JP2005333133A - リトグラフ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】装置部材を所望の位置にて互いに精度よく取付けることのできるリトグラフ装置を提供する。
【解決手段】リトグラフ装置は、放射ビームＰＢを形成するために構成された照射系ＩＬと、投影ビームＰＢの横断面にパターンを与えるために構成されたパターン形成装置ＭＡを支持するために構成された支持体ＭＴと、基板を保持するために構成された基板テーブルＷＴと、基板のターゲット箇所上にパターンを投影するために構成された投影系ＰＬと、第二の装置部材を第一の装置部材に連結するために構成された少なくとも一つの取付けブラケット３とを含む。取付けブラケット３ａ、３ｂは第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分はそれぞれの剛部分よりも剛性が小さく、形状固定によって第一および第二の剛部分を実質的に連結するために、取外し可能なブロック部材が備えられる。
【選択図】図１

Description

本発明はリトグラフ装置、デバイス製造方法およびこれにより製造されたデバイスに関する。

リトグラフ装置は基板のターゲット箇所に所望のパターンを付与する機械である。例えば、リトグラフ装置は集積回路（ＩＣ）の製造に使用できる。その環境では、ＩＣの個々の層に対応した回路パターンを形成するためにマスクのようなパターン形成装置が使用でき、またこのパターンは、放射光感応物質（レジスト）の層を有する基板（例えばシリコン・ウェーハ）上のターゲット箇所（例えば、一つまたは幾つかの部分、すなわちダイを包含する）上に像形成されることができる。一般に、一つの基板はターゲット箇所が隣接されたネットワークを含み、それらのターゲット箇所が順次に露光される。既知のリトグラフ装置は、一回の行程で一つのターゲット箇所に全パターンを露光することで個々のターゲット箇所の照射を行ういわゆるステッパと、投影ビームをによりパターンを所定の方向（「走査」方向）へ走査すると同時に、その方向と実質的に平行または非平行な方向へ基板を同期して走査し、これにより個々のターゲット箇所の照射を行ういわゆるスキャナとを含む。

一般に、リトグラフ装置は互いに取付けられた各種の部材を含む。例えば、センサー、光学部材および他の部材は装置内の一つ以上の適当なフレーム、取付け面または他の面に連結される。多くの例において、取付けは部材の整合が保証されるように行われなければならない。このことから、リトグラフ装置の望ましい仕様に合致させるためには位置決め公差は通常非常に小さく、例えばミクロンメータ領域以下である。多くの場合、三軸直交座標ｘ，ｙ，ｚに沿って、ならびにそれらのｘ，ｙ，ｚ軸のまわりのそれぞれの回転方向の各々において位置決めは比較的正確でなければならない。さらに、多くの部材は装置内に安定して取付けられて、長い作動時間に亘って所望位置が保持されなければならない。

さらに、機械的観点から十分に定められた構造を達成することが望ましい。装置の部材間の過剰な程の静的連結の全てに作用する応力、機械力および（または）回転力の影響は予測が難しいか不可能である。したがって、このような過剰なまでの静的構造はリトグラフ装置の使用時に予測できない位置決め間違いをもたらしかねない。

さらに、例えば保守作業などで装置から部材を取外すことは一般に望まれることである。この場合、取外した部材を迅速に、同じ位置に正確に再度取付けることが望まれる。したがって、装置部材の取付けにおける良好な再現性がなければならず、ここで所望の小さな位置決め公差の問題が再び大きくなってくる。

本発明の一つの概念は、装置部材を所望の位置にて互いに精度よく取付けることができるリトグラフ装置を提供することである。

本発明の一つの概念は、一つ以上の装置部材を取付けることができ、取付けの間に一つ以上の部材の整合位置を簡単な方法で保持できるリトグラフ装置を提供することでもある。

さらに、本発明の他の概念は、一つ以上の装置部材を過剰な程に静的に取付けることを防止するために構成された取付けブラケット構造を提供することである。

本発明のさらに他の概念は、所望の位置に所望の公差でリトグラフ装置部材を取付けることのできる取付けブラケットを提供することである。

さらに、本発明の目的は、高度の再現性を有して少なくとも一つのリトグラフ装置部材を取付けることに使用できる取付けブラケットを提供することである。

本発明の概念によれば、放射ビームを調整するために構成された照射系と、ビームの横断面にパターンを与えるように構成されているパターン形成装置を支持するために構成された支持体と、基板を保持するために構成された基板テーブルと、基板のターゲット箇所にパターン形成されたビームを投影するために構成された投影系と、第二の装置部材を第一の装置部材に連結するために構成され、第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分が両剛部分の何れよりも剛性が弱くされている少なくとも一つの取り付けブラケットであって、第一の剛部分の位置および第二の剛部分の位置を互いに固定するために固定機構が構成されており、この固定機構は取付けブラケットの第一および第二の取付け部材を形状固定によって実質的に連結するために構成されている取付けブラケットとを含リトグラフ装置が提供される。

この装置は少なくとも一つの取付けブラケットを備えているので、第一および第二の装置部材は所望の位置で相互に比較的正確に取付けられることができる。例えば、取付けの間、第一の装置部材は第一の剛部分に連結され、第二の装置部材はブラケットの第二の剛部分に連結される。その後同様に取付けの間、第一および第二のブラケット部分は形状固定して互いに固定され、比較的剛い取り付けブラケットになる。さらに、取付けブラケットの剛性は、例えば力による固定を利用したブラケットに対して形状固定であるために、比較的良好に制御することができる。さらに、特に取付けブラケットを堅くするための固定機構の適用時に、第一および第二の剛部分の間の滑りはごく僅かか全く生じない。何故なら、特に力による固定に対して形状固定だからである。その結果、第一および第二の装置部材は比較的堅い取付けブラケットで互いに連結され、これによりその連結は正確で、小さな位置決め公差に合致する。また、取付けブラケットは良好な整合再現性を有して連結を行う。何故なら、取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結する固定機構だからである。

取付けブラケットの弾性部分は、特に組立て後、形状固定が取外されたときに第一および第二の装置部材を機械的に連結解除するための、ブラケットの第一および第二の剛部分を連結解除する或る種の機構を提供することができる。弾性部分は、例えば、装置部材が高度の再現性で所望位置に保持できるように、組立て後に過剰なほどの静的状態を解除するように作用する。本発明の他の概念によれば、この固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向する部分間を延在する空所を含み、固定機構はこの空所内に嵌合するブロック部材を含んでいて、空所とブロック部材とが互いに協働して形状固定を行うように構成される。

これは、形状固定を行うための比較的小型、簡単で安価な構造を提供する。したがって、比較的小さな空間が利用できる場合に形状固定を適用することができ、これによりリトグラフ装置に所望される小型化が達成され、保持される。

空所は弾性部分から間隔を隔てることができる。さらに、例えば空所は円筒形とすることができる。その場合にブロック部材は、例えば円筒形のブッシュとされ得る。円筒形空所および円筒形ブッシュは比較的一様で安定した形状固定を行う。したがって、所望の形状固定達成するためには、ブッシュおよび空所は動き嵌めまたは滑り嵌め、例えばＩＳＯ２８６ Ｈ６／ｈ６嵌めで嵌合する。ＩＳＯ嵌めの製造性は比較的良好である。空所の中央軸線は、例えば取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の対向面間を延在する仮想面内を延在する。したがってこの固定機構は、例えば前述の仮想面に平行で中心軸線に直角な方向にブラケットの少なくとも一つの形状固定の剛性を与えることができる。

さらに、本発明によれば、ブロック部材は所望の形状固定を行うために弾性部分の仮想枢軸に実質的に平行に延在する。

本発明の他の概念によれば、ブロック部材は空所から取外せる。このブロック部材の取外しは、形状固定によるブラケット剛性の所望される解除を行うことができ、これによりブラケットの第二の剛部分はある方法でブラケットの第一の剛部分から機械的に連結解除できる。一実施例によれば、ブロック部材はブロック状態となるように弾性変形し、このブロック部材が空所内での形状固定によりブラケットの第一および第二の剛部分をブロックする。

したがって、ブロック状態では、ブロック部材はブラケットの第一および第二の剛部分の形状固定を行う。ブロック部材がブロック状態になく、例えば適当な解放状態である場合には、形状固定は少なくとも部分的に行われない。ブロック部材がブロック状態にない場合には、例えばブロック部材は空所から取外すことができる。ブロック部材がブッシュである場合、そのブッシュは例えば約１６μｍを超えて弾性変形できる。ブッシュは、例えばブッシュおよび空所の全体的な寸法に応じて他の距離を超えて弾性変形できる。

変形機構はブロック状態となるようにブロック部材を弾性変形させることができる。ブロック部材の状態を制御するために変形機構が使用でき、これにより望まれるままに形状固定が行われるか、少なくとも部分的に行われない。例えば、変形機構は単純にボルトを含み、ボルトおよびブロック部材が互いに協働してブロック部材をブロック状態となるように弾性変形させるように構成される。したがってブラケットは、例えばボルトを受入れる開口を含む。一実施例では、ボルトはブロック部材に対して実質的に直角に延在する。さらにボルトはそれがブロック部材の変形に使用されるべきでない場合、および（または）ブラケットからブロック部材を取外すことが望まれる場合に、ブラケットから取外すことができる。ブラケットの垂直横断面にて見た場合、ボルトはその中心線がブラケットの弾性部分の水平な仮想枢軸と交差するようにその枢軸に対して直角に延在することができる。この場合、ブロック部材の取付け時に、特に第一および第二の剛部分の相対的な位置決めにズレを生じ兼ねないような回転力をブラケットに対して比較的僅かに作用させるか、実質的に全く作用させない構造が得られる。

取付けブラケットで互いに連結された第一および第二の装置部材は、さまざまな装置部材を含む。例えば、第一の装置部材はフレーム部材とされる。第二の装置部材は、例えば少なくとも一つのセンサーを含み得る。同様に、第二の装置部材は異なる対象物を互いに整合させるように構成できる。ブラケットの第二部分は少なくとも一つの横動方向および（または）回転方向での基板位置を決定するために構成できる。さらに、第二の装置部材は少なくとも一つの光学部材を含む。例えば、光学部材はミラー、レンズまたはプリズムとされることができる。

本発明の一実施例では、第一および第二の剛部分は実質的にＬ形のブラケットを形成する。例えば、第一および第二の剛部分はそれぞれブラケット・アームとして形成することができる。さらに、ブラケットの第一の剛部分、第二の剛部分および弾性部分は一体部材として作られる。ブラケットは少なくとも一種の金属で作られて、比較的堅固、強固且つ頑丈なブラケットとなされる。例えば、ブラケットは金属の堅固な部片とされることができる。

ブラケットの弾性部分の厚さは、ブラケットの長手方向の横断面にて見て例えばブラケットの第一および第二の剛部分の厚さよりも小さくこれにより弾性部分は各々の剛部分よりも剛性が小さくされる。弾性部分の厚さは、例えばブラケットの剛部分の剛性の約３０％か、さの剛性よりも小さくされる。ブラケット弾性部分は、例えばブラケットの第一の剛部分の厚さの半分よりも小さい厚さとされる。また、ブラケットの弾性部分は、例えばブラケットの全体寸法に亘って約２ｃｍ以下の厚さとすることができる。

実施例で、ブラケットは第一および第二の剛部分の間を延在してブラケットに弾性部分を形成するための少なくとも一つのスロットを含む。例えば、ブラケットは少なくとも一つの第一のスロットと、隣接する第二のスロットとを含み、第一のスロットはブラケットの第一の剛部分の長手方向に実質的に平行に延在し、第二のスロットは第一のスロットからブラケット弾性部分へ向けて延在する。このような一つ以上のスロットを形成することで、ブラケットの弾性部分がこのようにブラケットに形成され、これにより弾性部分はブラケットの一体部分となる。したがって、ブラケットは比較的耐久性が強く、一体部片でのみ作られた比較的小さな部分を含む。

さらに本発明によれば、固定機構はそれが固定位置にあるときに取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に固定し、固定機構が解放位置にあるときに取付けブラケットの第一および第二の剛部分を解放する。

これは、特に一方でブラケットを剛性化させ、また他方でブラケットの剛性を取除くということに関して上述の利点を与える。解放後には、固定機構が解放位置にあると、ブラケットの第一および第二の剛部分は特にブラケットの弾性部分でのみ互いに連結されることになる。

ブラケットが装置に取付けられた後、例えば第二の装置部材を第一の装置部材から取外すためにブラケットは装置から取外すことができる。この場合、ブラケットは、例えば装置の保守などの間に取外すことができる。取外した後、ブラケットは装置に再び備え付けることができる。したがって、形状固定を使用することで、第二の装置部材の位置は正確に再現することができる。

本発明の他の概念によれば、放射ビームを形成するために構成された照射系と、投影ビームの横断面にパターンを与えるために構成されたパターン形成装置を支持するために構成された支持体と、基板を保持するために構成された基板テーブルと、基板のターゲット箇所上にパターンを投影するために構成された投影系と、第二の装置部材を第一の装置部材に連結するために構成された少なくとも一つの取付けブラケットであって、第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分はそれぞれの剛部分よりも剛性が小さく、形状固定によって取付けブラケットの第一および第二の剛部分を実質的に連結するために取外し可能なブロック部材が備えられている取付けブラケットとを含むリトグラフ装置が提供される。

使用中は、第一および第二の装置部材は取付けブラケットによって互いに連結され、ブラケットの第一および第二の剛部分は形状固定によって互いに連結されてブラケットが剛性化される。この場合、実質的に力は全く使用されないか、極く小さな力しか使用されず、特に圧縮力は実質的に全く使用されず、ブラケットを剛性化するときに剛部分のそれぞれの位置の移動が実質的に生じないようになされる。したがって、このブラケットは第一および第二の装置部材を或る形状において互いに安定させて正確に位置決めすることができる。例えば取付けブラケットは、装置の組立て時に、例えば第二の装置部材を装置に或る位置および（または）或る配向で取付けるべきときに使用することができる。

剛性化された取付けブラケットは、装置が作動されていないとき、および（または）装置の移動時に、第一および第二の装置部材を所定位置に保持するために使用できる。装置の移動は或る種の振動を装置にもたらし、これは装置部材の望ましいあらゆる位置決めのに害を与える。本発明の取付けブラケットは、第一および第二の装置部材の相対的な位置変えで生じる望ましくないあらゆる振動を防止する。

さらに、このブロック部材は取外しできる。ブロック部材を取外した後、ブラケットの弾性部分が第一および第二の剛部分の間、したがって第一および第二の装置部材の間に或る程度の弾性を与える。この弾性は、例えば装置から第二の装置部材へ伝わる、またはその逆に伝わる振動を防止する。また、ブラケットの弾性部分は装置部材の一方、例えば第二の装置部材の第一の部材に対する静的に十分に決定されている連結すなわち取付けを行わせる。

本発明の取付けブラケットは、装置の分解において第二の装置部を第一の装置部材から連結解除するべきときに使用することができる。この場合、特にブラケットを剛性化させるために、形状固定によって取付けブラケットの第一および第二の剛部分を連結するために、ブロック部材が取付けブラケットに取付けられる。したがって、第一および第二の剛部分の位置は比較的長い時間間隔に亘って比較的良好に保持される。次に、比較的剛性の取付けブラケットは装置から取外すことができる。ブラケットは装置部材から連結解除されるが、装置から第二の装置部材を取外すために第二の装置部材から連結解除されることはない。例えば保守に関連して或る時間の経過後、依然として第二の装置部材を保持している形状固定取付けブラケットは、再び装置に戻されて第一の装置部材に連結することができる。この結果、第二の装置部材は再び第一の装置部材に対して、前と同じ位置に正確であることが好ましく連結される。その後、ブロック部材を取付けブラケットから取外して、ブラケットの弾性部分の弾性が解放することができる。

本発明はリトグラフ装置における第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットであって、本発明による装置に特に適しており、それに使用するようになされたブラケットをさらに提供する。

本発明の概念によれば、リトグラフ装置における第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットであって、第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、弾性部分はブラケットのそれぞれの剛部分よりも剛性が小さく、形状固定によって取付けブラケットの第一および第二の剛部分を実質的に連結するために固定機構が配置されたブラケットが提供される。

ブラケットは、ブラケット部材の形状固定による第一および第二の装置部材の互いに対する強固な位置決めを行う。また、形状固定が解除されると、ブラケットは第一および第二の装置部材を連結する或る種の連結機構を形成する。

本発明の他の概念によれば、リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットが提供される。このブラケットは、第一の後部と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、弾性部分はブラケットの剛部分の各々よりも剛性が小さく、取外し可能なブロック部材が取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するために備えられる。

取外し可能なブロック部材は、特にブラケットの弾性部分の弾性によって生じるブラケットの第一および第二の剛部分の互いに対する弾性的な動きをブロックするために取付けられる。また、ブロック部材はブラケットを剛性化するために作用する。例えば、これは第二の装置部材の取付け時、第二の装置部材の取外し時、および（または）装置の移動時に有利となる。例えば第一および第二の装置部材の相対的な或る種の機械的連結および（または）静的に定められた連結を行うために、ブロック部材が取外されるとブラケットの第一の剛部分および第二の剛部分は弾性部分によってのみ連結されることになる。

本発明の他の概念によれば、
基板のターゲット箇所上にパターン形成された放射ビームを投影し、また本発明による取付けブラケットを使用してリトグラフ装置の第一の装置部材を第二の装置部材に取付けることを含むデバイス製造方法が提供される。

装置または少なくとも一つのブラケットを使用することで、少なくとも一つの第一の装置部材および少なくとも一つの第二の装置部材を相対的に比較的正確に位置決めすることができる。ブラケットは形状固定を使用することで剛性化することができる。したがって、一つ以上のそれぞれの装置部材の所望される位置決めは、例えば装置移送および（または）その保守の間の長い時間に亘って保持されることができる。また、ブラケットは形状固定では剛性化されないので、特に装置の運転時にはそれぞれの装置部材は或る種の方法で機械的に連結解除できる。したがって、デバイスは高精度で、所望される小さな公差にて作られる。また、この全体方法による処理量は、特に保守時間を含めたときに比較的大きくなる。何故なら、第一および第二の装置部材の所望される位置決めは、ブラケット（多数または複数）を使用して比較的良好に保持され、再取付け、再較正、および（または）その装置部材の再位置決めで失われるべき時間はほとんどない。

本発明はまた上述したデバイス製造方法により、および（または）上述したリトグラフ装置により製造されるデバイスも提供する。

このデバイスは非常に高精度で正確に作ることができる。そのような精度は、例えば装置が組立てまたは再組立てされた比較的直後に、少なくとも一つの第一の装置部材を少なくとも一つの第二の装置部材に連結するために少なくとも一つの取付けブラケットを使用したときに、達成される。

本発明はさらにリトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に取付けるための方法であって、第二の装置部材を第一の装置部材に連結するために取付けブラケットが使用され、取付けブラケットは第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、弾性部分は剛部分のそれぞれの剛性よりも剛性が小さく、取付けブラケットの第一および第二の剛部分はブラケットの取付け時に形状固定によって実質的に相互に固定されるという前記方法を提供する。

上述から形状固定は、装置部材を互いに正確に取付けることができるように、良好に制御できる取付けブラケットの剛性化方法を提供する。形状固定は、例えばブラケットの弾性部分の弾性を使用するために、ブラケットの取付け後に取除かれる。

本発明はまた、リトグラフ装置の第一の装置部材から第二の装置部材を取外す方法を提供する。第一の装置部材はブラケットの第一の剛部分に連結され、ブラケットの第二の剛部分は第二の装置部材を備え、取付けブラケットは第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分はそれぞれの剛部分よりも剛性が小さく、取付けブラケットの第一および第二の剛部分は形状固定によって互いに固定され、その後取付けブラケットは第一の装置部材から連結解除されて装置から取外されるようになされる。

したがって、ブラケットは剛性化され、ブラケットの第一の剛部分に対する第二の剛部分の或る程度の移動は防止でき、これにより或る時間を経過した後にブラケットおよび第二の装置部材が再取付けされる、すなわち第一の装置部材に連結されるときに第二の装置部材の所望の作動位置を実質的に保証することができる。

ここではＩＣ製造にリトグラフ装置を使用するために特別に言及するが、本明細書で説明されるリトグラフ装置は一体光学システム、磁気定義域メモリのガイドおよび検出パターン、液晶表示装置（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの他の応用例のあることを理解しなければならない。このような代替応用例に関して、本明細書の「ウェーハ」や「ダイ」の用語の使用は、それぞれより一般的な用語の「基板」または「ターゲット箇所」の同義語と考えられることを認識しなければならない。本明細書で言及する基板は露光前または露光後に例えばトラック（基板に対してレジスト層を典型的に付与する、また露光したレジストを現像する工具）、冶金工具または検査工具で処理される。適用できるならば、本明細書による開示内容はそれらおよびその他の基板処理工具に適用できる。さらに、基板は、例えば複層ＩＣを製造するために一回以上処理することができ、これにより本明細書で使用する基板という用語は、既に複数回処理された層を含む基板も表すことができる。

本明細書で使用する「放射光」および「ビーム」という用語は、紫外（ＵＶ）線（例えば，３６５，２４８，１９３，１５７または１２６ｎｍの波長を有する）、および極紫外（ＥＵＶ）放射線（例えば５〜２０ｎｍの波長を有する）、ならびにイオンビームや電子ビームのような粒子ビームを含む全ての形式の電磁放射線を包含する。

本明細書で使用する「パターン形成装置」というは用語は、基板のターゲット箇所にパターンを形成するために投影ビームの横断面にパターンを付与するために使用できる手段を示すものと広く解釈されねばならない。投影ビームに付与されたパターンは基板のターゲット箇所に望まれるパターンと厳密に同じではないことに留意すべきである。一般に投影ビームに付与されるパターンは、ターゲット箇所に形成される集積回路のようなデバイスの特定の機能層に一致する。

パターン形成装置は透過式または反射式とされる。パターン形成装置の例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレー、およびプログラム可能ＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリトグラフでは周知であり、二値化式、交番位相シフト式、減衰位相シフト式、ならびに各種のハイブリッド・マスクのようなマスク形式が含まれる。プログラム可能ミラー・アレーの例は小さなミラーのマトリックス配列を使用しており、個々のミラーは入射する放射ビームを異なる方向へ反射するように個別に傾動され、このようにして反射ビームがパターン化されるのである。パターン形成手段の各々の例で、支持構造は例えばフレームまたはテーブルとされ、この支持構造は必要に応じて固定されるか移動可能とされる。またパターン形成手段が例えば投影系に対して所望の位置となることを保証することができる。本明細書で使用する「焦点板」または「マスク」という用語はより一般的な「パターン形成手段」という用語と同意語と考えることができる。

本明細書で使用する「投影系」という用語は、例えば使用される露光用放射光や、他の因子、例えば流体浸漬の使用や真空の使用に適当とされる屈折光学系、反射光学系、屈折反射光学系を含む各種形式の投影系を包含するものと広く解釈しなければならない。本明細書で使用する「レンズ」という用語はより一般的な「投影系」という用語と同意語と考えることができる。

照射系もまた、放射投影ビームの方向決め、成形または制御を行う屈折光学系、反射光学系、屈折反射光学系の部材を含む各種の形式の光学部材を包含し、それらの部材は以下に、集合体または単体で「レンズ」とも称される。

このリトグラフ装置は二つ（二段）以上の基板テーブル（および（または）二段以上のマスク・テーブル）を有する形式とされることができる。そのような「多段」機械において、追加されるテーブルは平行して使用されるか、一つ以上のテーブルが露光に使用されている間に他の一つ以上のテーブルで準備段階を遂行することができる。

このリトグラフ装置はまた、基板が比較的大きな屈折率を有する液体、例えば水に浸漬されて投影系の最終部材と基板との間隔空間が充満される形式の装置とすることができる。浸漬液体はリトグラフ装置の他の空間、例えばマスクと投影系の最初の部材との間にも与えることができる。浸漬技術は投影系の口径値を増大させるためにこの分野で周知である。

本発明の実施例は、単なる例として添付概略図を参照して以下に説明される。図面において、同じ符号は同じ部分を示している。

図１は放射光（例えばＵＶまたは他の種類の放射光）の投影ビームＰＢを供給する照射系（照射装置）ＩＬを含むリトグラフ投影装置を模式的に示している。第一の支持構造（例えばマスク・テーブル）ＭＴはパターン形成装置（例えばマスク）ＭＡを支持し、投影系部材ＰＬに対してパターン形成装置を正確に位置決めする第一の位置決め装置ＰＭに連結されている。基板テーブル（例えばウェーハ・テーブル）ＷＴは基板Ｗ（例えばレジスト被覆ウェーハ）を保持し、投影系ＰＬに対して基板を正確に位置決めする第二の位置決め装置ＰＷに連結されている。

パターン形成装置ＭＡにより投影ビームＰＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット箇所Ｃ（例えば一つ以上のダイを含む）へ結像させるための投影系（例えば屈折式投影レンズ）ＰＬである。

本明細書に記載するように、この装置は透過式（すなわち透過式マスクを使用する）のものである。これに代えて、この装置は反射式（例えば、上述で説明した形式のプログラム可能ミラー配列を使用する）とするものにできる。

照射系ＩＬは放射光源ＳＯから放射光を受入れる。放射光源およびリトグラフ装置は、例えば放射光源が励起レーザーである場合いに完全に分離することができる。そのような場合、放射光源はリトグラフ装置の一部を形成するとは考えず、放射光は放射光源ＳＯから、例えば適当な方向決めミラーおよび（または）ビーム拡張機を含むビーム導入系ＢＤによって照射装置ＩＬへ送られる。他の例では、例えば放射光源が水銀ランプであるときは、放射光源は装置の一体部分とされる。放射光源ＳＯおよび照射装置ＩＬは、必要ならばビーム導入系ＢＤと共に、放射系と参照することができる。

照射装置ＩＬは、ビームの角度強度分布を調整する調整装置ＡＭを含むことができる。一般に、照射装置の瞳面の強度分布における少なくとも外側および（または）内側の半径方向範囲（一般にそれぞれｓ−アウターおよびｓ−インナーと称される）を調整することができる。さらに、照射装置ＩＬは集積光学装置ＩＮおよびコンデンサーＣＯのような他のさまざまな構成部材を一般に含む。照射装置は、横断面での所望の均一性および強度分布を有する調整済みの放射ビームＰＢを形成する。

ビームＰＢはマスク・テーブルＭＴに保持されたマスクＭＡ上を照射する。マスクを横断すると、ビームＰＢは投影系レンズＰを通過する。このレンズはビームの焦点を基板Ｗのターゲット箇所Ｃ上に結ぶ。第二の位置決め装置ＰＷおよび位置センサーＩＦ（例えば干渉式装置）により、基板テーブルＷＴは正確に移動され、例えばビームＰＢの光路内に様々なターゲット箇所Ｃを位置決めするようになされる。同様に、例えばマスク保管場所からマスクが機械的に取出された後または走査時に、第一の位置決め装置および他の位置センサー（例えば、図１に明確に示されていないが干渉式装置）ＰＭはビームＰＢの光路に対してマスクＭＡを正確に位置決めするために使用されることができる。一般に、物品テーブルＭＴ，ＷＴの動きは、位置決め装置ＰＭ，ＰＷの一部を構成する長いストローク用モジュール（粗い位置決め）および短いストローク用モジュール（微細位置決め）によって実現される。しかしながら、ステッパの場合には（走査装置とは反対に）、マスク・テーブルＭＴは短いストローク用アクチュエータのみに連結されるか、固定される。マスクＭＡおよび基板Ｗはマスク整合マークＭ１，Ｍ２および基板整合マークＰ１，Ｐ２を使用して整合される。

図示装置は以下のさまざまなモードで使用できる。

１．ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは基本的に静止状態に保持される一方、投影ビームに与えられたパターン全体は一度にターゲット箇所Ｃに投影される（すなわち、一回の静止露光）。基板テーブルＷＴはその後Ｘおよび（または）Ｙ方向へ移動され、別のターゲット箇所Ｃが照射できるようにする。ステーション・モードでは、露光フィールドの最大寸法は一回の静止露光で結像されるターゲット箇所Ｃの寸法を限定する。

２．走査モードでは、投影ビームに与えられたパターンがターゲット箇所Ｃ上に投影される間、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴが同期して走査される（すなわち、一回の動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、倍率（縮小率）および投影系ＰＬの像転倒特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大寸法は一回の動的露光でのターゲット箇所幅（非走査方向）を制限するのに対して、走査動作の長さはターゲット箇所の高さ（走査方向）を決定する。

３．他のモードでは、マスク・テーブルＭＴはプログラム可能パターン形成手段を保持して基本的に静止状態に保持され、投影ビームに与えられたパターンがターゲット箇所Ｃに対して投影される間に基板テーブルＷＴが移動すなわち走査される。このモードでは、一般にパルス化された放射光源が使用され、プログラム可能パターン形成手段は基板テーブルＷＴの各移動の後、または走査時の連続する放射光パルスの間にて、要求に応じてアップデートされる。この作動モードは、上述で引用した形式のプログラム可能ミラー配列のようなプログラム可能パターン形成手段を使用するマスクの無いリトグラフにも容易に適用できる。

上述した使用モードまたは全く異なる仕様モードの組合せおよび（または）変更モードもリトグラフ装置で使用することができる。

図１に示されるように、この装置はさまざまな装置部材を互いに連結する実質的にＬ形の取付けブラケット３を含む。模式的に、投影系のレンズＬ１を装置の第一のフレーム部材１ａに連結するために第一の取付けブラケット３ａが示されている。また、第二の取付けブラケットが示されており、これは位置センサーＩＦ１を装置の第二のフレーム部材１ｂに連結する。同様な取付けブラケット３が他の装置プレート部材を互いに連結するために取付けられ得る。

多くの例では、装置部材を安定させて静的に十分に定められた方法で連結することが好ましい。図２は実質的にＬ形の取付けブラケット１０３を示しており、取付けブラケット１０３は実質的に水平な第一のアーム１１１と、実質的に垂直な第二のアーム１１２と、第一および第二のアーム１１１，１１２を連結する弾性部分１１３とを含む。第一のアーム１１１、第二のアーム１１２および弾性部分１１３は一体部片として作られている。弾性部分１１３はブラケットの比較的狭い一体部片であり、第一および第二のアーム１１１，１１２の間を延在する細長いスロット１１８に当接している。弾性部分はヒンジ機能を有しており、装置の作動の間はブラケット・アーム１１１，１１２の間に弾性ヒンジを形成する。第二のアーム１１２は第二の装置部材１０２、例えば位置センサーを備えている。取付け後、取付けブラケット１０３の第二のアーム１１２の下端は支持装置部材１２０に支持および（または）取付けられる。第二のアーム１１２から離れる方向へ延在した第一のブラケット・アーム１１１の端部は第一の装置部材１０１、例えばフレーム部材などに支持される。

図２では、固定プレートＦＰが第一のアーム１１１および第二のアーム１１２の位置を力固定を使用して互いに固定している。固定プレートＦＰは図面に示されていないが、ボルトによってブラケットの両アーム１１１，１１２に連結される。固定プレートＦＰは、例えば取付けブラケットを装置に取付ける間、および（または）取付けブラケットを装置から取外すときに使用できる。その取付け時および（または）取外し時に、第二の装置部材１０２は通常は第二のアーム１１２に連結される。したがって、取付けブラケット１０３は装置に対する第二の装置部材１０２の取付けおよび（または）取外しに使用できる。

固定プレートＦＰが取付けブラケット１０３から取外されるとき、弾性部分１１３は第一のブラケット・アーム１１１からの第二のブラケット・アーム１１２の或る連結解除を行う。これは、例えば高精度でデバイスを製造する方法を遂行するために装置を使用するときに、第一の装置部材１０１に対する第二の装置部材１０２の静的に十分に定められた連結を形成する。ヒンジとして作用する弾性部分は、ブラケットが装置に形成された後、過剰な拘束状態を回避する。また、弾性部分１１３は或る種の振動が第二の装置部材１０２へ伝わることを防止するように作用する。

固定プレートＦＰおよび組合うボルトは取付けブラケット１０３に取付けられるときに比較的大きな力を取付けブラケット１０３に与える。その力は、第一および第二のブラケット・アーム１１１，１１２を移動させることになり、第一の装置部材１０１に対する第二の装置部材１０２の所望される位置決めの害となる。固定プレートＦＰは摩擦により、特に互いに押圧された摩擦面によって、第一および第二のブラケット・アームのアーム１１１，１１２を保持する。多くの例で、例えば輸送および（または）取付けブラケット１０３の取扱いの間、そのような摩擦は外部の機械力または加速度に対抗するのに十分ではなく、固定プレートＦＰの緩みおよび（または）望ましくないブラケット・アーム１１１，１１２の移動をもたらす。

図３〜図７は、本発明により第二の装置部材２を第一の装置部材１に連結する取付けブラケット３を示す。取付けブラケット３は実質的にＬ形をしている。このブラケットは、なかでも所望される適用例や、ブラケットの最終的な取付け面積の寸法に応じてさまざまな他の形状を有すことができる。取付けブラケット３は第一の細長いアーム１１と、第二の細長いアーム１２と、第一および第二のアーム１１，１２を連結する弾性部分１３とを含む。アーム１１，１２の各々は、例えば正方形または長方形の横断面を有する。固定機構は第一のアーム１１および第二のアーム１２を互いに固定するために備えられる。ブラケットの第一のアーム１１、第二のアーム１２および弾性部分１３は一体部片として作られる。例えば、取付けブラケット３は実質的に堅固で、少なくとも一種の金属で作られる。また、取付けブラケット３の弾性部分１３はブラケットの長手方向の断面図で見て比較的細い。弾性部分は第一および第二のブラケット・アーム１１，１２を連結する。弾性部分は、第一のブラケット・アームに直角な方向に測って、第一のブラケット・アームの厚さの半分よりも薄い厚さＴを有することが望ましい。例えば、ブラケットの全体寸法に応じて、弾性部分は第一のブラケット・アームに直角な方向に測って約１５ｍｍ以下の厚さＴを有する。取付けブラケット３はまた、ブラケットの弾性部分を形成するように第一および第二のアームの間を延在する少なくとも一つのスロット１８，１９を含む。ブラケットの全体寸法に応じて、弾性部分はさまざまな他の寸法、例えば１５ｍｍ以上の厚さまたは２ｃｍを超える厚さを有する。弾性部分の寸法はまた、その部分に望まれる弾性に応じて決まる。

取付けブラケット３は少なくとも第一の比較的狭いスロット１８と、隣接する第二の比較的幅広いスロット１９とを含む。スロット１８は上側溝２１の底部から第一のブラケット・アームの長手方向に実質的に平行な方向にて第二のスロット１９へと延在する。第一のスロット１８は弾性部分１３から間隔を隔てられている。第二のスロット１９は第一のアーム１１の長手方向に対して或る角度で下方へと弾性部分１３へ向けて実質的に延在する。図４に見られるように、側面図で見て、第一および第二のスロット１８，１９は第一のアーム１１から第二のアーム１２の実質的に三角形の部分を分けている。

固定機構１４，１５，１６は実質的に形状固定によって取付けブラケット３の第一および第二のアーム１１，１２を連結するように構成される。したがって、この固定機構により取付けブラケット３は積極的にロックされ、または換言すれば剛性化される。したがって、第一および第二のアーム１１，１２のそれぞれの位置は、固定機構の適用時に、比較的迅速且つ容易に第一の装置部材１に対する第二の装置部材２の所望される正確な位置決めを達成して保持できるようになる。さらに、形状固定は比較的剛性的なブラケット、特に水平方向に剛性的なブラケットを形成し、この方向は第二のブラケット・アーム１２に実質的に直角で第一のアーム１１に平行である。

固定機構はブロック空所１４を含み、このブロック空所１４は取付けブラケット３の第一および第二のアーム１１，１２の対向部分４，５の間を第一のスロット１８を通して延在する。空所１４は実質的に水平方向で図３、図４および図７に直角に延在する。したがって、空所１４の中心軸線は仮想面を延在し、この面は取付けブラケット３の第一および第二のアーム１１，１２の対向部分４，５の対向面間を延在する。さらに、空所１４の中心軸線は第一のスロット１８の中央を通って延在する仮想面と直線状である。

固定機構はまたブロック部材１５を含み、これは空所１４に嵌合される。ブロック空所１４およびブロック部材１５は互いに協働して形状固定を形成するように構成されている。空所１４は弾性部分１３から垂直方向へ間隔を隔てられている。この空所は円筒形とされ得る。それぞれのブロック部材１５は円筒形ブッシュである。特に、ブッシュ１５および空所１４は、例えば国際標準規格ＩＳＯ−２８６ Ｈ６／ｈ６嵌め合いによって緊密に嵌合する。ＩＳＯ−２８６ Ｈ６／ｈ６嵌め合いに使用される公差領域は周知である。また、異なる嵌め合いも使用でき、これはなかでもブラケットの寸法およびブラケットに望まれる適用例によって決まる。ブロック部材１５は実質的に弾性部分１３の仮想枢軸ＶＸ１に実質的に平行に延在する。ブロック部材１５は空所１４から取外すことができる。

ブロック部材１５はブロック状態となるように弾性変形でき、ブロック部材はブラケットの第一および第二のアームを空所の形状固定によってブロックする例えば、ブロック部材１５は約１６μｍを超えて弾性変形し、Ｈ６／ｈ６嵌め合いが使用されるときにブロック状態に達する。

ブロック部材１５を弾性変形させる変形機構はボルト１６を含む。ボルト１６およびブロック部材１５は互いに協働してブロック部材をブロック状態となるように弾性変形させるように構成される。ブロック部材１５は図６に示されるように変形機構のボルト１６を受入れるボルト穴２２を含む。例えば、ブロック部材１５のねじ穴およびボルト１６の適当な協働によって協働は達成される。取付けブラケット３はボルト１６のための開口１７を含み、ボルトは組立て後にブラケット開口１７によりブロック部材１５を実質的に直角に通して、また取付けブラケット３の弾性部分１３に対して実質的に直角に延在するようになされる。ボルト１６を受入れる開口１７は取付けブラケット３の頂面側からブロック空所１４を通って直角に延在する。組立て後、ボルト１６の中心線は仮想枢軸と実質的に直角に交差する。また、ボルト１６は取付けブラケット３から取外される。

図３に示されるように、第二のブラケット・アーム１２は第二の装置部材２を含む。上述したように、第二の装置部材は、例えば少なくとも一つのセンサーを含む。また、第二の装置部材は異なる対象物を互いに整合させるために配置される。さらに、ブラケットの第二のアームは、例えば第二の装置部材２を使用して少なくとも一つの横動および（または）回転方向における基板Ｗの位置を定めるために配置される。一方、第二の装置部材は、例えばミラーやレンズのような少なくとも一つの光学部材を含むことができる。

固定機構は、それが固定位置にあるとき、形状固定によって取付けブラケット３の第一および第二のアーム１１，１２を実質的に嵌合させることができる。この固定位置において、変形機構のボルト１６はブロック部材１５をブロック状態となすために弾性変形させるように取付けられる。このブロック状態では、ブロック部材１５は水平で第一のアーム１１に平行な方向において第一および第二のブラケット・アームの形状固定を構成する。ブロック部材１５およびボルト１６は取付けブラケット３を剛性化させる。したがって、第一および第二のブラケット・アーム１１，１２は互いに対して保持されて、ボルト１６の取付け時にアーム１１，１２の移動は防止される。これは取付けブラケット３が上述したようにリトグラフ装置の第二の装置部材２と一緒に取付けられ、または再取付けされる場合に、および（または）取付けブラケット３および第二の装置部材２をリトグラフ装置から取外す間に、有利である。第二の装置部材２の所望される位置の再現性は、本発明の形状固定された取付けブラケット３を使用することで達成される。本発明の取付けブラケットもまた比較的簡単な構造をしている。

図４に示されるように、ブラケットの第二のスロット１９は、ブラケット・アーム１１，１２の互いに対する或る程度の移動を防止するために、ボルト１６の組立て時に取外し可能なブリッジ部材２３によって部分的に充満される。このようなブリッジ部材はブロック部材１５およびボルト１６が組立てられてブロック部材１５のブロック状態が得られた後に取外される。

固定機構が解除位置にあるとき、取付けブラケット３の第一および第二のアーム１１，１２を固定機構が解除する。この解除位置は、例えばボルト１６を弛めるか取外すことで達成でき、ブロック部材１５は緊張解除した状態に弾性的にもどされ、その後ブロック部材は円筒形開口から取外されるようになされる。ブロック部材１５の取外し後に、例えば静的に良好に定められた構造を達成するために、および（または）第二の装置部材２に振動の伝達されることを防止するために、第二のブラケット・アーム１２は第一のブラケット・アーム１から機械的に連結解除される。

図８を参照すれば、開口１７は弾性部分３の水平な仮想軸線ＶＸ１に実質的に直角に延在し、ブラケットの垂直横断面で見たときに開口１７の中心線が枢軸ＶＸ１と交差するようになされる。開口１７は仮想直接ＶＬに対して実質的に直角であり、第一のブラケット・アーム１１の仮想支持軸線ＶＸ２から第二の水平枢軸ＶＸ３へ延在する。この第二の水平枢軸ＶＸ３は第二のスロット１９の上部の上方に位置する。仮想支持軸線ＶＸ２は枢軸と同じ高さに位置されている。第一のブラケット・アーム１１は第一の装置部材１に支持されて支持軸線ＶＸ２の下方を延在する。組立て後、ボルト１６はまた枢軸ＶＸ１および仮想先Ｖｌに対して直角の方向へ延在する。ボルト１６がブロック部材１５をブロック状態とするように変形させるために緊締されるとき、比較的小さな回転力、特に第一および第二の剛性ブラケット部分の互いに対する位置決めによる移動の結果生じる回転力は、取付けブラケットに作用するか全く作用しない。したがって、第一および第二のブラケット・アームの互いに対する望ましくない移動はさらに防止される。

図９を参照すれば、スリット１８’が第一および第二のブラケット・アームの間を延在している。スリット１８’の位置はスリット１８の位置と似ている。スリット１８’の部分は横断面で見たときにＶ形である。スリット１８’は取付けブラケット３の第一および第二のアーム１１，１２の対向部分４，５の間を延在する空所として作用する。ブロック・ストリップ１５’が備えられ、これはスリット１８’に嵌合する。スリット１８’およびブロック部材１５’は形状固定を行うために互いに協働するように配置される。図９に示されるように、四つのブロック・ストリップ１５’が与えられ、その二つはＶ形スリット１８’の対向部分に進入でき、他の二つは隣接する隔壁水平スリットに進入する。ブロック・ストリップ１５’は、例えば「押し嵌め」によってスリット１８’内に緊密に嵌合され、この嵌め合いは緊密に行われて組立ておよび分解がストリップやスリットを損傷させることのないように小槌またはリード・ハンマーを使用して達成できるようになされている。使用時には、ブラケットはブロック・ストリップの取付け剛性化することができる。その後、形状固定が特に水平方向において達成される。取付け後に、ブロック・ストリップ１５’は取外され、第一および第二のブラケット・アーム１１，１２の或る程度の解放を行う。

図１０は本発明による取付けブラケット２０３の四つの実施例の側面図であるこの四つの実施例は図８に示した実施例と相違し、仮想直線ＶＬはブロック部材２１５およびブロック空所２１４の中央を通って延在する。また、スロット２１８，２１９の形状は図８の実施例のスロット形状とは異なる。図１０の実施例では、第一のスロット２１８が備えられ、これはブラケット２０３の上側から（図面で）或る角度でブロック空所２１４へ向けて延在し、ブロック空所２１４からさらに第二の空所２４４へ向けて延在する。ブロック空所２４４の近くで、第二のスロット２１９は第一のスロット２１８から分岐している。第二のスロット２１９は（図面で）下側の第三の空所２４５へ向けて延在する。第三のクッション２４５はボルト２１６を電界発光ためのボルト通路と一直線に備えられている。図１０において、ブラケットの上側も第四の空所２４６を含み、これは第二の空所付近を延在する。第二の水平な枢軸ＶＸ３が第二の空所２４４および第四の空所２４６の間でブラケット２０３の頂部側の近くを延在する。図８、図１０に示されるように、ボルト開口は弾性部分２１３の水平な仮想軸線ＶＸ１に対して実質的に直角に延在し、開口１７の中心線がブラケットの垂直横断面で見た場合に枢軸ＶＸ１と交差するようになされる。ボルト開口は、第一のブラケット２１１の仮想支持軸線ＶＸ２から第二の水平枢軸ＶＸ３へ延在する仮想直線ＶＬに対して直角に延在する。仮想支持軸線ＶＸ２は枢軸ＶＸ１と同じ高さに位置される。第一のブラケット・アーム２１１はこの支持軸線ＶＸ２の下側を延在する第一の装置部材１上に支持されることができる。組立て後、ボルト２１６は枢軸ＶＸ１および仮想直線ＶＬに対して直角方向へ延在できる。図１０の実施例は一つ以上の装置部材を取付けるのに使用でき、また相対的に良好に取付けていれる間、一つ以上の部材の整合位置を保持するのに使用できる。

本発明の特定の実施例が記載されたが、本発明は記載した以外の方法で実現できることが認識されるであろう。記載は本発明の限定を意図するものではない。

例えば、一つ以上の取付けブラケットが一つ以上の装置部材を互いに連結するために備えられ得る。

ブラケットはさまざまな形状および寸法を有することができる。例えば、ブラケットはＬ形とすることができる。他方、ブラケットはＬ形ブラケットを形成しないアームを含むことができる。ブラケットは、例えば湾曲形状、真直形状、またはその形状の組合せとされ得る。さらに、ブラケットは多数のアームを含み、各ブラケット・アームはさまざまな形状および寸法、例えば長方形、円形、正方形、湾曲形および（または）他の断面形状を有することができる。

本出願で、「剛性」の用語の代わりに「堅さ」も使用できる。本出願では、「剛性ブラケット部分」の用語は弾性部分よりも剛さの強いブラケット部分を意味するものと解釈できる。例えば、剛性ブラケット部分および弾性部分の寸法は、ブラケットの剛性部分が弾性部分よりも剛くなるように選ばれる。

ブラケットの弾性部分は第一および第二のブラケット・アームのそれぞれの剛性よりも弱い堅さまたは剛性を有する。例えば、弾性部分の剛性はブラケットの各々の剛部分における剛性の約３０％以下とされる。また、一例として、弾性部分１３の剛性は、剛性ブラケット・アーム１１，１２の剛性の約１０〜２０％の範囲とされる。弾性部分の剛性と第一および第二の剛性ブラケット・アームの剛性との比率は、とりわけブラケットの所望される適用例および（または）ブラケット寸法によって異なる。

本発明の一実施例によるリトグラフ装置を示す。 側面図において力固定手段を備えた取付けブラケットを示す。 本発明による取付けブラケットの第一実施例の側面図である。 図３の詳細図である。 図３に示した第一の実施例のブッシュ／ボルト式形状固定機構の側面図である。 図５における線Ｓ−Ｓに沿う断面図である。 図４の断面の拡大部分を模式的に示す。 本発明の第二の実施例の側面図である。 本発明の第三の実施例の図７に示した部分に類似し、ブラケットのスリットはブロック部材を備えている図面である。 本発明による取付けブラケットの第四の実施例の側面図である。

符号の説明

ＡＭ 調整手段
Ｃ ターゲット箇所
ＣＯ コンデンサー
ＩＬ 照射装置
ＩＮ 集積光学装置
Ｍ１，Ｍ２ マスク整合マーク
ＭＡ マスク
ＭＴ マスク・テーブル
Ｐ１，Ｐ２ マーク基板整合
ＰＢ 投影ビーム
ＰＬ 投影系
ＳＯ 放射光源
Ｗ 基板
ＷＴ 基板テーブル
１ 第一の装置部材
２ 第二の装置部材
３ 取付けブラケット
１１ 第一のアーム
１２ 第二のアーム
１３ 弾性部分
１４ ブロック空所１
１５ ブロック部材
１６ ボルト
１７ ブラケット開口
１８，１９ スロット
１０１ 第一の装置部材
１０２ 第二の装置部材
１０３ 取付けブラケット
１１１，１１２ 取付けブラケット・アーム
２０３ ブラケット
２１４ ブロック空所
２１５ ブロック部材
２１６ ボルト
２１８，２１９ スロット
２４４，２４５，２４６ 空所

Claims (66)

1. 放射ビームを調整するように構成された照射系と、
   ビームの横断面にパターンを与えるように構成されているパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、
   基板を保持するように構成された基板テーブルと、
   基板のターゲット箇所にパターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
   第二の装置部材を第一の装置部材に連結するように構成され、第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分が両剛部分の何れよりも小さい剛性とされている取付けブラケットであって、第一の剛部分の位置および第二の剛部分の位置を互いに固定するように固定機構が構成されており、この固定機構は取付けブラケットの第一および第二の取付け部材を形状固定によって実質的に連結するように構成されている取付けブラケットとを含むリトグラフ装置。
2. 固定機構が取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の間を延在する空所を含み、空所およびブロック部材が互いに協働して形状固定を行うように構成されている請求項１に記載されたリトグラフ装置。
3. 空所が弾性部分から間隔を隔てられている請求項２に記載されたリトグラフ装置。
4. 空所が円筒形である請求項２に記載されたリトグラフ装置。
5. ブロック部材が円筒形のブッシュである請求項４に記載されたリトグラフ装置。
6. ブッシュおよび空所がすきま嵌めまたは滑り嵌めで嵌合される請求項５に記載されたリトグラフ装置。
7. 空所の中心軸線が仮想面を延在し、該仮想面は取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の対向面の間を延在している請求項１に記載されたリトグラフ装置。
8. ブロック部材が弾性部分の仮想枢軸に実質的に平行に延在する請求項２に記載されたリトグラフ装置。
9. ブロック部材が空所から取外し可能である請求項２に記載されたリトグラフ装置。
10. ブロック部材がブロック状態となるまで弾性変形され、ブロック部材が空所内の形状固定によってブラケットの第一および第二の剛部分をブロックする請求項２に記載されたリトグラフ装置。
11. ブッシュが約１６μｍを超えて少なくとも弾性変形できる請求項５に記載されたリトグラフ装置。
12. ブロック部材をブロック状態にまで弾性変形させるために構成された変形機構をさらに含む請求項１０に記載された素子製造方法。
13. 変形機構がボルトを含み、ボルトおよびブロック部材は互いに協働してブロック部材をブロック状態にまで弾性変形させるために構成されている請求項１２に記載されたリトグラフ装置。
14. ブラケットがボルトを受入れる開口を含む請求項１３に記載されたリトグラフ装置。
15. ボルトがブロック部材に対して実質的に直角に延在する請求項１３に記載されたリトグラフ装置。
16. ボルトをブラケットから取外せる請求項１３に記載されたリトグラフ装置。
17. ボルトが弾性部分の水平な仮想枢軸に対して実質的に直角に延在し、これによりボルトの中心線がブラケットの垂直横断面で見たときに水平な仮想枢軸と交差する請求項１３に記載されたリトグラフ装置。
18. 第一の装置部材がフレーム部材である請求項１に記載されたリトグラフ装置。
19. 第二の装置部材が少なくとも一つのセンサーを含む請求項１に記載されたリトグラフ装置。
20. 第二の装置部材が異なる対象物を互いに整合させるように構成されている請求項１に記載されたリトグラフ装置。
21. ブラケットの第二の剛部分が少なくとも横動および（または）回転方向の一方向において基板の位置を決定するために構成され、および（または）装置を備えている請求項１に記載されたリトグラフ装置。
22. 第二の装置部材が少なくとも一つの光学部材を含む請求項１に記載されたリトグラフ装置。
23. 光学装置がミラーであることを特徴とする請求項２２に記載されたリトグラフ装置。
24. 光学部材がレンズまたはプリズムである請求項２２に記載されたリトグラフ装置。
25. 第一および第二の剛部分がアームであり、アームは実質的にＬ形のブラケットを形成している請求項１に記載されたリトグラフ装置。
26. ブラケットの第一の剛部分と、第三の剛部分と、弾性部分とが一体部片として形成されている請求項１に記載されたリトグラフ装置。
27. ブラケットが少なくとも一種の金属で作られている請求項１に記載されたリトグラフ装置。
28. ブラケットの長手方向断面で見たときに、ブラケットの弾性部分の厚さがブラケットの第一および第二の剛部分まの厚さよりも薄く、弾性部分が各剛部分よりも剛性が低い請求項１に記載されたリトグラフ装置。
29. 弾性部分の厚さが第一の剛部分の厚さの半分以下である請求項２８に記載されたリトグラフ装置。
30. ブラケットの弾性部分の厚さが約２ｃｍ以下である請求項２８に記載されたリトグラフ装置。
31. ブラケットが少なくとも一つのスロットを含み、スロットはブラケットの弾性部分を形成するためにブラケットの第一および第二の剛部分の間を延在する請求項１に記載されたリトグラフ装置。
32. ブラケットが少なくとも一つのスロットおよび隣接する第二のスロットを含み、第一のスロットは第一の剛部分の長手方向に実質的に平行に延在し、第二のスロットは弾性部分へ向けて第一のスロットから延在する請求項３１に記載されたリトグラフ装置。
33. ブラケットが取付けられた後、第一の装置部材から第二の装置部材を取外すことでブラケットが装置から取外せる請求項１に記載されたリトグラフ装置。
34. 固定機構が固定位置にあるときに固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に取付け、固定機構が解除位置にあるときに固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を解除する請求項１に記載のリトグラフ装置。
35. 放射ビームを調整するように構成された照射系と、
    ビームの横断面にパターンを与えるように構成されているパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、
    基板を保持するように構成された基板テーブルと、
    基板のターゲット箇所にパターン形成されたビームを投影するように構成された投影系と、
    第二の装置部材を第一の装置部材に連結するように構成され、第一の剛部分、第二の剛部分、そして第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分が両剛部分の何れよりも小さい剛性とされている取付けブラケットであって、取付けブロックの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するように取外し可能なブロック部材が構成されている取付けブラケットとを含むリトグラフ装置。
36. リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットであって、第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、弾性部分は剛部分の各々よりも小さい剛性を有し、固定機構が取付け第一および第二の剛部分の位置を互いに固定するために備えられ、固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するように構成されているブラケット。
37. 固定機構が取付けブラケットの第一および第二の剛部分の対向部分の間を延在する空所を含み、取付け機構は空所に嵌合されるブロック部材を含み、空所およびブロック部材は互いに協働して形状固定を形成するために構成されている請求項３６に記載のブラケット。
38. 空所が円筒形で、ブロック部材が円筒形のブッシュである請求項３６に記載されたブラケット。
39. ブロック部材が空所から取り外る請求項３６に記載されたブラケット。
40. ブロック部材がブロック状態となるまで弾性変形でき、ブロック部材は空所内の形状固定によってブラケットの第一および第二の剛部分をブロックする請求項３６に記載されたブラケット。
41. ブロック部材を弾性変形させるために構成された変形機構を含む請求項４０に記載されたブラケット。
42. 変形機構がボルトを含み、ボルトおよびブロック部材は互いに協働してブロック部材をブロック状態にまで弾性変形させるように構成されている請求項４１に記載されたブラケット。
43. リトグラフ装置の第二の装置部材が少なくとも一つのセンサーを含む請求項３６に記載されたブラケット。
44. 第二の装置部材が異なる対象物を互いに整合させるために構成されている請求項３６に記載のブラケット。
45. ブラケットの第二の剛部分が少なくとも横動および回転方向の一方向で基板の位置を決定するための装置を含む請求項３６に記載のブラケット。
46. 第二の装置部材が少なくとも一つの光学部材を含む請求項３６に記載のブラケット。
47. 光学装置がミラーである請求項３６に記載のブラケット。
48. 光学装置がレンズまたはプリズムである請求項３６に記載のブラケット。
49. 第一の剛部分が第一のブラケット・アームであり、第二の剛部分が第二のブラケット・アームであり、第一および第二のブラケット・アームは実質的にＬ形ブラケット、実質的に真直のブラケットまたは実質的に湾曲したブラケットを形成する請求項３６に記載のブラケット。
50. ブラケットの第一の剛部分、第二の剛部分および弾性部分が一体部片で形成された請求項３６に記載のブラケット。
51. ブラケットが少なくとも一種の金属で作られた請求項３６に記載のブラケット。
52. ブラケットの長手方向の断面で見たとき、ブラケットの弾性部分の厚さが第一および第二の剛部分の厚さよりも小さく、弾性部分は剛部分の剛性の約３０％以下の剛性である請求項３６に記載のブラケット。
53. ブラケットの弾性部分が第一の剛部分の厚さの半分以下である請求項３６に記載のブラケット。
54. ブラケットの弾性部分の厚さが約２μｍ以下である請求項３６に記載のブラケット。
55. ブラケットが少なくとも一つのスロットを含み、スロットはブラケットの弾性部分を形成するために第一および第二の剛部分の間を延在している請求項３６に記載のブラケット。
56. 固定機構が固定位置にあるときには、固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって固定し、固定機構が解放位置にあるときには、固定機構は取付けブラケットの第一および第二の剛部分を解放する請求項３６に記載のブラケット。
57. 弾性部分の剛性は剛部分の剛性の約３０％以下である請求項３６に記載のブラケット。
58. リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結するブラケットであって、第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、取外しできるブロック部材が取付けブラケットの第一および第二の剛部分を形状固定によって実質的に連結するように構成されているブラケット。
59. 基板のターゲット箇所にパターン形成された放射ビームを投影し、
    リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に取付けブラケットによって取付け、取付けブラケットは第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含み、取付けブラケットの第一および第二の剛部分はブラケットの取付け時に形状固定によって互いに実質的に固定されることを含むリトグラフ装置で使用されるデバイス製造方法。
60. 第一の剛部分と、第二の剛部分と、第一および第二の剛部分を連結する弾性部分とを含む取付けブラケットで、その第一および第二の剛部分はブラケットの取付け時に形状固定によって互いに実質的に固定される取付けブラケットによって、リトグラフ装置の第二の装置部材を第一の装置部材に連結することを含む取付け方法。
61. 形状固定がブラケットの取付け後に解除される請求項６０に記載の方法。
62. リトグラフ装置の第一の装置部材から第二の装置部材を取外す方法であって、第一の装置部材は取付けブラケットの第一の剛部分に連結されており、第二の構成部材は第二の装置部材を備えており、取付けブラケットは第一および第二の剛部分を連結する弾性部分を含み、弾性部分は剛部分の何れの剛性よりも小さい剛性を有し、取付けブラケットの第一および第二の剛部分は形状固定によって互いに実質的に固定され、取付けブラケットが第一の装置部材から連結解除された後に装置から取外されるようになされる方法。
63. 請求項６９の方法により製造されたデバイス。
64. ボルトを受入れる開口が弾性部分の水平な仮想枢軸に対して実質的に直角に延在し、ブラケットの垂直断面にて見たときに、装置の中心線が枢軸と交差する請求項１４に記載の装置。
65. ボルトを受入れる開口が仮想真直線に対して実質的に直角に延在し、仮想真直線は第一のブラケット・アームの仮想支持軸線から第二の水平な枢軸へ延在する請求項１４に記載の装置。
66. 仮想真直線がボルトを受入れる開口と交差する請求項６５に記載の装置。

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