JP2022148450A - ノズルの吐出開始状態を調整する方法 - Google Patents

Abstract

【課題】調整が容易であり、作業者間および装置間の誤差を抑えることができるノズルの吐出開始状態を調整する方法を提供する。【解決手段】コントローラ５１は、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算し、複数回の吐出の吐出時間の中から最大値の吐出時間を抽出する。そして、コントローラ５１は、最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ１を設定する。これにより、作業者は目視して判定することがなくレジストノズル３の吐出開始状態の調整が容易である。また、作業者が目視して判定することがないので、作業者間の誤差が抑えられ、更に装置間の誤差も抑えることができる。その結果、レジスト膜の品質を安定させることができる。【選択図】図１

Description

本発明は、基板に対して処理液を吐出するノズルの吐出開始状態を調整する方法に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。

従来の基板処理装置は、基板保持部、ノズル、およびカメラを備える（例えば、特許文献１参照）。基板保持部は、基板を保持する。ノズルは、基板に対して塗布液を吐出する。カメラは、ノズルの先端部を中心とした領域を撮像する。カメラから出力された撮像結果と基準情報とを比較することで、塗布液の有無などが判定される。

特許第５４５７３８４号公報

しかし、従来の基板処理装置は、次の問題を有する。ノズルから処理液（塗布液を含む）の吐出が開始される時の状態は、吐出開始状態と呼ばれる。吐出開始状態は、開閉弁（または吐出弁）を開けるスピード（以下、「バルブ開スピード」と呼ぶ）で調整される。バルブ開スピードが速いと、ポンプから処理液が押し出される前にバルブが開くので、ノズルから処理液が吐出する前にノズル内部で液面位置が上昇する（すなわち逆流する）。また、バルブ開スピードが遅いと、バルブが開き切る（全開する）前にポンプから処理液が押し出され、ノズルの出口に液だまりが生じるなど液流が乱れる。なお、液だまりは、ノズルの出口で液が留まって液柱が膨れる現象である。

そのため、逆流せず液だまりなどの液流の乱れが生じないように調整する必要がある。現在、この調整は、手動で行われている。具体的には、作業者がバルブを制御するコンピュータに各パラメータを入力した後、ノズルを目視して、その結果を判定して調整している。しかし、この方法では、作業者間および装置間の誤差が生じてしまう。また、多数のノズルに対して吐出開始状態の調整する場合は大変な作業となる。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、調整が容易であり、作業者間および装置間の誤差を抑えることができるノズルの吐出開始状態を調整する方法を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係るノズルの吐出開始状態を調整する方法は、ノズルからレジスト液の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルからレジスト液を複数回吐出させる吐出工程と、前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、前記動画に基づいて、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出終了を検知する終了検知工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記吐出開始を検知してから前記吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算する計算工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出時間の中から最大値の吐出時間を抽出する抽出工程と、前記コントローラによって、前記最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、を備えていることを特徴とするものである。

本発明に係るノズルの吐出開始状態を調整する方法によれば、コントローラは、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算し、複数回の吐出の吐出時間の中から最大値の吐出時間を抽出する。そして、コントローラは、最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁を設定する。これにより、作業者は目視して判定することがなくノズルの吐出開始状態の調整が容易である。また、作業者が目視して判定することがないので、作業者間の誤差が抑えられ、更に装置間の誤差も抑えることができる。その結果、レジスト膜の品質を安定させることができる。

また、上述のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、前記コントローラは、前記動画を構成する各画像データにおいて、前記ノズルの先端面から予め設定された距離離れた基準位置に前記ノズルからのレジスト液が到達したときに、吐出開始を検知することが好ましい。これにより、基準位置に対するレジスト液の供給が始まったことを、吐出開始として検知することができる。

また、上述のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、前記ノズルは、前記吐出工程において、基板表面に向けてレジスト液を複数回吐出し、前記基準位置は、前記基板表面であることが好ましい。基板の表面を基準位置として吐出開始を検知する。そのため、実際の使用状態に近い環境で吐出開始状態を設定することができる。

また、上述のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、前記ノズルは、前記吐出工程において、回収容器に向けてレジスト液を複数回吐出し、前記基準位置は、前記各画像データ内に共通して設定される水平な仮想線であることが好ましい。これにより、基板を用いずに吐出開始状態を設定することができる。

また、上述のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、前記コントローラは、前記動画を構成する各画像データにおいて、前記ノズルから吐出されたレジスト液が前記基準位置に到達している状態から、前記基準位置と、前記ノズルから吐出されたレジスト液の先端位置と間の隙間が予め設定された値になったときに、吐出終了を検知することが好ましい。基準位置にレジスト液が供給されなくなったことを、吐出終了として検知することができる。

また、上述のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、前記コントローラは、前記最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードである基準バルブ開スピードから、前記基準バルブ開スピードよりも遅い予め設定されたバルブ開スピードまでの範囲内でバルブ開スピードを選択し、選択された前記バルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定することが好ましい。これにより、所定の範囲内で、開閉弁に設定するバルブ開スピードを選択することができる。また、基準バルブ開スピードよりも遅い方向に、バルブ開スピードの範囲を設けている。基準バルブ開スピードよりもバルブ開スピードが速くなると、逆流によりノズル内で液が２つに分かれて気泡が発生する可能性がある。この気泡発生を防止することができる。

また、本発明に係るノズルの吐出開始状態を調整する方法は、ノズルからレジスト液の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルからレジスト液を複数回吐出させる吐出工程と、前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記コントローラが吐出信号を発してから前記吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間を計算する計算工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出遅れ時間の中から最小値の吐出遅れ時間を抽出する抽出工程と、前記コントローラによって、前記最小値の吐出遅れ時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、を備えていることを特徴とするものである。

また、本発明に係るノズルの吐出開始状態を調整する方法は、ノズルから溶剤の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルから溶剤を複数回吐出させる吐出工程と、前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、前記動画に基づいて、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出終了を検知する終了検知工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記吐出開始を検知してから前記吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算する計算工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出時間の中から最小値の吐出時間を抽出する抽出工程と、前記コントローラによって、前記最小値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、を備えていることを特徴とするものである。

また、本発明に係るノズルの吐出開始状態を調整する方法は、ノズルから溶剤の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルから溶剤を複数回吐出させる吐出工程と、前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記コントローラが吐出信号を発してから前記吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間を計算する計算工程と、前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出遅れ時間の中から最大値の吐出遅れ時間を抽出する抽出工程と、前記コントローラによって、前記最大値の吐出遅れ時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、を備えていることを特徴とするものである。

なお、本明細書は、次のような基板処理装置に係る発明も開示している。

（１）基板処理装置は、レジスト液を吐出するノズルと、レジスト液の吐出および吐出停止を行う開閉弁と、カメラと、前記開閉弁および前記カメラを制御するコントローラと、を備える。前記コントローラは、前記開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルからレジスト液を複数回吐出させる。前記カメラは、前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画を撮影する。前記コントローラは、前記動画に基づいて、前記複数回の吐出ごとに吐出開始および吐出終了を検知する。前記コントローラは、前記複数回の吐出ごとに、前記吐出開始を検知してから前記吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算する。前記コントローラは、前記複数回の吐出の前記吐出時間の中から最大値の吐出時間を抽出する。前記コントローラは、前記最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する。

本発明に係るノズルの吐出開始状態を調整する方法によれば、調整が容易であり、作業者間および装置間の誤差を抑えることができる。

実施例１に係る基板処理装置の概略構成図である。 開閉弁の構成を示す図である。 吐出開始状態を説明するための図である。 （ａ）は、吐出開始の検知方法を説明するための図であり、（ｂ）は、吐出終了の検知方法を説明するための図である。 吐出時間の計算方法などを説明するためのタイムチャートである。 レジストノズルからレジスト液を吐出する場合における、バルブ開スピードと吐出時間の関係の一例を示す図である。 実施例１に係る基板処理装置による吐出開始状態の調整を説明するためのフローチャートである。 実施例２に係る基板処理装置による吐出開始状態の調整を説明するためのフローチャートである。 レジストノズルからレジスト液を吐出する場合における、バルブ開スピードと吐出遅れ時間の関係の一例を示した図である。 溶剤ノズルから溶剤を吐出する場合における、バルブ開スピードと吐出時間の関係の一例を示した図である。 溶剤ノズルから溶剤を吐出する場合における、バルブ開スピードと吐出遅れ時間の関係の一例を示した図である。 変形例に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。 （ａ）は、変形例に係る吐出開始の検知方法を説明するための図であり、（ｂ）は、変形例に係る吐出終了の検知方法を説明するための図である。

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１は、実施例１に係る基板処理装置１の概略構成図である。

＜基板処理装置１の構成＞
図１を参照する。基板処理装置１は、保持回転部２、レジストノズル３および溶剤ノズル４を備えている。レジストノズル３または溶剤ノズル４は、本発明のノズルに相当する。

保持回転部２は、基板Ｗを水平姿勢で保持しながら、保持した基板Ｗを回転させる。これにより、基板Ｗは、基板Ｗ中心の垂直軸ＡＸ１周りに回転される。保持回転部２は、スピンチャック７と回転駆動部８を備える。スピンチャック７は、例えば、基板Ｗの載置面に設けられた吸引口から空気を吸引することで基板Ｗの裏面を保持する。回転駆動部８は、電動モータを備え、電動モータによってスピンチャック７を垂直軸ＡＸ１周りに回転させる。符号９はカップである。

レジストノズル３は、基板Ｗに対してレジスト液（例えばフォトレジスト液）を吐出するものである。レジストノズル３には、レジスト液供給源１１から配管１３を通じてレジスト液が供給される。レジスト液供給源１１および後述する溶剤供給源１７は、例えばボトルなどの容器で構成される。配管１３の一端はレジスト液供給源１１に接続され、配管１３の他端はレジストノズル３に接続される。

配管１３には、レジスト液供給源１１から順番に、ポンプ１５、開閉弁Ｖ１が設けられる。ポンプ１５は、レジスト液をレジストノズル３側に送り出す。開閉弁Ｖ１は、レジスト液の吐出およびその吐出の停止を行う。なお、レジストノズル３と開閉弁Ｖ１の間には、サックバック弁が設けられてもよい。サックバック弁は、開閉弁Ｖ１が閉状態になったときに、サックバック弁の内部流路の体積を大きくすることで、レジストノズル３内のレジスト液の液面を後退させる。また、サックバック弁は、開閉弁Ｖ１が開状態のときに、サックバック弁の内部流路の体積を小さくする。

溶剤ノズル４は、基板Ｗに対して溶剤（例えばシンナー）を吐出するものである。溶剤ノズル４には、溶剤供給源１７から配管１９を通じて溶剤が供給される。配管１９の一端は溶剤供給源１７に接続され、配管１９の他端は溶剤ノズル４に接続される。配管１９には、溶剤供給源１７から順番に、ポンプ２１、開閉弁Ｖ２が設けられる。ポンプ２１は、溶剤を溶剤ノズル４側に送り出す。開閉弁Ｖ２は、溶剤の吐出およびその吐出の停止を行う。なお、溶剤ノズル４と開閉弁Ｖ２との間には、サックバック弁が設けられてもよい。

レジストノズル移動機構２３は、レジストノズル３を水平方向および高さ方向に移動させる。溶剤ノズル移動機構２５は、溶剤ノズル４を水平方向および高さ方向に移動させる。２つの移動機構２３，２５は各々、電動モータを備えて、その電動モータによって駆動される。なお、レジストノズル３および溶剤ノズル４の内径はおよそ１．０ｍｍである。各ノズル３，４の内径は０．５ｍｍ～２．５ｍｍであってもよい。

図２は、開閉弁Ｖ１，Ｖ２の構成を示す図である。開閉弁Ｖ１の構成を代表して説明する。なお、開閉弁Ｖ２は、開閉弁Ｖ１と同様に構成される。開閉弁Ｖ１は、筐体２７、ダイアフラム２９（弁体）、ロッド３１、弁座３３、流路３５、電動モータ３７および変換機構３９を備える。流路３５は、上流流路３５Ａ、弁室３５Ｂおよび下流流路３５Ｃを備える。

ダイアフラム２９の周縁部は、筐体２７の内側側面に固定される。また、ダイアフラム２９の中央部は、上下方向に移動可能なロッド３１の一端に接続される。筐体２７内には、流路３５（上流流路３５Ａ、弁室３５Ｂおよび下流流路３５Ｃ）が形成される。筐体２７内の弁室３５Ｂには、ダイアフラム２９を受けるための弁座３３が設けられる。電動モータの出力軸３７Ａは、変換機構３９を介してロッド３１の他端に接続される。変換機構３９は、電動モータ３７による垂直軸ＡＸ２周りの回転を上下方向の直線移動に変換する。変換機構３９は、例えば複数の歯車とガイドを備える。

電動モータ３７が出力軸３７Ａを垂直軸ＡＸ２周りの第１方向に回転させると、ダイアフラム２９の中央部およびロッド３１が下降する。これにより、ダイアフラム２９の中央部が弁座３３に押し当てられて、開閉弁Ｖ１は閉状態（全閉状態）になる。この場合、上流流路３５Ａから下流流路３５Ｃに、レジスト液を送ることができない。そして、電動モータ３７が出力軸３７Ａを第２方向（第１方向の逆方向）に回転させると、ダイアフラム２９の中央部およびロッド３１が上昇する。これにより、ダイアフラム２９の中央部が弁座３３から予め設定された距離離れる。このとき、開閉弁Ｖ１は開状態（全開状態）になる。この場合、上流流路３５Ａから下流流路３５Ｃにレジスト液を送ることができる。なお、図２において、閉状態のダイアフラム２９を破線で示し、開状態のダイアフラム２９を実線で示す。

「バルブ開スピード」は、全閉状態から全開状態になるまで必要とした時間である。あるいは、「バルブ開スピード」は、全閉状態と全開状態との距離を、全閉状態から全開状態になるまでに必要とした時間で割った値である。後述するコントローラ５１は、開閉弁Ｖ１および開閉弁Ｖ２の電動モータ３７に選択的に指令を送ることができる。これにより、開閉弁Ｖ１または開閉弁Ｖ２のバルブ開スピードが変更される。なお、作業者も、後述する入力部５７（図１参照）を通じて、開閉弁Ｖ１および開閉弁Ｖ２の電動モータ３７に選択的に指令を送ることができる。

図３は、開始吐出状態を説明するための図である。すなわち、図３は、バルブ開スピードが「速い」、「最適」、「遅い」のときのレジストノズル３内部の液面ＬＱの位置の変化を示している。図３において、符号４１は、レジストノズル３内部の流路を示し、符号４３は、吐出口を示す。

バルブ開スピードが「速い」場合、ポンプ１５からレジスト液が押し出される前に弁体（ダイアフラム２９）が開く。その結果、一度、レジスト液が逆流する。すなわち、レジスト液の液面ＬＱが上昇する。その後、吐出口４３からレジスト液が吐出される。逆流が生じると、流路４１内で上下方向にレジスト液が２つに分かれて、分かれた部分に気泡が生じるおそれがある。また、バルブ開スピードが「遅い」場合、弁体（ダイアフラム２９）が開き切る（全開）前にレジスト液が押し出される。その結果、レジスト液の粘性と吐出圧によりレジストノズル３の吐出口４３に液だまりができる。液だまりができると、レジストノズル３から吐出されるレジスト液の流れが乱れる。これは、膜質に影響を及ぼす。

これらに対し、バルブ開スピードが「最適」の場合は、レジスト液が押し出されるタイミングと、弁体（ダイアフラム２９）が開くタイミングのバランスが取れている。すなわち、バルブ開スピードが最適となる場合に、吐出開始状態が最適となる。従来、バルブ開スピードを変えた後に、作業者が直接目視して吐出開始状態を判定していた。これに対し、本実施例の基板処理装置１は、最適な吐出開始状態を自動的に探し出して設定する。

なお、図２において、各開閉弁Ｖ１，Ｖ２は、電動モータ３７で駆動される。この点、各開閉弁Ｖ１，Ｖ２は、電空レギュレータで駆動されてもよい。この場合、各開閉弁Ｖ１，Ｖ２は、その電空レギュレータで供給された気体で動作されるように構成されてもよい。

図１を参照する。基板処理装置１は、カメラ４５、画像処理部４７および照明（図示しない）を備えている。カメラ４５は、ＣＣＤ（charge-coupled device）またはＣＭＯＳ（complementary metal-oxide semiconductor）などのイメージセンサを備えている。カメラ４５は、レジストノズル３および基板Ｗの側方に配置される。カメラ４５は、レジストノズル３の先端部と基板Ｗ表面が映り込むように撮影する。照明は、カメラ４５による撮影範囲に光を照射する。

カメラ４５は、レジストノズル３から吐出が行われる様子の動画を撮影する。カメラ４５は、予め設定されたフレームレート（例えば１００ｆｐｓ（フレーム／秒））で撮影を行って、順次、画像データ（静止画）を取得する。カメラ４５が取得した画像データは、順次、画像処理部４７に送られる。

画像処理部４７は、１つまたは複数のプロセッサと、データを記憶するメモリ（記憶部）とを備えている。メモリには、例えば、画像処理部４７を動作させるためのコンピュータプログラムが記憶されている。画像処理部４７は、カメラ４５から送られた複数の画像データの各々に対して画像処理を行う。

基板処理装置１は、コントローラ５１、記憶部５３、表示部５５および入力部５７を備えている。コントローラ５１は、基板処理装置１の各構成（例えば、保持回転部２、２つのポンプ１５，２１、２つの開閉弁Ｖ１，Ｖ２、２つの移動機構２３，２５、カメラ４５、画像処理部４７）を制御する。コントローラ５１は、例えば中央演算処理装置（ＣＰＵ）などの１つまたは複数のプロセッサを備えている。また、記憶部５３は、ＲＯＭ（Read-only Memory）、ＲＡＭ（Random-Access Memory）およびハードディスクの少なくとも１つを備える。表示部５５は、例えば液晶ディスプレイまたは有機ＥＬ（Organic Electro-Luminescence）ディスプレイで構成される。また、入力部５７は、キーボード、マウスおよび各種スイッチの少なくとも１つを備える。

なお、画像処理部４７は、コントローラ５１上で動作し、記憶部５３に記憶されるコンピュータプログラム（ソフトウェア）で構成されてもよい。

＜基板処理装置１の基本動作＞
ここで、基板処理装置１の基本動作について説明する。図示しない搬送ロボットは、保持回転部２上に基板Ｗを搬送する。保持回転部２は、基板Ｗを保持し、保持した基板Ｗを回転させる。また、溶剤ノズル移動機構２５は、溶剤ノズル４を待機位置から基板Ｗ中心の上方に移動させる。その後、ポンプ２１で溶剤を送り出す。また、開閉弁Ｖ２を開状態にする。これにより、溶剤ノズル４から基板Ｗ上に溶剤が吐出される。基板Ｗ上に吐出された溶剤は、基板Ｗの回転により基板Ｗ上で広がる。これにより、基板Ｗ上に溶剤膜が形成される。

溶剤ノズル４からの溶剤の吐出を停止するときは、ポンプ２１の溶剤の送り出しを停止させると共に、開閉弁Ｖ２を閉状態にする。その後、溶剤ノズル移動機構２５は、溶剤ノズル４を待機位置に移動させる。

溶剤ノズル４に代えて、レジストノズル移動機構２３は、レジストノズル３を待機位置から基板Ｗ中心の上方に移動させる。その後、ポンプ１５でレジスト液を送り出す。また、開閉弁Ｖ１を開状態にする。これにより、レジストノズル３から基板Ｗの溶剤膜上にレジスト液が吐出される。基板Ｗの溶剤膜上に吐出されたレジスト液は、基板Ｗの回転により溶剤膜と置き換わりながら、基板Ｗ上で広がる。これにより、基板Ｗ上にレジスト膜が形成される。

レジストノズル３からのレジスト液の吐出を停止するときは、ポンプ１５からのレジスト液の送り出しを停止させると共に、開閉弁Ｖ１を閉状態にする。その後、レジストノズル移動機構２３は、レジストノズル３を待機位置に移動させる。また、レジスト膜を形成した後、保持回転部２は、基板Ｗの回転を停止した状態で、基板Ｗの保持を解除する。図示しない搬送ロボットは、レジスト膜が形成された基板Ｗを保持回転部２から搬送する。

＜本実施例の特徴部分の概要＞
次に、本実施例の特徴部分を説明する。上述のように、基板処理装置１は、最適な吐出開始状態を自動的に探し出して設定する。まず、その概要を説明する。図４（ａ）は、吐出開始の検知方法を説明するための図である。図４（ｂ）は、吐出終了の検知方法を説明するための図である。図５は、吐出時間の計算方法などを説明するためのタイムチャートである。図６は、バルブ開スピードと吐出時間の関係の一例を示す図である。

コントローラ５１は、開閉弁Ｖ１のバルブ開スピードを変えながら、レジストノズル３からレジスト液を複数回吐出させる。カメラ４５は、レジストノズル３から複数回の吐出が行われる様子の動画を撮影する。画像処理部４７は、動画に基づいて、複数回の吐出ごとに吐出開始を検知すると共に、複数回の吐出ごとに吐出終了を検知する（図４（ａ）、図４（ｂ）参照）。

コントローラ５１は、複数回の吐出ごとに、吐出時間ＤＴを計算する（図５参照）。吐出時間ＤＴは、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの時間（時刻ｔ３－時刻ｔ１）である。これにより、複数回（例えば９回）の吐出に対応する複数個（例えば９つ）の吐出時間ＤＴが得られる。この複数個の吐出時間ＤＴをグラフにすると、図６のようになる。なお、図６において、横軸は、バルブ開スピードを示す。バルブ開スピードは、全閉状態から全開状態までに必要とする時間（秒：ｓｅｃ）で表す。縦軸は、吐出時間（ミリ秒：ｍｓｅｃ）を示す。

図６において、吐出時間ＤＴは、ほぼ山型に分布し、最大値の吐出時間ＤＴが特徴的な点として現れる。コントローラ５１は、複数回の吐出の吐出時間ＤＴの中から最大値の吐出時間ＤＴｍａｘを抽出する。そして、コントローラ５１は、最大値の吐出時間ＤＴｍａｘに対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ１を設定する。詳細は後述する。

＜レジストノズル３の吐出開始状態を調整する方法＞
次に、基板処理装置１のレジストノズル３の吐出開始状態を調整する方法について説明する。図７は、実施例１に係る基板処理装置１の動作を示すフローチャートである。この調整は、基板処理装置１の立ち上げ時あるいは、その後の膜厚調整時に行われる。これに限られず、吐出開始状態の調整は、任意のタイミングで実施してもよい。

〔ステップＳ０１〕コントローラ５１への吐出開始状態の調整指示
作業者は、入力部５７を通じて、コントローラ５１に吐出開始状態の調整を指示する。なお、レジストノズル３は、レジストノズル移動機構２３によって、保持回転部２に保持された基板Ｗの上方に移動される。

〔ステップＳ０２〕動画撮影開始
コントローラ５１は、カメラ４５に動画撮影を開始させる。カメラ４５は、レジストノズル３の先端部と、基板Ｗ表面の着液地点とが映り込むように撮影を行う。カメラ４５は、画像データ（静止画）を順次取得し、取得した画像データを画像処理部４７に順次送信する。

〔ステップＳ０３〕バルブ開スピードの仮設定
バルブ開スピード（秒）に関して、段階的に変化する例えば９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９が記憶部５３に予め記憶されている。なお、条件の数は９つに限定されない。コントローラ５１は、初回の場合、９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９のうち条件ＳＰ１を記憶部５３から読み出して、開閉弁Ｖ１に条件ＳＰ１を送る。開閉弁Ｖ１は、条件ＳＰ１に基づき、バルブ開スピードが仮設定される。なお、コントローラ５１は、２回目の場合に開閉弁Ｖ１に条件ＳＰ２を送り、３回目の場合に開閉弁Ｖ１に条件ＳＰ３を送る。

〔ステップＳ０４〕コントローラ５１による吐出指令
コントローラ５１は、時刻ｔ０において、開閉弁Ｖ１およびポンプ１５に吐出信号「ＯＮ」を送る。この信号に基づき、ポンプ１５は、レジストノズル３側にレジスト液を送り出す。また、仮設定されたバルブ開スピードで、開閉弁Ｖ１は、開状態、すなわち全閉状態から全開状態にする。これにより、レジストノズル３からレジスト液が吐出されて、レジスト液が基板Ｗに着液する。この様子は、カメラ４５で撮影されている。レジスト液の吐出の際、基板Ｗは、保持回転部２によって回転されていてもよく、また、停止していてもよい。

〔ステップＳ０５〕コントローラ５１による吐出停止指令
その後、コントローラ５１は、時刻ｔ２において、開閉弁Ｖ１およびポンプ１５に吐出停止信号「ＯＦＦ」を送る。この信号に基づき、ポンプ１５は、レジスト液の送り出しを停止すると共に、開閉弁Ｖ１は、閉状態、すなわち、全開状態から全閉状態にする。これにより、レジストノズル３からのレジスト液の吐出が停止する。この様子は、カメラ４５で撮影されている。

９回の吐出において、バルブ閉スピードは一定である。開閉弁Ｖ１の開閉時のポンプ１５の動作（例えば、液を押し出す圧力）も一定である。サックバック弁が設けられる場合も、その動作は一定である。また、「バルブ閉スピード」は、全開状態から全閉状態になるまで必要とした時間である。

コントローラ５１は、例えば９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９に基づき、上述のステップＳ０３～Ｓ０５の動作を繰り返す。すなわち、コントローラ５１は、開閉弁Ｖ１のバルブ開スピードを変えながらレジストノズル３から基板Ｗの表面に向けてレジスト液を複数回（例えば９回）吐出する。また、カメラ４５は、レジストノズル３から９回の吐出が行われる様子の動画を撮影する。カメラ４５による動画撮影は、最後の９回目の吐出が終了するまで行われる。

〔ステップＳ０６〕吐出開始および吐出終了の検出
カメラ４５が撮影した動画は、画像データが取得される毎に画像処理部４７に送信される。まず、画像処理部４７は、各画像データに写るレジストノズル３の位置が正しいか否かを判定する。この判定は、基準画像をメモリに予め記憶させておき、パターンマッチングにより行われる。この説明では、各画像データにおいて、レジストノズル３が正しい位置に写っているものとして説明する。

画像処理部４７は、レジストノズル３が正しい位置に写っている各画像データに基づいて、９回の吐出ごとに吐出開始および吐出終了を検知する。

図４（ａ）を参照する。図４（ａ）、図４（ｂ）において、符号ＲＳはレジスト液である。画像処理部４７は、レジストノズル３の先端面３Ａから予め設定された距離ＧＰ１離れた位置である基板Ｗ表面にレジストノズル３からのレジスト液が到達したときに、吐出開始を検知する。吐出開始を検知したときの画像データは、画像データＧ１とする。２枚以上の画像データについて、レジスト液の着液を検知したときは、例えば最先の画像データが選択される。

各画像データにおいて、レジストノズル３から吐出されたレジスト液は、白く写る。この白く写ったレジスト液の先端位置ＴＰを特定する。各画像データ内における基板Ｗの表面位置は、メモリに予め記憶させておく。そして、特定したレジスト液の先端位置ＴＰが基板Ｗの表面に到達したときに、画像処理部４７は、吐出開始を検知する。吐出開始および後述する吐出終了の検知方法において、エッジ抽出、２値化、白黒反転および差分などの処理を選択的に採用してもよい。例えば、差分処理は、異なる時刻の２枚の画像データを差分することで行われる。なお、画像処理部４７は、メモリに予め記憶された基準画像を用いてパターンマッチングを行って、吐出開始を検出してもよい。

図４（ｂ）を参照する。画像処理部４７は、レジストノズル３から吐出されたレジスト液が基板Ｗの表面に到達している状態から、基板Ｗの表面と、レジストノズル３から吐出されたレジスト液の先端位置ＴＰと隙間が予め設定された値ＧＰ２（距離）になったときに、吐出終了を検知する。図４（ｂ）において、例えば、レジストノズル３の先端面３Ａと基板Ｗの表面との間の隙間が距離ＧＰ１であるとする。このとき、値ＧＰ２は、例えば、距離ＧＰ１の１５％（任意）の値として設定される（ＧＰ２＝ＧＰ１×０．１５）。

画像処理部４７は、レジスト液の先端位置ＴＰを特定する。そして、特定した先端位置ＴＰと基板Ｗの表面との隙間が値ＧＰ２になったときに、画像処理部４７は、吐出終了を検知する。なお、画像処理部４７は、メモリに予め記憶された基準画像を用いてパターンマッチングを行って、吐出終了を検出してもよい。吐出終了を検知した画像データは、画像データＧ３とする。

動画を構成する各画像データは、時刻が対応付けられている。例えば、画像処理部４７は、９回の吐出ごとに、吐出開始を検知した画像データＧ１の時刻ｔ１（図５参照）と、吐出終了を検知した画像データＧ３の時刻ｔ３とをコントローラ５１に送信する。

〔ステップＳ０７〕吐出時間ＤＴの計算
コントローラ５１は、９回の吐出ごとに、吐出時間ＤＴを計算する。吐出時間ＤＴは、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの時間である。すなわち、吐出時間ＤＴは、図６に示すように、画像データＧ１の時刻ｔ１から画像データＧ３の時刻ｔ３までの時間（時刻ｔ３－時刻ｔ１）である。この工程によって、９回の吐出に対応する９つの吐出時間ＤＴが得られる。この工程の計算は、コントローラ５１に限らず、画像処理部４７が行ってもよい。

〔ステップＳ０８〕特徴的な値（特徴点）の抽出
コントローラ５１は、９回の吐出に対応する９つの吐出時間ＤＴの中から最大値の吐出時間ＤＴｍａｘを抽出する。すなわち、横軸をバルブ開スピードとし、縦軸を吐出時間としたグラフ（図６参照）において、９つの吐出時間ＤＴは、山型の分布を示す傾向がある。そこで、特徴的な点として、最大値の吐出時間ＤＴｍａｘを抽出する。

〔ステップＳ０９〕バルブ開スピードの設定
コントローラ５１は、最大値の吐出時間ＤＴｍａｘに対応するバルブ開スピード（例えば条件ＳＰ５）を用いて開閉弁Ｖ１を設定する。すなわち、基板処理装置１は、開閉弁Ｖ１のバルブ開スピードを最適な状態に自動的に設定する。これにより、レジストノズル３の吐出開始状態が最適な状態に設定される。

＜図６の補足説明＞
図６において、横軸は、バルブ開スピードを示す。バルブ開スピードは、全閉状態から全開状態までに必要とする時間（秒：ｓｅｃ）で表す。縦軸は、吐出時間ＤＴ（ミリ秒：ｍｓｅｃ）を示す。横軸および縦軸は、相対的な値で示され、特徴点を０（ゼロ）としている。

図６において、バルブ開スピードを段階的に変化させて、変化後の吐出時間ＤＴをプロットすると、吐出時間ＤＴの分布が山型となる。この山型の分布において、最大値が特徴点となる。この最大値の吐出時間ＤＴｍａｘに対応するバルブ開スピードを開閉弁Ｖ１に設定して直接目視すると、最適な吐出開始状態（図３参照）を示した。

また、図６において、次のように考察される。特徴点に対してバルブ開スピードが速い場合（左側）、レジスト液がレジストノズル３内でゆっくり逆流することにより、着液に時間がかかる。そのため、吐出時間ＤＴが短くなる。また、特徴点に対してバルブ開スピードが遅い場合（右側）、弁体（ダイアフラム２９）がゆっくり開くので、レジスト液が出づらくなる。そのため、吐出時間ＤＴが短くなる。すなわち、特徴点の前後で、バルブ開スピードが速いこと、またはバルブ開スピードが遅いことの影響が吐出時間ＤＴに表れていると考えられる。また、図６の結果は、レジスト液が２～４ｃＰ（センチポアズ）のときの結果である。レジスト液の粘度が高くなっても同様に山型の分布を示すものと考えられる。すなわち、レジスト液の粘度が２～４ｃＰ以外（ゼロより大きい）であっても同様に山型の分布を示すものと考えられる。

本実施例によれば、コントローラ５１は、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの吐出時間ＤＴ（時刻ｔ３－時刻ｔ１）を計算し、複数回の吐出の吐出時間ＤＴの中から最大値の吐出時間ＤＴｍａｘを抽出する。そして、コントローラ５１は、最大値の吐出時間ＤＴｍａｘに対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ１を設定する。これにより、作業者は目視して判定することがなくレジストノズル３の吐出開始状態の調整が容易である。また、作業者が目視して判定することがないので、作業者間の誤差が抑えられ、更に装置間の誤差も抑えることができる。その結果、レジスト膜の品質を安定させることができる。

また、画像処理部４７は、動画を構成する各画像データにおいて、レジストノズル３の先端面３Ａから予め設定された距離ＧＰ１離れた基準位置である基板Ｗの表面にレジストノズル３からのレジスト液が到達したときに、吐出開始を検知する。これにより、基準位置に対するレジスト液の供給が始まったことを、吐出開始として検知することができる。また、基板Ｗの表面を基準位置として吐出開始を検知する。そのため、実際の使用状態に近い環境で吐出開始状態を設定することができる。

また、レジストノズル３から吐出されたレジスト液が基板Ｗの表面に到達しているとする。この状態から、画像処理部４７は、動画を構成する各画像データにおいて、基板Ｗの表面と、レジストノズル３から吐出されたレジスト液の先端位置ＴＰと間の隙間が予め設定された値ＧＰ２になったときに、吐出終了を検知する。これにより、基板Ｗの表面にレジスト液が供給されなくなったことを、吐出終了として検知することができる。

次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。

実施例１では、複数回（例えば９回）の吐出に対応する複数個（９つ）の吐出時間ＤＴを計算していた。この点、実施例２では、複数回の吐出に対応する複数個の吐出遅れ時間ＤＬを計算する。

図５を参照する。吐出遅れ時間ＤＬは、コントローラ５１が吐出信号「ＯＮ」を発してから吐出開始を検知するまでの時間である。すなわち、時刻ｔ０において、コントローラ５１は、開閉弁Ｖ１等に吐出信号「ＯＮ」を発する。一方で、動画を構成する各画像データ（静止画）は、時刻が対応付けられている。画像処理部４７は、動画（各画像データ）に基づいて吐出開始を検知する。吐出開始を検知したときの画像データＧ１に対応付けられた時刻ｔ１が得られる。これにより、吐出遅れ時間ＤＬは、時刻ｔ１－時刻ｔ０で計算される。

＜レジストノズル３の吐出開始状態を調整する方法＞
次に、本実施例の基板処理装置１のレジストノズル３の吐出開始状態を調整する方法について説明する。図８は、基板処理装置１の動作を示すフローチャートである。なお、図７のフローチャートの動作と同じ動作に関しては、一部の説明を省略する。

作業者は、入力部５７を通じて、コントローラ５１に吐出開始状態の調整を指示する（ステップＳ１１）。コントローラ５１は、カメラ４５に動画撮影を開始させる（ステップＳ１２）。

〔ステップＳ１３〕バルブ開スピードの仮設定
バルブ開スピード（秒）に関して、段階的に変化する例えば９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９が記憶部５３に予め記憶されている。コントローラ５１は、初回の場合、９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９のうち条件ＳＰ１を記憶部５３から読み出して、開閉弁Ｖ１に条件ＳＰ１を送る。開閉弁Ｖ１は、条件ＳＰ１に基づき、バルブ開スピードが仮設定される。

〔ステップＳ１４〕コントローラ５１による吐出指令
コントローラ５１は、時刻ｔ０において、開閉弁Ｖ１、ポンプ１５およびカメラ４５に吐出信号「ＯＮ」を送る。この信号に基づき、ポンプ１５は、レジストノズル３側にレジスト液を送り出す。また、仮設定されたバルブ開スピードで、開閉弁Ｖ１は、開状態、すなわち全閉状態から全開状態にする。これにより、レジストノズル３からレジスト液が吐出されて、レジスト液が基板Ｗに着液する。この様子は、カメラ４５で撮影されている。

〔ステップＳ１５〕コントローラ５１による吐出停止指令
その後、コントローラ５１は、時刻ｔ２において、開閉弁Ｖ１、ポンプ１５およびカメラ４５に吐出停止信号「ＯＦＦ」を送る。ポンプ１５は、レジスト液の送り出しを停止すると共に、開閉弁Ｖ１は、閉状態、すなわち、全開状態から全閉状態にする。これにより、レジストノズル３からのレジスト液の吐出が停止する。この様子は、カメラ４５で撮影されている。

９回の吐出において、バルブ閉スピードは一定である。開閉弁Ｖ１の開閉時のポンプ１５の動作（例えば、液を押し出す圧力）も一定である。サックバック弁が設けられる場合も、その動作は一定である。

コントローラ５１は、例えば９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９に基づき、上述のステップＳ１３～Ｓ１５の動作を繰り返す。すなわち、コントローラ５１は、開閉弁Ｖ１のバルブ開スピードを変えながらレジストノズル３からレジスト液を複数回（例えば９回）吐出する。また、カメラ４５は、レジストノズル３から９回の吐出が行われる様子の動画を撮影する。

〔ステップＳ１６〕吐出開始の検知
画像処理部４７は、動画を構成する複数の画像データに基づいて、９回の吐出ごとに吐出開始を検知する。具体的には、画像処理部４７は、図４（ａ）に示すように、レジストノズル３の先端面３Ａから予め設定された距離ＧＰ１離れた位置である基板Ｗ表面にレジストノズル３からのレジスト液が到達したときに、吐出開始を検知する。吐出開始を検知したときの画像データは、画像データＧ１とする。２枚以上の画像データについて、レジスト液の着液を検知したときは、最先の画像データが選択される。

動画を構成する各画像データは、時刻が対応付けられている。例えば、画像処理部４７は、９回の吐出ごとに、吐出開始を検知した画像データＧ１に対応付けられた時刻ｔ１（図５参照）をコントローラ５１に送信する。なお、コントローラ５１が吐出信号「ＯＮ」を発したと同時に撮影した画像データは、画像データＧ０とする。また、吐出信号「ＯＮ」が発された旨の情報を画像データＧ０に持たせてもよい。この場合、画像データＧ０に対応付けられた時刻ｔ０をコントローラ５１に送信してもよい。

〔ステップＳ１７〕吐出遅れ時間ＤＬの計算
コントローラ５１は、９回の吐出ごとに、吐出遅れ時間ＤＬを計算する。吐出遅れ時間ＤＬは、コントローラ５１が吐出信号「ＯＮ」を発してから吐出開始を検知するまでの時間（時刻ｔ１－時刻ｔ０）である。時刻ｔ０は、コントローラ５１が吐出信号「ＯＮ」を発したときの時刻を記憶していたものを用いてもよい。また、時刻ｔ０は、画像データＧ０に対応付けられた時刻を用いてもよい。この工程によって、９回の吐出に対応する９つの吐出遅れ時間ＤＬが得られる。

〔ステップＳ１８〕特徴的な値（特徴点）の抽出
コントローラ５１は、９回の吐出に対応する９つの吐出遅れ時間ＤＬの中から最小値の吐出遅れ時間ＤＬｍｉｎを抽出する。ここで、図９について説明する。図９は、バルブ開スピードと吐出遅れ時間ＤＬの関係の一例を示した図である。

図９において、横軸は、バルブ開スピード（秒：ｓｅｃ）を示す。縦軸は、吐出遅れ時間ＤＬ（ミリ秒：ｍｓｅｃ）を示す。吐出遅れ時間ＤＬは、正の値のときに「遅れていること」を示す。横軸および縦軸は、相対的な値で示され、特徴点を０（ゼロ）としている。

図９において、バルブ開スピードを段階的に変化させて、変化後の吐出遅れ時間ＤＬをプロットすると、吐出遅れ時間ＤＬの分布が「谷型」となる。この谷型の分布において、最小値が特徴点となる。この最小値の吐出遅れ時間ＤＬｍｉｎに対応するバルブ開スピードを開閉弁Ｖ１に設定して直接目視すると、最適な吐出開始状態を示した。すなわち、横軸をバルブ開スピードとし、縦軸を吐出遅れ時間としたグラフにおいて、９つの吐出時間ＤＴは、図９に示すように、谷型の分布を示す傾向がある。そこで、特徴的な点として、最小値の吐出遅れ時間ＤＬｍｉｎを抽出する。

〔ステップＳ１９〕バルブ開スピードの設定
コントローラ５１は、最小値の吐出遅れ時間ＤＬｍｉｎに対応するバルブ開スピード（例えば条件ＳＰ５）を用いて開閉弁Ｖ１を設定する。すなわち、基板処理装置１は、開閉弁Ｖ１のバルブ開スピードを最適な状態に自動的に設定する。これにより、レジストノズル３の吐出開始状態が最適な状態に設定される。

本実施例によれば、コントローラ５１は、コントローラ５１が吐出信号を発してから吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間ＤＬ（時刻ｔ１－時刻ｔ０）を計算し、複数回の吐出の吐出遅れ時間ＤＬの中から最小値の吐出遅れ時間ＤＬｍｉｎを抽出する。そして、コントローラ５１は、最小値の吐出遅れ時間ＤＬｍｉｎに対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ１を設定する。これにより、作業者は目視して判定することがなくレジストノズル３の吐出開始状態の調整が容易である。また、作業者が目視して判定することがないので、作業者間の誤差が抑えられ、更に装置間の誤差も抑えることができる。その結果、レジスト膜の品質を安定させることができる。

次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。なお、実施例１，２と重複する説明は省略する。

実施例１では、基板処理装置１は、レジストノズル３の吐出開始状態を自動調整した。この点、実施例３では、基板処理装置１は、溶剤（例えばシンナー）を吐出する溶剤ノズル４の吐出開始状態を自動調整する。また、本実施例では、コントローラ５１は、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの吐出時間ＤＴ（時刻ｔ３－時刻ｔ１）を計算する。

溶剤ノズル４の吐出開始状態を調整する具体的な方法は、ステップＳ０８を除き、実施例１の図７に示すフローチャートと同様の手順で行われる。そのため、ステップＳ０８を説明する。

〔ステップＳ０８〕特徴的な値（特徴点）の抽出
コントローラ５１は、９回の吐出に対応する９つの吐出時間ＤＴの中から最小値の吐出時間ＤＴｍｉｎを抽出する。図１０は、バルブ開スピードと吐出時間ＤＴの関係の一例を示した図である。図６と同様に、横軸は、バルブ開スピード（秒：ｓｅｃ）を示す。縦軸は、吐出時間ＤＴ（ミリ秒：ｍｓｅｃ）を示す。横軸および縦軸は、相対的な値で示され、特徴点を０（ゼロ）としている。

図１０において、バルブ開スピードを段階的に変化させて、変化後の吐出時間をプロットすると、吐出時間の分布が谷型となる。この谷型の分布において、最小値が特徴点となる。この最小値の吐出時間ＤＴｍｉｎに対応するバルブ開スピードを開閉弁Ｖ２に設定して直接目視すると、最適な吐出開始状態を示した。そこで、特徴点として、最小値の吐出時間ＤＴｍｉｎを抽出する。

なお、図１０において、次のように考察される。特徴点に対してバルブ開スピードが速い場合（左側）、溶剤（シンナー）の性質上、レスポンスが素速く、変化量が大きい。また、逆流後、溶剤が自重で勢いよく吐出され、吐出時間ＤＴが長くなる。また、特徴点に対してバルブ開スピードが遅い場合（右側）、弁体（ダイアフラム２９）が開き切る前に溶剤が吐出される。これにより、吐出圧が高くなり勢いよく溶剤が吐出され。吐出時間ＤＴが長くなる。ある程度の吐出圧になると吐出されるタイミングが同じになり飽和する。なお、シンナーは、液だまりができにくい。溶剤の場合も同様に、特徴点の前後で、バルブ開スピードが速いこと、またはバルブ開スピードが遅いことの影響が吐出時間ＤＴに表れていると考えられる。また、図１０の結果は、シンナーが１ｃＰ（センチポアズ）未満（ゼロより大きい）のときの結果である。シンナーの粘度が１ｃＰ以上であっても同様に谷型の分布を示すものと考えられる。

本実施例によれば、コントローラ５１は、吐出開始を検知してから吐出終了を検知するまでの吐出時間ＤＴ（時刻ｔ３－時刻ｔ１）を計算し、複数回の吐出の吐出時間ＤＴの中から最小値の吐出時間ＤＴｍｉｎを抽出する。そして、コントローラ５１は、最小値の吐出時間ＤＴｍｉｎに対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ２を設定する。これにより、作業者は目視して判定することがなく溶剤ノズル４の吐出開始状態の調整が容易である。また、作業者が目視して判定することがないので、作業者間の誤差が抑えられ、更に装置間の誤差も抑えることができる。その結果、溶剤膜の品質を安定させることができる。

次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。なお、実施例１～３と重複する説明は省略する。

実施例２では、基板処理装置１は、レジストノズル３の吐出開始状態を自動調整した。この点、実施例４では、基板処理装置１は、溶剤（例えばシンナー）を吐出する溶剤ノズル４の吐出開始状態を自動調整する。また、本実施例では、コントローラ５１は、コントローラ５１が吐出信号を発してから吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間ＤＬ（時刻ｔ１－時刻ｔ０）を計算する。

溶剤ノズル４の吐出開始状態を調整する具体的な方法は、ステップＳ１８を除き、実施例２の図８に示すフローチャートと同様の手順で行われる。そのため、ステップＳ１８を説明する。

〔ステップＳ１８〕特徴的な値（特徴点）の抽出
コントローラ５１は、９回の吐出に対応する９つの吐出遅れ時間ＤＬの中から最大値の吐出遅れ時間ＤＬｍａｘを抽出する。ここで、図１１について説明する。図１１は、バルブ開スピードと吐出遅れ時間ＤＬの関係の一例を示した図である。

図１１において、横軸は、バルブ開スピード（秒：ｓｅｃ）を示す。縦軸は、吐出遅れ時間ＤＬ（ミリ秒：ｍｓｅｃ）を示す。吐出遅れ時間ＤＬは、正の値のときに「遅れていること」を示す。横軸および縦軸は、相対的な値で示され、特徴点を０（ゼロ）としている。

図１１において、バルブ開スピードを段階的に変化させて、変化後の吐出遅れ時間ＤＬをプロットすると、吐出遅れ時間ＤＬの分布が「山型」となる。この山型の分布において、最大値が特徴点となる。この最大値の吐出遅れ時間ＤＬｍａｘに対応するバルブ開スピードを開閉弁Ｖ２に設定して直接目視すると、最適な吐出開始状態を示した。すなわち、横軸をバルブ開スピードとし、縦軸を吐出遅れ時間ＤＬとしたグラフにおいて、９つの吐出遅れ時間ＤＬは、図１１に示すように、山型の分布を示す傾向がある。そこで、特徴点として、最大値の吐出遅れ時間ＤＬｍａｘを抽出する。

本実施例によれば、コントローラ５１は、コントローラ５１が吐出信号を発してから吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間ＤＬ（時刻ｔ１－時刻ｔ０）を計算し、複数回の吐出の吐出遅れ時間ＤＬの中から最大値の吐出遅れ時間ＤＬｍａｘを抽出する。そして、コントローラ５１は、最大値の吐出遅れ時間ＤＬｍａｘに対応するバルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ２を設定する。これにより、作業者は目視して判定することがなく溶剤ノズル４の吐出開始状態の調整が容易である。また、作業者が目視して判定することがないので、作業者間の誤差が抑えられ、更に装置間の誤差も抑えることができる。その結果、溶剤膜の品質を安定させることができる。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した各実施例では、複数の吐出時間ＤＴまたは複数の吐出遅れ時間ＤＬの中から特徴点を抽出し、抽出した特徴点に対応するバルブ開スピードを開閉弁Ｖ１または開閉弁Ｖ２に設定した。この点、開閉弁Ｖ１などに設定するバルブ開スピードを所定範囲から選択してもよい。

図６を参照して具体的に説明する。コントローラ５１は、最大値の吐出時間ＴＤ（特徴点）に対応するバルブ開スピードである基準バルブ開スピードＳＳから、基準バルブ開スピードＳＳよりも遅い予め設定されたバルブ開スピードＫＳまでの範囲ＲＧ内でバルブ開スピードを選択し、選択された前記バルブ開スピードを用いて開閉弁Ｖ１を設定する。

図６において、バルブ開スピードＫＳは、基準バルブ開スピードＳＳに対して、例えば＋０．０２ｓｅｃである。そのため、基準バルブ開スピードＳＳ＋０．０２ｓｅｃの範囲ＲＧ内で開閉弁Ｖ１に設定するバルブ開スピードを決定する。例えば範囲ＲＧの平均値（基準バルブ開スピードＳＳ＋０．０１ｓｅｃ）を開閉弁Ｖ１に設定するバルブ開スピードとして決定してもよい。図９，図１０，図１１も同様である。なお、バルブ開スピードＫＳ（範囲ＲＧ）は、例えば実験により吐出開始状態を直接目視して観察して、処理液ごとに予め設定していてもよい。

本変形例によれば、所定の範囲ＲＧ内で、各開閉弁Ｖ１，Ｖ２に設定するバルブ開スピードを選択することができる。また、基準バルブ開スピードよりも遅い方向に、バルブ開スピードの範囲ＲＧを設けている。基準バルブ開スピードよりもバルブ開スピードが速くなると、逆流により例えばレジストノズル３内で液が２つに分かれて気泡が発生する可能性がある。この気泡発生を防止することができる。

（２）上述した各実施例および変形例（１）では、例えばレジストノズル３を基板Ｗの中心の上方に移動した状態で、カメラ４５は、レジストノズル３の先端部と基板Ｗの表面の着液点が映り込むようにレジストノズル３の先端部を撮影した。この点、図１２に示す回収容器６１の上方にレジストノズル３が移動した状態で、カメラ４５はレジストノズル３の先端部を撮影してもよい。

基板処理装置１は、メンテナンス用の回収容器６１を備える。回収容器６１は、保持回転部２およびカップ９の側方に設けられる。回収容器６１の上面は開口し、回収容器６１の底面には、排出口６３が設けられる。回収容器６１は、レジストノズル３から吐出されたレジスト液を受け入れる。回収容器６１に受け入れられたレジスト液は、排出口６３を通じて排出される。カメラ４５は、回収容器６１の上方に移動されたレジストノズル３の先端部を撮影する。

図７のフローチャートの変更点について説明する。レジストノズル３は、回収容器６１の上方に移動される。レジスト液は、レジストノズル３から回収容器６１に向けて複数回吐出される。レジストノズル３から複数回の吐出が行われる様子の動画は、カメラ４５で撮影される。

画像処理部４７は、動画を構成する各画像データにおいて、レジストノズル３の先端面３Ａから予め設定された距離ＧＰ１離れた基準位置にレジストノズル３からのレジスト液が到達したときに、吐出開始を検知する。ここで、図１３（ａ）、図１３（ｂ）に示す基準位置は、各画像データ内に共通して設定される水平な仮想線６５である。吐出開始は、レジスト液の先端位置ＴＰが仮想線６５に到達したときに検知される。

また、画像処理部４７は、動画を構成する各画像データにおいて、レジストノズル３から吐出されたレジスト液が仮想線６５に到達している状態から、仮想線６５と、レジストノズル３から吐出されたレジスト液の先端位置ＴＰとの間の隙間が予め設定された値ＧＰ２になったときに、吐出終了を検知する。

仮想線６５を基準位置として、吐出開始および吐出終了を検知する。そのため、基板Ｗを用いずに吐出開始状態を設定することができる。なお、図８のフローチャートの場合も同様であり、溶剤ノズル４から溶剤を吐出する場合も同様である。

（３）上述した各実施例および各変形例では、各ノズル３，４の吐出開始状態を自動調整するために、レジスト液または溶剤（例えばシンナー）を吐出した。吐出する処理液は、これらに限られない。例えば、ノズルから吐出する液は、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）であってもよい。すなわち、ＩＰＡを吐出するノズルの吐出開始状態を自動調整してもよい。なお、ＩＰＡは、溶剤に含まれるものとする。

（４）上述した各実施例および実施例では、コントローラ５１は、複数回の吐出ごとに、吐出時間ＤＴを計算した。計算した吐出時間ＤＴは、図６、図１０に示すように、グラフにプロットして、表示部５５に表示させてもよい。計算した吐出遅れ時間ＤＬも同様である。

また、上述した各実施例および各変形例において、例えば、コントローラ５１は、複数の吐出時間ＤＴからの中から最大値の吐出時間ＤＴｍａｘを抽出した。コントローラ５１は、グラフ（図６参照）を表示部５５に表示させると共に、抽出された最大値の吐出時間ＤＴｍａｘ（これに対応するバルブ開スピード）をそのグラフに重ねて表示させてもよい。作業者は、そのグラフを見て、抽出された最大値の吐出時間ＤＴｍａｘを他の吐出時間ＤＴに、入力部５７を通じて変更する。

（５）上述した各実施例および実施例では、コントローラ５１または画像処理部４７は、ステップ０３～ステップＳ０９を担当した。この点、複数のプロセッサは、ステップ０３～ステップＳ０９を分けて担当してもよい。例えば第１プロセッサがステップＳ０７を担当し、第２プロセッサがステップＳ０８を担当してもよい。

（６）上述した各実施例および実施例では、ステップ０３またはステップＳ１３において、例えば９つの条件ＳＰ１～ＳＰ９が準備された。各条件ＳＰ１～ＳＰ９で１回の吐出が行われたが、各条件ＳＰ１～ＳＰ９で例えば３回の吐出を行ってもよい（合計２７回）。この場合、例えば、条件ＳＰ１の３回の吐出に基づき、３つの吐出時間ＤＴが計算される。条件ＳＰ１の吐出時間ＤＴとして、計算された３つの吐出時間ＤＴの平均値を用いてもよい。

１ … 基板処理装置
３ … レジストノズル
３Ａ … 先端面
４ … 溶剤ノズル
４５ … カメラ
４７ … 画像処理部
５１ … コントローラ
６１ … 回収容器
６５ … 仮想線
Ｖ１，Ｖ２ … 開閉弁
Ｗ … 基板
ＤＴ … 吐出時間
ＤＬ … 吐出遅れ時間

Claims (9)

1. ノズルからレジスト液の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルからレジスト液を複数回吐出させる吐出工程と、
   前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、
   前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、
   前記動画に基づいて、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出終了を検知する終了検知工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記吐出開始を検知してから前記吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算する計算工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出時間の中から最大値の吐出時間を抽出する抽出工程と、
   前記コントローラによって、前記最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、
   を備えていることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
2. 請求項１に記載のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、
   前記コントローラは、前記動画を構成する各画像データにおいて、前記ノズルの先端面から予め設定された距離離れた基準位置に前記ノズルからのレジスト液が到達したときに、吐出開始を検知することを特徴とすることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
3. 請求項２に記載のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、
   前記ノズルは、前記吐出工程において、基板表面に向けてレジスト液を複数回吐出し、
   前記基準位置は、前記基板表面であることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
4. 請求項２に記載のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、
   前記ノズルは、前記吐出工程において、回収容器に向けてレジスト液を複数回吐出し、
   前記基準位置は、前記各画像データ内に共通して設定される水平な仮想線であることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
5. 請求項１から４のいずれかに記載のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、
   前記コントローラは、前記動画を構成する各画像データにおいて、前記ノズルから吐出されたレジスト液が前記基準位置に到達している状態から、前記基準位置と、前記ノズルから吐出されたレジスト液の先端位置との間の隙間が予め設定された値になったときに、吐出終了を検知することを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
6. 請求項１から５のいずれかに記載のノズルの吐出開始状態を調整する方法において、
   前記コントローラは、前記最大値の吐出時間に対応するバルブ開スピードである基準バルブ開スピードから、前記基準バルブ開スピードよりも遅い予め設定されたバルブ開スピードまでの範囲内でバルブ開スピードを選択し、選択された前記バルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定することを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
7. ノズルからレジスト液の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルからレジスト液を複数回吐出させる吐出工程と、
   前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、
   前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記コントローラが吐出信号を発してから前記吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間を計算する計算工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出遅れ時間の中から最小値の吐出遅れ時間を抽出する抽出工程と、
   前記コントローラによって、前記最小値の吐出遅れ時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、
   を備えていることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
8. ノズルから溶剤の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルから溶剤を複数回吐出させる吐出工程と、
   前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、
   前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、
   前記動画に基づいて、前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出終了を検知する終了検知工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記吐出開始を検知してから前記吐出終了を検知するまでの吐出時間を計算する計算工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出時間の中から最小値の吐出時間を抽出する抽出工程と、
   前記コントローラによって、前記最小値の吐出時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、
   を備えていることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
9. ノズルから溶剤の吐出および吐出停止を行う開閉弁のバルブ開スピードを変えながら、前記ノズルから溶剤を複数回吐出させる吐出工程と、
   前記ノズルから複数回の吐出が行われる様子の動画をカメラで撮影する撮影工程と、
   前記動画に基づいて、コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに吐出開始を検知する開始検知工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出ごとに、前記コントローラが吐出信号を発してから前記吐出開始を検知するまでの吐出遅れ時間を計算する計算工程と、
   前記コントローラによって、前記複数回の吐出の前記吐出遅れ時間の中から最大値の吐出遅れ時間を抽出する抽出工程と、
   前記コントローラによって、前記最大値の吐出遅れ時間に対応するバルブ開スピードを用いて前記開閉弁を設定する設定工程と、
   を備えていることを特徴とするノズルの吐出開始状態を調整する方法。
   

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