JP2022153105A - 基板保持部材およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板との低接触状態を維持しながら、基板の位置決め精度の向上を図ることができる基板保持部材を提供する。【解決手段】基板保持部材100であって、平板上の基体10と、前記基体10の上面12から上方に突出して形成される複数の凸部20と、を備え、前記凸部の上端面24は、前記基体10の周方向に形成された細溝26を有する。これにより、基板W吸着時に、基板の径方向への伸縮や変位が抑制されるため、基板Wの位置決め精度(オーバーレイの精度)が向上する。【選択図】図1
Description
本発明は、基板保持部材およびその製造方法に関する。
従来から、半導体製造装置等において、シリコンウエハやガラスウエハ等の基板を支持する基板保持部材が用いられている。このような基板保持部材は基板の裏面を支持するため、例えば、真空チャックの場合、基体の表面に形成された通気孔を通じて、基体の表面と基板の裏面により画定される空間を真空排気することで基板が吸着支持される。
近年、半導体製品の超微細化および超高精度化が進んでおり、基板保持部材としては、基体と基板との間にパーティクルが噛みこむことにより、基板の平面精度が損なわれるリスクを低減する目的として、基板と基体との接触面積を低減するため、基板を支持する領域が複数のピン状凸部からなる基板保持部材が使用されている。
また、半導体製品の超微細化および超高精度化により、基板に形成される配線パターンも微細化および多層配線化されている。露光処理の工程では基板上に複数層の回路パターンを重ね合わせる必要があり、各層間での位置決め精度(重ね合わせ精度)の要求も厳しいものとなっている。
特許文献1は、物品保持装置であって、基板保持面の表面に非晶質硬質炭素膜(例えば、DLC膜など)を形成することで、保持面の摩耗によるパーティクルの発生を抑制することで、保持面と基板との間にパーティクルが噛みこむリスクを低減することが開示されている。
特許文献2は、ウエハを支持するチャックの表面において、径方向に向かうスクラッチが形成されている。これにより、径方向におけるウエハとの摩擦力が小さくなることで、ウエハがチャックに吸着されるときの横方向への動きに対する摩擦を低減することで、ウエハをフラットな状態で吸着できることが開示されている。
基板に形成される配線パターンの微細化、多層配線化から、露光処理時に基板保持部材(チャック)に吸着される基板の位置決め精度は非常に重要である。しかし、吸着対象である基板は必ずしも平面度に優れているというわけではなく、凹状、凸状の反りを有している場合がある。このときの基板の反り形状は一定ではないため、真空チャックの吸引による負圧発現時や、静電チャックによる静電吸着力発現時に基板裏面において均等に圧力がかかるとは限らないことから、基板の滑り、伸縮、変位等が発生することがある。
特許文献1に記載されている保持面の表面に形成された非晶質硬質炭素膜(DLC膜)は、高硬度、高耐摩耗性という特徴に加えて、低摩擦係数であるという特徴を持ち、吸着時に基板の滑りが発生し、位置決めしにくくなるといった課題がある。
特許文献2に記載されているスクラッチが形成されることにより、径方向におけるウエハとの摩擦力が小さくなるため、ウエハ吸着時にウエハの径方向への伸縮や変位が発生し、位置決めしにくくなるといった課題がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、基板との低接触状態を維持しながら、基板の位置決め精度の向上を図ることができる基板保持部材を提供することを目的とする。
(1)上記の目的を達成するため、本発明の基板保持部材は、基板保持部材であって、平板上の基体と、前記基体の上面から上方に突出して形成される複数の凸部と、を備え、前記凸部の上端面は、前記基体の周方向に形成された細溝を有することを特徴としている。
このように、凸部の上端面に周方向に形成された細溝を有することで、基板吸着時に、基板の径方向への伸縮や変位が抑制されるため、基板の位置決め精度(オーバーレイの精度)が向上する。
(2)また、本発明の基板保持部材において、前記凸部の上端面は、前記基体の径方向に沿った表面粗さRaが前記基体の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きいことを特徴としている。
このように、凸部の上端面の径方向の表面粗さRaが周方向の表面粗さRaと比較して大きいことで、基板の位置決め精度がより向上する。
(3)また、本発明の基板保持部材において、前記基体の中心を通り直交する2つの直線で前記上面を4つの領域に分割したとき、いずれの領域にも前記凸部の上端面の前記基体の径方向に沿った表面粗さRaが前記基体の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部が含まれることを特徴としている。
これにより、基板の様々な径方向への伸縮や変位が抑制されるため、基板の位置決め精度がより向上する。
(4)また、本発明の基板保持部材において、前記凸部の上端面の前記基体の径方向に沿った表面粗さRaが前記基体の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい前記凸部の前記基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.04μm以上0.15μm未満であることを特徴としている。
これにより、基板の位置決め精度向上の効果を十分に発揮できると共に、パーティクル発生の虞を低減できる。
(5)また、本発明の基板保持部材において、前記凸部の前記上端面の少なくとも一部は、耐摩耗層で形成されることを特徴としている。
このように、凸部の上端面の少なくとも一部が耐摩耗層で形成されていることにより、繰り返しの使用におけるパーティクルの発生を抑制することができる。
(6)また、本発明の基板保持部材の製造方法は、基板保持部材の製造方法であって、セラミックス焼結体からなる平板上の基体を準備する基体準備工程と、前記基体の上面から突出する複数の凸部を形成する凸部形成工程と、前記複数の凸部の上端面をラップ加工するラップ加工工程と、前記複数の凸部の上端面を、径方向の表面粗さRaが周方向の表面粗さRaと比較して大きくなるようにテクスチャリング加工するテクスチャリング加工工程と、を含むことを特徴としている。
これにより、基板の位置決め精度(オーバーレイの精度)が向上した基板保持部材を製造できる。
本発明によれば、基板との低接触状態を維持しながら、基板の位置決め精度の向上を図ることができる。
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。なお、構成図において、各構成要素の大きさは概念的に表したものであり、必ずしも実際の寸法比率を表すものではない。
[実施形態]
本発明の実施形態に係る基板保持部材について、図1および図2を参照して説明する。図1は、本発明の実施形態に係る基板保持部材の上面の一例を示す模式図である。また、図2は、本発明の実施形態に係る基板保持部材の一例を示す模式的な断面図である。本実施形態に係る基板保持部材100は、基板(ウエハ)Wを吸着保持するための平板状の基体10を備えている。
本発明の実施形態に係る基板保持部材について、図1および図2を参照して説明する。図1は、本発明の実施形態に係る基板保持部材の上面の一例を示す模式図である。また、図2は、本発明の実施形態に係る基板保持部材の一例を示す模式的な断面図である。本実施形態に係る基板保持部材100は、基板(ウエハ)Wを吸着保持するための平板状の基体10を備えている。
基体10は、セラミックス焼結体により平板状に形成されている。基体10は円板状のほか、多角形板状、楕円板形状など、吸着対象である基板の形態に応じて様々な形状であってもよい。基体10を形成するセラミックス焼結体は、用途に応じて様々な材質のものを使用することができる。例えば、SiC、Al2O3、Si3N4、AlN、コージエライト、リチウムアルミノシリケート等を使用することができる。
基体10は、上面12から上方に突出して形成される複数の凸部20を備える。複数の凸部20の形状は、円柱形、角柱形等の柱状、円錐形、角錐形等の錐状、円錐台状、角錐台状等の錐状の上部を切断した形状等から適宜選択される。複数の凸部20の形状は、下部よりも上部の断面積が小さくなるような段差付き形状となっていてもよい。すなわち、複数の凸部20は、複数のピン状の凸部である。
複数の凸部20の配置は特に限定されない。既知の形態またはそれに類似する形態であればよく、例えば、同心円状、正方格子状、または図1に示されるような三角格子状など規則的な配置のほか、局部的に疎密が生じているような不規則的な配置であってもよい。複数の凸部20は、隣り合う凸部20間における中心間距離が8mm以下となることが好ましい。
複数の凸部20は、基板Wを支持する。複数の凸部の上端22は、略面一に形成される。すなわち、複数の凸部の上端22により形成される平面(基準面)30が決定される。これにより、複数の凸部の上端22と基板Wとが当接し、基板Wが支持される。なお、複数の凸部20のうち、上端が基板Wと当接しないものがあってもよい。これは、そのような凸部があっても、周りの凸部20の配置によっては、基板Wを支持することが可能だからである。
凸部20の高さは、50μm以上300μm以下であることが好ましい。なお、凸部20の高さとは、基体10の上面12から凸部の上端22までの距離をいう。
複数の凸部20の少なくとも一部は、凸部の上端22が面(上端面)として形成される。また、凸部の上端22が面として形成される凸部20の少なくとも一部は、凸部の上端面24に、基体10の周方向に形成された細溝26を有する。このように、凸部の上端面24に基体10の周方向に形成された細溝26を有することで、基板W吸着時に、基板Wの径方向への伸縮や変位が抑制されるため、基板Wの位置決め精度(オーバーレイの精度)が向上する。凸部の上端22が面として形成される凸部20は、凸部の上端面24の最大径が500μm以下であることが好ましい。
図3(a)、(b)は、それぞれ凸部の上端面24に細溝26が形成されていない凸部20、および周方向に細溝26が形成された凸部20を示す模式的な斜視図である。細溝26は、凸部の上端面24の端から端まで連続していてもよいし、連続していなくてもよい。細溝26の幅は、1μm以上10μm以下であることが好ましい。細溝26の深さは、0.2μm以上2μm以下であることが好ましい。
本発明の基板保持部材100は、周方向に細溝26が形成された凸部20によって、全体として図4のような細溝26を有していることが好ましい。図4は、周方向に細溝26が形成された凸部20が全面的に配置されている基板保持部材100の上面の概念を示す模式図である。また、図5は、一方向に細溝が形成された凸部が全面的に配置されている基板保持部材の上面の概念を示す模式図である。なお、図4および図5は、凸部20が省略されている。
図4のように、周方向に細溝26が形成された凸部20が全面的に配置されている基板保持部材100は、基板Wの中心からあらゆる径方向への滑り、伸縮、変位を抑制することができる。一方、図5のように、一方向に細溝が形成された凸部が全面的に配置されている基板保持部材は、基板Wの中心からある径方向への滑り、伸縮、変位を抑制することができても、それとは異なる径方向への滑り、伸縮、変位を抑制することはできない。そのため、本発明の基板保持部材は、周方向に細溝26が形成された凸部20は、複数あることが好ましく、全面的に配置されていることがより好ましい。
しかし、周方向に細溝26が形成された凸部20は、それが配置された箇所において基板Wの径方向への滑り、伸縮、変位を抑制することができるため、一部の凸部20が周方向に細溝26が形成された凸部20であり、それを除く凸部20が細溝26が形成されない凸部20であっても、本発明の範囲に含むものとする。
凸部の上端面24は、基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きいことが好ましい。このように、凸部の上端面24の径方向の表面粗さRaが周方向の表面粗さRaと比較して大きいことで、基板Wの位置決め精度がより向上する。なお、基体10の径方向および周方向とは、基体10の上面12に基体の中心16を設定したときの基体の中心16を円の中心とする円の半径方向および円周方向のことである。基体の中心16は、基板保持部材100に載置できる最大径の基板Wを載置したときの基板Wの中心近傍に設定することが好ましい。中心近傍とは、最大径の基板Wの中心から0.2mm以内の範囲である。
凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20の基体10の径方向に沿った表面粗さRaは、0.04μm以上であることが好ましい。径方向に沿った表面粗さRaが小さすぎる場合、基板W吸着時の基板Wの径方向への伸縮や変位の抑制効果が小さくなる。また、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20の基体10の径方向に沿った表面粗さRaは、0.15μm未満であることが好ましく、0.1μm以下であることがより好ましい。径方向に沿った表面粗さRaが大きすぎる場合、パーティクル発生の虞が高まる。
凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20の基体10の周方向に沿った表面粗さRaは、0.001μm以上0.08μm以下であることが好ましい。
なお、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRa、および基体10の周方向に沿った表面粗さRaは、凸部の上端面24の凹凸量を白色干渉計により非接触で3次元的にスキャンして、スキャンした3Dハイトマップ上で半径方向の直線上、または円周方向の曲線上で2Dチャートを作成し、作成した2Dチャートにより求めることができる。表面粗さRaは、複数の凸部の上端面24の平均値とすることが好ましい。
例えば、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20が基体10の上面12の全面にある場合、基体の中心16を中心とする任意の半径の円を4つ設定し、回転方向に120°等配にて3方向の計12点の凸部を観察位置として選択し、選択した全ての凸部20の基体10の径方向に沿った表面粗さRa、および基体10の周方向に沿った表面粗さRaを求め、その平均値をそれぞれ基体10の径方向に沿った表面粗さRaおよび基体の周方向に沿った表面粗さRaとすることができる。
また、基体の中心16を通り直交する2つの直線で上面12を4つの領域に分割したとき、いずれの領域にも凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20が含まれることが好ましい。これにより、基板の様々な径方向への伸縮や変位が抑制されるため、基板の位置決め精度がより向上する。
例えば、基体の中心16を中心とする所定の半径の円の内側の領域にある凸部20が全て、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20であればよい。また、例えば、基体の中心16を中心とする異なる所定の半径の2つの円に囲まれたドーナツ状の領域にある凸部20が全て、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20であればよい。
なお、上記のとおり、基体10に形成された凸部20が全て、周方向に形成された細溝26を有することが好ましい。また、基体10に形成された凸部20が全て、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部20であることが好ましい。
凸部の上端22の少なくとも一部、または凸部の上端面24の少なくとも一部は、耐摩耗層28で形成されることが好ましい。凸部の上端面24の少なくとも一部が耐摩耗層28で形成されていることにより、繰り返しの使用におけるパーティクルの発生を抑制することができる。図6(a)、(b)は、それぞれ耐摩耗層28が形成された凸部20を示す模式的な断面図である。耐摩耗層28は、図6(a)に示されるように、凸部の上端22もしくは凸部の上端面24の全部または少なくとも一部に形成されていてもよい。また、図6(b)に示されるように、凸部の上端22もしくは凸部の上端面24、その側面、および基体10の上面12に形成されていてもよい。
耐摩耗層28は、物理蒸着(PVD法)や化学蒸着(CVD法)、イオン化蒸着法などにより形成されたDLC膜(ダイヤモンドライクカーボン)やSiC膜などで形成することができる。
凸部の上端面24の少なくとも一部が耐摩耗層28で形成される凸部20は、周方向に形成された細溝26を有することが好ましい。また、凸部の上端面24の少なくとも一部が耐摩耗層28で形成される凸部20は、凸部の上端面24の基体10の径方向に沿った表面粗さRaが基体10の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きいことが好ましい。凸部の上端面24の少なくとも一部が耐摩耗層28で形成されている場合、基板の滑り、伸縮、変位等が発生しやすいからである。
基板保持部材100は、図示しない電極、端子、端子穴、およびリフトピン孔等を備えていてもよい。また、真空チャックとして使用する場合、そのための通気孔、環状凸部等を備えていてもよい。また、静電チャックとして使用する場合、静電吸着用の電極等を備えていてもよい。
図7は、本発明の実施形態に係る基板保持部材の上面の変形例を示す模式図である。また、図8は、本発明の実施形態に係る基板保持部材の変形例を示す模式的な断面図である。図7および図8は、基板保持部材100を真空チャックとして使用する場合を想定している。
環状凸部40は、基体10の上面12の外周に沿って環状に形成される。例えば、基体10が円板状に形成される場合、環状凸部40は、基体10の上面の外周に沿った位置または外周から所定の幅を空けて中心側に寄った位置に、上方から見たとき円環状に連続して形成されることが好ましい。環状凸部40が円環状に形成される場合、その中心は、基体の中心16と一致することが好ましい。
環状凸部の上端42は、複数の凸部の上端22より基体10の上面12に近い位置にあることが好ましい。すなわち、環状凸部40の高さは、複数の凸部20の高さより低いことが好ましい。これにより、基板Wの吸着動作中において、常に基体10の外側から大気が流入することとなり、環状凸部40の近傍でベルヌーイ効果を発揮させ基板Wの縁の沈み込みを抑制できる。また、基板Wとの接触面積を小さくすることができ、パーティクル発生のリスクが低減される。なお、環状凸部40が複数の凸部20の上端より一定量低く形成されることで、基板W吸着時に外周から外気が常に導入される状態にあるが、圧力勾配の発生により基板Wの吸着に十分な真空度が得られる程度の間隔であれば問題ない。
環状凸部40の高さとは、基体10の上面12から環状凸部の上端42までの距離をいう。環状凸部40の高さは、複数の凸部20の高さに対して、1μm以上10μm以下低いことが好ましい。例えば、複数の凸部20の高さが100μmであるとき、環状凸部40の高さは90μm以上99μm以下であることが好ましい。
環状凸部40の幅は、0.1μm以上8mm以下であることが好ましい。また、環状凸部40の幅は、隣接する複数の凸部20の中心間の距離以下であることが好ましい。環状凸部40は、その断面形状が矩形状のほか、台形状、半球状など様々な形状であってよいが、環状凸部の上端42は、平面で形成されていることが好ましい。その場合、環状凸部の上端42の平面(環状凸部の上端面44)の表面粗さは、Ra0.20μm以下であることが好ましい。
環状凸部の上端42が複数の凸部の上端22より基体10の上面12に近い位置にある、いわゆるベルヌーイ型の真空チャックの場合、環状凸部の上端面44は基板Wと接触しないため、環状凸部の上端面44に細溝が形成される必要はない。一方、環状凸部の上端42が複数の凸部の上端22と略面一に形成された真空チャックの場合、環状凸部の上端面44は基板Wと接触するため、環状凸部の上端面44に細溝26が形成されていてもよい。
基体10には、上面12に開口している1または複数の通気孔50が形成される。複数の通気孔50が形成される場合、複数の通気孔50は基体10の内部を通る通気路を介して連通してもよい。通気孔50は、真空吸引装置(図示略)に接続される。通気孔50の位置、形状、および大きさは、吸着面の領域の形状、基板Wの形状や種類、真空吸引した際の吸着力等、基板保持装置の設計に応じて異なる。
[基板保持部材の製造方法]
次に、本発明の実施形態に係る基板保持部材の製造方法を説明する。本発明の実施形態に係る基板保持部材の製造方法は、基体準備工程と、凸部形成工程と、ラップ加工工程と、テクスチャリング加工工程と、を含む。各工程について、以下に説明をする。
次に、本発明の実施形態に係る基板保持部材の製造方法を説明する。本発明の実施形態に係る基板保持部材の製造方法は、基体準備工程と、凸部形成工程と、ラップ加工工程と、テクスチャリング加工工程と、を含む。各工程について、以下に説明をする。
基体準備工程は、セラミックス焼結体からなる平板上の基体を準備する。周知の方法により、原料粉末から平板状の成形体が作製され、この成形体を焼成することにより平板状のセラミック焼結体が得られる。セラミック焼結体は、SiC、Al2O3、Si3N4、AlN、コージエライト、リチウムアルミノシリケートなどである。原料粉末には焼結助剤が含まれていてもよい。図1などでは円板形状の基板保持部材が図示されているが、多角形形状、楕円形状など、どんな形状でもよい。
凸部形成工程は、基体の上面から突出する複数の凸部を形成する。すなわち、セラミック焼結体の上面となる面に複数の凸部を形成する。また、必要に応じて、通気孔、環状凸部等を形成する。形成方法としては、ブラスト加工、ミリング加工、レーザ加工等によって形成することが可能である。
複数の凸部の配置は特に限定されない。既知の形態またはそれに類似する形態であればよく、例えば、配置は、三角格子状、正方格子状、同心円状など規則的な配置のほか、局部的に疎密が生じているような不規則的な配置であってもよい。
複数の凸部の形状は、円柱形、角柱形等の柱状、円錐形、角錐形等の錐状、円錐台状、角錐台状等の錐状の上部を切断した形状等から適宜選択される。複数の凸部20の形状は、下部よりも上部の断面積が小さくなるような段差付き形状となっていてもよい。少なくとも一部の凸部は、凸部の上端を面として形成する。すなわち、少なくとも一部の凸部の形状は、円柱形、角柱形等の柱状、または円錐台状、角錐台状等の錐状の上部を切断した形状であることが好ましい。
複数の凸部の上端は、略面一に形成される。複数の凸部は、例えば、突出量は50μm以上500μm以下、複数の凸部の間隔は1.5mm以上8mm以下の範囲で、吸着する基板等の条件に応じて設計することが好ましい。また、凸部の上端が面として形成される凸部の上端面の径は100μm以上500μm以下であることが好ましい。
ラップ加工工程は、複数の凸部の上端面をラップ加工する。凸部の表面を遊離砥粒によるラップ研磨を行い、表面粗さRaを好ましくは0.05μm以下、より好ましくは0.04μm以下とする。
テクスチャリング加工工程は、複数の凸部の上端面を、径方向の表面粗さRaが周方向の表面粗さRaと比較して大きくなるようにテクスチャリング加工する。具体的には、凸部の表面を表面テクスチャリング加工により、周方向に沿った細溝を形成する。このとき、基体の径方向に沿った表面粗さRaを0.04μm以上0.15μm未満とすることが好ましい。テクスチャリング加工工程は、例えば以下のように行われる。図9(a)、(b)は、それぞれテクスチャリング加工工程の過程を示す模式的な斜視図および平面図である。
テクスチャリング加工工程は、例えば、緻密質なセラミックス焼結体のピースを複数の凸部の表面上で走査させることで行われる。セラミックスピースは、例えばAl2O3やZrO2の酸化物セラミックスからなり、円板状または角形状で構成され、基板保持部材(複数の凸部)と接する面の表面粗さRaが0.1μm以上0.5μm以下であることが好ましい。Raが0.5μmを超えると、複数の凸部の摩耗によるパーティクルの発生や、基板保持部材の平面度が悪化の恐れがある。また、0.1μm未満であると、複数の凸部との吸い付きがが起こり、セラミックスピースの走査が困難となり、必要以上の力がかかってしまい凸部を破損してしまう虞がある。
セラミックスピース自身からの発塵を抑制するため、セラミックスピースの純度は高純度あることが好ましい。例えば、95%以上であることが好ましく、99%以上であることがより好ましい。
セラミックスピースの表面にダイヤモンドペーストを薄く均一に塗布し、複数の凸部の表面に配置し、1KPa以下の圧力(ピースの自重レベル)で基板保持部材の周方向に走査する。このとき周方向に沿った細溝を形成する目的から、セラミックスピースは一定の方向にのみ走査する。例えば、基板保持部材の外周部を1~3周程度走査した後、セラミックスピースを内側へオフセットし、同様に1~3周程度走査する。その後、表面粗さを測定し、値を満足していなければ同様の走査を繰り返すことで表面テクスチャリング処理を行う。
凸部の上端面の基体の径方向に沿った表面粗さRa、および基体の周方向に沿った表面粗さRaは、凸部の上端面の凹凸量を白色干渉計により非接触で3次元的にスキャンして、スキャンした3Dハイトマップ上で半径方向の直線上、または円周方向の曲線上で2Dチャートを作成し、作成した2Dチャートにより求めることができる。表面粗さRaは、複数の凸部の上端面の平均値とすることが好ましい。
なお、テクスチャリング加工工程の前または後に、複数の凸部の上端面の少なくとも一部に耐摩耗層を形成する、耐摩耗層形成工程を設けてもよい。耐摩耗層形成工程は、複数の凸部が形成されラップ加工がおこなわれた基板保持部材に対し、物理蒸着(PVD法)や化学蒸着(CVD法)、イオン化蒸着法などにより、DLC膜(ダイヤモンドライクカーボン)やSiC膜などを形成することで、耐摩耗層を形成することができる。
耐摩耗層形成工程は、形成する耐摩耗層の厚みがテクスチャリング加工工程で形成する細溝の深さと比較して薄い場合は、テクスチャリング加工工程の前または後のどちらで行なってもよい。形成する耐摩耗層の厚みがテクスチャリング加工工程で形成する細溝の深さと比較して同等以上である場合は、テクスチャリング加工工程の後に行なうことが好ましい。
上記のような工程により、本発明の基板保持部材を製造することができる。
[実施例および比較例]
(実施例1)
炭化ケイ素の焼結体からなる、径φ310mm、厚さt1.5mmの略円板状の基体を準備し、ブラスト加工により、通気孔、複数の凸部、環状凸部が形成した。複数の凸部は、高さ150μm、径φ300μmで、各凸部の中心間間隔が4mmの三角格子状となるように形成された。また、環状凸部は、幅が200μmで形成され、追加工により複数の凸部より3μm低くなるように形成された。
(実施例1)
炭化ケイ素の焼結体からなる、径φ310mm、厚さt1.5mmの略円板状の基体を準備し、ブラスト加工により、通気孔、複数の凸部、環状凸部が形成した。複数の凸部は、高さ150μm、径φ300μmで、各凸部の中心間間隔が4mmの三角格子状となるように形成された。また、環状凸部は、幅が200μmで形成され、追加工により複数の凸部より3μm低くなるように形成された。
続いて、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行った。
続いて、表面テクスチャリング加工として、相対密度99%、表面粗さRa0.3μmの酸化アルミニウムからなるセラミックスピース(φ130mm×t15mm)に粒径0.5μmのダイヤモンドペーストを塗布し、周方向に走査することで、実施例1の基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.04μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
なお、実施例および比較例のテクスチャリング加工前の凸部の表面粗さRaは、以下のように測定した。基体の中心を中心とする任意の半径の円を4つ設定し(本実施例では、φ20mm、φ110mm、φ200mm、φ298mm)、回転方向に120°等配にて3方向の計12点の凸部を観察位置として選択した。次に、選択した凸部の上端面の凹凸量を白色干渉計(AMETEK Talor Hobson社製:CCI-HD)により非接触で3次元的にスキャンした。次に、スキャンした3Dハイトマップ上で任意の直線上で2Dチャートを作成し、作成した2Dチャートによりそれぞれの凸部の表面粗さRaを求めた。そして、12個の凸部の表面粗さRaの平均値を求めることで、基体保持部材の表面粗さRaを求めた。
また、実施例のテクスチャリング加工後の凸部の基体の径方向に沿った表面粗さRaおよび基体の周方向に沿った表面粗さRaは、以下のように測定した。基体の中心を中心とする任意の半径の円を4つ設定し(本実施例では、φ20mm、φ110mm、φ200mm、φ298mm)、回転方向に120°等配にて3方向の計12点の凸部を観察位置として選択した。次に、選択した凸部の上端面の凹凸量を白色干渉計(AMETEK Talor Hobson社製:CCI-HD)により非接触で3次元的にスキャンした。次に、スキャンした3Dハイトマップ上で半径方向の直線上、または円周方向の曲線上で2Dチャートを作成し、作成した2Dチャートによりそれぞれの凸部の基体の径方向に沿った表面粗さRa、および基体の周方向に沿った表面粗さRaを求めた。そして、12個の凸部の基体の径方向に沿った表面粗さRaの平均値、および基体の周方向に沿った表面粗さRaの平均値を求めることで、それぞれの基体保持部材の基体の径方向に沿った表面粗さRa、および基体の周方向に沿った表面粗さRaを求めた。比較例2は、X方向に沿った表面粗さのみ求めた。
(実施例2)
実施例2は、テクスチャリング加工の周方向の走査回数を実施例1より増加させたことを除き、実施例1と同様の条件で基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.10μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
実施例2は、テクスチャリング加工の周方向の走査回数を実施例1より増加させたことを除き、実施例1と同様の条件で基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.10μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
(実施例3)
実施例3は、テクスチャリング加工の周方向の走査回数を実施例2よりさらに増加させたことを除き、実施例1と同様の条件で基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.15μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
実施例3は、テクスチャリング加工の周方向の走査回数を実施例2よりさらに増加させたことを除き、実施例1と同様の条件で基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.15μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
(実施例4)
実施例4は、ラップ研磨後の複数の凸部の表面にPVD法により厚み0.5μmのDLC膜からなる耐摩耗層を形成し、その後、テクスチャリング加工を行なったことを除き、実施例1と同様の条件で基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.06μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
実施例4は、ラップ研磨後の複数の凸部の表面にPVD法により厚み0.5μmのDLC膜からなる耐摩耗層を形成し、その後、テクスチャリング加工を行なったことを除き、実施例1と同様の条件で基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部における基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.06μmであった。また、同じ12個の凸部における基体の周方向に沿った表面粗さRaは、0.03μmであった。
(比較例1)
比較例1は、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行い、表面テクスチャリング加工は行わないことで、基板保持部材を製造した。
比較例1は、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行い、表面テクスチャリング加工は行わないことで、基板保持部材を製造した。
(比較例2)
比較例2は、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行い、テクスチャリング加工として、セラミックスピースの走査方向をY方向にのみ走査することで、基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部におけるX方向に沿った表面粗さRaは、0.10μmであった。
比較例2は、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行い、テクスチャリング加工として、セラミックスピースの走査方向をY方向にのみ走査することで、基板保持部材を製造した。テクスチャリング加工後、測定した12個の凸部におけるX方向に沿った表面粗さRaは、0.10μmであった。
(比較例3)
比較例3は、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行い、ラップ研磨後の複数の凸部の表面にPVD法により厚み0.5μmのDLC膜からなる耐摩耗層を形成することで、基板保持部材を製造した。
比較例3は、遊離砥粒によるラップ研磨を行い、複数の凸部の表面粗さRaが0.03μm程度となるように仕上げ加工を行い、ラップ研磨後の複数の凸部の表面にPVD法により厚み0.5μmのDLC膜からなる耐摩耗層を形成することで、基板保持部材を製造した。
実施例1の凸部の上端面および比較例1の凸部の上端面を光学顕微鏡で観察した。図10(a)、(b)は、それぞれ実施例1および比較例1の凸部の上端面の光学顕微鏡写真である。図10に示されるように、実施例1の凸部の上端面には、径方向に沿った細溝が多数形成されていた。
(評価方法)
実施例および比較例により得られた基板保持部材を露光装置に据え付け、φ300mm、厚さ0.7mmのシリコンウエハ(基板)を複数回吸着することで評価を行なった。シリコンウエハの全体の形状をフィゾー型レーザー干渉計(Apre Instruments Inc.社製:S300HR(SCI))を用いて吸着前と吸着後で比較し、X方向およびY方向の伸縮や変位の有無を確認した。
実施例および比較例により得られた基板保持部材を露光装置に据え付け、φ300mm、厚さ0.7mmのシリコンウエハ(基板)を複数回吸着することで評価を行なった。シリコンウエハの全体の形状をフィゾー型レーザー干渉計(Apre Instruments Inc.社製:S300HR(SCI))を用いて吸着前と吸着後で比較し、X方向およびY方向の伸縮や変位の有無を確認した。
(評価結果)
実施例1から実施例4の基板保持部材は、X方向およびY方向に対する面内全体で基板の滑り、伸縮、変位が抑えられており、高い位置決め精度を有していることが確認された。
実施例1から実施例4の基板保持部材は、X方向およびY方向に対する面内全体で基板の滑り、伸縮、変位が抑えられており、高い位置決め精度を有していることが確認された。
これに対し、表面テクスチャリング加工を行わなかった比較例1では、基板の滑り、伸縮、変位の抑制にバラツキがあり、位置決め精度の安定性に欠けていた。さらに、吸着動作解除後の基板離れ性が実施例に比較して悪く、スループット低下の影響もあった。
また、表面テクスチャリング加工として、セラミックスピースの走査方向をY方向にのみ走査した比較例2では、Y方向のみに基板の滑り、伸縮、変位が認められ、高い位置決め精度を得ることはできなかった。
また、耐摩耗層を形成し、表面テクスチャリング加工を行わなかった比較例3では、基板の滑り、伸縮、変位の抑制にバラツキがあり、位置決め精度の安定性に欠けていた。また、滑り方向に指向性が確認されず、実施例と比較して大きく位置ズレする傾向がみられた。
なお、表面テクスチャリング加工により、複数の凸部の径方向の表面粗さRaを0.15μmとした実施例3では、基板の滑り、伸縮、変位の抑制の効果は得られたが、経時的にパーティクルの発生が認められ、基板の平面精度が悪化することが確認された。すなわち、実施例1から2と比較して、基板保持部材としての寿命が短くなると推定される。
以上により、本発明の基板保持部材は、基板との低接触状態を維持しながら、基板の位置決め精度の向上を図ることができることが確かめられた。また、本発明の基板保持部材の製造方法は、そのような基板保持部材を製造できることが確かめられた。
本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の思想と範囲に含まれる様々な変形および均等物に及ぶことはいうまでもない。また、各図面に示された構成要素の構造、形状、数、位置、大きさ等は説明の便宜上のものであり、適宜変更しうる。
10 基体
12 上面
16 基体の中心
20 凸部
22 凸部の上端
24 凸部の上端面
30 基準面
40 環状凸部
42 環状凸部の上端
44 環状凸部の上端面
50 通気孔
100 基板保持部材
W 基板
12 上面
16 基体の中心
20 凸部
22 凸部の上端
24 凸部の上端面
30 基準面
40 環状凸部
42 環状凸部の上端
44 環状凸部の上端面
50 通気孔
100 基板保持部材
W 基板
Claims (6)
- 基板保持部材であって、
平板上の基体と、
前記基体の上面から上方に突出して形成される複数の凸部と、を備え、
前記凸部の上端面は、前記基体の周方向に形成された細溝を有することを特徴とする基板保持部材。 - 前記凸部の上端面は、前記基体の径方向に沿った表面粗さRaが前記基体の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きいことを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。
- 前記基体の中心を通り直交する2つの直線で前記上面を4つの領域に分割したとき、いずれの領域にも前記凸部の上端面の前記基体の径方向に沿った表面粗さRaが前記基体の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい凸部が含まれることを特徴とする請求項2に記載の基板保持部材。
- 前記凸部の上端面の前記基体の径方向に沿った表面粗さRaが前記基体の周方向に沿った表面粗さRaと比較して大きい前記凸部の前記基体の径方向に沿った表面粗さRaは、0.04μm以上0.15μm未満であることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の基板保持部材。
- 前記凸部の上端面の少なくとも一部は、耐摩耗層で形成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板保持部材。
- 基板保持部材の製造方法であって、
セラミックス焼結体からなる平板上の基体を準備する基体準備工程と、
前記基体の上面から突出する複数の凸部を形成する凸部形成工程と、
前記複数の凸部の上端面をラップ加工するラップ加工工程と、
前記複数の凸部の上端面を、径方向の表面粗さRaが周方向の表面粗さRaと比較して大きくなるようにテクスチャリング加工するテクスチャリング加工工程と、を含むことを特徴とする基板保持部材の製造方法。
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