JP2022148398A - 基板搬送方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板の位置ずれを補正して搬送する基板搬送方法を提供する。【解決手段】第１搬送装置のピックで第１基板及び第２基板を受け取るステップと、第１基板のずれ量及び第２基板のずれ量を検出するステップと、第１基板のずれ量に基づいて、ピックの受渡位置の補正量を算出するステップと、補正されたピックの受渡位置に移動させ、第２室の第１載置部に第１基板を受け渡し、第２室の第２載置部に第２基板を受け渡すステップと、第２搬送装置の第１ピックを、第１載置部の受取位置に移動させ、第１ピックで第１基板を受け取るステップと、ピックの受渡位置の補正量と、第２基板のずれ量に基づいて、第２搬送装置の第２ピックの受取位置の補正量を算出するステップと、第２搬送装置の第２ピックを、補正された第２ピックの受取位置に移動させ、第２ピックで第２基板を受け取るステップと、を有する、基板搬送方法。【選択図】図４

Description

本開示は、基板搬送方法に関する。
例えば、真空搬送室に設けられた搬送装置で処理室から真空搬送室を介してロードロック室に基板を搬送し、大気搬送室に設けられた搬送装置でロードロック室からロードポートに取り付けられたキャリアに基板を搬送する基板処理システムが知られている。
特許文献１には、第１のロボットのエンドエフェクタでウエハを第１の場所から中間位置へ搬送する際に、ウエハとエンドエフェクタとの相対位置を測定し、測定結果に基づいて第２のロボットのエンドエフェクタが中間位置からウエハピックアップする位置を調整し、第２のロボットのエンドエフェクタでウエハを中間位置から第２の位置へ搬送するシステムが開示されている。
米国特許第８０６０２５２号明細書
ところで、処理室における基板処理中に基板の位置がずれるおそれがある。このため、位置がずれた基板を位置補正してキャリアまで搬送する搬送方法が求められている。
本開示の一態様は、基板の位置ずれを補正して搬送する基板搬送方法を提供する。
本開示の一態様に係る基板搬送方法は、第１搬送装置のピックで第１基板及び第２基板を受け取るステップと、前記ピックに保持された前記第１基板のずれ量及び前記第２基板のずれ量を検出するステップと、前記第１基板のずれ量に基づいて、前記ピックの受渡位置の補正量を算出するステップと、前記第１搬送装置の前記ピックを、補正された前記ピックの受渡位置に移動させ、第２室の第１載置部に前記第１基板を受け渡し、前記第２室の第２載置部に前記第２基板を受け渡すステップと、第２搬送装置の第１ピックを、前記第１載置部の受取位置に移動させ、前記第１ピックで前記第１基板を受け取るステップと、前記ピックの受渡位置の前記補正量と、前記第２基板のずれ量に基づいて、前記第２搬送装置の第２ピックの受取位置の補正量を算出するステップと、前記第２搬送装置の前記第２ピックを、補正された前記第２ピックの受取位置に移動させ、前記第２ピックで前記第２基板を受け取るステップと、を有する。
本開示の一態様によれば、基板の位置ずれを補正して搬送する基板搬送方法を提供する。
一実施形態に係る基板処理システムの一例の構成を示す平面図。 基板搬送装置の一例を示す斜視図。 ロードロック室の一例を示す側断面模式図。 ウエハの搬送動作のフローチャートの一例。 真空搬送装置のピックに保持されたウエハのずれ量の一例を示す模式図。 載置部にウエハを載置した後の状態の一例を示す模式図。 大気搬送装置の第１ピックでウエハを受け取る際の一例を示す模式図。 大気搬送装置の第２ピックでウエハを受け取る際の一例を示す模式図。 補正前のウエハの位置ずれ状態と補正後のウエハの位置ずれ状態とを示す側面図。 補正前のウエハの位置ずれ状態と補正後のウエハの位置ずれ状態とを示す側面図。 補正前のウエハの位置ずれ状態と補正後のウエハの位置ずれ状態とを示す側面図。
以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
＜基板処理システム１００＞
一実施形態に係る基板処理システム１００の全体構成の一例について、図１を用いて説明する。図１は、一実施形態に係る基板処理システム１００の一例の構成を示す平面図である。
図１に示す基板処理システム１００は、クラスタ構造（マルチチャンバタイプ）のシステムである。基板処理システム１００は、複数の処理室１１０、真空搬送室１２０、ロードロック室１３０、大気搬送室１４０、ロードポート１５０及び制御部２００を備えている。
処理室１１０は、所定の真空雰囲気に減圧され、その内部にてウエハ（基板）Ｗに所望の処理（エッチング処理、成膜処理、クリーニング処理、アッシング処理等）を施す。処理室１１０は、真空搬送室１２０に隣接して配置される。処理室１１０と真空搬送室１２０とは、ゲートバルブ１１６の開閉により連通する。処理室１１０は、ウエハＷを載置する２つの載置部１１１，１１２を有する。なお、処理室１１０における処理のための各部の動作は、制御部２００によって制御される。
真空搬送室１２０は、ゲートバルブ１１６，１３６を介して、複数の室（処理室１１０、ロードロック室１３０）と連結され、所定の真空雰囲気に減圧されている。また、真空搬送室１２０の内部には、ウエハＷを搬送する真空搬送装置１６０が設けられている。真空搬送装置１６０は、ウエハＷを保持するピック１６１，１６２を有している。ピック１６１は、ウエハＷを保持する基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌを有し、２枚のウエハＷを同時に搬送することができるように構成されている。同様に、ピック１６２は、ウエハＷを保持する基板保持部１６２Ｒ，１６２Ｌを有し、２枚のウエハＷを同時に搬送することができるように構成されている。真空搬送装置１６０は、ゲートバルブ１１６の開閉に応じて、処理室１１０と真空搬送室１２０との間でウエハＷの搬入及び搬出を行う。また、真空搬送装置１６０は、ゲートバルブ１３６の開閉に応じて、ロードロック室１３０と真空搬送室１２０との間でウエハＷの搬入及び搬出を行う。なお、真空搬送装置１６０の動作、ゲートバルブ１１６，１３６の開閉は、制御部２００によって制御される。
ここで、真空搬送装置１６０の一例について、図２を用いて説明する。図２は、真空搬送装置１６０の一例を示す斜視図である。真空搬送装置１６０は、ピック１６１，１６２と、アーム１６３～１６６と、ベース１６７と、を有する。なお、図２において、ピック１６１，１６２は上下２段に重なるように配置されており、ピック１６１の基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌ（図１参照）及びピック１６２の基板保持部１６２Ｒ，１６２ＬにそれぞれウエハＷを保持した状態を図示している。
ピック１６１、アーム１６３、アーム１６５は、第１アームを形成する。アーム１６５の一端は、ベース１６７に対して回転自在に接続されている。アーム１６５の他端とアーム１６３の一端とは、回転自在に接続されている。アーム１６３の他端とピック１６１の基部とは、回転自在に接続されている。ピック１６１は、ピック１６１の基部から二又に分岐しており、分岐した一方に基板保持部１６１Ｒ（図１参照）が設けられ、分岐した他方に基板保持部１６１Ｌ（図１参照）が設けられている。制御部２００は、第１アームの各関節の角度を制御することにより、第１アームを伸縮し、ピック１６１の位置及び向きを制御することができる。
同様に、ピック１６２、アーム１６４、アーム１６６は、第２アームを形成する。アーム１６６の一端は、ベース１６７に対して回転自在に接続されている。アーム１６６の他端とアーム１６４の一端とは、回転自在に接続されている。アーム１６４の他端とピック１６２の基部とは、回転自在に接続されている。ピック１６２は、ピック１６２の基部から二又に分岐しており、分岐した一方に基板保持部１６２Ｒが設けられ、分岐した他方に基板保持部１６２Ｌが設けられている。制御部２００は、第２アームの各関節の角度を制御することにより、第２アームを伸縮し、ピック１６２の位置及び向きを制御することができる。
ベース１６７は、真空搬送室１２０の床面に設けられる。また、ベース１６７は、第１アーム及び第２アームを昇降する昇降機構（図示せず）を有する。制御部２００は、昇降機構を制御することにより、第１アーム及び第２アームを昇降させることができる。
図１に戻り、真空搬送室１２０は、ピック１６１，１６２に保持されたウエハＷの位置を検出するセンサ１７０を有している。センサ１７０は、例えば、１つのウエハＷの搬送経路に対して２つの遮光センサを有し、ゲートバルブ１３６の手前側に設けられている。ピック１６１の基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌに保持されたウエハＷを真空搬送室１２０からロードロック室１３０へ搬送する際、ピック１６１に保持されたウエハＷがセンサ１７０を通過する。この際、センサ１７０は、ウエハＷのエッジを検出する。これにより、ピック１６１上のウエハＷの位置（ピック１６１に対するウエハＷの相対位置）を検出することができる。換言すれば、各基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌにおける基準となる保持位置に対する各基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌに実際に保持されているウエハＷの位置のずれ量を検出することができる。同様に、ピック１６２でウエハＷを搬送する際、ウエハＷのずれ量を検出することができる。
ロードロック室１３０は、真空搬送室１２０と大気搬送室１４０との間に設けられている。ロードロック室１３０は、ウエハＷを載置する載置部１３１～１３４を有する。ロードロック室１３０は、大気雰囲気と真空雰囲気とを切り替えることができるようになっている。ロードロック室１３０と真空雰囲気の真空搬送室１２０とは、ゲートバルブ１３６の開閉により連通する。ロードロック室１３０と大気雰囲気の大気搬送室１４０とは、ドアバルブ１３７の開閉により連通する。なお、ロードロック室１３０内の真空雰囲気または大気雰囲気の切り替えは、制御部２００によって制御される。
ここで、ロードロック室１３０の一例について、図３を用いて説明する。図３は、ロードロック室１３０の一例を示す側断面模式図である。なお、図３は、大気搬送室１４０の側からロードロック室１３０を見た図である。ロードロック室１３０は、上下に２室設けられていてもよい。また、１つのロードロック室１３０には、下段に設けられた載置部１３１，１３２と、上段に設けられた載置部１３３，１３４と、を有する。なお、載置部１３１，１３２と載置部１３３，１３４とは、上下に配置されているが、図１（及び後述する図５から図８）において、下段の載置部１３１，１３２と上段の載置部１３３，１３４とを上下方向にずらして模式的に図示している。なお、図３において、載置部１３３，１３４には、ウエハＷ１３，Ｗ１４が載置されているものとして図示している。
載置部１３１は、載置部１３１の載置面から上下する昇降ピン１３１ｐ（後述する図９参照）を有する。また、載置部１３２は、載置部１３２の載置面から上下する昇降ピン１３２ｐ（後述する図９参照）を有する。例えば、ピック１６１と下段の載置部１３１，１３２との間でウエハＷを受け渡す場合、基板保持部１６１Ｒ，１６１ＬにそれぞれウエハＷを保持したピック１６１は、載置部１３１，１３２の上方にウエハＷを搬送する。そして、昇降ピン１３１ｐ，１３２ｐが上昇することで、昇降ピン１３１ｐ，１３２ｐがウエハＷを持ち上げ、受け取る。そして、ピック１６１がロードロック室１３０から退避した後、昇降ピン１３１ｐ，１３２ｐが下降することで、ウエハＷを載置部１３１，１３２の載置面に載置する。これにより、ピック１６１の基板保持部１６２Ｒに保持されたウエハＷを載置部１３１に受け渡し、ピック１６１の基板保持部１６２Ｌに保持されたウエハＷを載置部１３２に受け渡すことができる。ピック１６２と載置部１３１，１３２との間でウエハＷを受け渡す場合も同様である。
載置部１３３は、開口部を有する支持板によって構成される。また、載置部１３４は、開口部を有する支持板によって構成される。例えば、ピック１６１と上段の載置部１３３，１３４との間でウエハＷを受け渡す場合、基板保持部１６１Ｒ，１６１ＬにそれぞれウエハＷを保持したピック１６１は、支持板の上方にウエハＷを搬送する。そして、真空搬送装置１６０の昇降機構によってピック１６１を下降させ、基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌが支持板の開口部を通過することにより、ウエハＷの下面外縁部を支持板で支持させ、ウエハＷを載置部１３３，１３４に載置する。これにより、ピック１６１の基板保持部１６２Ｒに保持されたウエハＷを載置部１３３に受け渡し、ピック１６１の基板保持部１６２Ｌに保持されたウエハＷを載置部１３４に受け渡すことができる。ピック１６２と載置部１３３，１３４との間でウエハＷを受け渡す場合も同様である。
図１に戻り、大気搬送室１４０は、大気雰囲気となっており、例えば清浄空気のダウンフローが形成されている。また、大気搬送室１４０の内部には、ウエハＷを搬送する大気搬送装置１８０が設けられている。大気搬送装置１８０は、ドアバルブ１３７の開閉に応じて、ロードロック室１３０と大気搬送室１４０との間でウエハＷの搬入及び搬出を行う。なお、大気搬送装置１８０の動作、ドアバルブ１３７の開閉は、制御部２００によって制御される。
また、大気搬送室１４０の壁面には、ロードポート１５０が設けられている。ロードポート１５０は、ウエハＷが収容されたキャリアＣ又は空のキャリアＣが取り付けられる。キャリアＣとしては、例えば、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）等を用いることができる。
大気搬送装置１８０は、ロードポート１５０に取り付けられたキャリアＣに収容されたウエハＷを取り出して、ロードロック室１３０の載置部１３１～１３４に載置することができる。また、大気搬送装置１８０は、ロードロック室１３０の載置部１３１～１３４に載置されたウエハＷを取り出して、ロードポート１５０に取り付けられたキャリアＣに収容することができる。
大気搬送装置１８０は、ウエハＷを保持する第１ピック１８１を有する第１アームと、ウエハＷを保持する第２ピック１８２を有する第２アームと、ベース（図示せず）と、スライド機構（図示せず）と、を備える。また、第１ピック１８１及び第２ピック１８２は異なる高さに配置されており、ウエハＷを保持した第１ピック１８１及びウエハＷを保持した第２ピック１８２が上下２段に重なるように配置することができるように構成されている。
第１アームは、例えばスカラ型のアームであって、一端がベースに対して回転自在に接続され、他端に第１ピック１８１を有する。制御部２００は、第１アームの各関節の角度を制御することにより、第１アームを伸縮し、第１ピック１８１の位置及び向きを制御することができる。同様に、第２アームは、例えばスカラ型のアームであって、一端がベースに対して回転自在に接続され、他端に第２ピック１８２を有する。制御部２００は、第２アームの各関節の角度を制御することにより、第２アームを伸縮し、第２ピック１８２の位置及び向きを制御することができる。
ベースは、第１アーム及び第２アームを昇降する昇降機構（図示せず）を有する。制御部２００は、昇降機構を制御することにより、第１アーム及び第２アームを昇降させることができる。
スライド機構は、ベースをロードポート１５０の並びに沿って平行に移動自在に構成される。制御部２００は、スライド機構を制御することにより、第１アーム、第２アーム及びベースをスライド方向に移動させることができる。
制御部２００は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）及びＨＤＤ（Hard Disk Drive）を有する。制御部２００は、ＨＤＤに限らずＳＳＤ（Solid State Drive）等の他の記憶領域を有してもよい。ＨＤＤ、ＲＡＭ等の記憶領域には、プロセスの手順、プロセスの条件、搬送条件が設定されたレシピが格納されている。
ＣＰＵは、レシピに従って各処理室１１０におけるウエハＷの処理を制御し、ウエハＷの搬送を制御する。ＨＤＤやＲＡＭには、各処理室１１０におけるウエハＷの処理やウエハＷの搬送を実行するためのプログラムが記憶されてもよい。プログラムは、記憶媒体に格納して提供されてもよいし、ネットワークを通じて外部装置から提供されてもよい。
次に、処理室１１０の載置部１１１，１１２に載置されたウエハＷを搬送する動作の一例について、図４を用いて説明する。図４は、ウエハＷの搬送動作のフローチャートの一例である。ここでは、処理室１１０で処理が施された２枚のウエハＷについて、処理室１１０の載置部１１１，１１２に載置された２枚のウエハＷを、真空搬送装置１６０のピック１６１でロードロック室１３０の載置部１３１，１３２に搬送し、大気搬送装置１８０の第１ピック１８１、第２ピック１８２でロードポート１５０のキャリアＣに収容する動作を例に説明する。なお、処理室１１０でウエハＷに処理が施された際、載置部１１１，１１２におけるウエハＷの位置ずれが生じていることがある。
ステップＳ１０１において、真空搬送装置１６０のピック１６１を所定の受取位置に移動させ、処理室１１０の載置部１１１，１１２から２枚のウエハＷを受け取る。ここで、基板保持部１６１Ｒは、載置部１１１からウエハＷ１１（図５参照）を受け取り、基板保持部１６１Ｌは、載置部１１２からウエハＷ１２（図５参照）を受け取る。
ステップＳ１０２において、ウエハＷ１１，１２の搬送を開始する。ここでは、処理室１１０から真空搬送室１２０を介してロードロック室１３０にウエハＷ１１，１２を保持したピック１６１を移動させることで、ウエハＷ１１，１２を同時に搬送する。
ステップＳ１０３において、ピック１６１に対するウエハＷ１１，１２の相対位置を検知する。ウエハＷ１１，１２の搬送中に、ウエハＷ１１，１２がセンサ１７０を通過する。センサ１７０は、ウエハＷ１１，１２のエッジを検出する。これにより、制御部２００は、センサ１７０によるエッジの検出と、真空搬送装置１６０の制御によるピック１６１の位置情報に基づいて、ピック１６１に対するウエハＷ１１，１２の相対位置、換言すれば、基板保持部１６１Ｒの基準となる保持位置と実際に保持されるウエハＷ１１とのずれ量を検出し、基板保持部１６１Ｌの基準となる保持位置と実際に保持されるウエハＷ１２とのずれ量を検出する。
図５は、真空搬送装置１６０のピック１６１に保持されたウエハＷ１１，１２のずれ量の一例を示す模式図である。ここでは、基板保持部１６１ＲにウエハＷ１１が保持され、基板保持部１６１ＬにウエハＷ１２が保持されている。また、図５において、基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌの基準となる保持位置をそれぞれ破線で図示している。ここで、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１は、矢印に示す向き（紙面の左方向）にずれ量Ｄａでずれており、基板保持部１６１Ｌに保持されるウエハＷ１２は、矢印に示す向き（紙面の右方向）にずれ量Ｄｂでずれているものとして説明する。
ステップＳ１０４において、検出したピック１６１に対するウエハＷの相対位置（ずれ量）に基づいて、ロードロック室１３０の載置部１３１，１３２に対する受渡位置の補正量を算出し、補正する。具体的には、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１のずれ量Ｄａに基づいて、ピック１６１の受渡位置の補正量を算出し、補正する。ここで、制御部２００は、載置部１３１にウエハＷ１１を受け渡した際、載置部１３１の基準となる載置位置に対する実際に載置されるウエハＷ１１のずれ量が設定量Ｄｘ以下となるようにピック１６１の受渡位置の補正量を算出する。図５に示す例において、ピック１６１の受渡位置の補正量を（Ｄａ－Ｄｘ）とする。
ここで、設定量Ｄｘは、例えば、基板処理システム１００の設計及び運用に基づいて設定される。
ステップＳ１０５において、真空搬送装置１６０のピック１６１を補正された受渡位置に移動させ、基板保持部１６１Ｒ，１６１Ｌからロードロック室１３０の載置部１３１，１３２にウエハＷ１１，Ｗ１２を受け渡す。
図６は、載置部１３１，１３２にウエハＷ１１，Ｗ１２を載置した後の状態の一例を示す模式図である。図６に示すように、ピック１６１は、矢印に示す向き（紙面の右方向）に補正量（Ｄａ－Ｄｘ）で補正された受渡位置で、基板保持部１６１Ｒから載置部１３１にウエハＷ１１を受け渡し、基板保持部１６１Ｌから載置部１３２にウエハＷ１２を受け渡す。また、図６において、載置部１３１，１３２の基準となる載置位置をそれぞれ破線で図示している。載置部１３１に載置されるウエハＷ１１は、矢印に示す向き（紙面の左方向）に設定量Ｄｘでずれており、載置部１３２に載置されるウエハＷ１２は、矢印に示す向き（紙面の右方向）にずれ量Ｄｂ＋（Ｄａ－Ｄｘ）でずれている。
この後、ロードロック室１３０からピック１６１が退避すると、制御部２００は、ゲートバルブ１３６を閉じる。また、ロードロック室１３０内を真空雰囲気から大気雰囲気に切り替える。
ステップＳ１０６において、大気搬送装置１８０の第１ピック１８１を所定の受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷを受け取る。
図７は、大気搬送装置１８０の第１ピック１８１でウエハＷ１１を受け取る際の一例を示す模式図である。ここでは、第１ピック１８１の受取位置を補正せずに、所定の受取位置に第１ピック１８１を移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取る。
ステップＳ１０７において、検出した相対位置及び真空搬送装置１６０のピック１６１の補正量に基づいて、ロードロック室１３０の載置部１３２に対する受取位置の補正量を算出し、補正する。具体的には、基板保持部１６１Ｌに保持されるウエハＷ１２のずれ量Ｄｂ、及び、ピック１６１の受渡位置の補正量（Ｄａ－Ｄｘ）に基づいて、第２ピック１８２の受取位置の補正量を算出し、補正する。
ステップＳ１０８において、大気搬送装置１８０の第２ピック１８２を補正された受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷを受け取る。
図８は、大気搬送装置１８０の第２ピック１８２でウエハＷ１２を受け取る際の一例を示す模式図である。ここでは、第２ピック１８２は、矢印に示す向き（紙面の右方向）に補正量（Ｄｂ＋（Ｄａ－Ｄｘ））で補正された受取位置に第２ピック１８２を移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取る。
その後、大気搬送装置１８０は、第１ピック１８１に保持されたウエハＷ１１及び第２ピック１８２保持されたウエハＷ１２をキャリアＣに収容する。ここで、第１ピック１８１及び第２ピック１８２に保持されたウエハＷ１１，Ｗ１２のずれ量は、所定の設定量Ｄｘ以下に収まっている。これにより、ウエハＷ１１，Ｗ１２をキャリアＣに収容することができる。
なお、図５に示す処理においては、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１と載置部１３１とのずれ量が設定量Ｄｘ以下となるように真空搬送装置１６０のピック１６１の受渡位置を補正して、ウエハＷ１１，Ｗ１２を載置部１３１，１３２に受け渡す。その後、大気搬送装置１８０の第１ピック１８１が補正なしの所定の受取位置でロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り、第２ピック１８２が補正された受取位置でロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取る、処理を例に説明したが、これに限られるものではない。
例えば、第２ピック１８２が補正なしの所定の受取位置で載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り、第１ピック１８１が補正された受取位置で載置部１３２からウエハＷ１２を受け取る、処理であってもよい。
以上、本実施形態に係る基板処理システム１００の搬送方法によれば、処理室１１０の載置部１１１，１１２に載置されたウエハＷ１１，Ｗ１２に位置ずれが生じていたとしても、好適にキャリアＣに収容することができる。
また、本実施形態に係る基板処理システム１００の搬送方法は、ステップＳ１０５に示すように、真空搬送装置１６０のピック１６１が載置部１３１，１３２にウエハＷ１１，Ｗ１２を受け渡す際、ピック１６１の受渡位置を補正し、ウエハＷ１１，Ｗ１２を載置部１３１，１３２に受け渡す。このため、例えば、ピック１６１の受渡位置をウエハＷ１１のずれ量に応じて補正した後、ウエハＷ１１のみを載置部１３１に受け渡し、ピック１６１の受渡位置をウエハＷ１２のずれ量に応じて再度補正した後、ウエハＷ１２を載置部１３２に受け渡すような、補正用動作を追加する制御方法と比較して、スループットへの影響をなくすことができる。
また、本実施形態に係る基板処理システム１００の搬送方法は、ロードロック室１３０にウエハＷ１１，Ｗ１２の位置ずれを調整する調整機構等を設けることなく、ウエハＷ１１，Ｗ１２をキャリアＣに収容することができる。即ち、基板処理システム１００の構成を簡素化することができる。
また、２枚のウエハＷ１１，Ｗ１２を同時に搬送するピック１６１において、図５のように、ウエハＷ１１，Ｗ１２がそれぞれ離れる向きにずれている場合、一方のウエハＷ１１のずれ量Ｄａを解消するようにピック１６１の受渡位置を補正すると、他方のウエハＷ１２のずれ量はＤｂ＋Ｄａとなる。このため、ウエハＷ１２のずれ量が、載置部１３２に受け渡し可能なずれ量の閾値を超えるおそれがある。
これに対し、本実施形態に係る基板処理システム１００の搬送方法は、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれが設定量Ｄｘ以下となるようにピック１６１の受渡位置を補正する。即ち、図６に示すように、ピック１６１の受渡位置の補正量は（Ｄａ－Ｄｘ）となる。また、載置部１３２に受け渡されるウエハＷ１２のずれ量は（Ｄｂ＋（Ｄａ－Ｄｘ））となり、載置部１３２に受け渡されるウエハＷ１２のずれ量の増加を抑制することができる。換言すれば、本実施形態に係る基板処理システム１００の搬送方法は、搬送可能なずれ量の範囲を拡大することができる。
なお、本実施形態に係る基板処理システム１００の搬送方法は、左右方向（ピック１６１の幅方向）のウエハＷのずれの補正について説明したが、前後方向（ピック１６１の抜差方向）のウエハＷのずれの補正についても同様に補正することができる。
次に、補正の例について、図９から図１１を用いて更に説明する。図９から図１１は、補正前のウエハＷ１１，１２の位置ずれ状態と補正後のウエハＷ１１，１２の位置ずれ状態とを示す側面図である。ここで、図９から図１１は、ピック１６１の基板保持部１６１Ｒに保持されたウエハＷ１１を載置部１３１のリフターピン１３１Ｐに受け渡し、ピック１６１の基板保持部１６１Ｒに保持されたウエハＷ１２を載置部１３２のリフターピン１３２Ｐに受け渡す状態の側面模式図である。また、図９から図１１は、大気搬送室１４０の側からロードロック室１３０を見た図である。また、ずれ量は、紙面の左方向（ピック１６１から見て基板保持部１６１Ｒ側）を＋とし、紙面の右方向（ピック１６１から見て基板保持部１６１Ｌ側）を－として説明する。
図９（ａ）は、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が＋３ｍｍ、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が－１ｍｍずれている場合である。即ち、ウエハＷ１１とウエハＷ１２のずれが、それぞれ離れる向きにずれている。
この場合、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量が設定量Ｄｘ（＝２．５ｍｍ）に収まるように、ピック１６１の補正量を－０．５ｍｍとする。これにより、図９（ｂ）に示すように、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量は設定量Ｄｘ内に収まっている。このため、大気搬送装置１８０は、第１ピック１８１を所定の受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り（Ｓ１０６）、キャリアＣに搬送することができる。また、大気搬送装置１８０は、第２ピック１８２の補正量を－１．５ｍｍとし（Ｓ１０７）、第２ピック１８２を補正された受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取り（Ｓ１０８）、キャリアＣに搬送することができる。
図９（ｃ）は、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が＋５ｍｍ、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が＋４ｍｍずれている場合である。即ち、ウエハＷ１１とウエハＷ１２が、それぞれ同じ向きにずれている。
この場合、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量が設定量Ｄｘ（＝２．５ｍｍ）に収まるように、ピック１６１の補正量を－２．５ｍｍとする。これにより、図９（ｄ）に示すように、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量は設定量Ｄｘ内に収まっている。このため、大気搬送装置１８０は、第１ピック１８１を所定の受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り（Ｓ１０６）、キャリアＣに搬送することができる。また、大気搬送装置１８０は、第２ピック１８２の補正量を＋１．５ｍｍとし（Ｓ１０７）、第２ピック１８２を補正された受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取り（Ｓ１０８）、キャリアＣに搬送することができる。
図１０（ａ）は、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が＋３ｍｍ、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が－３ｍｍずれている場合である。即ち、ウエハＷ１１とウエハＷ１２のずれが、それぞれ離れる向きにずれている。
この場合、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量が設定量Ｄｘ（＝２．５ｍｍ）に収まるように、ピック１６１の補正量を－０．５ｍｍとする。これにより、図１０（ｂ）に示すように、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量は設定量Ｄｘ内に収まっている。このため、大気搬送装置１８０は、第１ピック１８１を所定の受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り（Ｓ１０６）、キャリアＣに搬送することができる。また、大気搬送装置１８０は、第２ピック１８２の補正量を－３．５ｍｍとし（Ｓ１０７）、第２ピック１８２を補正された受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取り（Ｓ１０８）、キャリアＣに搬送することができる。
図１０（ｃ）は、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が＋５ｍｍ、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が－５ｍｍずれている場合である。即ち、ウエハＷ１１とウエハＷ１２のずれが、それぞれ離れる向きにずれている。
この場合、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量が設定量Ｄｘ（＝２．５ｍｍ）に収まるように、ピック１６１の補正量を－２．５ｍｍとする。これにより、図１０（ｄ）に示すように、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量は設定量Ｄｘ内に収まっている。このため、大気搬送装置１８０は、第１ピック１８１を所定の受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り（Ｓ１０６）、キャリアＣに搬送することができる。また、大気搬送装置１８０は、第２ピック１８２の補正量を－７．５ｍｍとし（Ｓ１０７）、第２ピック１８２を補正された受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取り（Ｓ１０８）、キャリアＣに搬送することができる。
図１１（ａ）は、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が＋２ｍｍ、基板保持部１６１Ｒに保持されるウエハＷ１１が－５ｍｍずれている場合である。即ち、ウエハＷ１１とウエハＷ１２のずれが、それぞれ離れる向きにずれている。
この場合、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量は、設定量Ｄｘ（＝２．５ｍｍ）に収まっており、ピック１６１の補正量を０ｍｍとする。これにより、図１１（ｂ）に示すように、載置部１３１に受け渡されるウエハＷ１１のずれ量は設定量Ｄｘ内に収まっている。このため、大気搬送装置１８０は、第１ピック１８１を所定の受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３１からウエハＷ１１を受け取り（Ｓ１０６）、キャリアＣに搬送することができる。また、大気搬送装置１８０は、第２ピック１８２の補正量を－５ｍｍとし（Ｓ１０７）、第２ピック１８２を補正された受取位置に移動させ、ロードロック室１３０の載置部１３２からウエハＷ１２を受け取り（Ｓ１０８）、キャリアＣに搬送することができる。
以上、基板処理システム１００について説明したが、本開示は上記実施形態等に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本開示の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
１００ 基板処理システム
１１０ 処理室
１１１，１１２ 載置部
１２０ 真空搬送室（第１搬送装置）
１３０ ロードロック室
１３１ 載置部（第１載置部）
１３２ 載置部（第２載置部）
１４０ 大気搬送室
１５０ ロードポート
１６０ 真空搬送装置
１６１，１６２ ピック
１６１Ｒ，１６１Ｌ，１６２Ｒ，１６２Ｌ 基板保持部
１７０ センサ
１８０ 大気搬送装置（第２搬送装置）
１８１ 第１ピック
１８２ 第２ピック
２００ 制御部
Ｗ ウエハ
Ｗ１１ ウエハ（第１基板）
Ｗ１２ ウエハ（第２基板）
Ｃ キャリア

Claims (3)

  1. 第１搬送装置のピックで第１基板及び第２基板を受け取るステップと、
    前記ピックに保持された前記第１基板のずれ量及び前記第２基板のずれ量を検出するステップと、
    前記第１基板のずれ量に基づいて、前記ピックの受渡位置の補正量を算出するステップと、
    前記第１搬送装置の前記ピックを、補正された前記ピックの受渡位置に移動させ、第２室の第１載置部に前記第１基板を受け渡し、前記第２室の第２載置部に前記第２基板を受け渡すステップと、
    第２搬送装置の第１ピックを、前記第１載置部の受取位置に移動させ、前記第１ピックで前記第１基板を受け取るステップと、
    前記ピックの受渡位置の前記補正量と、前記第２基板のずれ量に基づいて、前記第２搬送装置の第２ピックの受取位置の補正量を算出するステップと、
    前記第２搬送装置の前記第２ピックを、補正された前記第２ピックの受取位置に移動させ、前記第２ピックで前記第２基板を受け取るステップと、を有する、
    基板搬送方法。
  2. 前記ピックの受渡位置の補正量を算出するステップは、
    前記第１基板を第２室の第１載置部に受け渡した際に前記第１載置部の基準位置に対する前記第１基板のずれ量が所定の閾値以内となる補正量を算出する、
    請求項１に記載の基板搬送方法。
  3. 前記ピックの受渡位置の補正量を算出するステップは、
    前記第１基板のずれ量が前記閾値以内の場合、前記ピックの受渡位置の補正を行わない、
    請求項２に記載の基板搬送方法。
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