JP2022095463A - 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】DEDプロセスを繰り返すことなく、ボトムアップ成膜によりボイドを発生させずにシリコン膜を凹部内に埋め込むことができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。【解決手段】表面に凹部が設けられた基板にシリコン含有ガスを供給し、前記凹部内にアモルファスシリコン膜を堆積させる工程と、前記基板にエッチングガスを供給し、前記凹部内の底部上に前記アモルファスシリコン膜を残すように前記アモルファスシリコン膜をエッチングする工程と、前記基板にジクロロシランを供給し、前記アモルファスシリコン膜上にシリコン膜を堆積させる工程と、を有する。【選択図】図6
Description
本発明は、半導体装置の製造方法及び基板処理装置に関する。
従来から、表面に凹部が形成された被処理体にシリコンを含有する成膜ガスを供給して凹部内にシリコン膜を形成する工程と、シリコン膜をエッチングするためのハロゲンガスと、ハロゲンガスによるエッチング後のシリコン膜の表面の荒れを抑えるための荒れ抑制ガスとを含む処理ガスを被処理体に供給し、更に処理ガスに根地エネルギーを与えて活性化させてエッチングを行い、凹部の開口幅を広げる工程とを繰り返し、凹部内にシリコン膜を充填する半導体装置の製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。かかる埋め込み方法は、成膜(Deposition)とエッチング(Etching)を繰り返すことから、DED(Deposition Etch Deposition)プロセスと呼ばれている。
DEDプロセスを繰り返すことなく、ボトムアップ成膜によりボイドを発生させずにシリコン膜を凹部内に埋め込むことができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る半導体装置の製造方法は、表面に凹部が設けられた基板にシリコン含有ガスを供給し、前記凹部内にアモルファスシリコン膜を堆積させる工程と、
前記基板にエッチングガスを供給し、前記凹部内の底部上に前記アモルファスシリコン膜を残すように前記アモルファスシリコン膜をエッチングする工程と、
前記基板にジクロロシランを供給し、前記アモルファスシリコン膜上にシリコン膜を堆積させる工程と、を有する。
前記基板にエッチングガスを供給し、前記凹部内の底部上に前記アモルファスシリコン膜を残すように前記アモルファスシリコン膜をエッチングする工程と、
前記基板にジクロロシランを供給し、前記アモルファスシリコン膜上にシリコン膜を堆積させる工程と、を有する。
本発明によれば、DEDプロセスを繰り返すことなく凹部内にシリコン膜を埋め込むことができる。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
図1は、本開示の実施形態に係る基板処理装置を示した図である。本実施形態では、基板処理装置を縦型熱処理装置として構成した例について説明する。なお、本開示に係る基板処理装置は、縦型熱処理装置に限定されず、成膜とエッチングを交互に行うことができる種々の基板処理装置に適用することができる。適用可能な基板処理装置には、枚葉式基板処理装置や、セミバッチ式の基板処理装置も含まれる。本実施形態においては、基板処理装置を縦型熱処理装置として構成した例を挙げて説明する。
縦型熱処理装置は半導体装置の論理素子を基板であるウエハWに形成するために、DEDプロセスを行う。つまり、成膜処理及びエッチング処理をウエハWに対して行う。この成膜処理は、熱CVD(Chemical Vapor Deposition)による処理であり、エッチング処理はエッチングガスに熱エネルギーを供給して行われる反応性ガスエッチングである。
なお、製造する論理素子は、従来から製造されている論理素子に加えて、例えば、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)の次の世代のトランジスタであるFinFET等を用いた論理素子が含まれる。
縦型熱処理装置は、長手方向が垂直方向に向けられた略円筒状の真空容器である反応管11を備えている。反応管11は、内管12と、当該内管12を覆うとともに内管12と一定の間隔を有するように形成された有天井の外管13とから構成された二重管構造を有する。内管12及び外管13は、耐熱材料、例えば、石英により形成されている。反応管11は、基板を処理する閉じられた空間を形成するから、処理室と呼んでもよい。
外管13の下方には、筒状に形成されたステンレス鋼(SUS)からなるマニホールド14が配置されている。マニホールド14は、外管13の下端と気密に接続されている。また、内管12は、マニホールド14の内壁から突出するとともに、マニホールド14と一体に形成された支持リング15に支持されている。
マニホールド14の下方には蓋体16が配置され、ボートエレベータ10により蓋体16は上昇位置と、下降位置との間で昇降自在に構成される。図1では、上昇位置に位置する状態の蓋体16を示しており、この上昇位置において蓋体16は、マニホールド14の下方側の反応管11の開口部17を閉鎖し、反応管11内を気密にする。蓋体16には、例えば、石英からなるウエハボート3が載置されている。ウエハボート3は、基板として処理される多数枚のウエハWを、垂直方向に所定の間隔をおいて水平に保持可能に構成されている。反応管11の周囲には、反応管11を取り囲むように断熱体18が設けられ、その内壁面には、例えば、加熱部である抵抗発熱体からなるヒーター19が設けられており、反応管11内を加熱することができる。
マニホールド14において、上記の支持リング15の下方側には、処理ガス導入管21及びパージガス導入管31が挿通され、各ガス導入管21、31の下流端は、内管12内のウエハWにガスを供給できるように配設されている。例えば処理ガス導入管21の上流側は分岐して分岐路22A~22Eを形成し、分岐路22A~22Eの各上流端は、ジイソプロピルアミノシラン(DIPAS)ガスの供給源23A、ジシラン(Si2H6)ガスの供給源23B、モノアミノシラン(SiH4)ガスの供給源23C、塩素(Cl2)ガスの供給源23D、ジクロロシラン(SiH2Cl2、Dichlorosilane、以下「DCS」と呼んでもよいこととする。)ガスの供給源23Eに接続されている。そして分岐路22A~22Eには、各々ガス供給機構24A~24Eが介設されている。ガス供給機構24A~24Eは各々バルブやマスフローコントローラを備えており、ガス供給源23A~23Eから処理ガス導入管21へ供給される処理ガスの流量を各々制御できるように構成されている。
DIPASガスは、ウエハWの表面に形成された酸化シリコン膜の表面に第1のシード層を形成するためのシード層形成用のガスであり、ガス供給源23A及びガス供給機構24AはDIPASガス供給部を構成する。
Si2H6ガスは、第1のシード層の表面に第2のシード層を形成するためのシード層形成用のガスであり、ガス供給源23B及びガス供給機構24BはSi2H6(ジシラン)ガス供給部を構成する。
また、Si2H6ガスは、第2のシード層上に更にアモルファスシリコン膜を堆積させるためのシリコン含有ガスとして用いてもよい。詳細は後述する。
DIPASガス供給部及びジシランガス供給部は、シード層を形成するためのガス供給部であるので、シード層形成ガス供給部と呼んでもよい。
なお、本実施形態では、シード層形成用のガスを2種類用いる例を挙げて説明しているが、シード層形成用のガスは、いずれか1種類でもよい。また、シード層が既に形成されたウエハW上に成膜を行う場合には、シード層形成ガス供給部はなくてもよい。更に、シード層形成ガス供給部を用いる場合であっても、DIPASガス及びSi2H6ガス以外のガスを用いてもよい。このように、一例として挙げるDIPASガス供給部及びジシランガス供給部、更にシード層形成ガス供給部は、必要に応じて設けるようにしてよい。
SiH4ガスは、シート層が形成されたウエハWにシリコン(Si)膜を成膜するための成膜ガスであり、ガス供給源23C及びガス供給機構24Cはシリコン含有ガス供給部を構成する。なお、シリコン含有ガスは、成膜に用いられるガスであるため、シリコン含有ガス供給部を成膜ガス供給部と呼んでもよい。
Cl2ガスはSi膜をエッチングするためのエッチングガスであり、ガス供給源23D、ガス供給機構24Dは塩素ガス供給部を構成する。なお、塩素ガスはエッチングガスとして供給されるので、塩素ガス供給部をエッチングガス供給部と呼んでもよい。
DCSガスは、ボトムアップ成膜、つまり凹部内にシリコン膜を埋め込む成膜を行うためのシリコン含有ガスである。ガス供給源23E及びガス供給機構24EはDCSガス供給部を構成する。なお、DCSガスは、埋め込み成膜に用いられるガスであるため、DCSガス供給部を埋め込みガス供給部と呼んでもよい。
また、パージガス導入管31の上流側は、パージガスである窒素(N2)ガスの供給源32に接続されている。パージガス導入管31には、ガス供給機構33が介設されている。ガス供給機構33はガス供給機構24A~24Eと同様に構成され、導入管31の下流側へのパージガスの流量を制御する。
またマニホールド14には、支持リング15の上方における側面に排気口25が開口しており、内管12で発生した排ガス等は内管12と外管13との間に形成された空間を通って当該排気口25に排気される。排気口25には排気管26が気密に接続されている。排気管26には、その上流側からバルブ27と、真空ポンプ28とがこの順に介設されている。バルブ27の開度が調整されることによって、反応管11内の圧力が所望の圧力に制御される。
縦型熱処理装置には、コンピュータにより構成された制御部30が設けられており、制御部30はプログラムを備えている。このプログラムは、ウエハWに対して後述の一連の処理動作を行うことができるように、縦型熱処理装置1の各部に制御信号を出力して、当該各部の動作を制御することができるようにステップ群が組まれている。具体的には、ボートエレベータ10による蓋体16の昇降、ヒーター19の出力(即ちウエハWの温度)、バルブ27の開度、ガス供給機構24A~24C、33による各ガスの反応管11内への供給流量などが制御されるように、制御信号が出力される。このプログラムは例えばハードディスク、フレキシブルディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリーカード等の記憶媒体に格納された状態で制御部30に格納される。
図2は、ウエハWの表面に形成された凹部の形状の一例を示した図である。図2に示されるように、ウエハWの表面にはシリコン(Si)層41が設けられている。Si層41の表層は酸化されており、酸化シリコン膜43が形成されている。また、深さD、開口幅Sの凹部42が形成されている。凹部42は、例えば、トレンチやスルーホールとして形成されるが、窪んだ形状であれば、形状は特に問わない。
図2において、凹部42のアスペクト比は、D/Sとなる。凹部のアスペクト比は、例えば、2以上である。
まず、図2のような凹部42に、DEDプロセスを適用して凹部42にシリコン膜を埋め込む場合の一般的な方法について説明する。
図3は、一般的な従来のDEDプロセスの一例を示した図である。
図3(a)は、表面に凹部42を有するウエハWの表面にシード層44を形成するシード層形成工程を示した図である。シード層形成工程においては、表面の酸化シリコン膜43の表面に、薄いシリコン膜がシード層44として形成される。シード層44の形成には、例えば、Si2H6が成膜ガスとして用いられる。
図3(b)は、1回目の成膜工程を示した図である。1回目の成膜工程では、例えば、SiH4ガスが成膜ガスとして用いられ、ウエハWの表面に形成され、凹部42内にシリコン膜45が堆積する。
図3(c)は、エッチング工程の一例を示した図である。エッチング工程では、成膜したシリコン膜45をエッチングし、開口幅を広げ、上端部が塞がらないようにする。そして、V字の断面をシリコン膜45に形成する。
図3(d)は、2回目の成膜工程である。2回目の成膜工程では、V字形状となったシリコン膜45上に、新たなシリコン膜45aを堆積させ、凹部42の全体にシリコン膜45、45aを充填する。
かかる埋め込み方法が、DEDプロセスであるが、高アスペクト比の凹部42については、1回のDEDプロセスで必ずしも凹部42内を埋め込める訳ではなく、DEDプロセスの繰り返しが必要となる場合が多くあった。そうすると、プロセス時間が長くなるという問題も生じた。
これに対し、SiH4とDCSを並行して基板に供給し、シリコン酸化膜上でのインキュベーションタイム(シリコン含有ガスを供給してから実際に成膜が開始するまでの時間)が終わる前にエッチングガスを供給してインキュベーションタイムをリセットし、選択成長を行うという手法が提案された。
図4は、図3よりは改善された従来の選択成長方法を説明するための図である。図5は、図4に対応させたTEM画像に基づいた図である。図4を中心に説明するが、図5を適宜参照することにより、実際の状態が把握できる。
図4(a)及び図5(a)は、ウエハWに形成された凹部42の形状を示す断面図である。ウエハWの表面にはシリコン酸化膜43が形成され、更にシード層44は既に形成されているものとする。
図4(b)及び図5(b)は、第1の成膜工程を示した図である。第1の成膜工程においては、シリコン含有ガス(例えばSiH4ガス)を供給し、コンフォーマルなシリコン膜45を凹部42内及びウエハWの表面上に堆積させる。
図4(c)及び図5(c)は、第1のエッチング工程を示した図である。第1のエッチング工程においては、ウエハWにエッチングガス(例えば塩素)を供給し、凹部42内の底面にシリコン膜45が残るようにエッチングガスを行う。ウエハW及びシリコン膜45の表面には、エッチングガス46が残留する。
図4(d)及び図5(d)は、第2の成膜工程を示した図である。第2の成膜工程では、SiH4とDCSが供給され、シリコン膜45上に更に新たなシリコン膜45aが堆積する。
図4(e)及び図5(e)は、エッチングガスの間欠的な供給工程である。ここでは、シリコン膜45aをエッチングするというよりも、シリコン膜45a上及びウエハW上のインキュベーションタイムをリセットするためにエッチングガスが供給される。
図4(f)及び図5(f)は、選択成長工程を示した図である。選択成長工程では、シリコン膜45a上に新たにシリコン膜45bが堆積する。
図4(e)及び図5(e)と図4(f)及び図5(f)からなるサイクルを繰り返すことにより、シリコン膜45bを選択成長させ、ボトムアップ的な埋め込み成膜を行う。これにより、確実にボトムアップ成膜を行うことができ、ボイドを発生させることなく凹部42にシリコン膜45、45a、45bを充填させることができる。
図4(g)及び図5(g)は、埋め込み工程の完了及び終盤段階を示した図である。凹部42内にシリコン膜45、45a~45cが埋め込まれ、ボイドも発生していない。
このように、エッチングガスをインキュベーションタイムのリセットに用い、シリコン膜45、45a~45cを選択成長させることができ、凹部42内の埋め込み性能は向上させることができた。しかしながら。DEプロセスの繰り返しがあるため、プロセス時間が長いという問題は解決しなかった。
そこで、本開示では、DEプロセスの繰り返しをなくし、ボトムアップでシリコン膜を選択成長させる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提案する。
図6は、本開示の実施形態に係る半導体装置の製造方法の一例を説明するための図である。図7は、本開示の実施形態に係る半導体装置の製造方法の一例を説明するための図6に対応するTEM画像に基づいた図である。図6を中心に本開示の実施形態に係る半導体装置の製造方法の一例を説明するが、実際の状態を図7に対応させて示す。また、装置構成を示した図1を適宜参照する。
最初に、図2で説明したウエハWが図示しない搬送機構によってウエハボート3に搬送されて保持される。その後、ウエハボート3が下降位置に位置する蓋体16上に配置される。そして蓋体16が上昇位置に向けて上昇し、ウエハボート3が反応管11内に搬入され、蓋体16によって反応管11の開口部17が閉鎖されて、当該反応管11内が気密となる。続いて、反応管11内にパージガスの供給が行われると共に反応管11内が排気されて所定の圧力の真空雰囲気とされると共に、ヒーター19によってウエハWが所定の温度になるように加熱される。この時の温度は、ウエハW上にシリコン膜を堆積させるのに好適な所定の成膜温度に設定される。なお、ヒーター19の温度制御は、制御部30が行うようにしてよい。
例えば、SiH4ガスを成膜ガスとして用いる場合には、440~530℃の範囲内である。
図6(a)及び図7(a)は、シード層形成工程の一例を示した図である。
ウエハWを加熱後、パージガスの供給が停止し、反応管11内にDIPASガスが供給される。このDIPASガスが、ウエハWの酸化シリコン膜43の表面に堆積し、酸化シリコン膜43を被覆するようにシード層44が形成される(図示は省略)。
然る後、DIPASガスの供給が停止し、反応管11内にパージガスが供給されて、反応管11内からDIPASガスがパージされた後、反応管11内にSi2H6ガスが供給される。このSi2H6ガスが第1のシード層上に堆積して、当該第1のシード層を被覆するように第2のシード層が形成される。その後、Si2H6ガスの供給が停止し、反応管11内にパージガスが供給されて、反応管11内からSi2H6ガスがパージされる。
図6(b)及び図7(b)は、第1の成膜工程の一例を示した図である。
シード層形成工程の後、パージガスの供給が停止し、反応管11内にSiH4ガスが供給される。図6(b)に示されるように、SiH4ガスは第2のシード層上に堆積し、Si膜44が第2のシード層を被覆するようにウエハWの表面全体に形成される。そして、SiH4ガスの堆積が続けられ、Si膜45が成長する。つまり、Si膜45の膜厚が上昇する。そして、例えば図6(b)に示すように、凹部42a内の上部側がこのSi膜45によって閉塞される前に、SiH4ガスの供給が停止する。この段階で凸部42bの部分は、シリコン膜45の対向間隔が非常に狭くなる。
第1の成膜工程では、シリコン膜45の対向間隔が、対向するシリコン膜45が接触しない範囲で、なるべく狭くなるようにシリコン膜45を堆積させることが好ましい。次のエッチング工程で、凹部42内の底部上のシリコン膜45が残るようにエッチングを行うため、エッチングガスが凹部42内の底部に到達しにくくすることが好ましいからである。なお、対向するシリコン膜45の間隔は、例えば、10nm~100nmである。
なお、SiH2ガスの代わりに、Si2H6ガスを用いてもよい。この場合には、シード層の形成工程から、第1の成膜工程を連続して実施してもよい。
第1の成膜工程で、アモルファスシリコン膜45が凹部42の内部及びウエハWの表面に形成される。
上記のSiH4ガス又はSi2H6ガスの供給停止後に、反応管11内にパージガスが供給され、反応管11内からSiH4ガス又はSi2H6ガスがパージされる。
図6(c)及び図7(c)は、第1のエッチング工程の一例を示した図である。第1のエッチング工程においては、処理ガス導入管21にガス供給源23DからCl2ガスが供給され、反応管11内のウエハWに供給される(図1)。
Cl2ガスはシリコン膜45のエッチングガスであり、反応管11内において加熱されて熱エネルギーが供給されることで、Clのラジカルなどの活性種を生じる。この活性種はSiに対する反応性が比較的高いため、ウエハWの凹部42内の下部へ達するまでに凹部42の外側及び凹部42内の上部側のSiと反応してSiCl4(四塩化ケイ素)を生じ、シリコン膜45がエッチングされる。従って、凹部42内の下部側のSi膜45の膜厚の減少に比べて、凹部42内の上部側のSi膜45の膜厚の減少が大きくなるようにエッチングが行われ、凹部42内の上部側の開口幅が拡大する。また1モルのCl2から、2モルのClラジカルが生成する。つまり比較的多くの活性種が生成するため、この開口幅の拡大を比較的大きな速度で進行させることができる。
その際、凹部42内の底部上にシリコン膜45が残るように、供給律速モードの条件下でエッチングガスを供給する。具体的には、エッチングガスの流量及び/又は濃度を制御し、シリコン膜45が底部上にのみ残るように制御する。即ち、凹部42内の上部及びウエハWの表面からはシリコン膜45及びシード層44がエッチングにより除去されてシリコン酸化膜43が露出するが、凹部42の底部上にはシリコン膜45が残留するようにエッチングガスを供給する。なお、凹部42の上部とウエハWの表面からはシリコン膜45が完全に除去され、凹部42の底部上にのみシリコン膜45が残留するのが理想的ではあるが、凹部42の上部及びウエハの表面に若干シリコン膜45が残っても、周囲のシリコン酸化膜43が露出していれば、プロセスに大きな影響はない。しかしながら、そこからシリコン膜が成長する場合もあり得るので、凹部42の底部上及び下部以外は、可能な限り完全にシリコン膜45及びシード層44を除去する。
なお、エッチングガスを供給律速モードとするには、例えば、温度を250℃以上となるように設定する。
図6(d)及び図7(d)は、第2の成膜工程の一例を示した図である。第2の成膜工程においては、ジクロロシランガス供給源23EからDCSガスを供給し、エッチングされたシリコン膜45上に新たなシリコン膜45aを堆積させる。その際、凹部42a内の底部上にのみアモルファスシリコン膜45が存在する状態であるから、シリコン膜45aは上方に向かって選択成長する。即ち、凹部42の内部にシリコン膜45aが、ボトムアップ成長して埋め込まれてゆく。ボトムアップ成長するので、ボイドは発生せずに凹部42内にシリコン膜45aを充填することができる。
この後は、第2の成膜工程を継続し、凹部42内にシリコン膜45aを充填することができる。シリコン膜45aは、ポリシリコン膜である。よって、凹部42内にポリシリコン膜45aをボイドを発生させることなく選択成長させることができる。
全ての凹部42aの埋め込みが終了したら、反応管11内の温度を低下させる。プロセス中は、一定の成膜温度で維持されていたが、処理が終了したら、ウエハWを取り出すために反応管11内の温度を低下させる。これにより、ウエハWが降温する。
続いて、蓋体16が下降して反応管11からウエハボート3が搬出された後、図示しない搬送機構によってウエハボート3からウエハWが取り出され、1バッチのウエハWの処理が終了する。処理中は、処理温度を一定とすることができるので、短時間で埋め込み処理を行うことができる。
このように、本実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、エッチング工程で凹部42内の底部上にアモルファスシリコン膜45を残すようにエッチングすることにより、凹部42内でポリシリコン膜を選択成長させることができ、ボイドを発生させることなく凹部42を埋め込むことができる。
図8は、本実施形態に係る半導体装置の製造方法を実施した実施結果を示したTEM画像に基づいた図である。凹部42内の底部上にシリコン膜45aが堆積し、凹部の上部及びウエハWの表面のシリコン酸化膜43が露出した状態が示されている。このように、図8において、ボトムアップ成長が可能な半導体装置の製造方法であることが示されている。
図9は、従来の半導体装置の製造方法の問題点を示した図である。図9(a)は、フィンベンディング(fin bending)の発生状態を示した図である。図9(b)は、フィンベンディング(fin bending)の発生状態をより詳細に示した図である。
図9(a)、(b)に示されるように、凹部42の側壁、又はフィン47の側面にシリコン膜45が堆積し、左右の膜厚に差があると、フィン47が折れ曲がってしまうフィンベンディングという現象が発生する。これは、成膜が終わってアニールをした時に多く発生する。凹部42の底部上から選択成長せずに、側壁にシリコン膜45が堆積してしまうと、加熱したときにシリコン膜45の収縮により応力が発生する。ここで、左右の側壁のシリコン膜45の堆積量が等しければ問題ないが、左右の堆積量に差があると、応力に左右の差が生じ、フィン47が左右からの応力の不均衡により曲がってしまうという問題が生じる。
図10は、図4及び図5において説明した従来のDEDプロセスと本実施形態に係る半導体装置の製造方法により製造された半導体装置のフィンの状態を比較した図である。
図10において、上段が従来のDEDプロセスによるフィンの状態を示し、下段が本実施形態に係る半導体装置の製造方法におけるフィンの状態を示している。また、左側が成膜時、右側がアニール後の状態を示している。
図10の左欄に示されるように、成膜時においては、従来のDEDプロセスと本実施形態に係る半導体装置の製造方法において、ウエハWの反り具合に大きな差はない。しかしながら、従来のDEDプロセスでは、シリコン膜がアモルファス状態で堆積するが、本実施形態に係る半導体装置の製造方法では、ポリシリコン状態で堆積しているので、結晶化が終わった状態で堆積している。
右欄を見ると分かるように、アニール後は、従来のDEDプロセスでは、ウエハWが大きく反ってしまうが、本実施形態に係る半導体装置の製造方法では、成膜時と反り具合は殆ど変化しない。
これは、高温で加熱すると、従来のDEDプロセスのシリコン膜はアモルファス状態で堆積しているため、水素が抜けてシリコン膜が大きく収縮するためである。一方、本実施形態に係る半導体装置の製造方法で製造されたシリコン膜はポリシリコン膜であり、結晶化がなされているため、加熱してもシリコン膜の状態は変わらず、ウエハWに反りは生じない。
このように、本実施形態に係る半導体装置の製造方法及び基板処理装置によれば、フィンベンディングが発生しない高品質なシリコン膜を凹部内にボイドを発生させることなく埋め込むことができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
11 反応管
19 ヒーター
21、31 ガス導入管
23A~23E、32 ガス供給源
24A~24E、33 ガス供給機構
27 バルブ
30 制御部
42 凹部
43 シリコン酸化膜
44 シード層
45、45a~45c シリコン膜
W ウエハ
19 ヒーター
21、31 ガス導入管
23A~23E、32 ガス供給源
24A~24E、33 ガス供給機構
27 バルブ
30 制御部
42 凹部
43 シリコン酸化膜
44 シード層
45、45a~45c シリコン膜
W ウエハ
Claims (11)
- 表面に凹部が設けられた基板にシリコン含有ガスを供給し、前記凹部内にアモルファスシリコン膜を堆積させる工程と、
前記基板にエッチングガスを供給し、前記凹部内の底部上に前記アモルファスシリコン膜を残すように前記アモルファスシリコン膜をエッチングする工程と、
前記基板にジクロロシランを供給し、前記アモルファスシリコン膜上にシリコン膜を堆積させる工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 前記凹部の表面は酸化膜で覆われており、前記アモルファスシリコン膜をエッチングする工程において、前記凹部内の底部上以外の前記酸化膜を露出させる請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記酸化膜は二酸化シリコン膜である請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アモルファスシリコン膜をエッチングする工程は、前記エッチングガスを供給律速モードで前記凹部内の底面まで完全にエッチングしないように供給して行われる請求項1~3のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記供給律速モードは、前記エッチングガスの流量及び濃度の少なくとも1つを制御することにより行われる請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記エッチングガスは、塩素である請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記凹部内にアモルファスシリコン膜を堆積させる工程において、前記シリコン含有ガスは、モノシラン又はジシランを含む請求項1~6のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記凹部内にアモルファスシリコン膜を堆積させる工程において、前記アモルファスシリコン膜を、前記凹部内で対向面に接触しない範囲内で、前記エッチングガスが通りにくくなる開口幅となるように堆積させる請求項1~7のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アモルファスシリコン膜上に堆積させる膜はポリシリコン膜である請求項1~8のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アモルファスシリコン膜上にシリコン膜を堆積させる工程を、前記凹部内に前記シリコン膜が充填されるまで行う請求項1~9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 処理室と、
前記処理室に設けられ、表面に凹部が形成された基板を保持可能な基板保持部材と、
前記基板にシリコン含有ガスを供給し、前記凹部内にアモルファスシリコン膜を堆積させるシリコン含有ガス供給部と、
前記基板にエッチングガスを供給し、前記凹部内の底部上に前記アモルファスシリコン膜を残すように前記アモルファスシリコン膜をエッチングするエッチングガス供給部と、
前記基板にジクロロシランを供給し、前記アモルファスシリコン膜上にシリコン膜を堆積させるジクロロシラン供給部と、を有する基板処理装置。
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