JP2022510486A - 球状シリコーン樹脂粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
本開示は、アルコキシシランを水と反応させて加水分解物を形成し、その結果生じるシリコーン樹脂粒子を混合物から分離し、前記シリコーン樹脂粒子を乾燥し、超音波篩により前記粒子を解凝集させる、球状シリコーン樹脂粒子の製造方法である。
Description
本発明は、超音波篩により解凝集させた、球状シリコーン樹脂粒子の製造方法に関する。
従来から、球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子の製造方法についての様々な技術が知られている。特許第3970449号公報には、空時収量と粒子径の制御との最適化が記載されている。乾燥工程の間に、粒子が融合して網状構造が形成される。
粉末製品は、労力を要する乾燥と、後に続く製粉とから得られる。ジェットミルの手段による粉砕又は製粉は、従来の乾燥の間に融合する粒子の解凝集に必要である。国際公開WO18/065058A1に記載のように、噴霧乾燥による手段では、労力を要する製粉は避けられるが、結果として完全な解凝集にはならない。
粉末製品は、労力を要する乾燥と、後に続く製粉とから得られる。ジェットミルの手段による粉砕又は製粉は、従来の乾燥の間に融合する粒子の解凝集に必要である。国際公開WO18/065058A1に記載のように、噴霧乾燥による手段では、労力を要する製粉は避けられるが、結果として完全な解凝集にはならない。
本発明は、アルコキシシランを水と反応させて加水分解物を形成し、
その結果生じるシリコーン樹脂粒子を混合物から分離し、
前記シリコーン樹脂粒子を乾燥し、
超音波篩により前記粒子を解凝集させる、球状シリコーン樹脂粒子の製造方法に関する。
その結果生じるシリコーン樹脂粒子を混合物から分離し、
前記シリコーン樹脂粒子を乾燥し、
超音波篩により前記粒子を解凝集させる、球状シリコーン樹脂粒子の製造方法に関する。
超音波篩を用いることにより、球状シリコーン樹脂粒子の完全な解凝集を比較的容易に達成することができる。
凝集のない球状シリコーン樹脂粒子は、従来技術では乾燥と後に続く製粉とで、又は代わりに噴霧乾燥で得られる。本発明の方法は、極めて有効であり、且つ一層安価である。小型の工業用乾燥機、例えばパドルドライヤーで噴霧乾燥を用いるよりも、大幅に速く、一層安価に粒子を乾燥できる。同時に、従来技術の乾燥方法では必要な、労力を要する製粉の工程が避けられる。乾燥後の製品の一般的な保護篩は、工業的粉体の製造では一般的であり、特有の超音波篩に置き換えられる。接着又は挟まった粒子による篩目の目詰まり及び封鎖を避けて一定の流速及び増大した篩の容量を維持するために、超音波篩は周知の清掃方法である。しかし、存在している凝集の分離及び収率99%での完全な解凝集の達成に、超音波篩のエネルギー入力が十分であることは、完全に驚異的である。製粉又は噴霧乾燥といった、従来技術における追加の技術的複雑さは、このようにして避けることができる。
超音波篩の場合、目開きが好ましくは10~40μm、特に好ましくは15~25μm、特に18~22μmの篩目を用いる。高い比質量処理量で、実質的に完全な篩の通過を達成できる。実験篩(レッチェAS 200ベーシック篩振とう機)及び特大粒子を排出しない普通の振動篩機での篩試験からは、最近の従来技術で製造された粒子の大部分は凝集した形態であり、従来法で作動した目開き20μmの篩目を通過せずに残ることが分かっている。このことは、残っている特大粒子を製造損失として篩から取り除くか、他の更なる加工工程で解凝集しなければならず、不利である。スクレーパー又はブラシといった通過補助具は、篩目を横切って動かすことができるので、摩耗又は切れ毛に繋がり、こうして製品の汚染に繋がる。
超音波篩は、篩目に対応する振動を伝達する篩枠の上で、超音波プローブを用いて行うことが好ましい。超音波篩を、好ましくは30~38kHz、特に好ましくは33~37kHz、特に34.5~35.5kHzの周波数範囲にて実施する。超音波篩を、好ましくは1~100μm、特に好ましくは1~10μm、特に2~5μmの振動の振幅にて実施する。超音波篩を、好ましくは10~500W/m2、特に好ましくは50~300W/m2、特に100~200W/m2の面積比出力にて実施する。驚くべきことに、実質的に完全な粒子の解凝集と、これによる実質的に完全な篩の通過とを達成できる。粗い材料は取り除かれない。粗い材料の集積が篩目上にない代わりに、凝集は壊れて篩目を完全に通過する。
作動中、周波数が変動するのが好ましい。超音波励振の結果として、篩目上の粒子は好ましくは0.3~10cmの高さに投じられ、特に0.5~3cmの高さに投じられる。
超音波篩にはタッピング補助具を用いることが好ましい。
超音波篩で100~150kg/(h・m2)の比質量処理量を達成できる。
従来では、このような超音波システムは、詰まった篩目又は塞がった篩目の清掃に用いられる。これが結果として、一層大きな部分の篩面積が使用可能のままになるので、超音波清掃をしない場合よりも一層高い比質量処理量に度々繋がる。しかし、20μmの篩は粒子で塞がらないので、本発明はこの効果において異なる。良好な面積比質量処理量は、粒子の十分な解凝集が理由である。
アルコキシシランは、モノ、ジ、トリ、及びテトラアルコキシシランから選ばれる。トリアルコキシシランの割合は少なくとも40モル%、特に好ましくは少なくとも50モル%、特に少なくとも70モル%である。テトラアルコキシシランの含有量は好ましくは多くとも10モル%、より好ましくは多くとも5モル%、特に多くとも1モル%である。ジアルコキシシランの含有量は好ましくは多くとも60モル%、より好ましくは多くとも50モル%、特に多くとも30モル%である。
好ましい方法では、トリアルコキシシランを用いてポリシルセスキオキサン粒子を製造する。
好ましい方法では、トリアルコキシシランを用いてポリシルセスキオキサン粒子を製造する。
アルコキシシランが水と反応して加水分解物を形成する際、同一又は異なるアルコキシシランを用いることができる。同時又は粒子が分離する前の任意の時に、同一又は異なるアルコキシシランを添加することができる。
加水分解物を形成するためのアルコキシシランと水との反応は、酸性、塩基性又は中性の媒質中で行うことができる。アルコキシシランを酸性水と反応させることが好ましい。
加水分解物は1以上の部分で塩基と混合することが好ましい。加水分解物を塩基に添加することができ、又は塩基を加水分解物に添加することができる。
塩基を加える少なくとも5分前、好ましくは少なくとも10分前、特に少なくとも15分前に、好ましくは少なくとも20重量%、特に好ましくは少なくとも40重量%、特に好ましくは少なくとも70重量%のアルコキシシランを添加する。結果として、異なる大きさ、硬度及び弾性の、又は表面に官能基若しくはコアシェル構造を有する、シリコーン樹脂粒子を製造できる。
好ましい方法では、塩基を加える少なくとも30分前に、少なくとも80重量%、特に少なくとも90重量%のアルコキシシランを用い、塩基を加えた少なくとも1時間後、好ましくは少なくとも1.5、特に少なくとも2時間後に、好ましくは多くとも20重量%、特に多くとも10重量%のアルコキシシランを添加する。
塩基を加える少なくとも30分前に、全量のアルコキシシランを添加することが特に好ましい。
塩基を加える少なくとも30分前に、全量のアルコキシシランを添加することが特に好ましい。
アルコキシシランは好ましくはC1~C4アルコキシ基、好ましくはエトキシ基、又は特にメトキシ基を有する。
アルコキシシランはアルコキシ基に加え、炭素数1~16の炭化水素基又は官能基を有する基Raを有する。
炭化水素基は炭素数1~4が好ましく、メチル基が特に好ましい。
炭化水素基は炭素数1~4が好ましく、メチル基が特に好ましい。
官能基を有する基Raの例は、グリコール基、及びリン酸エステル、ホスホン酸エステル、エポキシ基、アミノ基、メタクリル酸基、カルボキシル基、アクリル酸基、オレフィン性又はアセチレン性不飽和炭化水素の群から選ばれる、有機官能基を有する炭化水素基である。
それぞれの官能基は任意に置換されていてもよい。
それぞれの官能基は任意に置換されていてもよい。
基Raは任意にヒドロキシ、アルコキシ又はトリメチルシリル末端でもよい。主鎖では非隣接性炭素原子が酸素原子に置き換わってもよい。
Raにおける官能基は通常、ケイ素原子に直接結合しない。これに対する例外は、ケイ素に直接結合することもできるオレフィン性又はアセチレン性の基、特にビニル基によって形成される。Raにおける残りの官能基は、スペーサー基を通じてケイ素原子と結合し、スペーサーはいつもSi-C結合である。ここで、スペーサーは炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、非隣接性炭素原子が酸素原子に置き換わっていてもよく、他のヘテロ原子又はヘテロ原子基も有してよいが、これは好ましくない。
好ましい官能基、メタクリル酸、アクリル酸及びエポキシは、スペーサーを通じてケイ素原子に結合することが好ましく、スペーサーは炭素数3~15、好ましくは炭素数3~8、特に炭素数3からなり、任意に多くとも酸素数1~3、好ましくは多くとも酸素数1からもなる。
カルボキシル基も好ましく、スペーサーを通じてケイ素原子に結合することが好ましく、スペーサーは炭素数3~30、好ましくは炭素数3~20、特に炭素数3~15からなり、任意にヘテロ原子からもなるが、好ましくは多くとも酸素数1~3、好ましくは多くとも酸素数1からなり、特に酸素原子なしである。官能基としてカルボキシル基を有する基Raは、一般式(VIII)で表される。
Y1-COOH (VIII)
式中、Y1は炭素数30までの直鎖又は分枝の2価の炭化水素基であることが好ましく、Y1はオレフィン性不飽和基又はヘテロ原子も含んでよく、ケイ素に直接結合している基Y1の原子は炭素である。基Y1に典型的に存在してもよいヘテロ原子含有断片は、-N(R5)-C(=O)-、-C-O-C-、-N(R5)-、-C(=O)-、-O-C(=O)-、-C-S-C-、-O-C(=O)-O-、-N(R5)-C(=O)-N(R5)-であり、両方の可能な方向で非対称性基を基Y1に取り込んでもよく、R5は炭化水素基又は水素である。
式(VIII)の基が発生すると、例えばシラノール基上の無水マレイン酸の開環及び縮合により、(シス)-C=C-COOHの形の基になる。
ヘテロ原子を含み、官能基を有する基Raは、例えば一般式(IXa)のカルボン酸エステル基である。
Y1-C(=O)O-Y2 (IXa)
式中、Y1は上記で与えた定義を有し、又は更なる実施形態では式(IXa)中に全く存在しない。Y2基はかなり一般的に有機基である。Y2は更に、二重結合又は酸素原子といったヘテロ原子及び有機基も含んでよいが、これは好ましくない。Y2として好ましいのは、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、ターシャリーブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ターシャリーペンチル基といったアルキル基、n-ヘキシル基といったヘキシル基、n-ヘプチル基といったヘプチル基、n-オクチル基といったオクチル基、2,2,4-トリメチルペンチル基といったイソオクチル基、n-ノニル基といったノニル基、n-デシル基といったデシル基、n-ドデシル基といったドデシル基、n-オクタデシル基といったオクタデシル基、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、メチルシクロヘキシル基といったシクロアルキル基、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル基といったアリール基、トリル基といったアルカリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ベンジル基、β-フェニルエチル基といったアラルキル基、等の炭化水素基である。特に好ましい炭化水素基Y2は、メチル、n-プロピル、イソプロピル、フェニル、n-オクチル及びイソオクチル基である。
Raは官能基として、逆に結合したカルボン酸エステル基も有してよく、即ち式(IXb)の基である。
Y1-OC(=O)Y2 (IXb)
式中、Y1及びY2は、式(IXa)の下で同じ定義を有する。
官能基を有する基Raは、一般式(X)又は(XI)のカルボン酸無水物基でもよい。
Y1-C-C(=O)-O-C(=O) (X)
Y1-R14C-C(=O)-O-C(=O)R15 (XI)
式中、Y1は上記で与えた定義を有し、R14及びR15はそれぞれ独立に、任意にヘテロ原子も含んでよいC1-C8炭化水素基であるが、これは好ましくない。
官能基を有する基Raの更なる例は、ホスホン酸基及び一般式(XII)のホスホン酸エステル基である。
Y1-P(=O)(OR16)2 (XII)
式中、Y1は上記で与えた定義を有し、基R16はそれぞれ独立に水素又は炭素数18までの炭化水素基が好ましい。好ましいホスホン酸基は、R16が水素、メチル又はエチルのホスホン酸基であるが、この目録では限定されないとみなすべきである。
官能基を有する基Raの更なる例は、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸プロピル、アクリル酸n-ブチル、メタクリル酸n-ブチル、アクリル酸イソブチル、メタクリル酸イソブチル、アクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸ターシャリーブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸ノルボルニルといった、メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステルのアクリロイルオキシ及びメタクリロイルオキシ基である。アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ターシャリーブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル及びアクリル酸ノルボルニルが特に優先される。
官能基を有する基Raの更なる例は、式(XIII)及び(XIV)の好ましいオレフィン性不飽和炭化水素基R17である。
Y1-CR7=CR8R9 (XIII)
Y1-C≡CR10 (XIV)
式中、Y1は上記で与えた定義を有し、又は更なる実施形態では式(XIII)及び(XIV)中に全く存在せず、基R7、R8、R9及びR10はそれぞれ独立に水素原子、又はヘテロ原子を任意に含んでよいC1-C8炭化水素基であり、水素原子が最も好ましい基である。特に好ましい基(XIII)はビニル基、プロペニル基及びブテニル基であり、特にビニル基である。基(XIII)は、スペーサーを通じて1,3-ブタジエニル又はイソプレニル基といった、スペーサーを通じて結合したジエニル基でもよい。
官能基を有するRa基の更なる例は、式(XV)及び(XVI)のエポキシ基を有するものである。
式中、
R12は1基当たり炭素数1~10の2価の炭化水素基であり、エーテル酸素原子で断続してもよい。
R13は水素原子又は1基当たり炭素数1~10の1価の炭化水素基であり、エーテル酸素原子で断続してもよい。
R11は1基当たり炭素数3~12の3価の炭化水素基である。
zは0又は1である。
R12は1基当たり炭素数1~10の2価の炭化水素基であり、エーテル酸素原子で断続してもよい。
R13は水素原子又は1基当たり炭素数1~10の1価の炭化水素基であり、エーテル酸素原子で断続してもよい。
R11は1基当たり炭素数3~12の3価の炭化水素基である。
zは0又は1である。
このようなエポキシ官能基Raに適した例は、
3-グリシドキシプロピル、
3,4-エポキシシクロヘキシルエチル、
2-(3,4-エポキシ-4-メチルシクロヘキシル)-2-メチルエチル、
3,4-エポキシブチル、
5,6-エポキシヘキシル、
7,8-エポキシデシル、
11,12-エポキシドデシル、及び
13,14-エポキシテトラデシル基である。
3-グリシドキシプロピル、
3,4-エポキシシクロヘキシルエチル、
2-(3,4-エポキシ-4-メチルシクロヘキシル)-2-メチルエチル、
3,4-エポキシブチル、
5,6-エポキシヘキシル、
7,8-エポキシデシル、
11,12-エポキシドデシル、及び
13,14-エポキシテトラデシル基である。
好ましいエポキシ基Raは、3-グリシドキシプロピル基及び3,4-エポキシシクロヘキシルエチル基である。
官能基を有するRa基の更なる例は、一般式(XVIII)のアミノ基を有する基である。
-R20-[NR21-R22-]nNR21
2 (XVIII)
式中、
R20は炭素数3~18の直鎖又は分枝の2価の炭化水素基であり、好ましくは炭素数3~10のアルキレン基である。
R21は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、又はアセチル基といったアシル基であり、好ましくは水素原子である。
R22は炭素数1~6の2価の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1~6のアルキレン基である。
nは0、1、2、3又は4であり、好ましくは0又は1である。
R20は炭素数3~18の直鎖又は分枝の2価の炭化水素基であり、好ましくは炭素数3~10のアルキレン基である。
R21は水素原子、炭素数1~8のアルキル基、又はアセチル基といったアシル基であり、好ましくは水素原子である。
R22は炭素数1~6の2価の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1~6のアルキレン基である。
nは0、1、2、3又は4であり、好ましくは0又は1である。
球状ポリシルセスキオキサン粒子の製造方法が優先され、
第一工程において、一般式(I)のトリアルコキシシラン:
RSi(OR1)3 (I)
(式中、
Rは炭素数1~16の炭化水素基であり、炭素鎖が非隣接性の-O-基で断続してもよく、
R1はC1~C4アルキル基である。)
を、pHが6以下の酸性水と混合して反応させ、加水分解物を形成し、
第二工程において、加水分解物を水又はC1~C4アルカノール中で塩基の溶液と混合し、
第三工程において、混合物を少なくとも2時間保持し、
第四工程において、ポリシルセスキオキサン粒子を混合物から分離し、
第五工程において、ポリシルセスキオキサン粒子を乾燥させ、
第六工程において、粒子を超音波篩により解凝集させる。
第一工程において、一般式(I)のトリアルコキシシラン:
RSi(OR1)3 (I)
(式中、
Rは炭素数1~16の炭化水素基であり、炭素鎖が非隣接性の-O-基で断続してもよく、
R1はC1~C4アルキル基である。)
を、pHが6以下の酸性水と混合して反応させ、加水分解物を形成し、
第二工程において、加水分解物を水又はC1~C4アルカノール中で塩基の溶液と混合し、
第三工程において、混合物を少なくとも2時間保持し、
第四工程において、ポリシルセスキオキサン粒子を混合物から分離し、
第五工程において、ポリシルセスキオキサン粒子を乾燥させ、
第六工程において、粒子を超音波篩により解凝集させる。
Rは炭素数1~6のアルキル基又はフェニル基が好ましく、特にエチル、ビニル又はメチル基である。
R1はメチル、エチル又はn-プロピル基が好ましく、特にメチル基である。
好ましい一般式(I)のトリアルコキシシランは、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ-n-プロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトシル(2-メトキシエトキシ)シラン、及びこれらの混合物である。
加水分解物への転換は、pHが好ましくは5.5以下、特に好ましくは4.5以下、好ましくは1以上、特に好ましくは2以上、特に2.3以上の、酸性水の中で行う。
使用する水は脱塩することが好ましく、酸性化の前に、好ましくは50μS/cm以下、好ましくは30μS/cm以下、特に好ましくは20μS/cm以下、特に好ましくは10μS/cm以下の、それぞれ20℃の場合で測定した伝導率を有することが好ましい。
使用する水の酸性化には、ブレンステッド酸又はルイス酸を用いることができる。
ルイス酸の例は、BF3、AlCl3、TiCl3、SnCl4、SO3、PCl5、POCl3、FeCl3、及びこれらの水和物、並びにZnCl2である。ブレンステッド酸の例は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、亜硝酸、クロロスルホン酸、オルト、メタ及びポリリン酸といったリン酸、ホウ酸、亜セレン酸、硝酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸及びシュウ酸といったカルボン酸、トリクロロ酢酸及びトリフルオロ酢酸といったハロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、酸性イオン交換体、酸性ゼオライト、並びに酸活性化の漂白土である。
ルイス酸の例は、BF3、AlCl3、TiCl3、SnCl4、SO3、PCl5、POCl3、FeCl3、及びこれらの水和物、並びにZnCl2である。ブレンステッド酸の例は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、亜硝酸、クロロスルホン酸、オルト、メタ及びポリリン酸といったリン酸、ホウ酸、亜セレン酸、硝酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸及びシュウ酸といったカルボン酸、トリクロロ酢酸及びトリフルオロ酢酸といったハロ酢酸、p-トルエンスルホン酸、酸性イオン交換体、酸性ゼオライト、並びに酸活性化の漂白土である。
塩酸、臭化水素酸及び酢酸が優先される。
正確に目標pHを設定するほど、異なる反応バッチの間における平均粒子径の散乱が小さくなる。pHの分散は、±1未満が好ましく、±0.5未満が好ましく、±0.3未満が特に好ましく、特に±0.1未満である。
NMRの手段による動態研究で、酸性の媒質中における一般式(I)のトリアルコキシシランの加水分解の速度がpHに依存し、pHの減少とともに一層速く進行することが分かってきた。縮合反応の速度もpHに依存的で、低いpHで増加する。
水の酸性化は、反応と同時に、又は反応の前及び反応と同時の両方で、加水分解物を形成する反応の前に行うことができる。
一般式(I)のトリアルコキシシランの加水分解は弱い発熱反応である。好ましい実施形態では、任意に加熱又は冷却して第一工程における温度を維持し、好ましくは0℃~80℃、好ましくは10℃~50℃、特に好ましくは15℃~40℃、極めて特に好ましくは15~30℃、特に15~25℃であり、目標温度に達した後の温度の変動は10℃未満が好ましく、5℃未満がより好ましい。トリアルコキシシランの定量添加は、目標温度に達する前又は達した後から始めることができる。
他の実施形態では、トリアルコキシシランの一部を添加する。この場合、積極的ではなく部分的に、加熱を消散させる。この実施形態では、トリアルコキシシランの添加の後で、温度における発熱の増加がある。第一工程における反応の温度は20℃~80℃であり、好ましくは60℃までである。
0.5~5時間に亘り、特に好ましくは長くとも2時間、トリアルコキシシランを定量する。素早い添加の形態と定量添加の形態との間には滑らかな移行があり、即ち最大で40℃まで部分的に熱を取り除くとともに15分に亘って素早く添加することができ、又は、例えば2時間に亘り定量添加することができるが、この場合では僅かな冷却、最初に温度を30℃まで上昇させること、及びこの温度の維持を伴う。
一定温度での定量添加が特に優先される。
一定温度での定量添加が特に優先される。
第一工程では、100質量部の水に対し、好ましくは5~43重量部、好ましくは11~34重量部、特に13~25重量部のトリアルコキシシランを用いる。
第一工程における混合は、静的ミキサーの手段、又は好ましくはスターラーの手段で行うことができる。
工程1に続く工程1aで、加水分解物のpHを1~6の値に調整することが好ましい。加水分解物のpHを調整する工程1aでは、第一工程でも使用可能な酸を用いるか、第二工程でも使用可能な塩基を用いることが好ましい。
トリアルコキシシランの定量添加及び任意に工程1aでのpH調整の後で更に、好ましくは5分~5時間、特に好ましくは10分~3時間、特に15分~1.5時間、混合物を撹拌する。シランの添加に掛かる時間と更なる撹拌の時間との合計が6時間を超えないように、更なる撹拌の時間を選ぶことが好ましい。
更なる撹拌中の温度は、0℃~60℃、好ましくは10℃~50℃、特に好ましくは10℃~40℃、極めて特に好ましくは10℃~30℃、特に15℃~25℃で維持する。第一工程における反応温度と更なる撹拌中の温度との差は、20℃未満が好ましく、10℃未満が好ましく、特に5℃未満である。
第二工程において、塩基はアルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属メトキシド、アンモニア及び有機アミンから選ばれることが好ましい。好ましい有機アミンは、モノ、ジ若しくはトリエチルアミン、モノ、ジ若しくはトリメチルアミン又は1,2-エチレンジアミンといったアルキルアミンである。Li、Na、Kの水酸化物の使用が優先される。
水又は炭素数1~3のアルカノール中における、アルカリ金属の水酸化物の溶液は、第二工程で用いることが好ましい。好ましいアルカノールは1-プロパノール、2-プロパノール、エタノール及び特にメタノールである。アルカリ金属の水酸化物の水溶液も好ましい。適した溶液は、20℃で0.001~1100g/L、好ましくは0.01~500g/L、特に好ましくは0.1~500g/Lの、アルカリ金属の水酸化物の希釈溶液又は濃縮溶液である。
第二工程における加水分解物のpHは、第一工程の後の加水分解物の温度にて調整することが好ましい。
第二工程における加水分解物のpHは、第一工程の後の加水分解物の温度にて調整することが好ましい。
第二工程における加水分解物のpHは、混合しながら調整することが好ましい。混合は静的ミキサーの手段又は好ましくはスターラーの手段で行ってもよい。
炭素数1~3のアルカノール中におけるアルカリ金属の水酸化物の溶液を用いるとき、粒子同士が特に弱く接着し、特に低い程度での凝集を示し、一層少なく凝集する傾向を有する。化粧用途に好ましい乾燥した肌触りを粒子は示す。KOHがアルカリ金属の水酸化物として好ましい。
NaOH及びKOHの代替として、第二工程において加水分解物中に存在する水とすぐに反応してNaOH又はKOHを形成する、前のNaOH又はKOHを用いることもできる。これらの例は、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、HaH及びKHである。この実施形態では、メタノール溶液中のナトリウムエトキシド又はカリウムメトキシドの使用が優先される。
それぞれ塩基の添加後に直接測定した場合で、pHが好ましくは6以上、好ましくは6.5以上、好ましくは10以下、好ましくは9.5以下に達した、十分な塩基溶液を添加する。塩基の量の添加により、低いpHが一層大きな粒子を製造し、粒子径に影響を与えることができる。特に好ましいpHは7.5~9である。
好ましくは10秒~10分以内、特に1~3分以内、好ましくは短時間の激しい撹拌とともに、塩基の溶液を添加する。
好ましい実施形態では、第二工程において塩基を添加する温度を、好ましくは0℃~60℃、好ましくは10℃~50℃、特に好ましくは10℃~40℃、極めて特に好ましくは10℃~30℃、特に15℃~25℃に維持する。更なる撹拌の間での温度と塩基を添加するための温度との差は、20℃未満が好ましく、10℃未満が好ましく、特に5℃未満である。
液体のような挙動といえる流体挙動は、ポリシルセスキオキサン粒子を振り混ぜた直後において特に明らかである。体積の増加が大きいほど、流体挙動が明白になる。体積が50%増加する材料は既に流体挙動を示し、例えば容器を傾けた際に容器中の材料-振とう直後-が液体のように前後に流れることで現れる。体積が50%増加する材料は、極めて速く沈降して非流動性の元の状態に戻るため、不利である。球状ポリシルセスキオキサン粒子は、少なくとも100%の体積の増加を示すことが好ましい。
第二工程における混合は、静的ミキサーの手段又は好ましくはスターラーの手段で行うことができる。
第二工程の後、好ましくは10分以内、好ましくは5分以内に混合を中断する。第二工程の後、好ましくは少なくとも1時間、好ましくは少なくとも1.5時間、特に好ましくは少なくとも2.5時間、混合物を撹拌しない。その後、粒子を沈降から防ぐためにスターラーの電源を低速で入れることができる。これは、沈降したポリシルセスキオキサン粒子を容易に掻き混ぜることができるので、任意であり必要ない。
第二工程の後、少なくとも1時間、好ましくは少なくとも1.5時間、特に好ましくは少なくとも2.5時間、混合物の温度を好ましくは20℃以下、好ましくは10℃以下に変化させる。
粒子を形成する第三工程の初期段階における撹拌では、変形、融合又は凝集した粒子の発生の増加がある。
好ましい実施形態では、ポリシルセスキオキサン粒子が分離するまで、第三工程で混合物を撹拌しない。
ポリシルセスキオキサン粒子が分離する前に、好ましくは少なくとも4時間、特に好ましくは少なくとも7時間、特に少なくとも10時間、第三工程で混合物を保持する。12週間までの貯蔵時間も可能である。
通常、1~30分後までに曇りを既に見ることができる。
第三工程における温度は0℃~60℃が好ましく、10℃~50℃がより好ましく、10℃~40℃が特に好ましく、10℃~30℃が極めて特に好ましく、特に15℃~25℃である。より大きな粒子は低温で形成し、より小さな粒子は高温で形成する。
15℃~25℃の温度では、反応混合物と外部とで温度勾配がほとんど又は全くなく、結果として反応器壁と反応溶液との間で最小の熱勾配及び粒子の沈降中における最小の熱対流となる。
本発明の方法は、バッチ法、準バッチ法及び/又は連続法として行うことができる。
好ましい実施形態では、第三工程の後に、酸の添加で混合物を中和する。
結果として生じるシリコーン樹脂粒子を、第四工程において好ましい方法で、好ましくは濾過又は遠心分離により、混合物から分離する。
分離の後、粒子を脱塩水又はアルコールで洗浄することが好ましい。
分離の後、粒子を脱塩水又はアルコールで洗浄することが好ましい。
好ましい方法では、分離したシリコーン樹脂粒子を第五工程で乾燥する。好ましくは40~250℃、特に好ましくは100~240℃、特に好ましくは140~220℃で粒子を乾燥する。乾燥を外圧又は減圧下で行うことができる。乾燥の間では遊離のSi-OH基の縮合もあり、動態測定によれば、この縮合は好ましくは150℃から、より良くは180℃から、理想的には200℃から進行する。100℃で長時間乾燥した粒子は乾いているが、Si-OH含有量が多い。150℃では、Si-OH含有量は著しく減少するが、まだ完全には除去されていない。200℃では、Si-OH基が再び著しく減少する。減少したSi-OH含有量は結果として、粒子の分布挙動及び流動化の点で有利となる。
適した乾燥機の例は、パドルドライヤー、流動層乾燥機、箱型乾燥機、フロー乾燥機又はドラム乾燥機である。
好ましくは0.5~100時間、特に好ましくは0.5~24時間、特に1~14時間、粒子を乾燥する。
乾燥し、篩に掛けられていないシリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子は、好ましくは少なくとも30重量%、より好ましくは少なくとも40重量%、特に好ましくは少なくとも50重量%の、20μm未満の篩分画を有する。
乾燥し、篩に掛けられていないシリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子は、好ましくは少なくとも60重量%、より好ましくは少なくとも70重量%の、40μm未満の篩分画を有する。
乾燥し、篩に掛けられていないシリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子は、好ましくは25重量%未満、より好ましくは20重量%未満、特に好ましくは15重量%未満の、100μm超の篩分画を有する。
シリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子の凝集からの特に高度な解放は、前述の超音波篩で達成する。
シリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子は、電子顕微鏡で調べるときに、球状を有することが好ましい。
球状シリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子では、平均真球度yは少なくとも0.6が好ましく、特に少なくとも0.7である。球状ポリシルセスキオキサン粒子では、平均真円度xが少なくとも0.6が好ましく、特に少なくとも0.7である。真円度x及び真球度yはDIN EN ISO 13503-2、37ページ、付録B.3、特に図B.1により決定できる。
球状シリコーン樹脂粒子、特にポリシルセスキオキサン粒子では、平均真球度yは少なくとも0.6が好ましく、特に少なくとも0.7である。球状ポリシルセスキオキサン粒子では、平均真円度xが少なくとも0.6が好ましく、特に少なくとも0.7である。真円度x及び真球度yはDIN EN ISO 13503-2、37ページ、付録B.3、特に図B.1により決定できる。
外気の圧力、即ち約0.1MPa(絶対圧)で、全工程を行うことが好ましく、より高い又はより低い圧力でも行うことができる。0.08MPa以上(絶対圧)、特に好ましくは0.09MPa以上(絶対圧)、特に好ましくは0.2MPa以下(絶対圧)、特に0.15MPa以下(絶対圧)の圧力が優先される。
前述の式における上述の全記号の意味は、それぞれ独立している。全式においてケイ素原子は3価である。
以下の実施例において、それぞれ他に述べない限り、量と割合は全て重量基準であり、圧力は全て0.10MPa(絶対圧)であり、温度は全て20℃である。
篩分析:
振幅100%で、レッチェAS 200ベーシック分析篩機における乾式篩の手段で、篩分析を行う。この分析のために、DIN ISO 3310に従い以下の目開きの4つの篩を重ねる。200μm、100μm、40μm、20μm、底。それぞれの場合において、最上の篩(200μm)に50gの物質を入れ、10分間篩に掛ける。
振幅100%で、レッチェAS 200ベーシック分析篩機における乾式篩の手段で、篩分析を行う。この分析のために、DIN ISO 3310に従い以下の目開きの4つの篩を重ねる。200μm、100μm、40μm、20μm、底。それぞれの場合において、最上の篩(200μm)に50gの物質を入れ、10分間篩に掛ける。
体積加重粒子径分布d 50
体積加重粒子径分布は、Sympatec社のヘロス装置を、分散媒質として2バールの圧縮空気を備えたロドス乾式分散器とともに用いて、静的レーザー散乱の手段によりISO 13320で決まる。d50は粒子径の中央値を示す。
体積加重粒子径分布は、Sympatec社のヘロス装置を、分散媒質として2バールの圧縮空気を備えたロドス乾式分散器とともに用いて、静的レーザー散乱の手段によりISO 13320で決まる。d50は粒子径の中央値を示す。
pHの測定:
ガラス電極を有する電気的pH計を、反応混合物に浸漬する。
ガラス電極を有する電気的pH計を、反応混合物に浸漬する。
一般的手順1:ポリメチルシルセスキオキサン粒子の調製
ジャケット冷却を付帯し、ガラスで覆った50リットルの撹拌槽へ、伝導率が0.1μS/cmの脱塩水32kgを最初に投入し、20℃に制御した温度で維持する。内容物を150rpmで掻き混ぜる。0.1モーラーの塩酸を加えてpHを4.40に調整する。メチルトリメトキシシラン7.0kgを1時間に亘って定量し、温度を20℃に維持する。定量添加の完了時に、混合物を20℃で30分間掻き混ぜる。(工程1)
pHを修正する(工程1a)。
修正完了後、混合物を20℃で更に30分間掻き混ぜる。0.5モーラーのKOHメタノール溶液363gを20℃で1分以内に添加し、混合物を合計で3分間均一に混ぜる(工程2)。スターラーの電源を切る。21時間後(工程3)、沈降した粒子を濾過し、脱塩水で洗浄し、150℃で18時間乾燥した。
ジャケット冷却を付帯し、ガラスで覆った50リットルの撹拌槽へ、伝導率が0.1μS/cmの脱塩水32kgを最初に投入し、20℃に制御した温度で維持する。内容物を150rpmで掻き混ぜる。0.1モーラーの塩酸を加えてpHを4.40に調整する。メチルトリメトキシシラン7.0kgを1時間に亘って定量し、温度を20℃に維持する。定量添加の完了時に、混合物を20℃で30分間掻き混ぜる。(工程1)
pHを修正する(工程1a)。
修正完了後、混合物を20℃で更に30分間掻き混ぜる。0.5モーラーのKOHメタノール溶液363gを20℃で1分以内に添加し、混合物を合計で3分間均一に混ぜる(工程2)。スターラーの電源を切る。21時間後(工程3)、沈降した粒子を濾過し、脱塩水で洗浄し、150℃で18時間乾燥した。
[実施例1]
一般的手順1に従い、ポリメチルシルセスキオキサン粒子を調製した。工程1aでpHを2.8に修正した。得られた粒子の粒子径の中央値d50は5.0μmである。
一般的手順1に従い、ポリメチルシルセスキオキサン粒子を調製した。工程1aでpHを2.8に修正した。得られた粒子の粒子径の中央値d50は5.0μmである。
[実施例2]
Allgaier Process Technology社、Ulmer Strasse 75、73066 Uhingen、ドイツから利用できるAllgaierのVRS 600振動円形篩機(目開き20μm、篩径600mm)を、35kHzでの篩目の超音波励振とともに用いて、摩耗耐性中空円筒タッピング補助具を用いつつ、実施例1の凝集した粒子の篩掛けを行った。排出口を通じた製品の供給のときの損失を回避するため、排出口の粗い材料を取り除いた。いつも篩を原材料で覆われたままにするように、実施例1の粒子17kgを連続的に篩に投入した。篩目上の粒子は高さ約1~2cmに投じられた。平均質量処理量は約60kg/h、篩面積のcm2当たり約0.21kg/h相当であった。粗い材料の目に見える集積は、篩上になかった。このようにして、完全な材料処理量と、100%の20μm未満の微細分画とを達成した。
Allgaier Process Technology社、Ulmer Strasse 75、73066 Uhingen、ドイツから利用できるAllgaierのVRS 600振動円形篩機(目開き20μm、篩径600mm)を、35kHzでの篩目の超音波励振とともに用いて、摩耗耐性中空円筒タッピング補助具を用いつつ、実施例1の凝集した粒子の篩掛けを行った。排出口を通じた製品の供給のときの損失を回避するため、排出口の粗い材料を取り除いた。いつも篩を原材料で覆われたままにするように、実施例1の粒子17kgを連続的に篩に投入した。篩目上の粒子は高さ約1~2cmに投じられた。平均質量処理量は約60kg/h、篩面積のcm2当たり約0.21kg/h相当であった。粗い材料の目に見える集積は、篩上になかった。このようにして、完全な材料処理量と、100%の20μm未満の微細分画とを達成した。
[比較例C1]
目開きが20μmで篩径が200mmの篩上で、レッチェ社、Retsch-Allee 1-5、42781 Haan、ドイツから利用できるレッチェの従来のレッチェAS 200ベーシック放出篩機を用いて、粗い材料の排出口を用いずに、実施例1の粒子を篩に掛けた。実施例1の粒子100gを投入し、追加のタッピング補助具を用いずに、振幅100%(変位約2mmに相当)で篩に掛けた。10分後、44gの粒子が篩を通過し、平均質量処理量は篩面積のcm2当たり約0.009kg/h相当であった。篩振とう機では、たった44%の20μm未満の微粒子しか得られなかった。凝集した粒子の分離は達成できなかった。
目開きが20μmで篩径が200mmの篩上で、レッチェ社、Retsch-Allee 1-5、42781 Haan、ドイツから利用できるレッチェの従来のレッチェAS 200ベーシック放出篩機を用いて、粗い材料の排出口を用いずに、実施例1の粒子を篩に掛けた。実施例1の粒子100gを投入し、追加のタッピング補助具を用いずに、振幅100%(変位約2mmに相当)で篩に掛けた。10分後、44gの粒子が篩を通過し、平均質量処理量は篩面積のcm2当たり約0.009kg/h相当であった。篩振とう機では、たった44%の20μm未満の微粒子しか得られなかった。凝集した粒子の分離は達成できなかった。
[比較例C2]
比較例C1で記載のように実施例1の粒子を篩に掛けたが、摩耗耐性中空円筒タッピング補助具を用いた。10分後、52gの粒子が篩を通過し、平均質量処理量は篩面積のcm2当たり約0.01kg/h相当であった。タッピング補助具を用いても、篩振とう機では、たった52%の20μm未満の微粒子しか得られなかった。凝集した粒子の僅かな分離しか達成できなかった。
比較例C1で記載のように実施例1の粒子を篩に掛けたが、摩耗耐性中空円筒タッピング補助具を用いた。10分後、52gの粒子が篩を通過し、平均質量処理量は篩面積のcm2当たり約0.01kg/h相当であった。タッピング補助具を用いても、篩振とう機では、たった52%の20μm未満の微粒子しか得られなかった。凝集した粒子の僅かな分離しか達成できなかった。
Claims (11)
- アルコキシシランを水と反応させて加水分解物を形成し、
その結果生じるシリコーン樹脂粒子を混合物から分離し、
前記シリコーン樹脂粒子を乾燥し、
超音波篩により前記粒子を解凝集させる、球状シリコーン樹脂粒子の製造方法。 - 前記超音波篩には、目開きが10~40μmの篩目を用いる、請求項1に記載の方法。
- 前記超音波篩を、30~38kHzの周波数範囲にて実施する、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記超音波篩において、超音波励振の結果として、前記篩目上の粒子は0.3~10cmの高さに投じられる、請求項1~3の何れか一項に記載の方法。
- 前記超音波篩を、10~500W/m2の面積比出力にて実施する、請求項1~4の何れか一項に記載の方法。
- 濾過又は遠心分離により前記粒子を分離する、請求項1~5の何れか一項に記載の方法。
- 第一工程において、一般式(I)のトリアルコキシシラン:
RSi(OR1)3 (I)
(式中、
Rは炭素数1~16の炭化水素基であり、炭素鎖が非隣接性の-O-基で断続してもよく、
R1はC1~C4アルキル基である。)
を、pHが6以下の酸性水と混合して反応させ、加水分解物を形成し、
第二工程において、前記加水分解物を、水又はC1~C4アルカノール中で塩基の溶液と混合し、
第三工程において、混合物を少なくとも2時間保持し、
第四工程において、ポリシルセスキオキサン粒子を前記混合物から分離し、
第五工程において、前記ポリシルセスキオキサン粒子を乾燥させ、
第六工程において、前記粒子を超音波篩により解凝集させる、
球状ポリシルセスキオキサン粒子の製造方法。 - 前記Rがエチル基又はメチル基である、請求項7に記載の方法。
- 前記R1がエチル基又はメチル基である、請求項7又は8に記載の方法。
- 前記第一工程において、前記加水分解物の形成反応をpH4.5~2にて行う、請求項7~9の何れか一項に記載の方法。
- 前記第二工程において、アルカリ金属水酸化物の水又は炭素数1~3のアルカノール溶液を用いる、請求項7~10の何れか一項に記載の方法。
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