は、露光プロセスにおいて、マスクユニット104に配置されたマスク104.1の構造の像を基板ユニット105に配置された基板105.1に転写するよう設計される。この目的で、照明装置102はマスク104.1を照明する。光学投影装置103は、マスク104.1から光を受光し、マスク104.1のマスク構造の像を例えばウェーハ等の基板105.1に投影する。
照明装置102は、光学素子群106.1を有する光学ユニット106を含む。投影装置103は、光学素子群107.1を含むさらに別の光学素子ユニット107を含む。光学素子群106.1、107.1は、投影露光装置101の折り返し中心光線経路101.1に沿って配置される。各光学素子群106.1、107.1は、複数の光学素子を含み得る。
好ましい実施形態において、投影露光装置101は、5nm~20nmの波長、特に13nmの波長を有するEUV域の露光光(極紫外線)で動作する。したがって、照明装置102及び投影装置103の素子群106.1、107.1の光学素子は、反射光学素子に限られる。光学素子群106.1、107.1は、光学配置構成108に基づいて以下で説明するように、本発明による1つ又は複数の光学配置構成を含み得る。光学ユニット106及び107は、それぞれが支持構造101.2により支持される。
本発明のさらに他の構成では、任意のタイプの光学素子(屈折、反射、回折)を単独で又は任意の所望の組み合わせで残りの光学モジュールに用いることも当然ながら(特に照明光の波長に応じて)可能である。
本発明による光学配置構成を、光学配置構成108に基づいて例示的に以下で説明する。図2は、光学配置構成108の一部の概略平面図を示し、図3Aは、光学配置構成108の一部の(図2の線III-IIIに沿った)概略断面図を示す。図3Bは、図3Aの径方向Rに見た図3Aからの配置構成の部分の概略図である。
図2と、特に(図2の細部Dを示す)図3A及び図3Bとから分かるように、光学配置構成108は、照明装置102のコレクタミラーの形態の光学素子109と、光学素子109を保持する保持装置110とを備える。図2は、(z方向に沿った)保持装置110の平面図を示し、光学素子109をその破線外側輪郭で示す。
光学素子109は、光学素子109の本体109.2の片側(前側)に(従来通りに)形成された反射光学面109.1を含む。光学素子109は、(図2のxy平面又は図平面と平行な)主延在平面を規定し、主延在平面で径方向R及び周方向Uを規定する。
本例では、保持装置110は、ベース要素110.1及び別個の保持ユニット110.2を含み、保持ユニット110.2は、ベース要素110.1に接続され、周方向Uに沿って分配され且つ相互に離間するように配置される。保持ユニット110.2は、光学素子109をベース要素110.1に対して所定の位置及び向きで保持する。各保持ユニット110.2は、光学素子109とベース要素110.1との間に他の保持ユニット110.2により設けられたクランプ接続とは別個であるクランプ接続を成立させる。
既に述べたように、できる限り多くの保持ユニット110.2があることが好ましく、保持ユニット110.2の数は、光学素子109のサイズに応じた利用可能な設置空間により制限される。本例では、18個の保持ユニット110.2が設けられる。しかしながら、他の変形形態では異なる数を設けることもできる。特に、6個以上、好ましくは9個以上、さらに好ましくは18個~36個の保持ユニット110.2が設けられ得る。したがって、6個以上(例えば、7個以上、8個以上、9個以上、10個以上、15個以上、18個以上、20個以上、25個以上、30個以上)の保持ユニット110.2があってもよく、且つ/又は40個以下(例えば、36個以下、30個以下、25個以下)の保持ユニット110.2があってもよい。場合によっては、6個~36個(例えば、18個~36個)の保持ユニット110.2が設けられる。
本例では、保持ユニット110.2は、周方向Uに沿ってそれぞれ20°の角度間隔で均等に分配されて配置される。これにより、光学素子に導入される荷重、特に衝撃荷重の方向に関係なく取付けが常に実質的に同じ挙動を有することができるか、又は衝撃荷重に伴い光学素子109の位置ずれにつながるリスクが高まるような荷重方向をなくすことができる。
しかしながら、他の変形形態において、保持ユニット110.2が所望に応じて少なくとも部分毎に不均等な分配で配置され得ることも理解されたい。特に、保持ユニット110.2の分配は、この場合は光学素子109の質量分布及び/又は配置構成108の予想加速度及びそれから生じる荷重方向に適合され得る。保持ユニット110.2は、特に非対称の光学素子109の場合には特定の領域で大きな荷重を受け得るので、大きな荷重を受けるそれらの領域で保持ユニット110.2の密度を高くした(すなわち、円周角あたりの保持ユニット数を局所的に多くした)非対称分配とすることが好都合である。
特に図3Aから分かるように、本例の各保持ユニット110.2は、(別個の場所でベース要素110.1に接続された)2つの別個のクランプユニット、すなわち第1クランプ要素110.3(ここでは径方向Rで外側のクランプ要素)を有する第1クランプユニット及び第2クランプ要素110.4(ここでは径方向Rで内側のクランプ要素)を有する第2クランプユニットを有する。第1クランプ要素110.3は、第1クランプユニットの第1接続部110.5を介してベース要素110.1に接続され、第2クランプ要素110.4は、第2クランプユニットの第2接続部110.6を介してベース要素110.1に接続される。
光学素子109に対するクランプ接続を成立させる目的で、第1クランプ素子110.3及び第2クランプ素子110.4は、テンションねじの形態のテンション要素111により相互に対して引き締められる。光学要素109の関連の境界部109.3が、各保持ユニット110.2の第1クランプ要素110.3と第2クランプ要素110.4との間にそれぞれクランプされる。
しかしながら、他の変形形態において、各保持ユニット110.2と光学素子109との間のクランプ接続は異なる設計も有し得る。例えば、クランプ要素110.3又は110.4を適当なテンション装置(例えば、径方向Rの適当なプレテンション下の接続部110.5又は110.6)により光学素子109の境界部109.3上の関連の接触面に押し当てて、クランプ接続の摩擦係合を得る場合、クランプに必要な摩擦係合は、保持ユニット110.2あたり単一のクランプ要素110.3又は110.4により最終的に実現され得る。その場合、組立状態で光学素子109に作用する接触力が少なくとも部分毎に、但し少なくとも全体的に相互に打ち消し合い、したがって光学素子109の規定の位置及び向きが得られるように、1つ又は複数の隣接する保持ユニット110.2により対応する反力を加えることができる。
本例では、テンション要素111は、タイロッドのように設計される。テンション要素111は、遊びを持って境界部109.3の凹部109.4を貫通し、その結果としてクランプ力の特に均等な分布が得られる。テンション要素111と凹部109.9の領域の境界部109.3との間の遊びにより、回避しなければ光学素子における寄生応力につながる可能性があるテンション要素111と境界部109.3との間の接触が回避される。
したがって、径方向Rに対して垂直に、クランプ要素110.3、110.4の接触面と境界部109.3の関連の接触面との間には、テンション要素111のプレテンションにより正確に規定されるクランプ接続の摩擦係合のみがある。これは、クランプから得られる保持力、したがってクランプ面における接触力をテンション要素111のプレテンションにより比較的高精度に設定できるので有利である。
テンション要素111は、外側の第1クランプ要素110.4の通路開口と凹部109.9とを通る。本例では、テンション要素111はねじ部111.1を含み、これは、引締めのために内側の第2クランプ要素110.4の対応するねじ孔に螺入される。テンション要素111のねじ頭111.2は、外側の第1クランプ要素110.4に載る。
本例では、2つのクランプ要素110.3、110.4の各接続部110.5、110.6が、ねじ部111.1の長手方向軸と実質的に平行に延びる軸周りの回転自由度を制限することが特に有利である。これにより、光学素子に導入される寄生応力が全くないか又はごくわずかにしかないように、接続部110.5、110.6がねじ接続の締付トルクの少なくとも大部分を吸収できることが、単純な方法で確実となる。
この目的で、本例のように、各接続部110.5、110.6を、本例では径方向Rに対して垂直な平面に実質的に延びる板ばね式に構成することができる。これにより、特に単純で小型の構成が得られる。
特に図3Bから分かるように、各接続部110.5、110.6は、実質的に矩形の板ばねにより形成される。本例では、接続部110.5、110.6は実質的に同一である。しかしながら、他の変形形態では各接続部110.5、110.6が相互に逸脱した任意の他の所望の適当な設計を有し得ることが理解されよう。他の変形形態では、各接続部110.5、110.6が任意の他の所望の適当な外側輪郭(例えば、図3Bに点線輪郭で示すような台形輪郭)を有し得ることがさらに理解されよう。接続部110.5、110.6の各設計(特に各外側輪郭)は、例えば、接続部110.5、110.6の長手方向軸に沿った接続部110.5、110.6の剛性の(径方向Rの)所望の分布を規定するよう選択され得る。
さらに、その結果として、各接続部110.5、110.6は径方向Rにコンプライアンスがある。これは、特に光学素子109及び保持装置110の熱膨張率が異なる場合に有利である。その場合、この径方向のコンプライアンスにより、光学素子109と保持装置110との間で良好な熱変形分離を得ることができる。
第1接続部110.5及び第2接続部110.6は、相互に実質的に平行に延び、製造及び組立てが特に容易な構成をもたらす。さらに、この構成は、各接続部110.5、110.6の平面と平行な自由度の剛性があることが有利なので、動力学的側面から有利である。
図3Aから特によく分かるように、第1接続部110.5及び第2接続部110.6は、径方向Rに相互にオフセット又は離間している。したがって、第1接続部110.5が(径方向)外側接続部を形成する一方で、第2接続部110.6が(径方向)内側接続部を形成する。特定の変形形態では、第1接続部110.5及び第2接続部110.6が周方向Uに相互にオフセットし得ることが理解されよう。しかしながら、好ましくは、本例のように、第1接続部110.5及び第2接続部110.6は、本質的には径方向Rに相互に整列する(したがって、本質的には周方向Uに相互にオフセットしない)。
さらに、本例では、第1接続部110.5及び第2接続部110.6は、相互に対して引き締められるクランプ要素110.3、110.4を径方向Rと実質的に平行に案内する平行ガイドを提供する。したがって、残りの自由度では動力学的に有利な高い剛性を有したまま(熱変形分離のための)上記径方向のコンプライアンスを得ることができる。
本例では、光学素子109の各境界部109.3は、光学素子109の(光学面109.1とは反対側の)裏側でリング状に周方向に(周方向Uに)延びる突出部109.5に形成される。突出部109.5は、周方向Uと、光学素子109の主延在平面(すなわち、周方向U及び径方向Rにより規定される平面)に対して垂直な方向とに延びる。
本例では、全部の境界部109.3が共通の突出部109.5に形成される。しかしながら、他の変形形態において、突出部109.5は、境界部109.3が個別に又は群として突出部109.5の別個の周方向セグメントに設けられるように周方向Uで途切れることもあり得る。
本例では、各境界部109.3が突出部109.5の領域で光学素子109に接続される境界要素109.6により形成されることにより、特に容易且つ高精度に実現可能な設計が得られる。ここで、境界要素109.6は、カラー109.7を有するコネクタブッシュとして構成され、光学素子109の突出部109.5の凹部109.8に挿入され且つ適当な方法で(例えば、接着結合、はんだ付け等による材料接続により)そこに取り付けられる。
コネクタブッシュ109.6は、クランプ要素110.3、110.4に対する接触面を形成するので、この構成は特に製造が単純である。クランプ要素110.3、110.4に対するこれらの接触面を突出部109.5よりもコネクタブッシュ109.6の端に設ける方が、実質的に容易である。この場合、コネクタブッシュ109.6を十分に高い精度で比較的容易に収容し取り付けることができる径方向凹部109.8を、突出部109.5に作るだけでよい。
しかしながら、他の変形形態において、各境界部109.3を光学素子109の本体109.2に、特に突出部109.5に直接形成することもできることを理解されたい。
境界部109.3及び保持ユニット110.2は、所望に応じて相互に組み合わせ可能とすることができる。すなわち、境界部109.3と保持ユニット110.2とは特定の対偶をなさない(したがって、例えば、光学素子109と保持ユニット110.2を有するベース要素110.1とを周方向Uに沿って相互に対して任意に回転させることができる)。
しかしながら、他の変形形態において、このような特定の対偶は、境界部109.3及び保持ユニット110.2のコンポーネントの適宜異なる設計及び/又は配置により実現することができる。その場合、境界部109.3は、ある(第1)保持ユニット110.2と組み合わせ可能だが別の(第2)保持ユニット110.2とは組み合わせ可能でないよう構成され得る。
そのためには、例えば、境界部109.3と関連の保持ユニット110.2、特にそのクランプ要素110.3、110.4との対偶は、例えば、クランプ方向に沿った(すなわち、例えばテンション要素111の長手方向軸に沿った)寸法について且つ/又は境界部109.3とクランプ要素110.3、110.4との対向するクランプ面の構造又は構成について、他の対偶とは著しく異なり得る。
さらに、周方向Uに沿って保持ユニット110.2(及び対向する境界部109.3)が不均等に分配された特定の設計では、この不均等な分配を用いて、回転アライメントの1つのみ又は規定の一部分が全てのクランプ接続の成立に可能であることを確実にすることができる。特に、適切なクランプを可能にする光学素子109と保持装置110との間の(周方向Uに沿った)単一の可能な回転アライメントを正確に規定するには、均等な周方向分配から逸脱した境界部109.3と関連の保持ユニット110.2との単一の対で十分であり得る。
応力のない又は規定の組立て(光学素子109における寄生応力の発生が少なくとも概ね回避されている)に関して、保持装置110の3つの保持ユニット110.2と光学素子109との間の各クランプ接続が、光学素子がベース要素110.1に対して空間的に固定されるように組立中に第1ステップで最初に成立すれば特に有利である。したがって、従来の3点支持のような保持装置110に対する光学素子109の固定を最初に実現することができる。
これは、光学素子109のこの初期取付けのために特に設計され且つ残りの保持ユニット110.2とは異なる3つの(第1)保持ユニット110.2により達成され得る。本例では、これらは、相互に対して周方向に120°回転してそれぞれ配置された3つの位置112.1、112.2、及び112.3(図2参照)にある保持ユニット110.2であり得る。特に、これら3つの(第1)保持ユニット110.2は、残りの(第2)保持ユニット110.2よりも剛性設計を有し得る。
その場合、保持装置110の残りの(第2)保持ユニット110.2と光学素子109との間の各クランプ接続は、組立てプロセスの第1ステップの次の第2ステップで成立する。残りの(第2)保持ユニット110.2は、クランプのために必要な運動方向で(すなわち、本例では径方向Rで)3つの(第1)保持ユニット110.2よりも大幅に低い剛性を有することで、著しい復元力、したがって寄生応力を発生させることなく製造誤差を補償することができるようになり得る。
原理上、光学素子109は、一部品式(すなわちモノリシック)又は多部品式(いわゆる差動構成)に任意の適当な材料から製造することができる。好ましくは、光学素子109は、少なくとも突出部109.5の領域が、特にSiSiCを含むセラミック材料から製造される。追加として又は代替として、光学素子109は、少なくとも突出部109.5の領域が、Zerodurを含む材料及び/又はレンズ材料から製造され得る。境界要素109.6を有する上記変形形態において、境界要素109.6は、インバー及び/又はステンレス鋼及び/又はモリブデンを含む材料から製造できることが好ましい。
原理上、ベース要素110.1も同様に任意の設計を有し得る。したがって、例えば、板状のベース要素110.1が設けられ得る。本例では、ベース要素110.1はリング状であり、ベース要素の主延在平面を規定する。保持ユニット110.2は、ベース要素110.1の主延在平面に対して実質的に垂直にベース要素110.1から突出する。これにより冠状の設計が得られ、保持ユニット110.2は、冠の爪のようにリング状のベース要素110.1から突出する。
原理上、保持装置110は、いわゆる差動構成の複数の別個のコンポーネントから任意の適当な方法で構成され得る。本例では、ベース要素110.1は、全部の保持ユニット110.2と一体的又はモノリシックな設計を有する結果として、高精度に製造できる特に堅牢な設計が得られる。
図4は、図3Aからの保持装置110の変形形態を示し、それ以外は同一の設計である。この変形形態において、1つ、複数、又は全部の保持ユニット110.2の各内側の第2クランプ要素110.4は、上記テンション要素及びここではフォーク状の接続部110.7(対応する板ばね部からなる)を介してベース要素110.1に間接的に接続されるだけであり、上記接続部110.7は、第1クランプ要素110.3及び第2クランプ要素110.4により共有される。特定の用途にとっては、保持ユニット110.2が周方向Uに対して接線方向の軸(すなわち、図4のy軸と平行な軸)周りの回転自由度を制限しないので、この構成は有利である。
図5は、図3Aからの保持装置110の変形形態を示し、それ以外は同一の設計である。この変形形態において、1つ、複数、又は全部の保持ユニット110.2の各内側の第2クランプ要素110.4は、上記テンション要素、第1クランプ要素110.3、及びその接続部110.5を介してベース要素110.1に間接的に接続されるだけである(したがって、第2接続部110.6はない)。特定の用途にとっては、保持ユニット110.2が周方向Uに対して接線方向の軸(すなわち、図5のy軸と平行な軸)周りの回転自由度を制限しないので、この場合もこの構成は有利である。
図6は、図3Aからの保持装置110の変形形態を示し、それ以外は同一の設計である。この変形形態において、1つ、複数、又は全部の保持ユニット110.2の各外側の第1クランプ要素110.3は、上記テンション要素、第2クランプ要素110.4、及びその接続部110.6を介してベース要素110.1に間接的に接続されるだけである(したがって、第1接続部110.5はない)。特定の用途にとっては、保持ユニット110.2が周方向Uに対して接線方向の軸(すなわち、図6のy軸と平行な軸)周りの回転自由度を制限しないので、この場合もこの構成は有利である。
本発明は、マイクロリソグラフィの分野からの例に基づいてのみ説明したものである。しかしながら、本発明を、重い光学ユニットの支持に関して同様の問題が起こる任意の他の光学用途、特に異なる波長での結像方法に関連して用いることもで着ることを理解されたい。
さらに、物体の検査、例えば、マイクロリソグラフィに用いるマスクの完全性等を検査するいわゆるマスク検査等に関連して、本発明を用いることができる。図1において、例えば(さらなる処理のために)マスク104.1の投影パターンの結像を検出するセンサユニットが、このとき基板105.1の代わりになる。このマスク検査は、このとき、その後のマイクロリソグラフィプロセスで用いるのと実質的に同じ波長でも行うことができる。しかしながら、その波長から外れた任意所望の波長を検査に用いることも同じく可能である。
最後に、本発明は、添付の特許請求の範囲に定める特徴の特定の組み合わせを示す特定の例示的な実施形態に基づいて上述したものである。本発明の主題がこれらの特徴の組み合わせに制限されるのではなく、添付の特許請求の範囲から明らかであるような特徴の全ての他の組み合わせも本発明の主題に属することを、ここで特に指摘しておく。

Claims (33)

  1. 特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の結像装置の光学配置構成であって、
    光学素子(109)と、
    該光学素子(109)を保持する保持装置(110)と
    を備え、前記光学素子(109)は、光学面(109.1)を含み且つ主延在平面を規定し、該主延在平面で径方向及び周方向を規定し、
    前記保持装置(110)は、ベース要素(110.1)及び4つ以上の別個の保持ユニット(110.2)を含み、
    該保持ユニット(110.2)は、前記ベース要素(110.1)に接続され、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置され、且つ
    前記保持ユニット(110.2)は、前記ベース要素(110.1)に対して前記光学素子(109)を保持する、光学配置構成において、
    前記保持ユニット(110.2)のそれぞれは、前記光学素子(109)と前記ベース要素(110.1)との間に他の前記保持ユニット(110.2)のクランプ接続とは別個のクランプ接続を成立させ、
    前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つ、好ましくは各保持ユニット(110.2)は、第1クランプユニット(110.3、110.5)及び該第1クランプユニット(110.3、110.5)とは別個の第2クランプユニット(110.4、110.6)を含み、
    第1クランプユニット(110.3、110.5)及び前記第2クランプユニット(110.4、110.6)は、それぞれ別個の場所で前記ベース要素(110.1)に接続され、
    前記第1クランプユニット(110.3、110.5)及び前記第2クランプユニット(110.4、110.6)は、クランプ接続を成立させるために相互に対して引き締められ、且つ
    前記光学素子(109)の境界部(109.3)が、前記第1クランプユニット(110.3、110.5)と前記第2クランプユニット(110.4、110.6)との間にクランプされることを特徴とする光学配置構成。
  2. 請求項1に記載の光学配置構成において、
    前記第1クランプユニットは、第1クランプ要素(110.3)及び第1接続部(110.5)を含み、
    前記第2クランプユニットは、第2クランプ要素(110.4)及び第2接続部(110.6)を含み、
    前記第1クランプ要素(110.3)は、前記第1接続部(110.5)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、
    前記第2クランプ要素(110.4)は、前記第2接続部(110.6)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、
    前記第1クランプ要素(110.3)及び前記第2クランプ要素(110.4)は、クランプ接続を成立させるために相互に対して引き締められ、且つ
    前記光学素子(109)の前記境界部(109.3)は、前記第1クランプ要素(110.3)と前記第2クランプ要素(110.4)との間にクランプされる光学配置構成。
  3. 請求項2に記載の光学配置構成において、
    前記第1接続部(110.5)及び/又は前記第2接続部(110.6)は、少なくとも部分毎に板ばね式に構成され、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び/又は前記第2接続部(110.6)は、径方向にコンプライアンスがあるよう構成され、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び/又は前記第2接続部(110.6)は、少なくとも部分毎に径方向に対して垂直な平面内に実質的に延びる光学配置構成。
  4. 請求項2又は3に記載の光学配置構成において、
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、相互に実質的に平行に延び、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、径方向に相互に離間し、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、径方向に少なくとも実質的に相互に整列し、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、相互に対して引き締められる前記クランプ要素(110.3、110.4)を径方向と実質的に平行に案内するよう構成された平行ガイド式に構成される光学配置構成。
  5. 請求項1~4のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記第1クランプユニット(110.3、110.5)及び前記第2クランプユニット(110.4、110.6)、特に前記第1クランプユニットの第1クランプ要素(110.3)及び前記第2クランプユニットの第2クランプ要素(110.4)は、クランプ接続を成立させるために、テンション要素(111)により相互に対して引き締められ、特に、
    前記テンション要素(111)は、特に遊びを持って前記境界部(109.3)の凹部(109.4)を貫通する光学配置構成。
  6. 請求項5に記載の光学配置構成において、
    前記テンション要素(111)は、引締めを成立させるために前記クランプ要素(110.3、110.4)の一方に螺入されるねじ部(111.1)を含み、特に、
    前記クランプ要素(110.3、110.4)の前記一方は、接続部(110.5、110.6)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、前記接続部(110.5、110.6)は、前記ねじ部(111.1)の長手方向軸と実質的に平行に延びる軸周りの回転自由度を制限するように構成される光学配置構成。
  7. 請求項1~6のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記光学素子(109)は、前記各保持ユニット(110.2)とのクランプ接続を成立させるために、各境界部(109.3)を含み、特に、
    前記光学素子(109)の前記境界部(109.3)は、前記保持ユニット(110.2)の2つのクランプ要素(110.3、110.4)間にクランプされ、且つ/又は
    前記境界部(109.3)の1つは、第1保持ユニット(110.2)と組み合わせ可能だが第2保持ユニット(110.2)とは組み合わせ可能でないよう構成される光学配置構成。
  8. 請求項7に記載の光学配置構成において、
    前記光学素子(109)の前記境界部(109.3)は、前記光学素子(109)の突出部(109.5)により形成され、特に、
    複数の前記境界部(109.3)が、前記光学素子(109)の共通の突出部(109.5)に形成され、且つ/又は
    全部の前記境界部(109.3)が、前記光学素子(109)のリング状の突出部(109.5)に形成され、且つ/又は
    前記光学素子(109)の前記突出部(109.5)は、周方向に且つ/又は周方向及び径方向により規定される平面に対して垂直な方向に延びる光学配置構成。
  9. 請求項7又は8に記載の光学配置構成において、
    前記各境界部(109.3)は、前記光学素子(109)に接続された境界要素(109.6)により形成され、特に、
    前記境界要素(109.6)は、前記光学素子(109)の凹部(109.8)に挿入され、特に、前記光学素子(109)の突出部(109.5)の凹部(109.8)に挿入され、且つ/又は
    前記境界要素(109.6)は、コネクタブッシュ(109.6)、特にカラー(109.7)を有するコネクタブッシュを含む光学配置構成。
  10. 請求項9に記載の光学配置構成において、
    前記光学素子(109)は、少なくとも前記突出部(109.5)の領域が、特にSiSiCを含むセラミック材料から製造され、且つ/又はZerodurを含む材料及び/又はレンズ材料から製造され、且つ/又は
    前記境界要素(109.6)は、インバー及び/又はステンレス鋼及び/又はモリブデンを含む材料から特に製造される光学配置構成。
  11. 請求項1~10のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記光学面は、反射光学面であり、
    前記光学面は、前記光学素子(109)の本体(109.2)に配置され、且つ
    前記本体(109.2)は、前記光学面とは反対側に少なくとも1つの突出部(109.5)を含み、該突出部は、前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つに対する境界部(109.3)を形成する光学配置構成。
  12. 請求項1~11のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記ベース要素(11.1)は、リング状であり、且つ/又は
    前記ベース要素(110.1)は、該ベース要素(110.1)の主延在平面を規定し、前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つは、前記ベース要素(110.1)の前記主延在平面に対して実質的に垂直に前記ベース要素(110.1)から突出し、特に複数の又は全部の前記保持ユニット(110.2)は、前記ベース要素(110.1)の前記主延在平面に対して実質的に垂直に前記ベース要素(110.1)から突出し、且つ/又は
    前記ベース要素(110.1)は、前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つとモノリシックに構成される光学配置構成。
  13. 請求項1~12のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    6個以上、好ましくは9個以上、さらに好ましくは18個~36個の保持ユニット(110.2)が設けられ、且つ/又は
    前記保持ユニット(110.2)は、周方向に沿って実質的に均等な分布で配置される光学配置構成。
  14. 特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、
    第1光学素子群(106)を含む照明装置(102)と、
    物体(104.1)を収容する物体装置(104)と、
    第2光学素子群(107)を含む投影装置(103)と、
    画像装置(105)と
    を備え、前記照明装置(102)は前記物体(104.1)を照明するよう構成され、且つ
    前記投影装置(103)は前記物体(103.1)の像を前記画像装置(105)に投影するよう構成される光学結像装置において、
    前記照明装置(102)及び/又は前記投影装置(103)は、請求項1~13のいずれか1項に記載の少なくとも1つの光学配置構成(108)を含むことを特徴とする光学結像装置。
  15. 特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の光学素子(109)を支持する方法であって、
    前記光学素子(109)は、保持装置(110)により保持され、前記光学素子(109)は、光学面を含み且つ主延在平面を規定し、該主延在平面で径方向及び周方向を規定し、
    前記光学素子(109)は、前記保持装置(110)の4つ以上の別個の保持ユニット(110.2)により前記保持装置(110)のベース要素(110.1)に対して保持され、前記保持ユニットは、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置される方法において、
    各保持ユニット(110.2)は、前記光学素子(109)と前記ベース要素(110.1)との間に他の前記保持ユニット(110.2)のクランプ接続とは別個のクランプ接続を成立させ、
    前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つ、好ましくは各保持ユニット(110.2)は、第1クランプユニット(110.3、110.5)及び該第1クランプユニット(110.3、110.5)とは別個の第2クランプユニット(110.4、110.6)を含み、
    第1クランプユニット(110.3、110.5)及び前記第2クランプユニット(110.4、110.6)は、それぞれ別個の場所で前記ベース要素(110.1)に接続され、
    前記第1クランプユニット(110.3、110.5)及び前記第2クランプユニット(110.4、110.6)は、クランプ接続を成立させるために相互に対して引き締められ、且つ
    前記光学素子(109)の境界部(109.3)が、前記第1クランプユニット(110.3、110.5)と前記第2クランプユニット(110.4、110.6)との間にクランプされることを特徴とする方法。
  16. 請求項15に記載の方法において、
    前記保持装置(110)の3つの保持ユニット(110.2)と前記光学素子(109)との間の各クランプ接続は、前記光学素子(109)が前記ベース要素(110.1)に対して空間的に固定されるように第1ステップで成立し、
    前記保持装置(110)の残りの保持ユニット(110.2)と前記光学素子(109)との間の各クランプ接続は、前記第1ステップの次の第2ステップで成立する方法。
  17. 特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の結像装置の光学配置構成であって、
    光学素子(109)と、
    該光学素子(109)を保持する保持装置(110)と
    を備え、前記光学素子(109)は、光学面(109.1)を含み且つ主延在平面を規定し、該主延在平面で径方向及び周方向を規定し、
    前記保持装置(110)は、ベース要素(110.1)及び4つ以上の別個の保持ユニット(110.2)を含み、
    該保持ユニット(110.2)は、前記ベース要素(110.1)に接続され、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置され、
    前記保持ユニット(110.2)は、前記ベース要素(110.1)に対して前記光学素子(109)を保持する、光学配置構成において、
    前記保持ユニット(110.2)のそれぞれは、前記光学素子(109)と前記ベース要素(110.1)との間に他の前記保持ユニット(110.2)のクランプ接続とは別個のクランプ接続を成立させることを特徴とする光学配置構成。
  18. 請求項17に記載の光学配置構成において、
    前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つ、好ましくは各保持ユニット(110.2)は、第1クランプ要素(110.3)及び第2クランプ要素(110.4)を含み、
    前記第1クランプ要素(110.3)及び前記第2クランプ要素(110.4)は、クランプ接続を成立させるために相互に対して引き締められ、且つ
    前記光学素子(109)の境界部(109.3)が、前記第1クランプ要素(110.3)と前記第2クランプ要素(110.4)との間にクランプされる光学配置構成。
  19. 請求項18に記載の光学配置構成において、
    第1クランプ要素(110.3)及び第2クランプ要素(110.4)は、クランプ接続を成立させるために、テンション要素(111)により相互に対して引き締められ、特に、
    前記テンション要素(111)は、特に遊びを持って前記境界部(109.3)の凹部(109.4)を貫通する光学配置構成。
  20. 請求項19に記載の光学配置構成において、
    前記テンション要素(111)は、引締めを成立させるために前記クランプ要素(110.3、110.4)の一方に螺入されるねじ部(111.1)を含み、特に、
    前記クランプ要素(110.3、110.4)の少なくとも一方は、接続部(110.5、110.6)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、前記接続部(110.5、110.6)は、前記ねじ部(111.1)の長手方向軸と実質的に平行に延びる軸周りの回転自由度を制限するように構成される光学配置構成。
  21. 請求項18~20のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記第1クランプ要素(110.3)は、接続部(110.5;110.7)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、且つ/又は
    前記第2クランプ要素(110.4)は、接続部(110.6;110.7)を介して前記ベース要素(110.1)に接続される光学配置構成。
  22. 請求項21に記載の光学配置構成において、
    前記接続部(110.5、110.6;110.7)は、少なくとも部分毎に板ばね式に構成され、且つ/又は
    前記接続部(110.5、110.6;110.7)は、径方向にコンプライアンスがあるよう構成され、且つ/又は
    前記接続部(110.5、110.6;110.7)は、少なくとも部分毎に径方向に対して垂直な平面内に実質的に延びる光学配置構成。
  23. 請求項21又は22に記載の光学配置構成において、
    前記第1クランプ要素(110.3)は、第1接続部(110.5)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、前記第2クランプ要素(110.4)は、第2接続部(110.6)を介して前記ベース要素(110.1)に接続され、特に、
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、相互に実質的に平行に延び、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、径方向に相互に離間し、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、径方向に少なくとも実質的に相互に整列し、且つ/又は
    前記第1接続部(110.5)及び前記第2接続部(110.6)は、相互に対して引き締められる前記クランプ要素(110.3、110.4)を径方向と実質的に平行に案内するよう構成された平行ガイド式に構成され、且つ/又は
    前記第1クランプ要素(110.3)及び前記第1接続部(110.5)は、第1場所で前記ベース要素(110.1)に接続された第1クランプユニットを形成し、前記第2クランプ要素(110.4)及び前記第2接続部(110.6)は、特に前記第1場所とは異なる第2場所で前記ベース要素(110.1)に接続された第2クランプユニットを形成する光学配置構成。
  24. 請求項17~23のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記光学素子(109)は、前記各保持ユニット(110.2)とのクランプ接続を成立させるために、各境界部(109.3)を含み、特に、
    前記光学素子(109)の前記境界部(109.3)は、前記保持ユニット(110.2)の2つのクランプ要素(110.3、110.4)間にクランプされ、且つ/又は
    前記境界部(109.3)の1つは、第1保持ユニット(110.2)と組み合わせ可能だが第2保持ユニット(110.2)とは組み合わせ可能でないよう構成される光学配置構成。
  25. 請求項24に記載の光学配置構成において、
    前記光学素子(109)の前記境界部(109.3)は、前記光学素子(109)の突出部(109.5)により形成され、特に、
    複数の前記境界部(109.3)が、前記光学素子(109)の共通の突出部(109.5)に形成され、且つ/又は
    全部の前記境界部(109.3)が、前記光学素子(109)のリング状の突出部(109.5)に形成され、且つ/又は
    前記光学素子(109)の前記突出部(109.5)は、周方向に且つ/又は周方向及び径方向により規定される平面に対して垂直な方向に延びる光学配置構成。
  26. 請求項24又は25に記載の光学配置構成において、
    前記各境界部(109.3)は、前記光学素子(109)に接続された境界要素(109.6)により形成され、特に、
    前記境界要素(109.6)は、前記光学素子(109)の凹部(109.8)に挿入され、特に、前記光学素子(109)の突出部(109.5)の凹部(109.8)に挿入され、且つ/又は
    前記境界要素(109.6)は、コネクタブッシュ(109.6)、特にカラー(109.7)を有するコネクタブッシュを含む光学配置構成。
  27. 請求項26に記載の光学配置構成において、
    前記光学素子(109)は、少なくとも前記突出部(109.5)の領域が、特にSiSiCを含むセラミック材料から製造され、且つ/又はZerodurを含む材料及び/又はレンズ材料から製造され、且つ/又は
    前記境界要素(109.6)は、インバー及び/又はステンレス鋼及び/又はモリブデンを含む材料から特に製造される光学配置構成。
  28. 請求項17~27のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記光学面は、反射光学面であり、
    前記光学面は、前記光学素子(109)の本体(109.2)に配置され、且つ
    前記本体(109.2)は、前記光学面とは反対側に少なくとも1つの突出部(109.5)を含み、該突出部は、前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つに対する境界部(109.3)を形成する光学配置構成。
  29. 請求項17~28のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    前記ベース要素(11.1)は、リング状であり、且つ/又は
    前記ベース要素(110.1)は、該ベース要素(110.1)の主延在平面を規定し、前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つは、前記ベース要素(110.1)の前記主延在平面に対して実質的に垂直に前記ベース要素(110.1)から突出し、特に複数の又は全部の前記保持ユニット(110.2)は、前記ベース要素(110.1)の前記主延在平面に対して実質的に垂直に前記ベース要素(110.1)から突出し、且つ/又は
    前記ベース要素(110.1)は、前記保持ユニット(110.2)の少なくとも1つとモノリシックに構成される光学配置構成。
  30. 請求項17~29のいずれか1項に記載の光学配置構成において、
    6個以上、好ましくは9個以上、さらに好ましくは18個~36個の保持ユニット(110.2)が設けられ、且つ/又は
    前記保持ユニット(110.2)は、周方向に沿って実質的に均等な分布で配置される光学配置構成。
  31. 特にマイクロリソグラフィ用の光学結像装置であって、
    第1光学素子群(106)を含む照明装置(102)と、
    物体(104.1)を収容する物体装置(104)と、
    第2光学素子群(107)を含む投影装置(103)と、
    画像装置(105)と
    を備え、前記照明装置(102)は前記物体(104.1)を照明するよう構成され、且つ
    前記投影装置(103)は前記物体(103.1)の像を前記画像装置(105)に投影するよう構成される光学結像装置において、
    前記照明装置(102)及び/又は前記投影装置(103)は、請求項17~30のいずれか1項に記載の光学配置構成(108)を少なくとも1つ含むことを特徴とする光学結像装置。
  32. 特に極UV(EUV)域の光を用いるための、マイクロリソグラフィ用の光学素子(109)を支持する方法であって、
    前記光学素子(109)は、保持装置(110)により保持され、前記光学素子(109)は、光学面を含み且つ主延在平面を規定し、該主延在平面で径方向及び周方向を規定し、
    前記光学素子(109)は、前記保持装置(110)の4つ以上の別個の保持ユニット(110.2)により前記保持装置(110)のベース要素(110.1)に対して保持され、前記保持ユニットは、周方向に沿って分配され且つ相互に離間するように配置される方法において、
    各保持ユニット(110.2)は、前記光学素子(109)と前記ベース要素(110.1)との間に他の前記保持ユニット(110.2)のクランプ接続とは別個のクランプ接続を成立させることを特徴とする方法。
  33. 請求項32に記載の方法において、
    前記保持装置(110)の3つの保持ユニット(110.2)と前記光学素子(109)との間の各クランプ接続は、前記光学素子(109)が前記ベース要素(110.1)に対して空間的に固定されるように第1ステップで成立し、
    前記保持装置(110)の残りの保持ユニット(110.2)と前記光学素子(109)との間の各クランプ接続は、前記第1ステップの次の第2ステップで成立する方法。
JP2021545835A 2019-02-06 2020-02-05 光学素子の支持 Pending JP2022519867A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019201509.3 2019-02-06
DE102019201509.3A DE102019201509A1 (de) 2019-02-06 2019-02-06 Abstützung eines optischen Elements
US16/780,446 US11366393B2 (en) 2019-02-06 2020-02-03 Support of an optical element
US16/780,446 2020-02-03
PCT/EP2020/052851 WO2020161181A1 (en) 2019-02-06 2020-02-05 Support of an optical element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022519867A true JP2022519867A (ja) 2022-03-25

Family

ID=71615163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021545835A Pending JP2022519867A (ja) 2019-02-06 2020-02-05 光学素子の支持

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11366393B2 (ja)
EP (1) EP3921702A1 (ja)
JP (1) JP2022519867A (ja)
KR (1) KR20210124234A (ja)
CN (1) CN113424105A (ja)
DE (1) DE102019201509A1 (ja)
WO (1) WO2020161181A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102023205553A1 (de) 2023-06-14 2024-05-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Justageeinheit, Justageeinrichtung und Lithographiesystem

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3894509B2 (ja) 1995-08-07 2007-03-22 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
US5882133A (en) 1996-11-01 1999-03-16 Premark Rwp Holdings, Inc. Glue applicator for laminate flooring
JP2003156668A (ja) * 2001-11-20 2003-05-30 Canon Inc 光学ユニット、露光装置および光学機器
US6909493B2 (en) * 2002-03-20 2005-06-21 Canon Kabushiki Kaisha Correction member, retainer, exposure apparatus, and device fabrication method
US20030234918A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-25 Nikon Corporation Adjustable soft mounts in kinematic lens mounting system
US7760327B2 (en) 2003-10-02 2010-07-20 Carl Zeiss Smt Ag Reflecting optical element with eccentric optical passageway
JP2007524130A (ja) 2004-02-25 2007-08-23 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 光学要素を取り付けるためのハウジング構造
DE102004018656A1 (de) * 2004-04-13 2005-11-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
JP5069232B2 (ja) * 2005-07-25 2012-11-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ
DE102006038634A1 (de) 2006-08-17 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Halteeinrichtung für ein optisches Element mit Stützkraftausgleich
US8441747B2 (en) 2006-09-14 2013-05-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical module with minimized overrun of the optical element
EP2444829A1 (en) * 2006-09-14 2012-04-25 Carl Zeiss SMT GmbH Optical element unit and method of supporting an optical element
JP5128665B2 (ja) * 2007-08-23 2013-01-23 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
JP5168507B2 (ja) * 2009-05-20 2013-03-21 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
WO2012013227A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Facet mirror device
DE102012200732A1 (de) * 2012-01-19 2013-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegelanordnung, insbesondere zum Einsatz in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013109185B3 (de) * 2013-08-23 2014-05-22 Jenoptik Optical Systems Gmbh Optische Baugruppe mit einer Fassung mit Verbindungseinheiten gerichteter Nachgiebigkeit
JP6501793B2 (ja) * 2014-04-04 2019-04-17 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 変形装置を備えた光学モジュール及び光学素子を変形させる方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE102019201509A1 (de) 2020-08-06
US20200249577A1 (en) 2020-08-06
CN113424105A (zh) 2021-09-21
KR20210124234A (ko) 2021-10-14
WO2020161181A1 (en) 2020-08-13
US11366393B2 (en) 2022-06-21
EP3921702A1 (en) 2021-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7218462B2 (en) Holding mechanism, optical apparatus and device manufacturing method
US9134501B2 (en) Optical element unit and method of supporting an optical element
US9891535B2 (en) Optical projection system
US7602564B2 (en) Optical element holding apparatus
US20060056083A1 (en) Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method
US10078270B2 (en) Support for a component of an optical device
JP2022519867A (ja) 光学素子の支持
KR100467262B1 (ko) 스테이지및스테이지로의이동경지지기구
JP2004247484A (ja) ミラー保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
WO2017198286A1 (en) Mounting arrangement for an optical imaging arrangement
US20060187511A1 (en) Device for mounting an optical element, particularly a lens in an objective
US10571813B2 (en) Connection arrangement for a force-fit connection between ceramic components
JP2022532127A (ja) 光学素子の支持
US20110065051A1 (en) Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20230117243A1 (en) Connecting components of an optical imaging device
JP2008311498A (ja) 反射型露光装置
JP2005333133A (ja) リトグラフ装置およびデバイス製造方法
JP2005266146A (ja) 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230203

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20231107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231128

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20240219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240528