JP2022516600A - 無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板を製造するためのプロセス及び係る構造を製造するためのプロセス - Google Patents
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Abstract
Description
単結晶材料で作られたベース層及びベース層上に配置されたポリシリコンで作られた電荷トラッピング層を備える半導体基板を用意するステップと、
前記電荷トラッピング層上に配置される酸化物層を形成するために前記電荷トラッピング層を酸化するステップと
を含み、このプロセスは、上記電荷トラッピング層が下記の方法、
750℃と1000℃との間で構成される第1の温度で酸化を開始するステップと、
第1の温度よりも低くそして750℃と875℃との間で構成される第2の温度まで温度を低下させるステップと、
第2の温度で酸化を続けるステップと
で875℃以下の温度で少なくとも部分的に酸化されることを主に特徴とする、プロセスを提案する。
電荷トラッピング層が、750℃以上の温度で少なくとも部分的に酸化される。酸化速度が、したがって産業上の必要条件にさらに適合し、そして経済的に実行可能なままであり、
第1の温度T1から上記第2の温度T2への温度の低下が、徐々であり、
酸化物層の厚さの少なくとも50%、好ましくは少なくとも70%が、第1の温度T1で作られ、そして酸化物層の厚さの少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%が、第2の温度T2で作られ、
形成された酸化物層が、200nmと300nmとの間で構成される厚さを有し、
電荷トラッピング層が、20nmと500nmとの間で構成される厚さを有し、
電荷トラッピング層が、反応炉内で低圧化学気相堆積によって単結晶材料で作られたベース基板の上に事前に堆積される。
上述したようなレシーバ基板を製造するステップと、
単結晶基板を含むドナー基板を用意するステップと、
レシーバ基板にドナー基板をボンディングするステップと、
レシーバ基板にドナー基板の層を移転するステップと
を含むことを特徴とする。
ドナー基板から移転された層が、半導体を含み、
ドナー基板から移転された層が、強誘電性材料を含み、
強誘電性材料が、LiTaO3、LiNbO3、LiAlO3、BaTiO3、PbZrTiO3、KNbO3、BaZrO3、CaTiO3、PbTiO3、KTaO3から選択され、
前記移転が、
移転されるべき単結晶半導体又は強誘電性材料の層を画定する弱化ゾーンを形成するためにドナー基板に原子種を注入するステップと、
レシーバ基板にドナー基板をボンディングするステップであって、酸化物層及び移転すべき単結晶半導体又は強誘電性材料の層がボンディング界面のところにある、ボンディングするステップと、
レシーバ基板へ単結晶半導体又は強誘電性材料の層を移転させるために弱化ゾーンに沿ってドナー基板を切り離すステップであって、酸化物層が電荷トラッピング層と単結晶半導体又は強誘電性材料の移転すべき層との間に配置される、切り離すスッテプと
を含む。
電界の関数としての構造内の電流の大きさの変化
上述の本発明のプロセスを使用して実現される利点を例証するために、電界の関数としての構造内の電流の変化の検討が実行された。
[1]: Effect of Physical Stress on theDegradation of Thin SiO2 Films Under Electrical Stress, Tien-ChunYang, 2000 IEEE.
Claims (13)
- 無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板(30)を製造するためのプロセスであって、
単結晶材料で作られたベース基板(1)及び前記ベース基板(1)上に配置されたポリシリコンで作られた電荷トラッピング層(2)を備える半導体基板(10)を用意するステップと、
前記電荷トラッピング層上に配置される酸化物層(3)を形成するために前記電荷トラッピング層(2)を酸化するステップと、
を含むプロセスにおいて、前記プロセスは、前記電荷トラッピング層(2)が下記の方法、
750℃と1000℃との間で構成される第1の温度(T1)で前記酸化を開始するステップと、
前記第1の温度(T1)よりも低く750℃と875℃との間で構成される第2の温度(T2)まで前記温度を低下させるステップと、
前記第2の温度(T2)で前記酸化を続けるステップと、
で875℃以下の温度で少なくとも部分的に酸化されることを特徴とする、プロセス。 - 前記電荷トラッピング層(2)が、750℃以上の温度で少なくとも部分的に酸化される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記第1の温度(T1)から前記第2の温度(T2)への温度の前記低下が、徐々である、請求項1又は2に記載のプロセス。
- 前記酸化物層の厚さの少なくとも50%、好ましくは少なくとも70%が、前記第1の温度(T1)で作られ、そして前記酸化物層の前記厚さの少なくとも20%、好ましくは少なくとも30%が、前記第2の温度(T2)で作られる、請求項1~3のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記形成された酸化物層(3)が、200nmと400nmとの間で構成される厚さを有する、請求項1~4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記電荷トラッピング層(2)が、20nmと500nmとの間で構成される厚さを有する、請求項1~5のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記電荷トラッピング層(2)が、反応炉内で低圧化学気相堆積によって単結晶材料で作られた前記ベース基板(1)上に事前に堆積される、請求項1~6のいずれか一項に記載のプロセス。
- 無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造を製造するためのプロセスにおいて、前記プロセスが、
請求項1~7のいずれか一項に従ってレシーバ基板(30)を製造するステップと、
単結晶基板を含むドナー基板を用意するステップと、
前記レシーバ基板に前記ドナー基板をボンディングするステップと、
前記レシーバ基板に前記ドナー基板の層を移転するステップと、
を含むことを特徴とする、プロセス。 - 前記ドナー基板から移転された前記層が、半導体を備える、請求項8に記載のプロセス。
- 前記ドナー基板から移転された前記層が、強誘電性材料を備える、請求項8に記載のプロセス。
- 前記強誘電性材料が、LiTaO3、LiNbO3、LiAlO3、BaTiO3、PbZrTiO3、KNbO3、BaZrO3、CaTiO3、PbTiO3、KTaO3から選択される、請求項10に記載のプロセス。
- 前記移転が、
移転されるべき単結晶半導体又は強誘電性材料の層を画定する弱化ゾーンを形成するために前記ドナー基板に原子種を注入するステップと、
前記レシーバ基板に前記ドナー基板をボンディングするステップであって、前記酸化物層及び移転されるべき単結晶半導体又は強誘電性材料の前記層がボンディング界面のところにある、ボンディングするステップと、
前記レシーバ基板へ単結晶半導体又は強誘電性材料の前記層を移転させるために前記弱化ゾーンに沿って前記ドナー基板を切り離すステップであって、前記酸化物層が電荷トラッピング層と単結晶半導体又は強誘電性材料の前記移転すべき層との間に配置される、切り離すスッテプと、
を含む、請求項8~11のいずれか一項に記載のプロセス。 - 前記単結晶半導体又は強誘電性材料が、前記ドナー基板の表面のところに存在し、原子種の前記注入が前記表面を通して直接実行される、請求項12に記載のプロセス。
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