JP2022110183A - 搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 - Google Patents
搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022110183A JP2022110183A JP2021005428A JP2021005428A JP2022110183A JP 2022110183 A JP2022110183 A JP 2022110183A JP 2021005428 A JP2021005428 A JP 2021005428A JP 2021005428 A JP2021005428 A JP 2021005428A JP 2022110183 A JP2022110183 A JP 2022110183A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- suction nozzles
- motor
- group
- suction
- lifting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 127
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 63
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 31
- 230000008531 maintenance mechanism Effects 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 37
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 22
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 15
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67721—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrates to be conveyed not being semiconductor wafers or large planar substrates, e.g. chips, lead frames
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q41/00—Combinations or associations of metal-working machines not directed to a particular result according to classes B21, B23, or B24
- B23Q41/02—Features relating to transfer of work between machines
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Details Of Cutting Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】第1のグループの吸着ノズル及び第2のグループの吸着ノズルにより構成される複数の吸着ノズルが配置された搬送機構であって、前記第1のグループの吸着ノズルを昇降させる第1のモータと、前記第2のグループの吸着ノズルを昇降させる第2のモータと、前記複数の吸着ノズルを、前記複数の吸着ノズルの昇降方向に対して交わる平面内で回転させる第3のモータと、前記複数の吸着ノズルのうち任意の吸着ノズルを、前記第1のモータ及び前記第2のモータの駆動に関わらず所定の上昇位置に維持することが可能な昇降位置維持機構と、を具備する搬送機構。
【選択図】図3
Description
まず、図1及び図2を用いて、本発明の一実施形態に係る切断装置1の構成、及び切断装置1を用いた切断品の製造方法について説明する。本実施形態においては、例えば、切断装置1による切断対象物として、半導体チップ等の電子素子が接続された基板を樹脂封止したパッケージ基板Pを用いる場合の、切断装置1の構成について説明する。
切断モジュールAは、主にパッケージ基板Pの切断を行う構成要素である。切断モジュールAは、主として基板供給機構2、位置決め機構3、切断テーブル4、スピンドル部5、第1クリーナ6、移送機構7、第2クリーナ8及び制御部9を具備する。
検査モジュールBは、主に電子部品パッケージSの検査を行う構成要素である。検査モジュールBは、主として検査テーブル11、第1光学検査カメラ12、第2光学検査カメラ13、配置機構14、搬送機構15及び制御部16を具備する。
次に、前述の収容工程S20で用いられる搬送機構15の構成について説明する。なお以下では、図中に示した矢印U、矢印D、矢印L、矢印R、矢印F及び矢印Bで示した方向を、それぞれ上方向、下方向、左方向、右方向、前方向及び後方向と定義して説明を行う。左右方向は図1に示したX方向に沿う方向であり、前後方向は図1に示したY方向に沿う方向であり、上下方向は図1に示したZ方向に沿う方向である。
図3から図6に示す吸着ノズル110は、電子部品パッケージSを吸着するためのものである。吸着ノズル110は、長手方向を上下に向けた略円筒状に形成される。吸着ノズル110は、左右方向に一列に並んで複数配置される。本実施形態では、吸着ノズル110を12個配置した例を示している。吸着ノズル110は、後述するように、上下に昇降可能、かつ、回転可能となるように支持されている。
図3から図5に示す第1昇降モータ120は、第1のグループの吸着ノズル110Aを上下に昇降させるための動力源である。また、第1昇降モータ120は、本発明に係る第1のモータの実施の一形態である。第1昇降モータ120は、例えば、細かい回転の制御が可能なサーボモータにより構成される。第1昇降モータ120は、出力軸が右方を向くように配置される。第1昇降モータ120は、適宜の支持部材(不図示)に固定される。
図4及び図5に示す第1昇降動力伝達機構130は、第1昇降モータ120の動力を第1のグループの吸着ノズル110Aに伝達するものである。また、第1昇降動力伝達機構130は、本発明に係る第1の動力伝達機構の実施の一形態である。第1昇降動力伝達機構130は、主として昇降ピニオン131、昇降ラック132、昇降ブロック133及び昇降ガイド134を具備する。
図3から図5に示す第2昇降モータ140は、第2のグループの吸着ノズル110Bを上下に昇降させるための動力源である。また、第2昇降モータ140は、本発明に係る第2のモータの実施の一形態である。第2昇降モータ140は、例えば、細かい回転の制御が可能なサーボモータにより構成される。第2昇降モータ140は、出力軸が左方を向くように配置される。第2昇降モータ140は、第1昇降モータ120の右方に配置される。第2昇降モータ140は、適宜の支持部材(不図示)に固定される。
図4及び図5に示す第2昇降動力伝達機構150は、第2昇降モータ140の動力を第2のグループの吸着ノズル110Bに伝達するものである。また、第2昇降動力伝達機構150は、本発明に係る第2の動力伝達機構の実施の一形態である。第2昇降動力伝達機構150は、概ね第1昇降動力伝達機構130と同様の構成を有している。具体的には、第2昇降動力伝達機構150は、主として昇降ピニオン151、昇降ラック152、昇降ブロック153及び昇降ガイド154を具備する。
図3、図6から図8に示すノズル保持機構160は、吸着ノズル110を昇降可能かつ回転可能となるように保持するものである。ノズル保持機構160は、主としてベース部161、ベアリング162、回転支持部163及びスプラインナット164を具備する。
図3、図8及び図9に示す昇降位置維持機構170は、吸着ノズル110を一定の高さまで上昇した位置(以下、この位置を「上昇位置」と称する)に維持するためのものである。昇降位置維持機構170は、主としてブラケット171、ベアリング172、エアシリンダ173、第1ストッパブロック174及び第2ストッパブロック175を具備する。
図3から図5に示す回転モータ180は、吸着ノズル110を回転させるための動力源である。また、回転モータ180は、本発明に係る第3のモータの実施の一形態である。回転モータ180は、例えば、細かい回転の制御が可能なサーボモータにより構成される。回転モータ180は、複数の吸着ノズル110の左方に配置される。回転モータ180は、出力軸が下方を向くように配置される。回転モータ180は、適宜の支持部材(不図示)に固定される。
図3及び図4に示す回転動力伝達機構190は、回転モータ180の動力を吸着ノズル110に伝達するものである。また、回転動力伝達機構190は、本発明に係る第3の動力伝達機構の実施の一形態である。回転動力伝達機構190は、主として回転ピニオン191、回転ラック192、回転ラックガイド193及び回転ギヤ194を具備する。
搬送機構15は、3つのモータ(第1昇降モータ120、第2昇降モータ140及び回転モータ180)及び各エアシリンダ173を適宜駆動させることにより、任意の吸着ノズル110を昇降及び回転させることができる。これによって、任意の吸着ノズル110で電子部品パッケージSを吸着したり、吸着した電子部品パッケージSを所望の場所に載置したりすることができる。以下では、第1のグループの吸着ノズル110Aを例に挙げて、電子部品パッケージSを吸着する際の各部の基本的な動作を説明する。なお以下では、説明の便宜上、搬送機構15の構成を模式的に示した図(図11等)を用いて説明を行う。
本実施形態の搬送機構15では、複数の吸着ノズル110を端から(本実施形態では、左から)交互に昇降させて電子部品パッケージSの搬送を行うことを想定している。以下では、搬送機構15による電子部品パッケージSの搬送の様子について具体的に説明する。
第1のグループの吸着ノズル110A及び第2のグループの吸着ノズル110Bにより構成される複数の吸着ノズル110が配置された搬送機構15であって、
前記第1のグループの吸着ノズル110Aを昇降させる第1昇降モータ120(第1のモータ)と、
前記第2のグループの吸着ノズル110Bを昇降させる第2昇降モータ140(第2のモータ)と、
前記複数の吸着ノズル110を、前記複数の吸着ノズル110の昇降方向に対して交わる平面内で回転させる回転モータ180(第3のモータ)と、
前記複数の吸着ノズル110のうち任意の吸着ノズル110を、前記第1昇降モータ120及び前記第2昇降モータ140の駆動に関わらず所定の上昇位置に維持することが可能な昇降位置維持機構170と、
を具備するものである。
前記複数の吸着ノズル110をそれぞれ昇降可能となるように保持すると共に、前記複数の吸着ノズル110の昇降方向に対して交わる平面内で回転可能となるように保持するノズル保持機構160と、
前記第1昇降モータ120の動力を前記第1のグループの吸着ノズル110Aに伝達する第1昇降動力伝達機構130(第1の動力伝達機構)と、
前記第2昇降モータ140の動力を前記第2のグループの吸着ノズル110Bに伝達する第2昇降動力伝達機構150(第2の動力伝達機構)と、
前記回転モータ180の動力を前記複数の吸着ノズル110に伝達する回転動力伝達機構190(第3の動力伝達機構)と、
をさらに具備するものである。
前記複数の吸着ノズル110のそれぞれに対応して設けられ、前記第1昇降動力伝達機構130及び前記第2昇降動力伝達機構150からの動力を、それぞれ前記第1のグループの吸着ノズル110A及び前記第2のグループの吸着ノズル110Bへと伝達する複数のブラケット171(伝達部材)と、
前記複数のブラケット171のそれぞれに対応して設けられ、前記第1昇降動力伝達機構130及び前記第2昇降動力伝達機構150から前記ブラケット171への動力の伝達を遮断することが可能なエアシリンダ173(アクチュエータ)と、
を具備するものである。
15 搬送機構
110 吸着ノズル
120 第1昇降モータ
130 第1昇降動力伝達機構
140 第2昇降モータ
150 第2昇降動力伝達機構
160 ノズル保持機構
170 昇降位置維持機構
171 ブラケット
173 エアシリンダ
180 回転モータ
190 回転動力伝達機構
S 電子部品パッケージ
Claims (8)
- 第1のグループの吸着ノズル及び第2のグループの吸着ノズルにより構成される複数の吸着ノズルが配置された搬送機構であって、
前記第1のグループの吸着ノズルを昇降させる第1のモータと、
前記第2のグループの吸着ノズルを昇降させる第2のモータと、
前記複数の吸着ノズルを、前記複数の吸着ノズルの昇降方向に対して交わる平面内で回転させる第3のモータと、
前記複数の吸着ノズルのうち任意の吸着ノズルを、前記第1のモータ及び前記第2のモータの駆動に関わらず所定の上昇位置に維持することが可能な昇降位置維持機構と、
を具備する搬送機構。 - 前記複数の吸着ノズルは一列に並んで配置されると共に、第1のグループの吸着ノズル及び第2のグループの吸着ノズルのうち少なくともいずれか一方のグループの吸着ノズルの間に、他方のグループの吸着ノズルが配置される、
請求項1に記載の搬送機構。 - 前記複数の吸着ノズルをそれぞれ昇降可能となるように保持すると共に、前記複数の吸着ノズルの昇降方向に対して交わる平面内で回転可能となるように保持するノズル保持機構と、
前記第1のモータの動力を前記第1のグループの吸着ノズルに伝達する第1の動力伝達機構と、
前記第2のモータの動力を前記第2のグループの吸着ノズルに伝達する第2の動力伝達機構と、
前記第3のモータの動力を前記複数の吸着ノズルに伝達する第3の動力伝達機構と、
をさらに具備する、
請求項1又は請求項2に記載の搬送機構。 - 前記昇降位置維持機構は、
前記複数の吸着ノズルのそれぞれに対応して設けられ、前記第1の動力伝達機構及び前記第2の動力伝達機構からの動力を、それぞれ前記第1のグループの吸着ノズル及び前記第2のグループの吸着ノズルへと伝達する複数の伝達部材と、
前記複数の伝達部材のそれぞれに対応して設けられ、前記第1の動力伝達機構及び前記第2の動力伝達機構から前記伝達部材への動力の伝達を遮断することが可能なアクチュエータと、
を具備する、
請求項3に記載の搬送機構。 - 前記アクチュエータは、エアシリンダにより構成される、
請求項4に記載の搬送機構。 - 隣り合う2つの吸着ノズルのうち、一方の吸着ノズルの上昇中に、他方の吸着ノズルを下降させるように、前記第1のモータ、前記第2のモータ及び前記昇降位置維持機構の動作が制御される、
請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の搬送機構。 - 請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の搬送機構を具備する切断装置。
- 請求項7に記載の切断装置を用いて切断品を製造する切断品の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021005428A JP7498674B2 (ja) | 2021-01-18 | 2021-01-18 | 搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 |
TW110141824A TWI785885B (zh) | 2021-01-18 | 2021-11-10 | 搬送機構、切斷裝置及切斷品的製造方法 |
KR1020237017557A KR20230093474A (ko) | 2021-01-18 | 2021-11-10 | 반송 기구, 절단 장치 및 절단품의 제조 방법 |
CN202180075337.7A CN116419820A (zh) | 2021-01-18 | 2021-11-10 | 搬送机构、切断装置及切断品的制造方法 |
PCT/JP2021/041296 WO2022153654A1 (ja) | 2021-01-18 | 2021-11-10 | 搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021005428A JP7498674B2 (ja) | 2021-01-18 | 2021-01-18 | 搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022110183A true JP2022110183A (ja) | 2022-07-29 |
JP7498674B2 JP7498674B2 (ja) | 2024-06-12 |
Family
ID=82447138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021005428A Active JP7498674B2 (ja) | 2021-01-18 | 2021-01-18 | 搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7498674B2 (ja) |
KR (1) | KR20230093474A (ja) |
CN (1) | CN116419820A (ja) |
TW (1) | TWI785885B (ja) |
WO (1) | WO2022153654A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014160732A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Panasonic Corp | 移載ヘッド、移載ヘッドを用いる部品実装装置および部品実装方法 |
JP2016162954A (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-05 | Towa株式会社 | 製造装置、搬送方法、搬送プログラム、および搬送プログラムを格納した記録媒体 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3341324B2 (ja) * | 1992-12-01 | 2002-11-05 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | ワーク移載装置及びワーク移載方法 |
JPH08264993A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-10-11 | Advantest Corp | Icハンドラ用デバイス搬送装置 |
JP2008186981A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-08-14 | Towa Corp | ワークの搬送方法及び搬送装置 |
KR100904496B1 (ko) | 2007-02-09 | 2009-06-24 | 한미반도체 주식회사 | 반도체 패키지 가공시스템 및 반도체 패키지 가공방법 |
KR100820328B1 (ko) * | 2007-05-23 | 2008-04-08 | (주)아이콘 | 픽 앤 플레이스 장치 |
JP5108481B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2012-12-26 | Towa株式会社 | 個片化された電子部品の搬送装置及び搬送方法 |
JP4764449B2 (ja) | 2008-03-25 | 2011-09-07 | ヤマハ発動機株式会社 | 部品装着装置 |
JP6382132B2 (ja) * | 2015-03-04 | 2018-08-29 | Towa株式会社 | 切断装置、搬送方法、搬送プログラム、および搬送プログラムを格納した記録媒体 |
JP6626027B2 (ja) * | 2017-03-16 | 2019-12-25 | Towa株式会社 | 製造装置および電子部品の製造方法 |
-
2021
- 2021-01-18 JP JP2021005428A patent/JP7498674B2/ja active Active
- 2021-11-10 CN CN202180075337.7A patent/CN116419820A/zh active Pending
- 2021-11-10 WO PCT/JP2021/041296 patent/WO2022153654A1/ja active Application Filing
- 2021-11-10 KR KR1020237017557A patent/KR20230093474A/ko not_active Application Discontinuation
- 2021-11-10 TW TW110141824A patent/TWI785885B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014160732A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Panasonic Corp | 移載ヘッド、移載ヘッドを用いる部品実装装置および部品実装方法 |
JP2016162954A (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-05 | Towa株式会社 | 製造装置、搬送方法、搬送プログラム、および搬送プログラムを格納した記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202230582A (zh) | 2022-08-01 |
CN116419820A (zh) | 2023-07-11 |
WO2022153654A1 (ja) | 2022-07-21 |
TWI785885B (zh) | 2022-12-01 |
JP7498674B2 (ja) | 2024-06-12 |
KR20230093474A (ko) | 2023-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102157530B1 (ko) | 보유 지지 부재의 제조 방법 | |
JP5779342B2 (ja) | 電子回路部品装着方法および電子回路部品装着機 | |
JP4594167B2 (ja) | Icハンドラー | |
KR100920988B1 (ko) | 위치변경장치 및 반도체 패키지 가공시스템 | |
JP2022110183A (ja) | 搬送機構、切断装置及び切断品の製造方法 | |
JP7154195B2 (ja) | 切断装置及び切断品の製造方法 | |
JP4832262B2 (ja) | 部品実装装置 | |
KR20080088877A (ko) | 반도체 패키지 반송장치 | |
KR102440196B1 (ko) | 유닛 픽커 및 그것을 갖는 소잉 소팅 시스템 | |
JP2013018604A (ja) | 物品分類装置 | |
JP7568699B2 (ja) | 半導体パッケージ分類装置及びその方法 | |
JP2008091733A (ja) | 部品実装装置 | |
KR100802659B1 (ko) | 웨이퍼 칩 소팅장치 | |
JP5903346B2 (ja) | 部品実装装置 | |
KR100460333B1 (ko) | 반도체 팩키지 검사용 핸들러 장치 | |
CN116422650B (zh) | 一种等离子清洗设备 | |
KR20100001395A (ko) | 자재 이송용 쏘팅픽커 | |
KR20220040393A (ko) | 절단 장치 및 절단품의 제조 방법 | |
KR100440780B1 (ko) | 트레이 반도체 부품배치장치 | |
CN118339634A (zh) | 加工装置、及加工品的制造方法 | |
JP2007128956A (ja) | 電子部品移載装置 | |
CN115922098A (zh) | 全自动分层激光划片设备 | |
KR20090030873A (ko) | 인쇄회로기판의 자동 공급 반출 장치 | |
JP2008060574A (ja) | 位置変更装置及び半導体パッケージ加工システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240531 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7498674 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |