JP2005333133A - リトグラフ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リトグラフ装置は、放射ビームPBを形成するために構成された照射系ILと、投影ビームPBの横断面にパターンを与えるために構成されたパターン形成装置MAを支持するために構成された支持体MTと、基板を保持するために構成された基板テーブルWTと、基板のターゲット箇所上にパターンを投影するために構成された投影系PLと、第二の装置部材を第一の装置部材に連結するために構成された少なくとも一つの取付けブラケット3とを含む。取付けブラケット3a、3bは第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分はそれぞれの剛部分よりも剛性が小さく、形状固定によって第一および第二の剛部分を実質的に連結するために、取外し可能なブロック部材が備えられる。
【選択図】図1
Description
基板のターゲット箇所上にパターン形成された放射ビームを投影し、また本発明による取付けブラケットを使用してリトグラフ装置の第一の装置部材を第二の装置部材に取付けることを含むデバイス製造方法が提供される。
C ターゲット箇所
CO コンデンサー
IL 照射装置
IN 集積光学装置
M1,M2 マスク整合マーク
MA マスク
MT マスク・テーブル
P1,P2 マーク基板整合
PB 投影ビーム
PL 投影系
SO 放射光源
W 基板
WT 基板テーブル
1 第一の装置部材
2 第二の装置部材
3 取付けブラケット
11 第一のアーム
12 第二のアーム
13 弾性部分
14 ブロック空所1
15 ブロック部材
16 ボルト
17 ブラケット開口
18,19 スロット
101 第一の装置部材
102 第二の装置部材
103 取付けブラケット
111,112 取付けブラケット・アーム
203 ブラケット
214 ブロック空所
215 ブロック部材
216 ボルト
218,219 スロット
244,245,246 空所
Claims (66)
- 放射ビームを調整するように構成された照射系と、
ビームの横断面にパターンを与えるように構成されているパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
基板のターゲット箇所にパターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
第二の装置部材を第一の装置部材に連結するように構成され、第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分が両剛部分の何れよりも小さい剛性とされている取付けブラケットであって、第一の剛部分の位置および第二の剛部分の位置を互いに固定するように固定機構が構成されており、この固定機構は取付けブラケットの第一および第二の取付け部材を形状固定によって実質的に連結するように構成されている取付けブラケットとを含むリトグラフ装置。 - 固定機構が取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の間を延在する空所を含み、空所およびブロック部材が互いに協働して形状固定を行うように構成されている請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 空所が弾性部分から間隔を隔てられている請求項2に記載されたリトグラフ装置。
- 空所が円筒形である請求項2に記載されたリトグラフ装置。
- ブロック部材が円筒形のブッシュである請求項4に記載されたリトグラフ装置。
- ブッシュおよび空所がすきま嵌めまたは滑り嵌めで嵌合される請求項5に記載されたリトグラフ装置。
- 空所の中心軸線が仮想面を延在し、該仮想面は取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の対向面の間を延在している請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- ブロック部材が弾性部分の仮想枢軸に実質的に平行に延在する請求項2に記載されたリトグラフ装置。
- ブロック部材が空所から取外し可能である請求項2に記載されたリトグラフ装置。
- ブロック部材がブロック状態となるまで弾性変形され、ブロック部材が空所内の形状固定によってブラケットの第一および第二の剛部分をブロックする請求項2に記載されたリトグラフ装置。
- ブッシュが約16μmを超えて少なくとも弾性変形できる請求項5に記載されたリトグラフ装置。
- ブロック部材をブロック状態にまで弾性変形させるために構成された変形機構をさらに含む請求項10に記載された素子製造方法。
- 変形機構がボルトを含み、ボルトおよびブロック部材は互いに協働してブロック部材をブロック状態にまで弾性変形させるために構成されている請求項12に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットがボルトを受入れる開口を含む請求項13に記載されたリトグラフ装置。
- ボルトがブロック部材に対して実質的に直角に延在する請求項13に記載されたリトグラフ装置。
- ボルトをブラケットから取外せる請求項13に記載されたリトグラフ装置。
- ボルトが弾性部分の水平な仮想枢軸に対して実質的に直角に延在し、これによりボルトの中心線がブラケットの垂直横断面で見たときに水平な仮想枢軸と交差する請求項13に記載されたリトグラフ装置。
- 第一の装置部材がフレーム部材である請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 第二の装置部材が少なくとも一つのセンサーを含む請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 第二の装置部材が異なる対象物を互いに整合させるように構成されている請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットの第二の剛部分が少なくとも横動および(または)回転方向の一方向において基板の位置を決定するために構成され、および(または)装置を備えている請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 第二の装置部材が少なくとも一つの光学部材を含む請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 光学装置がミラーであることを特徴とする請求項22に記載されたリトグラフ装置。
- 光学部材がレンズまたはプリズムである請求項22に記載されたリトグラフ装置。
- 第一および第二の剛部分がアームであり、アームは実質的にL形のブラケットを形成している請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットの第一の剛部分と、第三の剛部分と、弾性部分とが一体部片として形成されている請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットが少なくとも一種の金属で作られている請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットの長手方向断面で見たときに、ブラケットの弾性部分の厚さがブラケットの第一および第二の剛部分まの厚さよりも薄く、弾性部分が各剛部分よりも剛性が低い請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 弾性部分の厚さが第一の剛部分の厚さの半分以下である請求項28に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットの弾性部分の厚さが約2cm以下である請求項28に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットが少なくとも一つのスロットを含み、スロットはブラケットの弾性部分を形成するためにブラケットの第一および第二の剛部分の間を延在する請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットが少なくとも一つのスロットおよび隣接する第二のスロットを含み、第一のスロットは第一の剛部分の長手方向に実質的に平行に延在し、第二のスロットは弾性部分へ向けて第一のスロットから延在する請求項31に記載されたリトグラフ装置。
- ブラケットが取付けられた後、第一の装置部材から第二の装置部材を取外すことでブラケットが装置から取外せる請求項1に記載されたリトグラフ装置。
- 固定機構が固定位置にあるときに固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に取付け、固定機構が解除位置にあるときに固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を解除する請求項1に記載のリトグラフ装置。
- 放射ビームを調整するように構成された照射系と、
ビームの横断面にパターンを与えるように構成されているパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
基板のターゲット箇所にパターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
第二の装置部材を第一の装置部材に連結するように構成され、第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分が両剛部分の何れよりも小さい剛性とされている取付けブラケットであって、取付けブロックの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するように取外し可能なブロック部材が構成されている取付けブラケットとを含むリトグラフ装置。 - リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットであって、第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、弾性部分は剛部分の各々よりも小さい剛性を有し、固定機構が取付け第一および第二の剛部分の位置を互いに固定するために備えられ、固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するように構成されているブラケット。
- 固定機構が取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の間を延在する空所を含み、取付け機構は空所に嵌合されるブロック部材を含み、空所およびブロック部材は互いに協働して形状固定を形成するために構成されている請求項36に記載のブラケット。
- 空所が円筒形で、ブロック部材が円筒形のブッシュである請求項36に記載されたブラケット。
- ブロック部材が空所から取り外る請求項36に記載されたブラケット。
- ブロック部材がブロック状態となるまで弾性変形でき、ブロック部材は空所内の形状固定によってブラケットの第一および第二の剛部分をブロックする請求項36に記載されたブラケット。
- ブロック部材を弾性変形させるために構成された変形機構を含む請求項40に記載されたブラケット。
- 変形機構がボルトを含み、ボルトおよびブロック部材は互いに協働してブロック部材をブロック状態にまで弾性変形させるように構成されている請求項41に記載されたブラケット。
- リトグラフ装置の第二の装置部材が少なくとも一つのセンサーを含む請求項36に記載されたブラケット。
- 第二の装置部材が異なる対象物を互いに整合させるために構成されている請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットの第二の剛部分が少なくとも横動および回転方向の一方向で基板の位置を決定するための装置を含む請求項36に記載のブラケット。
- 第二の装置部材が少なくとも一つの光学部材を含む請求項36に記載のブラケット。
- 光学装置がミラーである請求項36に記載のブラケット。
- 光学装置がレンズまたはプリズムである請求項36に記載のブラケット。
- 第一の剛部分が第一のブラケット・アームであり、第二の剛部分が第二のブラケット・アームであり、第一および第二のブラケット・アームは実質的にL形ブラケット、実質的に真直のブラケットまたは実質的に湾曲したブラケットを形成する請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットの第一の剛部分、第二の剛部分および弾性部分が一体部片で形成された請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットが少なくとも一種の金属で作られた請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットの長手方向の断面で見たとき、ブラケットの弾性部分の厚さが第一および第二の剛部分の厚さよりも小さく、弾性部分は剛部分の剛性の約30%以下の剛性である請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットの弾性部分が第一の剛部分の厚さの半分以下である請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットの弾性部分の厚さが約2μm以下である請求項36に記載のブラケット。
- ブラケットが少なくとも一つのスロットを含み、スロットはブラケットの弾性部分を形成するために第一および第二の剛部分の間を延在している請求項36に記載のブラケット。
- 固定機構が固定位置にあるときには、固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって固定し、固定機構が解放位置にあるときには、固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を解放する請求項36に記載のブラケット。
- 弾性部分の剛性は剛部分の剛性の約30%以下である請求項36に記載のブラケット。
- リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットであって、第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、取外しできるブロック部材が取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するように構成されているブラケット。
- 基板のターゲット箇所にパターン形成された放射ビームを投影し、
リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に取付けブラケットによって取付け、取付けブラケットは第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、取付けブラケットの第一および第二の剛部分はブラケットの取付け時に形状固定によって互いに実質的に固定されることを含むリトグラフ装置で使用されるデバイス製造方法。 - 第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含む取付けブラケットで、その第一および第二の剛部分はブラケットの取付け時に形状固定によって互いに実質的に固定される取付けブラケットによって、リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結することを含む取付け方法。
- 形状固定がブラケットの取付け後に解除される請求項60に記載の方法。
- リトグラフ装置の第一の装置部材から第二の装置部材を取外す方法であって、第一の装置部材は取付けブラケットの第一の剛部分に連結されており、第二の構成部材は第二の装置部材を備えており、取付けブラケットは第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分は剛部分の何れの剛性よりも小さい剛性を有し、取付けブラケットの第一および第二の剛部分は形状固定によって互いに実質的に固定され、取付けブラケットが第一の装置部材から連結解除された後に装置から取外されるようになされる方法。
- 請求項69の方法により製造されたデバイス。
- ボルトを受入れる開口が弾性部分の水平な仮想枢軸に対して実質的に直角に延在し、ブラケットの垂直断面にて見たときに、装置の中心線が枢軸と交差する請求項14に記載の装置。
- ボルトを受入れる開口が仮想真直線に対して実質的に直角に延在し、仮想真直線は第一のブラケット・アームの仮想支持軸線から第二の水平な枢軸へ延在する請求項14に記載の装置。
- 仮想真直線がボルトを受入れる開口と交差する請求項65に記載の装置。
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