JP2022509663A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020207807A1 (de) 2020-06-24 2021-12-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102020210553A1 (de) 2020-08-20 2022-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektierendes optisches Element, Beleuchtungsoptik, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Bilden einer Schutzschicht
DE102020213639A1 (de) 2020-10-29 2022-05-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element, insbesondere zur Reflexion von EUV-Strahlung, optische Anordnung und Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements
DE102022200526A1 (de) 2022-01-18 2022-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Struktur auf einem Substrat sowie Vorrichtung zur Strukturherstellung mit einem derartigen Verfahren
DE102022202059A1 (de) 2022-03-01 2023-09-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks
DE102022203644A1 (de) 2022-04-12 2023-04-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines Substrats und eines reflektiven optischen Elements für die EUV-Lithographie
DE102022207052A1 (de) 2022-07-11 2024-01-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage
DE102022208658A1 (de) 2022-08-22 2024-02-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Zwischenprodukt zur Herstellung eines optischen Elements für eine Projektionsbelichtungsanlage, optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines Zwischenprodukts und Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5907436A (en) * 1995-09-29 1999-05-25 The Regents Of The University Of California Multilayer dielectric diffraction gratings
US20020019305A1 (en) * 1996-10-31 2002-02-14 Che-Kuang Wu Gray scale all-glass photomasks
US6859515B2 (en) 1998-05-05 2005-02-22 Carl-Zeiss-Stiftung Trading Illumination system, particularly for EUV lithography
DE10138313A1 (de) 2001-01-23 2002-07-25 Zeiss Carl Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm
JP2002196320A (ja) * 2000-12-25 2002-07-12 Victor Co Of Japan Ltd 空間光変調素子
US6522465B1 (en) * 2001-09-27 2003-02-18 Intel Corporation Transmitting spectral filtering of high power extreme ultra-violet radiation
US6825988B2 (en) * 2002-09-04 2004-11-30 Intel Corporation Etched silicon diffraction gratings for use as EUV spectral purity filters
US7875863B2 (en) 2006-12-22 2011-01-25 Asml Netherlands B.V. Illumination system, lithographic apparatus, mirror, method of removing contamination from a mirror and device manufacturing method
FR2921498B1 (fr) * 2007-09-25 2010-08-13 Commissariat Energie Atomique Dispositif optique dispersif a cristal photonique tridimensionnel.
US8227778B2 (en) * 2008-05-20 2012-07-24 Komatsu Ltd. Semiconductor exposure device using extreme ultra violet radiation
CN102047151B (zh) 2008-05-30 2014-07-16 Asml荷兰有限公司 辐射系统、辐射收集器、辐射束调节系统、用于辐射系统的光谱纯度滤光片以及用于形成光谱纯度滤光片的方法
TWI525353B (zh) * 2009-07-07 2016-03-11 加州太平洋生物科學公司 超高多工分析系統及方法
FR2954524B1 (fr) * 2009-12-17 2012-09-28 Ecole Polytech Reseau de diffraction reflechissant dielectrique optimise
WO2012119672A1 (en) * 2011-03-04 2012-09-13 Asml Netherlands B.V. Lithograpic apparatus, spectral purity filter and device manufacturing method
JP5953656B2 (ja) * 2011-05-09 2016-07-20 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法
FR2987139B1 (fr) * 2012-02-21 2014-09-05 Commissariat Energie Atomique Dispositif optique de diffraction en reflexion a haute tenue au flux laser.
DE102012010093A1 (de) * 2012-05-23 2013-11-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel
US9435921B2 (en) * 2013-08-02 2016-09-06 Globalfoundries Inc. Blazed grating spectral purity filter and methods of making such a filter
WO2015052748A1 (ja) * 2013-10-07 2015-04-16 株式会社島津製作所 ブレーズド回折格子およびブレーズド回折格子の製造方法
EP3076208B1 (en) * 2015-04-04 2019-06-12 Fyzikální ústav AV CR, v.v.i. Multi-layer reflective diffraction grating and use thereof
NL2017275A (en) * 2015-09-03 2017-03-08 Asml Netherlands Bv Beam splitting apparatus
DE102016213839A1 (de) * 2016-07-27 2016-12-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für ein mikrolithographisches Projektionsbelichtungssystem und Verfahren zur Bearbeitung eines Spiegels
US10458912B2 (en) * 2016-08-31 2019-10-29 Kla-Tencor Corporation Model based optical measurements of semiconductor structures with anisotropic dielectric permittivity
CN112513688B (zh) * 2018-07-19 2023-05-26 应用材料公司 可变高度的斜向光栅方法
EP3719545A1 (en) * 2019-04-03 2020-10-07 ASML Netherlands B.V. Manufacturing a reflective diffraction grating
DE102019215829A1 (de) * 2019-10-15 2021-04-15 Asml Netherlands B.V. EUV-Kollektorspiegel

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